TWI578095B - Dust film components - Google Patents

Description

防塵薄膜組件

本發明是有關於一種在半導體裝置，積體電路(Integrated Circuit,IC)封裝，印刷基板，液晶面板或有機電致發光(Electro-Luminescence，EL)面板等的製造中作為防塵器使用的防塵薄膜組件。

在大型積體電路(Large Scale Integrate，LSI)，超大型積體電路(Very Large Scale Integration)等的半導體或液晶面板等的製造中，對半導體晶圓或液晶用玻璃板照射紫外光來進行圖案的製作，此時使用的光遮罩上若有灰塵附著，該灰塵會遮蔽紫外光且反射，因此產生轉印的圖案的變形，短路等，使品質受損的問題。

因此，這些的作業通常在無塵室中進行，但是即使如此也難以總是保持光遮罩的清潔。因此，要將作為防塵器的防塵薄膜組件貼附在光遮罩表面上後再進行曝光。在該情況下，異物不直接附著在光遮罩的表面上，而是附著在防塵薄膜組件上，因此，微影(Lithography)時只要將焦點對準到光遮罩的圖案上，防塵薄膜組件上的異物就與轉印沒有關係了。

一般，防塵薄膜組件，是將透光良好的包括硝酸纖維 素，醋酸纖維素或氟樹脂等的透明的防塵膜接著於包括鋁、不銹鋼、工程塑料等的防塵薄膜組件框架的成為框狀的一個面上而構成。然後，在防塵薄膜組件框架的另一個面上，設置用於將防塵薄膜組件安裝在光遮罩上的黏著層以及以保護黏著層為目的的離模型層(分離片)，所述黏著層包括聚丁烯樹脂，聚醋酸乙烯基樹脂，丙烯酸樹脂，矽氧樹脂等。

近年來，伴隨著曝光圖案的細微化，開始將防塵薄膜組件的貼附所造成的光遮罩的變形視為問題。光遮罩和防塵薄膜組件框架通過經由遮罩黏著劑材料結合在一起，由此，防塵薄膜組件框架的形狀對光遮罩的形狀予以影響，光遮罩表面描繪的圖案就會發生變形，所以期望得到一種對安裝後的光遮罩形狀影響極小的防塵薄膜組件。

作為上述課題的解決方法，有例如使遮罩黏著劑材料柔軟化以及提高防塵薄膜組件框架的平面度的提議。但是，這些的提議中，雖然可將防塵薄膜組件框架對光遮罩形狀的影響減少，但是並不充分。其原因為，防塵薄膜組件框架以及光遮罩的平面度隨之不完全，所以根據其組合方式，其影響可變大也可變小。

因此，就本質而言，為了使防塵薄膜組件框架的剛性盡量變小，使其對光遮罩的形狀的追從性變好，提出下述等方法，例如使用樹脂等的剛性低的材質，或使防塵薄膜組件框架的高度變低，對截面形狀進行設計，例如，減小截面積使剛性降低(參照專利文獻1，2以及3)。

[現有技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2011-7933號公報

[專利文獻2]日本專利特開2011-7934號公報

[專利文獻6]日本專利特開2011-7935號公報

但是，為了在對防塵膜的貼附狀況進行維持的同時又要從製造到貼附的作業中不發生變形或防塵膜的褶皺等問題，防塵薄膜組件框架的剛性越高越優選，因此剛性過大地降低會對製造以及處理造成障礙。因此，這些提議中，在實際中有不能使防塵薄膜組件框架的剛性實質性降低的問題。

再者，為使防塵薄膜組件框架的高度變低，不失為提高對光遮罩變形的追從性的有效的手段，但是在該情況，有因為防塵膜和光遮罩的圖案面的距離變近，從而不能得到本來的散焦性的問題。再者，若為了將截面積減小使剛性降低，在防塵薄膜組件框架的內面設置凹洞等，有可能產生異物。

因此，現在，特別需要的是，提供一種在維持適度的框架剛性而沒有製造以及使用上的問題的同時，盡可能維持高的散焦距離以及在貼附後對光遮罩的形狀的影響極小的防塵薄膜組件。

因此，本發明，是鑒於上述情況而成的，本發明的目的 為，提供以一種對光遮罩的形狀影響極小，從而對光遮罩的變形進行抑制的防塵薄膜組件。

本發明的發明人，為達成上述的目的，進行了深入的研究，得知如果將遮罩黏著層在防塵薄膜組件框架的框面的全部連續地配置的話，經由黏著層對光遮罩作用的結合力過強，貼附後的光遮罩的變形大。因此，通過進一步的研究，發現若在防塵薄膜組件框架一部分上形成遮罩黏著層，同時，在遮罩黏著層之間的區域無間隙地形成非黏著性的彈性體層的話，與遮罩黏著層在全周上連續地形成的以往的情況相比，對光遮罩的結合力減緩，從而可將對光遮罩的形狀的影響抑制在極小，從而完成了本發明。

即，本發明的防塵薄膜組件，由包括長邊和短邊的矩形的防塵薄膜組件框架構成，其特徵在於，遮罩黏著層在該防塵薄膜組件框架上的至少2處上形成，且在該遮罩黏著層之間的區域，無間隙地形成包括非黏著性的樹脂的彈性體層。另外，該遮罩黏著層優選在長邊和短邊中的任一方或兩方的各邊的至少1處上形成。

再者，本發明的遮罩黏著層優選含有防塵薄膜組件框架的角部而形成，僅在防塵薄膜組件框架的直線部分上形成也可。然後，該遮罩黏著層，其沿防塵薄膜組件框架內側上的長度的總和優選為在防塵薄膜組件框架的內周長的10%至70%的範圍。

進一步，本發明的遮罩黏著層，各個的表面優選進行平 面度為30μm以下的平面加工，各個的厚度也以最大值和最小值的差為0.1mm以下為優選。

另外，本發明的彈性體層優選為在對其進行表面為平面度30μm以下的平面上加工的同時，與遮罩黏著層的表面為同一平面，其硬度為硬度計硬度(Durometer-hardness)A50以下，其材質優選從由苯乙烯丁二烯苯乙烯(styrene butadiene styrene，SBS)樹脂，苯乙烯乙烯丁烯苯乙烯(styrene ethylene butylene styrene，SEBS)樹脂，苯乙烯乙烯丙烯苯乙烯(Styrene Ethylene Propylene Styrene，SEPS)樹脂，氟系樹脂，矽氧樹脂(silicone resin)以及氟改質矽氧樹脂構成的群中選擇。

根據本發明，由於在至少2處形成的遮罩黏著層之間的區域上形成包括非黏著性的樹脂的彈性體層，與以往遮罩黏著層在防塵薄膜組件框架的全周上連續地形成的情況相比，防塵薄膜組件框架和光遮罩和的結合狀態柔和，防塵薄膜組件框架對光遮罩的形狀的影響可減少，因此，可發揮對防塵薄膜組件的安裝後的光遮罩的變形進行大幅度抑制的效果。

10‧‧‧防塵薄膜組件

11‧‧‧防塵薄膜組件框架

12‧‧‧遮罩黏著層

13‧‧‧彈性體層

14‧‧‧防塵膜接著層

15‧‧‧防塵膜

16‧‧‧夾具孔

17‧‧‧通氣孔

18‧‧‧過濾器

圖1為本發明的防塵薄膜組件的一實施方式的立體圖。

圖2(a)~圖2(d)為本發明的防塵薄膜組件的一實施方式的平面圖。

以下，對本發明的一實施方式基於附圖進行詳細說明，但是本發明並不限於此。

本發明的防塵薄膜組件，應用於特別是光遮罩的變形成為問題的半導體的製造的用途上時，特別有效果，但是其用途不限定於此。例如，不僅在一邊為150mm左右的半導體的製造用途，在一邊為200mm~300mm的印刷基板的製造用途以及一邊接近500mm~2000mm的液晶，有機EL面板的製造用途中，只要具有防塵薄膜組件貼附造成的光遮罩的變形問題，都可應用本發明的防塵薄膜組件。

圖1為，本發明的防塵薄膜組件10的一實施方式的立體圖，是從防塵薄膜組件10的遮罩黏著層12側觀測的圖。通常，在遮罩黏著層12的表面上，安裝保護用的分離片(separator)，但圖1中，分離片的圖示被省略。

圖1的具體例為，在構成矩形的防塵薄膜組件框架11的框的長邊以及短邊的交界的4個角部形成遮罩黏著層12，各遮罩黏著層12之間的區域中，彈性體層13無間隙地形成。

再者，作為有該遮罩黏著層12形成的實施型態，在圖1的實施型態例以外，也可有各種各樣的方式，可在防塵薄膜組件框架11的長邊和短邊的任一方或者兩方上形成遮罩黏著層12。

例如，圖2(a)~圖2(d)表示其他的型態例。圖2(a)為，遮罩黏著層12在至少2處上，即在一個長邊和其對邊上分別 形成的型態例，圖2(b)為，同樣地，在一條短邊和其對邊上分別形成的型態例。然後，遮罩黏著層12之間的區域，有非黏著性的彈性體層13無間隙地形成。

再者，圖2(c)為，長邊和短邊的兩方的各邊的中央附近分別有遮罩黏著層12形成的型態例，在4處的遮罩黏著層12之間的區域中，分別有非黏著性的彈性體層13無間隙地形成。進一步，圖2(d)為，長邊和短邊的兩方的各邊的中央附近和4個角部上有遮罩黏著層12分別形成的型態例，在該例的8處的遮罩黏著層12之間的區域中，有非黏著性的彈性體層13無間隙地形成。

長邊及/或短邊的面上形成遮罩黏著層12的情況下，由於優選為經由遮罩黏著層12作用於光遮罩上的結合力的均衡性良好，所以優選長邊及/或短邊的遮罩黏著層12，在相對邊上也形成在對稱的位置上。

再者，遮罩黏著層12，在圖1以及圖2(d)的實施型態例中，由於以包含防塵薄膜組件框架11的角部的方式形成，可在減少給予光遮罩的影響的同時，由於接著在容易變成遮罩黏著層12的剝離或者防塵薄膜組件10的脫落的起點的角部，所以具有可靠性高的優點。特別是，在曝光機的水平設置時光遮罩的撓曲量大的大型的光遮罩以及防塵薄膜組件的情況中，如果以圖1以及圖2(d)的實施型態例的方式在至少含有角部的部位設置遮罩黏著層12，更具有良好的效果。

再者，在邊長超過500mm的那樣的大型的防塵薄膜組件的情況中，由於防塵薄膜組件框架11自身的重量造成的撓曲大，如果如圖2(d)般，在邊的內部也有遮罩黏著層12形成，優選考慮由於自重撓曲使彈性體層13和光遮罩之間不會形成間隙。圖2(d)的實施型態例中，各邊的內部的中央附近和角部上分別有遮罩黏著層12形成。

遮罩黏著層12的形成處的個數以及形成位置，並不特別限定上述，可根據需要適宜設定。但是，為了使通過遮罩黏著層12傳導的結合力以均衡良好(無偏向)地施加於光遮罩上，遮罩黏著層12在防塵薄膜組件框架11的長邊或者短邊的至少2處上形成為優選。再者，長邊或者短邊的遮罩黏著層12，如圖2上所示，在相對的邊上也形成在對稱的位置上為更優選。

另一方面，圖2(a)、(b)以及(c)的實施方式為，遮罩黏著層12是僅在不包含防塵薄膜組件框架11的角部的直線部分上形成的例子。在大型的光遮罩或者防塵薄膜組件的情況下，由於光遮罩的自重撓曲會造成防塵薄膜組件框架11的角部易於剝離，如此的型態例採用困難，但在半導體等的用途中的邊長為200mm以下的小型光遮罩的情況下，光遮罩的自重撓曲的問題少而可應用。

在圖2(a)以及圖2(b)的實施型態例中，在長邊和短邊的任一方的各邊上遮罩黏著層12僅在1處形成，防塵薄膜組件框架11全體也僅2處而少，遮罩黏著層12和彈性體層13的接 縫也少，所以具有製造容易，平面度也可提高的優點。

再者，圖2(c)的實施型態例中，僅在長邊和短邊的各邊的1處形成遮罩黏著層12，由於在防塵薄膜組件框架11全體上有4處形成，所以應用於遮罩黏著層12的面積需要多的的情況。

作為有必要形成所述遮罩黏著層12的區域，由於只需要能夠將防塵薄膜組件框架11的自重進行長期間穩定支持的面積，所以兼顧遮罩黏著層12使用的黏著劑的黏著力來進行決定即可。即，遮罩黏著劑的黏著力大的情況，小的面積即可；黏著力小的情況，需要大的面積。

但是，上述的實施型態例的任一情況中，沿著防塵薄膜組件框架11的內側的遮罩黏著層12的長度的總和，以防塵薄膜組件框架11的內周長(包括角部的彎曲部)的10%~70%的範圍為優選。

遮罩黏著層12的長度的總和比10%小的情況，有從光遮罩上剝離等的危險，可靠性上有問題，再者，如超過70%，光遮罩和防塵薄膜組件框架11的結合力變強，不能得到所期望的效果。

作為所述遮罩黏著層12的材質，可使用橡膠系黏著劑，聚氨酯系黏著劑，丙烯酸系黏著劑，SEBS黏著劑，SEPS黏著劑，矽氧黏著劑等公知的黏著劑。

再者，為了光遮罩的貼附後的安定性的確保和使給予光遮罩的防塵薄膜組件10的影響進一步減少，將遮罩黏著層12的 各個表面加工成平面度為30μm以下的平面為優選，其高度或者厚度在各處的最大值和最低值的差以0.1mm以下為優選。

另一方面，彈性體層13，在各遮罩黏著層12之間的區域無間隙地形成。然後，該彈性體層13，由於沒有黏著力，若該彈性體層13和遮罩黏著層12的接縫如為凹凸狀，則防塵薄膜組件內外會通氣，所以優選其形成連例如間隙的那樣的微小的平面的不平也沒有。

再者，彈性體層13的表面，與遮罩黏著層12同樣，優選對其加工成進行平面度在30μm以下的平面上的同時，將其表面加工為與遮罩黏著層12的表面相同的高度，形成同一平面。所述彈性體層13的硬度優選為硬度計硬度A50以下，由此，由於貼附後的反彈力小，給予光遮罩的影響變小，再者，由於與光遮罩的密著性被提高，所以可靠性也被提高。

作為所述彈性體層13的材質，以從由SBS樹脂，SEBS樹脂，SEPS樹脂，氟系樹脂，矽氧樹脂以及氟改質矽氧樹脂形成的群中選擇為佳。SBS樹脂，SEBS樹脂，SEPS樹脂等的熱可塑性樹脂加工性良好，具有易於與其他黏著劑組合的優點。

再者，氟系樹脂，矽氧樹脂以及氟改質矽氧樹脂，具有極好的耐光性的優點。在選擇矽氧樹脂或者氟改質矽氧樹脂的情況下，可選擇硬度的低的材料，例如，針入度50以上的凝膠，還可減少對光遮罩的影響。

然後，關於遮罩黏著層12以及彈性體層13的材質的選 擇，當然，遮罩黏著劑應當對防塵薄膜組件框架11的重量具有充分的接著力，但是在遮罩黏著層12以及彈性體層13形成時，優選易於組合使用之物。

繼而，關於遮罩黏著層12以及彈性體層13的形成方法，可根據使用的不同材質，進行最適的選擇即可。例如，分別作為遮罩黏著層12選擇丙烯酸系黏著劑，還有作為彈性體層13選擇SEPS樹脂的情況下，首先作為遮罩黏著層12，將丙烯酸系黏著劑塗布在防塵薄膜組件框架11的一部分上，在進行平坦化處理的同時進行溶媒乾燥硬化處理。然後，在防塵薄膜組件框架11的剩餘部分上，作為彈性體層13將SEPS樹脂加熱塗布，然後，一邊加熱一邊進行平坦化處理，如此，就可使彈性體層13與在先平坦化的遮罩黏著層12形成於同一平面。

再者，作為另一個例子，遮罩黏著層12選擇矽氧黏著劑，彈性體層13選擇氟改質矽氧樹脂的情況，首先，作為遮罩黏著層12在防塵薄膜組件框架11的一部分上將矽氧黏著劑塗布，將溶劑乾燥至不流動程度。然後，將氟改質矽氧樹脂塗布在防塵薄膜組件框架11的剩餘部分上作為彈性體層13，兩方一起進行平坦化處理。其後，加熱將溶媒完全除去，硬化，同時得到遮罩黏著層12和彈性體層13。

作為防塵薄膜組件框架11的材質，可使用鋁合金、鋼鐵、不銹鋼、黃銅等的金屬；聚乙烯(Polyethylene，PE)、聚丙烯酸酯(polyacrylate，PA)、聚醚醚酮(Polyetheretherketone，PEEK) 等的工程塑料；玻璃纖維強化塑膠(Glass Fiber Reinforced Plastics，GFRP)、碳纖維強化樹脂(carbon fiber reinforced plastic，CFRP)等的纖維複合材料等公知物。再者，優選在其表面進行黒色處理的同時，根據需要進行防止發塵的塗裝等的表面處理。例如，使用鋁合金的情況下，優選進行氧化膜處理以及化成處理等的表面處理，在鋼鐵，不銹鋼等的情況優選進行黒色鍍鉻等的表面處理。

在圖1的實施型態例中，防塵薄膜組件框架11的截面形狀，為一般的矩形形狀，但是也可為了降低剛性以減少對光遮罩的影響，輔以在防塵薄膜組件框架11的側面進行切角以及挖洞來減少截面積。

在遮罩黏著層12的表面，通常為了保護的目的設置厚度為50μm至300μm程度的聚乙烯對苯二甲酸酯(polyethylene terephthalate，PET)製薄膜等的表面賦予剝離性的分離片(未圖示)，但是優選通過對防塵薄膜組件的盛裝盒子或者對防塵薄膜組件的支持裝置等進行改進來將該分離片省略。

防塵薄膜組件框架11的內面，為了對浮遊異物進行捕捉以及進行固定，優選塗布丙烯酸系黏著劑，矽氧系黏著劑等的黏著性物質(未圖示)。再者，優選僅在防塵薄膜組件框架11的內面，或者在其全面上，為了防止發塵，形成丙烯酸系樹脂，氟系樹脂等的非黏著性樹脂的被膜(未圖示)。這些黏著性樹脂，非黏著性樹脂的被膜的形成方法為，噴霧，浸漬，粉體塗裝，電塗 裝等的公知的方法。

再者，在防塵薄膜組件框架11的外面，為了便於操作等目的，優選設置多個夾具孔16以及溝等(未圖示)，再者，優選通過機械刻印或激光刻印，刻印上模型號，製造號以及條形碼等的標記(未圖示)。

進一步，為了進行防塵薄膜組件10的貼附後的內部的氣壓調整，可設置通氣孔17，其外側，為了防止異物的侵入，可設置由聚四氟乙烯(Polytetrafluoroethylene，PTFE)等的多孔質薄膜形成的過濾器18。此時該過濾器18的安裝，可通過設置由適宜的材質構成的黏著層等，在防塵薄膜組件框架11的外面上直接貼附等來進行。然後這些通氣孔17以及過濾器18的配置位置、個數以及其形狀，可對要求的通氣性以及操作的情況等進行綜合考量來決定。

防塵膜15，根據使用的曝光光源，從纖維素系樹脂，氟系樹脂等的材料中進行最適的選擇，膜厚從透過率、機械的強度等的觀點來看，優選從0.1至10μm程度的範圍選擇來進行製作，同時，根據需要，也可賦予反射防止層。然後，該防塵膜15的防塵膜接著層14，可使用丙烯酸系接著劑，氟系接著劑，矽氧系接著劑等公知的接著劑來形成。

本發明，遮罩黏著層12，在防塵薄膜組件框架11的至少2處形成的同時，由於在至少2處的遮罩黏著層12之間的區域，無間隙地形成包括非黏著性的樹脂的彈性體層，如此通過遮罩黏 著層12得到的與光遮罩的結合力，與防塵薄膜組件框架11的全周上連續地形成遮罩黏著層12的以往的情況相比，變得緩和。因此，防塵薄膜組件框架11的形狀給光遮罩的影響減少，所以可對防塵薄膜組件10的安裝後的光遮罩的變形進行大幅度的地抑制。

再者，各遮罩黏著層12之間沒有形成遮罩黏著層12的區域中，沒有黏著性但具有柔軟性的彈性體層13與遮罩黏著層12以同一平面形成，並且，該彈性體層13，具有在光遮罩表面上密著，將光遮罩內密閉的功能，因此，在防塵薄膜組件框架11所給予光遮罩形狀的影響被減少的同時，也具有防止異物向防塵薄膜組件10內的侵入的功能。

再者，根據本發明，對為了提高對光遮罩的追從性從而將防塵薄膜組件框架11本身的高度減低或者使其剛性變小的必要性小，所以可維持高的異物散焦性能。

[實施例] <實施例1>

以下，用實施例來對本發明進行具體地說明，在實施例1中，首先要製作由圖1所示的立體圖的防塵薄膜組件10，對該製作過程進行說明。

防塵薄膜組件框架11，為將A5052鋁合金進行機械切削而制成的，外尺寸149x113mm，內尺寸為145x109mm，角部的內側R3mm，角部的外側R5mm，高度4.7mm。

再者，在防塵薄膜組件框架11的長邊的中央部，設置 直徑0.5mm的通氣孔17和，在各邊的角部附近設置操作用的非貫通的直徑1.6mm，深1.2mm的夾具孔16。然後，在稜部進行C0.2mm程度的切角(未圖示)，對該表面，進行噴砂得到全面為Ra0.6程度後，進行黑色氧化膜處理。

然後，將如此處理的防塵薄膜組件框架11用界面活性劑和純水進行良好洗淨且乾燥。其後，如圖1的實施方式般，包含長邊以及短邊的防塵薄膜組件框架11的角部的4處上，將作為遮罩黏著層12的矽氧黏著劑(商品名；KR3700，信越化學工業(股)製)用搭載在3軸直交機器人的空氣加壓式分布器進行塗布。

此時，所述遮罩黏著層12，在長邊和短邊，都從角部進行20mm的範圍的塗布，沿著該防塵薄膜組件框架11的內側的長度的總和為154.84mm。另一方面，由於防塵薄膜組件框架11的內周長度502.84mm，所以遮罩黏著層12的沿著防塵薄膜組件框架11的內側的長度的總和為，防塵薄膜組件框架11的內周長的約30.8%。

然後，塗布的遮罩黏著層12，原封不動地進行1.5h的風乾，使溶媒自然乾燥。再者，在防塵薄膜組件框架11的相同的面上，遮罩黏著層12沒有設置區域上，將作為彈性體層13的氟改質矽氧樹脂(商品名；SIFEL，信越化學工業(股)製)用空氣加壓式分布器塗布。

將所述遮罩黏著層12和彈性體層13一起，介於塗有厚度125μm的離型劑的PET製片，壓在平面度為5μm的不銹鋼製 的平板上，進行平坦化處理，然後原封不動地加熱至110℃，使遮罩黏著層12和彈性體層13半硬化。其後，從遮罩黏著層12和彈性體層13將平坦化處理時使用的分離片剝離除去的同時，加熱至150℃，使其完全硬化，對該完成的遮罩黏著層12和彈性體層13的平面度進行測定，平面度為20μm。

然後，在設置遮罩黏著層12和彈性體層13的防塵薄膜組件框架11的面的相反的面上，將作為防塵膜接著層的氟系樹脂(商品名；CYTOP，旭硝子(股)製)用搭載在3軸直交機器人上的空氣加壓式分布器塗布，將溶媒乾燥得到防塵膜接著層14。再者，將包括PTFE多孔質膜的過濾器18用丙烯酸黏著片進行接著，使其將長邊中央的通氣孔17覆蓋。

在實施例1中，作為防塵膜材料的氟系樹脂(商品名；CYTOP，旭硝子(股)製)在成膜基板(300mm矽氧晶片)用旋塗法成膜，溶媒乾燥後，將膜與基板外形同尺寸的暫用框接著，從成膜基板剝離，得到厚度0.28μm的剝離膜。將該剝離膜在防塵薄膜組件框架11上的防塵膜接著層14上加熱接著，成為防塵膜15，將防塵薄膜組件框架11的外側的多餘膜用刀切斷除去，得到防塵薄膜組件10。

另外，在此實施例1中，省略了保護遮罩黏著層12的表面的分離片，但是根據需要也可設置。在該情況下，可使用在厚度100至200μm範圍的PET薄膜等的表面上，塗布與黏著層材質適應的離型劑，按所希望的形狀進行切斷加工得到之物。

最後，對該防塵薄膜組件10進行檢測，準備150mm x 150mm x厚度6mm，平面度0.3μm的石英玻璃制光遮罩，將防塵薄膜組件10貼附。此時的防塵薄膜組件10的貼附加壓力為5kgf，加壓時間為3min。

然後，光遮罩和防塵薄膜組件10接著後，從光遮罩的裏面對遮罩黏著層12和彈性體層13的接著狀態進行目視確認，得知防塵薄膜組件框架11的全周上，光遮罩和防塵薄膜組件10以充分的寬接著(密著)，處於良好的接著狀態。

再者，對遮罩黏著層12和彈性體層13的8處接縫也進行目視確認，得知，雖然接著寬有些許不同一，但是，沒有空氣瀦留以及寬度變細等的有可能使防塵薄膜組件內外的通氣危險的癥兆。進一步，對於該具有防塵薄膜組件的光遮罩基板，對其平面度進行了確認，得知，相對於防塵薄膜組件貼附前的光遮罩單獨時的值為0.3μm，接著後的值為0.31μm，因此平面度也僅有非常小的變化量。

<實施例2>

在實施例2中，使用與上述實施例1同樣地製作的同規格的防塵薄膜組件框架11，以同樣的步驟製作防塵薄膜組件10。然後，在實施例2中，使用與實施例1不同的圖2(c)所示的例子，將遮罩黏著層12，在防塵薄膜組件框架11的各長邊的中央部100mm的長度上設置，再者，在各短邊的中央部也在60mm的長度上也進行設置，在防塵薄膜組件框架全體4處上形成的同時，各遮罩 黏著層12之間的包括角部的剩餘的4處上設置彈性體層13。

然後，該實施例2中，遮罩黏著層12的沿著防塵薄膜組件框架11的內側的長度為320mm，由於防塵薄膜組件框架11的內周長為502.84mm，遮罩黏著層12的沿著防塵薄膜組件框架11的內側的長度的總和，約為防塵薄膜組件框架11的內周的63.6%。再者，對該完成的防塵薄膜組件10的遮罩黏著層12和彈性體層13的平面度進行了確認，得知為20μm。

然後，準備在本實施例2中也用來進行防塵薄膜組件10的評價用的150mm x 150mm x厚度6mm，平面度0.28μm的石英玻璃制光遮罩，與上述實施例1同樣，將防塵薄膜組件10貼附後，從光遮罩的裏面對遮罩黏著層12和彈性體層13的接著狀態進行目視確認，得知為在膜組件框架11的全周上都以充分的寬度接著(密著)的良好的接著狀態。

再者，對遮罩黏著層12和彈性體層13的8處接縫也進行目視確認，可得知處於良好的接著狀態。進一步，對光遮罩的平面度也進行了確認，防塵薄膜組件10的貼附前的光遮罩單獨時的平面度0.29μm，接著後的值為0.31μm，平面度的變化量也小。

[比較例]

在比較例中，使用與上述實施例1以及實施例2同規格的防塵薄膜組件框架11，用同樣的步驟製作防塵薄膜組件10，但在該比較例的防塵薄膜組件10中，在防塵薄膜組件框架11的全周上形成遮罩黏著層12，沒有上述實施例1以及實施例2的情況 的彈性體層13。在本比較例中，僅在全周上連續地形成遮罩黏著層12，所以與實施例1以及實施例2比較，在彈性體層13沒有設置這一點上差異大。然後，對該比較例製成的遮罩黏著層12的平面度進行測定，得知其值為上述實施例1以及2實施例相同，為20μm。

然後，與上述實施例1以及實施例2同樣，將防塵薄膜組件10貼附於光遮罩，從光遮罩的裏面對遮罩黏著層12的接著狀態進行目視確認，得知雖然在防塵薄膜組件框架11的全周上確保均一的接著寬度，具有良好的接著狀態，但是，在對具有該防塵薄膜組件10的光遮罩基板上的平面度進行確認，得知在比較例中，相對於光遮罩單獨時的值為0.3μm，而防塵薄膜組件10貼附後的值為0.36μm。另外，此時，使用的石英玻璃制光遮罩，與上述實施例1以及實施例2相同，為150mm x 150mm x厚度6mm，平面度為0.3μm。

因此，在比較例中，確認其平坦度與上述實施例1以及實施例2的值0.31μm相比，具有大的變化。

10‧‧‧防塵薄膜組件

11‧‧‧防塵薄膜組件框架

12‧‧‧遮罩黏著層

13‧‧‧彈性體層

14‧‧‧防塵膜接著層

15‧‧‧防塵膜

16‧‧‧夾具孔

17‧‧‧通氣孔

18‧‧‧過濾器

Claims (10)

1. 一種防塵薄膜組件，由包括長邊和短邊形成的矩形的防塵薄膜組件框架構成，其特徵在於，遮罩黏著層在所述防塵薄膜組件框架上的至少2處上形成，且所述遮罩黏著層彼此的遮罩側表面成為同一平面，且各遮罩黏著層之間的區域無間隙地形成包括非黏著性的樹脂的彈性體層，且所述彈性體層的遮罩側表面與所述遮罩黏著層的遮罩側表面為同一平面。
2. 如申請專利範圍第1項所述的防塵薄膜組件，所述遮罩黏著層在所述長邊和所述短邊中的任一方或兩方的各邊的至少1處上形成。
3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的防塵薄膜組件，所述遮罩黏著層含有所述防塵薄膜組件框架的角部而形成。
4. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的防塵薄膜組件，所述遮罩黏著層僅形成在所述防塵薄膜組件框架的直線部分上。
5. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的防塵薄膜組件，所述遮罩黏著層，其沿著所述防塵薄膜組件框架內側的長度的總和為所述防塵薄膜組件框架的內周長的10%至70%的範圍。
6. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的防塵薄膜組件，所述遮罩黏著層，其各個表面被加工為平面度30μm以下。
7. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的防塵薄膜組件，所述遮罩黏著層，其各個的厚度為最大值和最低值的差為0.1mm以下。
8. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的防塵薄膜組件，所述彈性體層，將其表面加工為平面度30μm以下。
9. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的防塵薄膜組件，所述彈性體層，其硬度為硬度計硬度A50以下。
10. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的防塵薄膜組件，所述彈性體層，其材質從由苯乙烯丁二烯苯乙烯樹脂，苯乙烯乙烯丁烯苯乙烯樹脂，苯乙烯乙烯丙烯苯乙烯樹脂，氟系樹脂，矽氧樹脂以及氟改質矽氧樹脂構成的群中選擇。