CN102736401A - 防尘薄膜组件框架、其制造方法以及防尘薄膜组件 - Google Patents
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Abstract
提供一种在碳纤维中含浸树脂的复合体,不变更尺寸而提高全体的刚性,轻量化可能并制造简单的防尘薄膜组件框架。防尘薄膜组件框架10的长方形形状的防尘薄膜组件框架10的各边,由长纤维状的碳纤维和树脂和的复合材料形成的细长部件14,20来形成,上述碳纤维,细长部件14,20的纵方向分配方向。细长部件14,20的全表面树脂皮膜来包覆,从而没有碳纤维露出。
Description
技术领域
本发明,涉及在半导体装置、印刷基板或液晶显示器等的制造时,作为防尘物使用的防尘薄膜组件框架、其制造方法以及防尘薄膜组件。
背景技术
在LSI,超LSI等的半导体制造或者液晶显示器等的制造中,半导体晶片或液晶用原板用光照射进行图案制作。此时用的光掩模或中间掩模(以下,均称光掩模)如果有灰尘付着,该灰尘会对光进行吸收或使光弯曲,从而使转印的图案变形,图案的边缘变得模糊。进一步,对图案进行转印的基底脏污等,有使转印的图案的尺寸,品质,外观等受损的情况。为此,这些的操作通常在无尘室中进行,即使如此要经常保持光掩模清洁也是困难的。因此,在作为光掩模表面的防尘物,有防尘薄膜贴付了的防尘薄膜组件在光掩模上进行贴付曝光。在该场合,异物不直接付着在光掩模的表面,而是在防尘薄膜上付着,由此光刻时只要将焦点合在光掩模的图案上,防尘薄膜上的异物对转印映像就没有影响。
一般,防尘薄膜组件,将使用光良好透过的硝化纤维素,乙酸纤维素或者氟树脂等的透明的防尘薄膜贴附在由铝,不锈钢,聚乙烯等形成的框状的防尘薄膜组件框架的上端面进行贴附。进一步,防尘薄膜组件框架的下端设置用于安装光掩模的聚丁烯树脂、聚乙酸乙烯基酯树脂、丙烯酸树脂以及硅氧烷树脂等形成的粘着层,以及以保护粘着层为目的的离型层(剥离片)。
但是,要将薄的防尘薄膜绷紧用防尘薄膜组件框架来支持,就要以具有适当大小的张力的状态粘结于防尘薄膜组件框架。为此,以往的防尘薄膜组件中,防尘薄膜贴付后的防尘薄膜组件框架,由于防尘薄膜的张力,会发生向内侧的挠曲。该现象,例如在印刷基板以及液晶显示器制造中在使用大型的防尘薄膜组件中显著出现。如此,防尘薄膜组件框架挠曲,即外形的直线性差的防尘薄膜组件的场合,向光掩模的贴付位置的精度差。进一步,光掩模,由于低成本化,要尽可能确保曝光领域。为此,防尘薄膜组件框架的向内侧的的挠曲要尽量地小。
另外,防尘薄膜组件框架中,厚度方向(高度方向)的挠曲也会发生。特别是,在边长超过1000mm的超大型的防尘薄膜组件框架中,其两端被支持进行防尘薄膜的贴付工序等被水平搬送时,中央部在向下方向会有大的挠曲,防尘薄膜的贴付等的处理会产生非常大的问题,产生不能恢复的塑性变形(翘曲)。
作为解决该防尘薄膜组件框架的挠曲的手段,在专利文献1中,记载了在防尘薄膜的贴付时,根据防尘薄膜的张力,使用预先在各边的中央部,使其向外侧凸状突出的防尘薄膜组件框架,从而使各边变为直线状。但是,预先根据防尘薄膜的张力使防尘薄膜组件框架的挠曲量,对使防尘薄膜组件框架的各边的中央部形成突出部的突出量进行予测使困难的。而且,该防尘薄膜组件框架中,其厚度方向的挠曲也没有解决。
防尘薄膜组件框架的内侧方向以及上下方向的挠曲的解决,可以通过提高防尘薄膜组件框架的刚性即可,即通过使防尘薄膜组件框架的截面积的増大即可达成达成。但是,防尘薄膜组件框架的截面积,即尺寸加大的方法,会使防尘薄膜组件框架的内侧的曝光领域的问题就会发生,关于其外侧也有光掩模的固定以及搬送中的处理用的间隙也有确保的必要。进一步,防尘薄膜组件框架的厚度方向(高度方向)的尺寸也与曝光装置有关,所以被限制在3至8mm程度。由此,防尘薄膜组件框架的尺寸设计的自由度就几乎没有了,所以通过防尘薄膜组件框架的截面积的増大的方法来提高防尘薄膜组件框架的刚性是难以采用的。
另外,在提高防尘薄膜组件框架的刚性中,使用弹性系数高的材质也是一种手段。该手段,例如下述专利文献2中,公开了在铝合金的框体中,将具有更大的弹性系数的含有将包括不锈钢的铁或钛进行埋入的方法来防止防尘薄膜组件框架挠曲的方法。
【先有技术文献】
【专利文献】
【专利文献1】特开2006-56544号公报
【专利文献2】特开2006-284927号公报
发明内容
上述的专利文献2记载的防尘薄膜组件框架,可以不使防尘薄膜组件框架的尺寸变更,就可以来提高全体的刚性。但是,钢铁以及不锈钢等的铁类合金的埋入的防尘薄膜组件框架的重量极大,钛的加工性(被削性)非常差,所以防尘薄膜组件框架的制造有困难。
本发明人,为了得到刚性提高的防尘薄膜组件框架,对使用碳纤维中含浸树脂的复合体进行了探讨。但是,如图10的(a)所示的那样,长纤维状的碳纤维从一方向分配方向(分配方向的意思是确定碳纤维的长度的走向)的复合体50中将防尘薄膜组件框架52切出的场合,长边或者短边的任一个,在边的纵方向进行分配方向的碳纤维就会变得没有了,由此,防尘薄膜组件框架52的全体的刚性就难以得到提高。再者,如图10的(b)所示得那样,从长纤维状的碳纤维以平织状来织成的复合体54将防尘薄膜组件框架52切出的场合,碳纤维的几乎一半没有纵方向的分配方向,由此防尘薄膜组件框架52的全体的刚性的提高是困难的。另外,从图10的(a)所示的复合体50,将防尘薄膜组件框架52的各边,使长纤维状的碳纤维按边的纵方向进行分配方向那样切出,如图11所示那样在角部用螺栓55或铆钉进行接合来将防尘薄膜组件框架52的组装也进行了考虑。但是,碳纤维的复合材的韧性差,对螺钉加工不太适应。
本发明,就使为解决上述的课题而成的。本发明的目的就是提供一种利用在碳纤维中使树脂含浸的复合体,不用尺寸变更就可以提高防尘薄膜组件框架的全体的刚性,并能轻量化并且制造简单的防尘薄膜组件框架以及其制造方法,防尘薄膜组件。
为了达到上述的目的,技术方案1记载的防尘薄膜组件框架,在多角形状的防尘薄膜组件框架的各边,由长纤维状的碳纤维和树脂的复合材料形成细长部件来形成,上述碳纤维,以上述细长部件的纵方向进行分配方向为特征。
技术方案2记载的防尘薄膜组件框架,其按照技术方案1,其特征在于上述细长部件的全表面用树脂皮膜覆盖,以使上述碳纤维不露出。
技术方案3记载的防尘薄膜组件框架,其根据按权利要求1,所述细长部件,大量的长纤维状的碳纤维进行纵方向分配方向,是以使树脂含浸的多条的细长片状体层叠形成为特征。
技术方案4记载的防尘薄膜组件框架,其特征在于多条的上述细长片状体就象模仿上述防尘薄膜组件框架的形状那样接续成的多个框状体叠层而形成,上述细长片状体的接合部,位于上述防尘薄膜组件框架的角部近傍,上述接合部的位置与紧挨的上面的所述框状体以及/或者紧贴下面的所述框状体是不同的。
技术方案5记载的防尘薄膜组件框架的制造方法,其特征在于形成多角形状的防尘薄膜组件框架的对应边用切削加工形成宽以及长,将多条的长纤维状的碳纤维按纵方向分配方向,含浸树脂的多条的细长状的片状体,在上述防尘薄膜组件框架的角部预定形成的位置近傍接续的框状部件,其特征在于
上述片状体的接续位置不同的多条的框状部件的形成工序;
将多条的上述框状部件叠层粘接形成叠层体,使上述接续位置与紧挨上面的框状部件以及/或者紧贴下面的框状部件的接续位置不同的工序;
将上述叠层体切削加工成具有规定的宽以及长,形成多角形状的防尘薄膜组件框架的工序。
技术方案6记载的防尘薄膜组件框架的制造方法,其根据技术方案5,其特征在于在切削加工得到的上述防尘薄膜组件框架的全表面,形成树脂皮膜的工序。
技术方案7记载的防尘薄膜组件,其使用技术方案1至4的任一项记载的防尘薄膜组件框架,其特征在于贴附了防尘薄膜。
【发明的效果】
本发明的防尘薄膜组件框架,在形成其各边的细长部件在纵方向上长纤维状的碳纤维分配方向。由此,防尘薄膜组件框架的全体的刚性可以被显著提高,对在防尘薄膜组件的使用时以及处理时所发生的防尘薄膜组件框架的挠曲具有充分抵抗力。由此,防尘薄膜的张力造成的向防尘薄膜组件框架的内侧的挠曲少,曝光领域的溅少也少,处理时的变形以及挠曲也小,防尘薄膜的贴付操作变得容易。进一步,与以往使用的材质的防尘薄膜组件框架相比各边宽可狭窄地形成,从而可以进一步确保了宽阔的曝光领域。另外,长纤维状的碳纤维为在细长部件的纵方向上分配方向,所以碳纤维的截面不易在防尘薄膜组件框架的表面上露出,碳纤维难以脱落以及难以发生灰尘。即细长部件的全表面用树脂覆盖的场合,碳纤维的脱落以及灰尘发生会进一步减少,并且紫外线造成的老化也可以得以防止。本发明的防尘薄膜组件框架的制造方法,是将多条的框状部件叠层粘接,将得到的叠层体进行切削加工而成,并且其接续位置与紧挨的上面的框状部件以及/或者紧贴下面的框状部件不同,因没有用螺钉连接的必要,并且在切削工序中不易发生框体的龟裂与传播。
附图说明
图1为说明本发明的防尘薄膜组件框架的一例的立体图;
图2的(a)和(b)为图1的A-A面以及B-B面的横截面图;
图3的(a)和(b)为图1所示的是形成防尘薄膜组件框架的框状体的正面图;
图4为对图1中所示的防尘薄膜组件框架制造时用的细长的片状体30加以说明的立体图;
图5为长度不同的细长的片状体的组合的说明立体图;
图6为表示多条的框状部件叠层的叠层体的立体图;
图7为形成图6所示的叠层体的叠层夹具的说明立体图;
图8为对图5所示的框状部件进行切削加工而形成的防尘薄膜组件框架用框体的立体图;
图9为使用图1所示的防尘薄膜组件框架的防尘薄膜组件的立体图;
图10的(a)和(b)为关于本发明的防尘薄膜组件框架的制造方法的比较例的说明图;
图11为关于本发明的防尘薄膜组件框架的制造方法的比较例的立体图。
具体实施方式
以下,对本发明实施方式进行详细说明,但是本发明的范围不限于这些实施方式。
本发明的防尘薄膜组件框架的一例用图1表示。图1所示的防尘薄膜组件框架10,为长方形状,外周侧以及内周侧的角部为园弧状,上面形成防尘薄膜的贴设面12。在形成具有多个的通气孔16的穿设的防尘薄膜组件框架10的长边的细长部件14,14的外周面中,有处理用的凹部18。进一步,在形成防尘薄膜组件框架10的短边的细长部件为20,20的外周面,有处理用的沟22。
该防尘薄膜组件框架10的细长部件14的A-A面(图1)的截面图用图2的(a)表示,细长部件20的B-B面(图1)的横截面图用图2的(b)表示。细长部件14,20中,多条的细长片状体24被叠层。该细长片状体24,如图3的(a)以及(b)所示的那样,按防尘薄膜组件框架10的形状形成框状体26a,26b。细长片状体24,其纵方向有多条长纤维状的碳纤维24a分配方向,使树脂含浸而形成的。该细长片状体24,24,在框状体26a,26b的角部近傍接合,接合位置,如图3的(a)所示的框状体26a和图3的(b)所示的框状体26a不同。该框状体26a,26b,从贴设面12向下方交互叠层,从而形成防尘薄膜组件框架10。由此,细长片状体24,24的接合部的位置,与紧挨的上面的框状体以及/或者紧贴下面的框状体不同,龟裂难以发生,即使龟裂发生,也可以防止向防尘薄膜组件框架10的波及。另外,形成防尘薄膜组件框架10的长边以及短边的细长部件14,20,是有多条的长纤维状的碳纤维24a分配方向,并使树脂含浸,形成细长的片状体24叠层而形成的。为此,防尘薄膜组件框架10的长边以及短边的各个的纵方向上长纤维状的碳纤维24a分配方向,从而,防尘薄膜组件框架10的全体的刚性得以显著提高。
如此,防尘薄膜组件框架10,在细长部件14,20的纵方向上长纤维状的碳纤维24a分配方向,所以从碳纤维24a的灰尘发生几乎没有。但是,如图2的(a)和图2的(b)所示那样,包括细长部件14,20的通气孔16,沟22以及凹部18的内周面的外周面的全部,用树脂皮膜27覆盖,由此从碳纤维24a的灰尘发生得以进一步防止。并且,图1所示的防尘薄膜组件框架10的底面侧,如图2的(a)和图2的(b)所示那样,形成光掩模粘着层的阶梯面28。
图1所示的防尘薄膜组件框架10的制造中,如图4所示的那样,使多条的长纤维状的碳纤维24a在纵方向进行分配方向,并使树脂含浸地细长状的片状体30。作为碳纤维24a,是PAN类碳纤维也可以,比其(ピツチ)类碳纤维也可以。另外,作为树脂,环氧树脂以及异氰酸酯树脂等的热硬化性树脂也可适宜使用。片状体30中,优选热硬化性树脂成为半硬化状态。该片状体30,如图5所示,由形成长方形状的防尘薄膜组件框架10的长边的片状体30a,30d以及形成防尘薄膜组件框架10的短边的片状体30b,30c来构成。片状体30a,30b,30c,30d,是按形成防尘薄膜组件框架10的对应边进行切削加工,以可以形成的宽度以及长度而形成的。
该片状体30a,30b,是防尘薄膜组件框架10的予定形成角部的近傍接续而形成图6所示的长方形状的框状部件32。进一步,片状体30c以及30d在与防尘薄膜组件框架10的角部预定形成的近傍的片状体30a,30b的接续位置不同的位置接续,形成图6所示的长方形状的框状部件32。将构成片状体的接续位置32a不同的多条的框状部件32,如图6所示那样叠层以及粘接形成叠层体34。该粘接使用粘接剂虽然也可以,但是也可以通过使叠层的片状体30a以及30b被含浸的半硬化状态的热硬化性树脂完成加热硬化。形成的叠层体34的宽以及高度(厚度),可以根据预定形成的防尘薄膜组件框架10的宽以及高度(厚度)适宜决定。但是,叠层体3的宽,以对预定形成的防尘薄膜组件框架10的宽的1.05至10倍为优选,进一步优选1.5至5倍。另外,高度(厚度),以预定形成的防尘薄膜组件框架10的高度(厚度)的1.05至2倍为优选,进一步优选1.1至1.5倍。由于该范围的宽以及高度(厚度),可以抑制加热时的变形(翘曲以及扭曲,边的中央部的向外突出等),从而容易进行下述切削加工时的固定等。在图6所示的叠层体34形成时,如用图7所示的叠层夹具36进行,就会使操作变得容易。叠层夹具36,为了使形成得叠层体34能够被加热处理,用铝合金等的金属制造,由此叠层体34的宽,长度以及高度的沟部38被形成。
对图6的叠层体34,施以切削加工,如图8所示的那样,形成希望尺寸的防尘薄膜组件框架用框体40。如此,通过施以切削加工,框状部件32的叠层时错开以及热处理时的扭曲等可以被防止,从而得到具有良好的尺寸精度的防尘薄膜组件框架10。进一步,防尘薄膜组件框架用框体40上,通气孔16,凹部18以及处理用的沟22被形成,从而可以得到图1所示的防尘薄膜组件框架10。进行所述机械加工时,在叠层体34中,多条框状部件32的接续位置的32a的位置,与紧挨的上面的框状体以及/或者紧贴下面的框状体不同,这样龟裂就会难于发生,即使发生龟裂也可以防止向整体的波及。
机械加工后的防尘薄膜组件框架10的外面,折断的碳纤维有时露出。折断的碳纤维,对防尘薄膜组件框架10进行清洗也难以完全除去,这样在防尘薄膜组件使用中碳纤维以及树脂有脱落发生灰尘的可能。进一步,含浸于碳纤维的环氧树脂等,就会容易由于曝光用的紫外线而老化,强度变低以及发生灰尘。为此,机械加工后的防尘薄膜组件框架10的表面(包括通气孔16,凹部18以及沟22的内周面)的全部形成树脂皮27,由此可以防止从表面来的折断的碳纤维等的灰尘的发生。作为该树脂皮膜27,易于使用不易因为曝光用的紫外线而老并且剥离强度高的丙烯酸树脂,进一步优选硅氧烷树脂,特别是优选氟树脂。树脂皮膜27,因其基底为黑色,优选将颜料、碳黑等混合于树脂使其变成黑色,可使散射光减低。
该树脂皮膜27,机械加工后充分洗净,干燥。在防尘薄膜组件框架10上,将树脂以所定的浓度溶解于溶媒,根据必要将颜料、碳黑等分散于溶媒中的涂布液,用喷雾器、浸渍、电着涂装等进行涂布。然后,将防尘薄膜组件框架10进行加热处理,将溶媒完全挥发除去,同时使树脂皮膜27中含有的低分子成分减低。使该树脂皮膜27的表面的光泽度在3以下,可以有效地抑制反射的效果,使曝光机内的杂散光减低并且使在暗室内的异物检查容易。另外,光泽度,用光泽度计来测定,将剥离表面作为100(JIS Z 8741)。
用得到的图1所示的防尘薄膜组件框架10,可以形成图9所示的防尘薄膜组件42。图9所示的防尘薄膜组件42,是在防尘薄膜组件框架10的贴设面12(图1)上通过防尘薄膜粘接层将防尘薄膜44绷紧设置。防尘薄膜44,由纤维素以及其衍生物、氟树脂等来形成。进一步,防尘薄膜组件框架10的阶梯面28(图2的(a)和(b))中,光掩模粘着层46被形成。作为光掩模粘着层46,是由丙烯酸粘着剂、橡胶类粘着剂、热溶胶粘着剂以及硅氧烷粘着剂等形成的。该光掩模粘着层46的表面,根据必要,在PET等的薄的树脂薄膜上添付上具有离型剂层的剥离片48,来保护光掩模粘着层46。另外,为了防尘薄膜组件42的内外的气压差造成的防尘薄膜44的膨胀,削出凹槽,在防尘薄膜组件框架10的侧面的贯通通气孔16中,设置过滤器47,从而不使外部的尘埃向防尘薄膜组件42内侵入。该防尘薄膜组件42,可以使防尘薄膜组件框架10的防尘薄膜44的张力以及处理时的挠曲小,并且防尘薄膜组件42在使用中,没有灰尘发生,信赖性高。
以上说明的防尘薄膜组件框架10,为长方形形状,但是也可以是正方形以及八角形。
【实施例1】
以下,对本发明的实施例进行详细说明,但是本发明的范围并不限定这些实施例。
(实施例1)
如图4所示,使用了纵方向分配方向的多条的长纤维状的碳纤维24a含浸了环氧树脂而得到的含浸细长状的片状体30(予浸物)(商品名;大亚利得(ダイアリ-ド)HYEJ25M80D,三菱树脂株式会社制)。作为防尘薄膜组件框架10的主要部分,形成长边的片状体30a,30d的尺寸为1780×50mm,1680×50mm。另外,作为防尘薄膜组件框架10的主要部分,形成短边的片状体30b,30c的尺寸为1460×50mm,1560×50mm。该片状体30a,30b,30c,30d叠层于图7所示的铝合金制的叠层夹具36的沟部38。此时,片状体的接合部中,极力不要有隙间形成。如不得不形成隙间的地方,要用环氧树脂(商品名;AY33三菱树脂株式会社制)进行充填。然后,在每一叠层夹具36中插入加热装置,施以加热处理,使各片状体的环氧树脂完全硬化,得到图6所示的叠层体34。
将得到的叠层体34用加工中心进行切削加工,形成图40所示的防尘薄膜组件框架用框体40。进一步,在防尘薄膜组件框架用框体40,进行机械加工形成通气孔16、凹部18以及沟22,从而图1所示的防尘薄膜组件框架10被形成。防尘薄膜组件框架10的形状,为外寸1526×1748,内寸1493×1711mm的长方形,厚度为6.2mm,各角部的形状为内侧R2,外侧R6。另外,在长边中,以1700mm间隔形成处理用的直径2.5mm,深度2mm的凹部18,在短边,形成高度2mm,深度3mm的底部为半圆形状的沟22。该沟22的入口部进行C2的切角。另外,两长边的中央部付近,在各边各形成8处直径为1.5mm的通气孔16。
然后,将防尘薄膜组件框架10用表面活性剂和纯水进行充分洗净,进行80℃×3小时加热干燥后,表面进行树脂涂装。作为树脂,使氟树脂(商品名;CYTOP CTX 109A 旭硝子株式会社制)溶于氟类溶媒(商品名;EF-L102,三菱材料株式会社制)中,将碳黑(商品名;HCF2650,三菱化学株式会社制)分散,制成涂布液。该涂布液用喷涂器在洗净的干燥的防尘薄膜组件框架10上进行4回涂布。其后,烘箱中130℃加热使溶媒完全干燥。在防尘薄膜组件框架10的表面形成的氟树脂的树脂皮膜27的厚度约为30μm。该喷布条件,要使形成的树脂皮膜27的用光泽计测定的光泽度在3以下。得到的防尘薄膜组件框架10的尺寸进行检查。防尘薄膜组件框架10的外尺寸,内尺寸都在加工指定尺寸的+0/-0.3mm的范围。另外,直角度以长边为基准,对于在90°画的虚拟线有0.5mm的偏差。进一步,将防尘薄膜组件框架10搬入无尘室,用表面活性剂和纯水洗净,干燥后,暗室内用40万勒克司的卤素灯进行照射,对外观进行检查。其结果,完全没有碳纤维露出的地方。另外,表面的涂装斑点等欠陷,以及洗净造成的树脂皮膜27的剥离等也没有看到。
得到的防尘薄膜组件框架10的贴设面12以及阶梯面28分别用硅氧烷粘着剂(商品名KR3700,信越化学工业株式会社制)以及用气体加压式分散器进行涂布,加热固化,防尘薄膜粘接层以及光掩模粘着层46被形成。光掩模粘着层46中,将离型剂赋予其表面的厚度为125μm的PET薄膜以及与防尘薄膜组件框架几乎同样形状进行切断加工而制作的剥离片48添付。进一步,以覆盖通气孔16的形式贴付3.6×9.5mm,厚度0.35m m的PTFE制过滤器47。
在防尘薄膜组件框架10的制造工序的另外的工序中,氟类聚合物(商品名萨以普(サイトツプ,旭硝子株式会社制)用缝隙涂布法在1620×1780×厚度17mm的长方形石英基板上成膜,将溶媒干燥后,对与基板外形同样形状的铝合金制暂用框进行粘接,剥离,得到厚度约4μm的防尘薄膜44。将该防尘薄膜44贴附在防尘薄膜组件框架10的贴设面12形成的防尘薄膜粘接层后,将从防尘薄膜组件框架10多出的不要的部分用切刀切断除去,图9所示的防尘薄膜组件42被完成。将该防尘薄膜组件42放在定盘上,对防尘薄膜组件框架10的各边的挠曲量进行计测。其结果,长边中央部的向内侧的挠曲量为一侧0.6mm,短边中央部的向内侧的挠曲量为一侧0.4mm。
(实施例2)
使用与实施例1同样形成的外尺寸920×770mm,内尺寸870×720mm,厚度6.2mm的叠层体34,外尺寸904.5×750mm,内尺寸894.5×738mm,高度5.8mm,角部外尺寸R6mm,内尺寸R2mm,以及在各长边设置4个直径1.5mm的通气孔16的防尘薄膜组件框架10。将该防尘薄膜组件框架10与实施例1同样,进行洗净,干燥后,将丙烯酸树脂(商品名;爱来考的ST萨特的(エレコ一トSTサテイ一ナ,株式会社清水制)用电涂装法进行涂布,形成树脂皮膜27。进一步,将防尘薄膜组件框架10用表面活性剂和纯水洗净,干燥后,与实施例1同样,在防尘薄膜组件框架10的贴设面12以及阶梯面28,分别形成防尘薄膜粘接层以及光掩模粘着层46,在光掩模粘着层46贴付剥离片48。得到的防尘薄膜组件框架10,与实施例1同样,在暗室内进行外观检查,碳纤维被树脂皮膜27完全覆盖,倒刺以及树脂的剥离完全没有看到。
在与该防尘薄膜组件框架10的制造工序不同的别个工序中,氟类聚合物(商品名:CYTOP,旭硝子株式会社制)在850×1200mm的石英基板上用模具(ダイ)涂布法进行成膜,将溶媒干燥,粘结后,在与基板外形同样的形状的铝合金制暂用框上进行粘接,剥离,得到厚度约4μm的防尘薄膜44。该防尘薄膜44被贴附于防尘薄膜组件框架10的防尘薄膜粘接剂层,周围的多余的部分用切刀切断,防尘薄膜组件42的制作完成。该防尘薄膜组件42的防尘薄膜组件框架10,与实施例1同样,进行长边,短边的挠曲量的计测,长边中央部的挠曲量为一侧为0.8mm,短边中央一侧为1.0mm。
(比较例1)
将实施例1中的在纵方向分配方向的多数的长纤维状的碳纤维24a的环氧树脂含浸细长状的片状体30加以取代,使用平织的碳纤维含浸了环氧树脂的细长状的片(予含浸物)(商品名;大阿利导(ダイアリ一ド)HMFJ3113/948A1,三菱树脂株式会社制),并且与实施例1同样,在得到1550×1750×厚度6.75mm的叠层体34后,用加工中心进行切削加工,制造与实施例1的防尘薄膜组件框架10一样的尺寸,同样形状的防尘薄膜组件框架10。进一步,在得到的防尘薄膜组件框架10上,与实施例1同样,形成树脂皮膜27。然后,使用该防尘薄膜组件框架10,与实施例1同样,制作图9所示的防尘薄膜组件42。将完成的防尘薄膜组件42放在定盘上,进行防尘薄膜组件框架10的各边的挠曲量的计测。其结果,长边中央部的向内侧的挠曲量为一侧1.3mm,短边中央部的向内侧的挠曲量为一侧1.0mm。这些值比实施例1,2的防尘薄膜组件框架10的挠曲量要大。
(比较例2)
使用A5052铝合金的压延材料,用机械加工制作与实施例2同尺寸,同样形状的防尘薄膜组件框架,在表面进行喷砂处理后,进行黑色氧化处理。然后,在该防尘薄膜组件框架洗净,干燥后,在防尘薄膜组件框架的一方的端面,防尘薄膜粘接层,通过进行硅氧烷粘着剂(商品名KR3700,信越化学工业株式会社制)的涂布而形成,另一端面进行硅氧烷粘着剂(商品名KR3700,信越化学工业株式会社制)涂布,进一步加热使其固化形成光掩模粘着层。其后,使用制作的防尘薄膜组件框架,与实施例2同样完成防尘薄膜组件。用该铝合金制的防尘薄膜组件框架的防尘薄膜组件,与实施例1同样,对防尘薄膜组件框架的挠曲量进行计测,长边中央部的向内侧的的挠曲量为一侧2.5mm,短边中央部的向内侧的挠曲量一侧为4.5mm。如与实施例2的防尘薄膜组件框架10比较,防尘薄膜组件框架边中央的内尺寸,长边短了7.0mm,短边短了3.4mm,矩形的面积减少了1.2%。
【产业上的利用可能性】
本发明的防尘薄膜组件框架,可以提高全体的刚性,适用于边长为超过1000mm的超大型防尘薄膜组件框架。
【符号的说明】
10,52为防尘薄膜组件框架,12为贴设面,14,20为细长部件,16为通气孔,18为凹部,22为沟,24为细长片状体,24a为长纤维状的碳纤维,26a为框状体,27为树脂皮膜,28为阶梯面,30,30a,30b,30c,30d为片状体,32为框状部件,32a为接续位置,34为叠层体,36为叠层夹具,38为沟部,40为防尘薄膜组件框架用框体,42为防尘薄膜组件,44为防尘薄膜,46为光掩模粘着层,47为过滤器,48为剥离片,50,54为复合体,55为螺钉。
Claims (7)
1.一种防尘薄膜组件框架,其多角形状的防尘薄膜组件框架的各边由长纤维状的碳纤维和树脂的复合材料构成的细长部件而形成,其特征在于,上述碳纤维在上述细长部件的纵方进行分配方向。
2.根据权利要求1所述的防尘薄膜组件框架,其特征在于:所述细长部件的全表面被树脂皮膜包覆,由此上述碳纤维不会露出。
3.根据权利要求1所述的防尘薄膜组件框架,其特征在于:所述细长部件,由多条长纤维状的碳纤维在纵方向上分配方向并含浸树脂的多条的细长片状体叠层而形成。
4.根据权利要求3所述的防尘薄膜组件框架,其特征在于:上述防尘薄膜组件框架,由多条所述细长片状体仿照所述防尘薄膜组件框架的形状,进行接续的多个框状体叠层而形成,所述细长片状体的接合部,位于所述防尘薄膜组件框架的角部近傍,所述接合部的位置对紧挨的其上面的所述述框状体以及/或者紧贴下面的所述框状体的结合部的位置不同。
5.一种防尘薄膜组件框架的制造方法,其中,将要形成多角形形状的防尘薄膜组件框架的对应边进行切削加工而形成可以形成的宽以及长度,多条长纤维状的碳纤维进行纵方向分配方向,树脂含浸的而形成多条的细长状的片状体,该片状体是在所述防尘薄膜组件框架的预定形成角部的近傍进行接续的框状部件,其特征在于:将上述片状体的接续位置不同的多条的框状部件加以形成的工序;以及
将多条的所述框状部件叠层粘接而形成叠层体,所述接续位置与紧挨的上面的框状部件以及/或者紧贴下面的框状部件不同的工序以及,
将上述叠层体以规定的宽以及长度进行切削加工而形成多角形形状的防尘薄膜组件框架的工序。
6.根据权利要求5所述的防尘薄膜组件框架的制造方法,其特征在于:具有将切削加工得到的上述防尘薄膜组件框架的全表面上形成树脂皮膜的工序。
7.一种防尘薄膜组件,其特征在于:在权利要求1至4的任一项所述的防尘薄膜组件框架上,贴附防尘薄膜。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103279008A (zh) * | 2013-05-23 | 2013-09-04 | 上海华力微电子有限公司 | 掩膜板覆盖膜设计方法 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5940283B2 (ja) * | 2011-11-04 | 2016-06-29 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル |
JP6027319B2 (ja) * | 2012-03-02 | 2016-11-16 | 旭化成株式会社 | 塗装材及びペリクル |
CN111458973B (zh) | 2014-11-17 | 2024-02-09 | Asml荷兰有限公司 | 表膜框架附接设备 |
KR102495880B1 (ko) * | 2022-09-06 | 2023-02-06 | 주식회사에이피에스케미칼 | 카본복합재 펠리클 프레임 제조방법 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007012793A (ja) * | 2005-06-29 | 2007-01-18 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 精密部材収納容器 |
JP2009139879A (ja) * | 2007-12-11 | 2009-06-25 | Toppan Printing Co Ltd | ペリクル |
CN101689018A (zh) * | 2007-07-06 | 2010-03-31 | 旭化成电子材料株式会社 | 大型表膜构件的框体及该框体的把持方法 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2630396B2 (ja) * | 1987-04-30 | 1997-07-16 | 三菱レイヨン株式会社 | ドクターナイフブレード |
JPH04279331A (ja) * | 1991-03-08 | 1992-10-05 | Sekisui Chem Co Ltd | 繊維強化樹脂積層体 |
JP2001291757A (ja) * | 2000-02-03 | 2001-10-19 | Nippon Mitsubishi Oil Corp | 加工面を被覆処理したcfrp製搬送用部材およびその処理方法 |
JP4116236B2 (ja) * | 2000-10-06 | 2008-07-09 | 東芝アイテック株式会社 | 積層部材およびそれを用いた回転電機 |
JP2002161157A (ja) * | 2000-11-27 | 2002-06-04 | Toho Tenax Co Ltd | 硬質被膜を有する炭素繊維強化樹脂複合材料製板材 |
JP2002295737A (ja) * | 2001-03-29 | 2002-10-09 | Toray Ind Inc | 炭素繊維強化プラスチック製角形管およびその製造方法 |
JP4024596B2 (ja) * | 2002-06-03 | 2007-12-19 | 三菱電機株式会社 | 光学機器用反射鏡およびその製造方法 |
JP2006301525A (ja) * | 2005-04-25 | 2006-11-02 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクルフレーム |
KR20060116152A (ko) * | 2005-05-09 | 2006-11-14 | 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 | 오염이 적은 펠리클 |
JP2007082645A (ja) * | 2005-09-21 | 2007-04-05 | Asahi Glass Matex Co Ltd | 洗浄用ブラシ |
JP2009063740A (ja) * | 2007-09-05 | 2009-03-26 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクルフレーム |
JP2009233254A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-15 | Toray Ind Inc | X線診断装置用天板およびその製造方法 |
JP2010076356A (ja) * | 2008-09-29 | 2010-04-08 | Toray Ind Inc | プリフォームおよび繊維強化プラスチックの成型方法 |
JP5133229B2 (ja) * | 2008-12-05 | 2013-01-30 | 信越ポリマー株式会社 | ペリクル収納容器 |
JP5280243B2 (ja) * | 2009-02-16 | 2013-09-04 | 東海旅客鉄道株式会社 | まくら木 |
EP2415649A4 (en) * | 2009-03-30 | 2014-06-18 | Kawasaki Heavy Ind Ltd | BRAKE VEHICLE BODY STRUCTURE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME |
JP2011052417A (ja) * | 2009-08-31 | 2011-03-17 | Sekisui Chem Co Ltd | 転轍機取付用まくら木 |
-
2011
- 2011-04-04 JP JP2011082844A patent/JP5663376B2/ja not_active Expired - Fee Related
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2013
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007012793A (ja) * | 2005-06-29 | 2007-01-18 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 精密部材収納容器 |
CN101689018A (zh) * | 2007-07-06 | 2010-03-31 | 旭化成电子材料株式会社 | 大型表膜构件的框体及该框体的把持方法 |
JP2009139879A (ja) * | 2007-12-11 | 2009-06-25 | Toppan Printing Co Ltd | ペリクル |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103279008A (zh) * | 2013-05-23 | 2013-09-04 | 上海华力微电子有限公司 | 掩膜板覆盖膜设计方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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