CN102455589A - 防尘薄膜组件框架以及防尘薄膜组件 - Google Patents
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- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 61
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 61
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 37
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 36
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 39
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 8
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 5
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 4
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 4
- 238000005253 cladding Methods 0.000 claims 6
- 239000002131 composite material Substances 0.000 abstract description 20
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 abstract description 12
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 abstract description 12
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 12
- 238000007789 sealing Methods 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 23
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 20
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 description 16
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 12
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 7
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007767 bonding agent Substances 0.000 description 3
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- SMEGJBVQLJJKKX-HOTMZDKISA-N [(2R,3S,4S,5R,6R)-5-acetyloxy-3,4,6-trihydroxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound CC(=O)OC[C@@H]1[C@H]([C@@H]([C@H]([C@@H](O1)O)OC(=O)C)O)O SMEGJBVQLJJKKX-HOTMZDKISA-N 0.000 description 2
- 229940081735 acetylcellulose Drugs 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 2
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- 235000011194 food seasoning agent Nutrition 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 230000001012 protector Effects 0.000 description 2
- 238000010023 transfer printing Methods 0.000 description 2
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N Cellulose propionate Chemical compound CCC(=O)OCC1OC(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C1OC1C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(COC(=O)CC)O1 DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010013786 Dry skin Diseases 0.000 description 1
- NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N N-[2-oxo-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 208000034189 Sclerosis Diseases 0.000 description 1
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 210000000988 bone and bone Anatomy 0.000 description 1
- 238000003490 calendering Methods 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920006218 cellulose propionate Polymers 0.000 description 1
- HGAZMNJKRQFZKS-UHFFFAOYSA-N chloroethene;ethenyl acetate Chemical compound ClC=C.CC(=O)OC=C HGAZMNJKRQFZKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000003306 harvesting Methods 0.000 description 1
- 239000012943 hotmelt Substances 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001083 polybutene Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
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- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/34—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyamides
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- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/38—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising epoxy resins
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
- G03F1/64—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
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- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/70—Other properties
- B32B2307/71—Resistive to light or to UV
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- B32B2457/14—Semiconductor wafers
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- B32B2457/00—Electrical equipment
- B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
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Abstract
一种防尘薄膜组件框架，包括(1)由碳纤维和树脂构成的内部复合体；(2)由树脂构成的包覆体。所述内部复合材料包括碳纤维的层积体以及树脂，所述层积体为被所述树脂浸渍。所述的包覆体完全包覆所述的内部复合体，没有碳纤维从包覆层露出。
Description
技术领域
本发明涉及在半导体设备、印刷电路板或液晶显示器等的制造中作为防尘器使用的防尘薄膜组件。
背景技术
在大规模集成电路、超大规模集成电路或液晶显示板的制造，是对半导体晶片进行光照射，以制作图案。此时，所用的光掩模或中间光掩模(以下通称光掩模)如果附上灰尘，灰尘就会吸收光或使光挠曲，由此转印的图案就会发生变形，或边沿模糊，而且还会使基底变黑。由此会使尺寸、品质以及外观等受损。
由此，这样的作业通常在无尘室中进行，但是即使如此也很难保持总是清洁。由此，作为防尘器在光掩模的表面安装了防尘薄膜组件，然后进行曝光。如此，异物就不会附着在光掩模的表面，而是附着在防尘薄膜组件上。这样，在进行光刻时，只要将焦点对准图案即可。灰尘就不会对转印造成影响。
通常，防尘薄膜组件是将防尘薄膜绷紧粘附在防尘薄膜组件框架的上端面而制成的。所述防尘薄膜为由具有良好透光性的硝酸纤维素、醋酸纤维素或氟树脂等形成的透明的薄膜。所述防尘薄膜组件框架为由铝、不锈钢以及聚乙烯等形成的。进而在防尘薄膜组件框架的下端面具有为了安装光掩模用的，由聚丁烯树脂、聚醋酸乙烯基酯树脂、丙烯酸类树脂、硅树脂形成的粘着剂层，以及为了保护该粘着剂层而设置的离型层。
一般来说由于防尘薄膜由薄树脂膜制成，为了不松驰地将其用防尘薄膜组件框架来支持，就必须以适当的张力将其粘着在防尘薄膜组件框架上。因此，在一般使用的矩形的防尘薄膜组件的场合，在防尘薄膜被贴附后，防尘薄膜组件框架会由于膜的张力而向内部挠曲。
这种现象例如在制造印刷基板以及液晶显示器之中，防尘薄膜组件框架的边长长以及，即使在制造半导体中，由于材料以及尺寸的限制而不得不采用低刚性的防尘薄膜组件框架的场合，最为显著。
另一方面，光掩模为了降低成本，有确保曝光领域之必要。由此，如不使防尘薄膜组件框架向内侧挠曲尽量变小，可利用的曝光领域就会减少。另外，防尘薄膜组件框架挠曲，即外框的直线性变差，其向光掩模的贴附精度就会变差。
防尘薄膜组件框架的挠曲成为问题的不仅仅在有防尘薄膜的张力的向内侧方向上。在相对于防尘薄膜组件框架的长度，防尘薄膜组件框架的厚度小的场合，在制造工程中或防尘薄膜贴附前的处理时，在防尘薄膜组件框架的厚度方向(高度方向)上的挠曲也是个问题。特别是在边长超过1000mm的超大型防尘薄膜组件框架的场合，如支持着防尘薄膜组件框架的两端而进行水平搬运时，边的中央部会向下方大幅度挠曲，这样会不仅难以处理，而且有时会发生不能恢复的塑性变形(弯曲)。
以往，作为解决防尘薄膜组件框架的挠曲的方法，如专利文献1所述，是使防尘薄膜组件框架的一对边的中央部成向外侧凸出的形式，并且在它们的两侧的部分成向外侧凹的形状，进一步外侧边的部分又成直线形状。该方法虽然可以解决边向内侧挠曲的问题，但是由于该方法没有提高防尘薄膜组件框架的刚性，所以上下方向上的挠曲问题没有得到解决。
为了解决这一问题，就必须解决防尘薄膜组件框架的刚性问题。解决刚性问题，可以例举有两个途径，一是加大防尘薄膜组件框架的截面积；二是选择弹性系数大的材料用于防尘薄膜组件框架。如象第一方法那样，增加防尘薄膜组件框架的截面积，即增加防尘薄膜组件框架的尺寸，在防尘薄膜组件框架的内侧就会发生上述的曝光区域的问题；外侧具有在防尘薄膜组件框架的固定以及搬运时的处理所需要的净空就不能得到确保的问题。另外，厚度(高度)方向的尺寸，也由于与曝光的关系，被限制在3至8mm左右。可以说设计的自由度几乎没有了。如此，用增加尺寸的方法来提高防尘薄膜组件框架的刚性是困难的。
解决防尘薄膜组件框架的刚性的另一方法，有使用弹性系数高的材料用于防尘薄膜组件框架的方法，一般是用钢铁、不锈钢、钛合金来代替铝合金，或进而在铝合金中埋入刚性高的材料(专利文献2参照)等的方法。但是钢铁，不锈钢等钢铁类合金的重量太重，另外钛合金的加工性不好，所以很难加以采用。另一种代替方法是采用在航空领域正在慢慢被使用的作为高刚性材料的碳纤维复合材料，但是使用碳纤维发生异物的可能性很高，这种方法也难以加以采用。
现有技术文献如下：
专利文献1：特开2006-56544。
专利文献2：特开2006-284927
发明内容
鉴于以上技术问题，本发明提供了一种由于防尘薄膜的张力而造成的挠曲以及处理时的挠曲小，刚性高的防尘薄膜组件框架以及防尘薄膜组件。
本发明的特点是防尘薄膜组件框架是用碳纤维以及树脂组成的复合材料进行成型加工后，在其表面附上树脂膜，从而碳纤维不露出表面。该膜的材料为氟树脂、硅树脂或丙烯酸类树脂。该膜的颜色以黑色为佳。本发明的防尘薄膜组件为由具有上述特点的防尘薄膜组件框架构成的。
根据本发明，由于可以制造出具有极高刚性的防尘薄膜组件框架，这样，由防尘薄膜而造成的防尘薄膜组件框架向内侧的挠曲，以及在处理时的变形与挠曲小，由此就会使制造、贴附变得容易，曝光区域的减少也会变小。进一步，与使用以往的材料的防尘薄膜组件框架相比，框的幅度可以进行细致的设计，从而确保更广的曝光领域。另外，防尘薄膜组件框架的外面，由于被树脂覆盖，碳纤维不会露出，使用时没有发生灰尘以及紫外线造成的老化现象，使信赖度得以提高。
附图说明
图1为本发明的防尘薄膜组件框架的一个例子的示意平面图
图2为图1中的防尘薄膜组件框架的正面图。
图3为为图1中的防尘薄膜组件框架的右侧面图。
图4为图1的防尘薄膜组件框架的沿A-A线的截面图。
图5为图1的防尘薄膜组件框架的沿B-B线的截面图。
图6为本发明的防尘薄膜组件的概略立体图。
符号说明
11防尘薄膜组件框架
12通气孔
13凹孔
14沟槽
15段阶
16碳纤维片
17树脂膜
61防尘薄膜组件框架
62防尘薄膜粘接剂层
63防尘薄膜
64光掩模粘着剂层
65离型层(分离层)
66通气孔
67过滤器
68凹孔
69沟槽
70防尘薄膜组件
具体实施方式
本发明的防尘薄膜组件框架是由材质为碳纤维以及树脂构成的复合材料构成的，同时，加工成形后，进一步在表面赋予树脂膜，所以碳纤维不会露出，没有防尘薄膜组件框架表面发生灰尘的可能。树脂膜的材质以氟树脂为佳，但也可以用硅树脂。这样的材质的耐光性，气体发生性以及涂装性也都非常好。
另外，树脂膜以黑色为佳。这是因为黑色可以抑制防尘薄膜组件框架的表面的散射，同时可以将缺陷包覆，进一步可以使异物检查等变得容易。
防尘薄膜组件由本发明的防尘薄膜组件框架构成。由于这样的防尘薄膜组件框架具有高的刚性，所以向内侧的挠曲以及在处理时的挠曲以及变形小。进一步，使用时没有灰尘发生以及没有由于曝光而造成的老化，由此可以得到优良的可信赖性。
这样的作用，效果在制造液晶时用的边长超过1000mm那样的大型的防尘薄膜组件中特别显著。
另外，在本发明中，并不限制防尘薄膜组件的大小，可以适用由于大小(边的长度)、防尘薄膜的张力以及尺寸的原因不能确保防尘薄膜组件框架的刚性的所有的防尘薄膜组件。
以下、参照附图对本发明进行详细地说明。
图1为本发明的防尘薄膜组件框架的一个例子的示意平面图。图2为图1中的防尘薄膜组件框架的正面图。图3为为图1中的防尘薄膜组件框架的右侧面图。图4为图1的防尘薄膜组件框架的沿A-A线的截面图。图5为图1的防尘薄膜组件框架的沿B-B线的截面图。在本发明的例子中、防尘薄膜组件框架的形状为矩形。但是，其他的形状，例如正方形、八角形以及圆形也可以。
在防尘薄膜组件框架11中，为了使其内侧与外侧通气，设有通气孔12，以及用作操作用的凹孔13以及沟槽14。另外，4个角部的内侧以及外侧都为R形状。在设置光掩模粘着剂层的面，具有用于设置粘着剂层的阶梯15，但是，此处不为阶梯也可。另外，根据需要，可以在各个部分进一步进行切角以及设置阶梯或凹陷，以及沟槽。
防尘薄膜组件框架11，是使碳纤维中含有树脂的碳纤维片(含树脂纤维片)16进行层叠，加热硬化的板状碳纤维复合材料。最为理想的是从防尘薄膜组件框架可以从单一连续的碳纤维片进层叠、硬化的板状的碳纤维复合材料切出而制作。但是，如具有得到的碳纤维片的尺寸的限制以及为了降低成本，也可以适用其他方法，例如可以使用分别制作各边，然后进行粘接制成防尘薄膜组件框架的方法。
所使用的碳纤维片16，可以使用与一个方向的纤维进行垂直织造的任何碳纤维纺织品都可以使用。另外，碳纤维的弹性率根据设计不同可以进行自由选择。本发明的碳纤维的拉伸强度为1至6GPa，优选2至5GPa。另外，该碳纤维的拉伸弹性率为200至1000GPa，优选300至900GPa。
含浸在碳纤维中的树脂，以环氧树脂为好，但是苯酚树脂、聚酰胺树脂等其他树脂也可以使用。这些树脂之中，如使用硬化温度以及耐热性高的的树脂，在此后的形成树脂膜的时候，可以使加热温度变高，从而使气体发生量减低。上述碳纤维片的树脂含有率通常为10％至40％(质量)，优选20％至30％(质量)。
将具有上述结构的层叠的碳纤维片16在高压釜中进行加热，树脂完全硬化后，用数控机床等的机械加工对防尘薄膜组件框架11的外形进行切削加工，然后设置通气孔12、操作用凹孔13以及沟槽14。此时，特别是在通气孔12以及凹孔13的加工时，要充分注意不要使碳纤维片发生剥离。
机械切削加工后的防尘薄膜组件框架的外面，有断开的碳纤维露出，即使清洗也难以得到清净的面，在防尘薄膜组件使用中有可能发生纤维以及树脂的脱落而产生灰尘。不仅如此，构成碳纤维复合材料的环氧树脂等树脂有可能会由于曝光用的紫外线的照射而发生老化，从而会使强度变低以及发生灰尘。
然后，对机械加工的防尘薄膜组件框架的外面贴附树脂膜17，使防尘薄膜组件框架的外面被完全遮盖，不使碳纤维复合材料露出表面。当然，树脂膜的材质最好为不会由于紫外线或发生的臭氧而发生老化。树脂膜17的色调由于碳纤维复合材料为黑色，所以可以使用黑色以外的暗色(例如深蓝)或透明的物质。但是，如果是黑色，可以进一步减少散射光，所以是最为适宜的。另外，该色调可以是树脂的本色，但是也可以将颜料、碳黑等混合于树脂而染色。
在满足上述条件的树脂中，特别适宜的为氟树脂，硅树脂以及丙烯酸类树脂。这些树脂在充分遮盖基底的同时，对紫外线的耐性高，其本身的老化的可能性变小。
上述的树脂膜的厚度通常为5至80μm，优选10至50μm，更优选20至40μm。
防尘薄膜组件框架11如下形成：事先将由碳纤维复合材料制成的防尘薄膜组件框架充分洗净、干燥。将碳纤维复合材料的原始树脂以适当的浓度溶解在溶质中，如必要，将碳黑在溶质中分散，然后，将其用已知的喷雾、浸渍以及电附着等涂布方法对防尘薄膜组件框架进行涂布，该涂布方法可以根据使用的树脂的种类进行选择。树脂膜形成后，对防尘薄膜组件框架整体进行加热，使溶质全部挥发除去，同时使树脂膜中含有的低分子成分减少。加热的温度，以尽量高为好，但是，要将碳纤维复合材料以及树脂膜的树脂的耐热温度，在进行树脂膜树脂涂布时，连同溶质的沸点进行综合考虑来决定。
另外，在形成树脂膜时，其他的指标可以列举树脂膜表面的光泽度。该光泽度如果用光泽计进行测定时为3，就可以抑制树脂膜表面的反射，曝光机中的杂散光也可以降低，暗室中的异物的检测也会变得容易。另外，光泽计的检测以玻璃为100(JIS Z8741)。
用如此制作的防尘薄膜组件框架构成得防尘薄膜组件70的概略由图6加以表示。在表面形成树脂膜的碳纤维复合材料形成的防尘薄膜组件框架61的一个端面，设置有防尘薄膜粘接剂层62，以及防尘薄膜被绷紧设置。防尘薄膜63的材质为纤维素、醋酸纤维素、丙酸纤维素以及氟树脂等。在防尘薄膜组件框架的另一端面，设有光掩模粘着剂层64，作为光掩模粘着剂层64，可以利用丙烯酸粘着剂、橡胶类粘着剂、热熔粘粘着剂以及硅粘着剂等。在该光掩模粘着剂64上，根据需要，设置可揭除的离型层65，该层由在PET等形成的薄树脂膜上设置离型剂层而构成，用来保护粘着剂层64。
另外，根据需要可以在防尘薄膜组件框架的侧面设置通气孔66，用以防止由于内外压差造成的防尘薄膜的膨胀以及收缩，另外，为了防止伴随着通气而进入防尘薄膜组件内部的灰尘，以覆盖通气孔66的形式设置过滤器67。此外，为了易于操作，可以设置凹孔68以及沟槽69。
实施例
以下通过实施例1-3以及比较例1-3对本发明进行说明，但是本发明并不限于此，本发明具有各种实施方式。
实施例1
作为防尘薄膜组件框架的制作材料，使用了将用环氧树脂浸渍的拉伸弹性系数为588GPa的碳纤维而制成的碳纤维片TORAYCAP13055F-13a(商品名，东丽株式会社制造)进行层叠，然后加热硬化而得到的1550×1750×6.5mm的板状碳纤维复合材料。
这种板状碳纤维复合材料用数控机床进行加工，使之成为具有图1至图5的形状的，外尺寸为1526×1748mm，内尺寸为1493×1711mm的长方形，厚度为6.2mm的防尘薄膜组件框架11。各角部的形状为外侧半径6mm，内侧半径为2mm。在长边侧以1700mm的间隔设有操作用的直径为2.5mm深为2mm的凹孔13。在短边设置高为2mm，深为3mm的底部为半球形状的沟槽14。进一步，在两长边的中央附近分别设有8个直径为1.5mm的通气孔12.
然后，将制成的防尘薄膜组件框架用表面活性剂以及纯水进行充分洗涤，在80℃加热干燥3小时，此后表面用树脂进行涂装。使用的树脂为氟树脂Cytop CTX109A(商品名，旭硝子株式会社制)，将该树脂溶于氟类溶剂EF-L102(商品名，三菱材料株式会社制)，然后将碳黑HCF2650(商品名，三菱化学制)分散在溶液中。用该溶液用喷雾法进行3次涂布，然后在烘箱中，130℃下加热，将溶剂完全干燥。形成厚为20μm的氟树脂膜。喷雾条件控制为使用光度计测量的光泽度为3以下。
最后，进行尺寸检查，确认是否为规定的尺寸。进一步，在操作用的凹孔中插入相同直径的柱塞进行水平支持，对长边中央的向下部的挠曲量进行测定，该挠曲量仅为1mm。
将防尘薄膜组件框架搬入无尘室，用表面活性剂以及纯水进行洗涤，干燥后，在暗室中用40万勒的卤素灯进行照射并检查外观。结果是未发现有碳纤维复合材料的露出。也没有发现反光斑涂装斑的表面的缺陷，也没有发现由于洗净而产生的树脂膜的剥离。
接着，用该防尘薄膜组件框架制作图6中所示的防尘薄膜组件。具体是在防尘薄膜组件框架的一端用作为防尘薄膜粘接剂层62的硅粘着剂KR3700(商品名，信越化学工业株式会社制)以及在防尘薄膜组件框架的另一端面用作为光掩模粘着剂64的硅粘着剂KR3700(商品名，信越化学工业株式会社制)，用加压式分散器进行涂布，加热硬化。将表面附有离型剂的PET薄膜与防尘薄膜组件框架几乎同形状地切断加工而制作的分离膜65加以安装。然后，以覆盖通气孔66的形式贴附PTFE制的过滤器67。
在上述防尘薄膜组件框架以外，用氟类聚合物CYTOP(商品名，旭硝子公司制)以及用狭缝涂布法在1620×1780×厚17mm的长方形石英基板上成膜，将溶剂干燥后，与和基板外形同形状的铝合金制的暂用框进行接着、剥离，得到厚度约为4μm的防尘薄膜。将该膜粘结在刚才制备的防尘薄膜组件框架的防尘薄膜粘接剂层62上后，将防尘薄膜组件框架61周围的多余膜切除，完成防尘薄膜组件70的制作。
将该防尘薄膜组件放在平台上，计测防尘薄膜组件框架的各边的挠曲量，得知长边中央的向内侧的挠曲量为一侧0.5mm；短边中央的向内侧的挠曲量为一侧0.3mm。
实施例2
使用与实施例1同样的材料，用同样的制作方法制备外尺寸为122×149mm，内尺寸为118×145mm，高3.0mm，各角部的形状为外侧半径6mm，内侧半径为4mm的防尘薄膜组件框架。用丙烯酸酯树脂ELECOAT STSATINER(商品名，SHIMIZU CO.，LTD制)并用电附着涂装法进行涂布，形成树脂膜。该树脂膜的厚度为30μm。
然后，将制成的防尘薄膜组件框架用表面活性剂以及纯水进行充分洗涤，干燥后，实施例1同样，进行防尘薄膜粘接剂以及光掩模粘着剂的涂布，加热完全硬化后，在光掩模粘着剂上贴附分离膜。对该框架与实施例1同样在暗室中，进行观察。结果是未发现有碳纤维复合材料的露出。也没有发现反光斑涂装斑的表面的缺陷，也没有发现树脂膜的剥离。
在上述防尘薄膜组件框架另外，用氟类聚合物CYTOP(商品名，旭硝子公司制)以及旋转涂布法在直径为300mm的硅片上成膜，将溶剂干燥后，与和基板外形同形状的铝合金制的暂用框进行接着、剥离，得到厚度约为0.28μm的防尘薄膜。将该膜粘结在刚才制备的防尘薄膜组件框架的防尘薄膜粘接剂层上后，将防尘薄膜组件框架61周围的多余膜切除，完成防尘薄膜组件的制作。
与实施例1同样，计测防尘薄膜组件框架的各边的挠曲量，得知长边中央的向内侧的挠曲量为一侧0.05mm；短边中央的向内侧的挠曲量为一侧0.02mm。
实施例3
与实施例1同样，用同样的碳纤维复合材料以及同样的工序，得到板状碳纤维复合材料。这种板状碳纤维复合材料用数控机床进行加工，使之成为具有外尺寸为1526×1748mm，内尺寸为1498×1720mm的长方形，厚度为6.2mm的防尘薄膜组件框架。各角部的形状为外侧半径6mm，内侧半径为2mm。在长边侧以1700mm的间隔设有操作用的直径为2.5mm的凹孔。在短边设置高为2mm，深为3mm的沟槽14。进一步，在两长边的中央附近分别设有8个直径为1.5mm的通气孔12.
与实施例1相比，仅长边以及短边得内尺寸不同。实施例1的长边宽为16.5mm，短边宽为18.5mm，而实施例3的长边宽为14mm，短边宽为14mm。由此，本实施例3的长边的宽度比实施例1少2.5mm；短边的宽比实施例1少4.5mm。
对该防尘薄膜组件框架，用与实施例1同样的方法涂布树脂溶液，该树脂溶液的制备为将硅树脂Silicone Varnish KR-2(商品名，信越化学工业株式会社制)溶在甲苯中，然后将碳黑HCF2650(商品名，三菱化学制)分散在溶液中。用与实施例1同样的工序制成树脂膜，该树脂膜的厚度为30μm。然后在烘箱中，130℃下加热30分钟，使硅树脂完全硬化。然后与实施例1同样的方法，涂敷粘接剂以及粘着剂，然后进行贴膜。防尘薄膜组件的制作完成。
将防尘薄膜组件框架搬入无尘室，用集光灯检查外观。结果是未发现有碳纤维复合材料的露出。也没有发现刺以及树脂膜的剥离。
计测向防尘薄膜组件框架内侧挠曲的量，得知长边中央为1mm，短边中央为0.8mm。通过减少防尘薄膜组件框架的宽度，从而得到相应的大的曝光面积。
进一步，与实施例1同样，在长边侧以1700mm的间隔设有操作用的直径为2.5mm的凹孔13。在该凹孔13中，插入同直径的柱销进行水平支持，确认长边向下的挠曲量，与实施例1同样，仅为1mm。另外，在制造过程的处理中，使用了与实施例1同样的凹孔，没有发现在实用中成为问题的防尘薄膜组件框架的挠曲以及变形，以及可以进行容易并且安全的处理。
比较例1
使用与实施例1相同的碳纤维复合材料原材料，用机械加工制备了与实施例1同尺寸，同形状的防尘薄膜组件框架。将该防尘薄膜组件框架搬入无尘室，用表面活性剂以及纯水进行洗涤，干燥后，在暗室中用40万勒的卤素灯进行照射并检查外观。结果发现特别是在防尘薄膜组件框架的内面，外面，具有层叠原材料的板上有横纹，而且有膜的裂开。进一步，用套着手套用力捏时，发现有碳纤维的碎片样的黑色粉尘附着。由此，这样的东西，是难以作为防尘薄膜组件框架来进行使用的。
比较例2
使用A5052铝合金的压延板，用机械加工成与实施例1同尺寸，同形状的防尘薄膜组件框架，对其进行喷砂处理。之后，进行黑色氧化膜处理。然后，将该防尘薄膜组件框架洗净干燥，在防尘薄膜组件框架的一个端面上用作为防尘薄膜粘接剂涂布硅粘着剂KR3700(商品名，信越化学工业株式会社制)，在另一端面上，作为光掩模粘着剂涂布粘着剂KR3700(商品名，信越化学工业株式会社制)，加热硬化。接着，用与实施例1同样的工序制得防尘薄膜组件。
将该铝合金用与实施例1同样的方法，测定防尘薄膜组件框架的挠曲的量，得知长边的中央部向内侧的挠曲量为一侧3mm，短边的中央部的向内侧的挠曲量为一侧2mm。这比实施例1要大得极多。
该防尘薄膜组件框架的处理，与实施例1同样，为支持在两长边的各侧面每隔1700mm设置一个直径为2.5mm，深2mm的凹陷4个，此时，向垂直方向挠曲，摇动极大，要特别注意。确定长边的中央部向下方向上的挠曲量得知为8mm。进一步，在平台上将防尘薄膜组件载置，确定防尘薄膜组件框架的平面度，支持的4个角部，有最小0.6mm至最大0.8mm的不能恢复的弯曲(塑性变形)。
比较例3
使用A7075T6铝合金的压延材料，机械加工制作与实施例2同尺寸，同形状的防尘薄膜组件框架，在其表面进行喷砂处理，然后进行黑色氧化膜处理。该防尘薄膜组件框架经过与实施例2同样的过程，在进行了防尘薄膜粘接剂以及光掩模粘着剂的涂布后，进行防尘薄膜贴附，完成防尘薄膜组件的制作。
对该防尘薄膜组件框架用与实施例1同样的手法，对防尘薄膜组件框架的挠曲量进行测定，长边中央的挠曲量为0.5mm；短边中央的挠曲量为每侧0.3mm。与实施例2相比，都大极了。
Claims (7)
1.一种防尘薄膜组件框架，包括：
(1)由碳纤维和树脂构成的内部复合体；
(2)由树脂构成的包覆体，
所述的包覆体完全包覆所述的内部复合体。
2.根据权利要求1所述的防尘薄膜组件框架，其中所述内部复合体包括碳纤维的层积体以及树脂，所述层积体被所述树脂浸渍。
3.根据权利要求2所述的防尘薄膜组件框架，其中所述包覆体为含氟树脂。
4.根据权利要求2所述的防尘薄膜组件框架，其中所述包覆体为由硅树脂制成。
5.根据权利要求2所述的防尘薄膜组件框架，其中所述包覆体由丙烯酸类树脂制成。
6.根据权利要求2至5的任一项所述的防尘薄膜组件框架，其中所述包覆体为黑色。
7.一种防尘薄膜组件，包括根据权利要求2至6的任一项所述的防尘薄膜组件框架。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010241603A JP2012093595A (ja) | 2010-10-28 | 2010-10-28 | ペリクルフレームおよびペリクル |
| JP2010-241603 | 2010-10-28 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN102455589A true CN102455589A (zh) | 2012-05-16 |
Family
ID=45997081
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN2011103348713A Pending CN102455589A (zh) | 2010-10-28 | 2011-10-28 | 防尘薄膜组件框架以及防尘薄膜组件 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8449966B2 (zh) |
| JP (1) | JP2012093595A (zh) |
| KR (1) | KR20120069521A (zh) |
| CN (1) | CN102455589A (zh) |
| TW (1) | TWI456342B (zh) |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW201224644A (en) | 2012-06-16 |
| TWI456342B (zh) | 2014-10-11 |
| US20120107548A1 (en) | 2012-05-03 |
| KR20120069521A (ko) | 2012-06-28 |
| US8449966B2 (en) | 2013-05-28 |
| JP2012093595A (ja) | 2012-05-17 |
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| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| REG | Reference to a national code |
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|
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20120516 |