JP2014228868A - ペリクルフレーム、フォトマスク、及びその取り付け方法 - Google Patents
ペリクルフレーム、フォトマスク、及びその取り付け方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014228868A JP2014228868A JP2014104229A JP2014104229A JP2014228868A JP 2014228868 A JP2014228868 A JP 2014228868A JP 2014104229 A JP2014104229 A JP 2014104229A JP 2014104229 A JP2014104229 A JP 2014104229A JP 2014228868 A JP2014228868 A JP 2014228868A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- frame
- pellicle
- connection
- photomask
- connection portion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
【課題】本発明はペリクルフレーム、フォトマスク及びその取り付け方法を開示した。【解決手段】前記ペリクルフレームは、ペリクル膜のフォトマスクへの取り付けに用いられる。前記ペリクルフレームは、前記ペリクル膜との固定接続に用いられ、第1接続部を備える第1フレームと、前記フォトマスクの基板との固定接続に用いられ、第2接続部を備える第2フレームと、を含み、前記第2接続部及び前記第1接続部により、前記第1フレームと前記第2フレームとが、分離しやすいように密封固定接続になる。本発明によれば、高価のペリクル膜を再利用することができる。【選択図】図7
Description
本発明は、フラットディスプレイパネルの製造分野に属し、特に、ペリクルフレーム、上記ペリクルフレームを備えるフォトマスク、及びフォトマスクのペリクル膜の取り付け方法に関する。
従来、ディスプレイ分野での黄色光製造工程(イエロールームのフォトリソグラフィー工程)において、大型のフォトマスク(Photo Mask)を使用しなければならない。また、塵埃の製造工程に与える影響を低減するためには、フォトマスクのパターン面にペリクル膜(Pellicle Membrane)を取り付けなければならない。現在、フォトマスク製造業者は、何れもペリクル膜をフォトマスクのパターン面に貼り付ける方法を採用している。しかしながら、貼付した後、ペリクル膜を損傷なしに剥離することができないので、既存の取り付け方法によるペリクル膜は1回使用に限っている。
フォトマスクの製造工程フローの概略図を図1に示す。即ち、成膜、フォトレジストの塗布、パターニング、現像、エッチング、フォトレジストの剥離、検査、修復、洗浄、ペリクル膜の取り付け、検査及び出荷などの工程を順次に行わなければならない。
その中、ペリクル膜の取り付け工程は、図3に示す通りである。即ち、従来のペリクル膜の取り付け方法は、まずペリクル膜4をフィルムフレーム2に貼り付けて固定させた後、ペリクル膜4付きのフィルムフレーム2を、フォトマスク基板(例えば、石英ガラス)1のパターン3を備えるパターン側に貼り付けて固定して、図2に示すようなフォトマスクを形成する。
しかしながら、製品のパネル寸法、画素、線幅などの任意のパターンデータが変更される毎に、上記製品のフォトマスクのフルセットを交換しなければならない。交換されたフォトマスクはその使用価値を失い、まだ再利用の価値を持っているペリクル膜4は、フォトマスクのフィルムフレーム2に貼り付けられて分離できないため、主体と一緒に廃棄しなければならない。また、フォトマスクに存在する欠陥又は損傷が、ペリクル膜4を貼り付けた後に発見され、返送して修復しなければならない場合、このペリクル膜4を破壊し、修復が終わった後、新しいペリクル膜4を再度貼付しなければならない。これらの全ては、フォトマスクのコストの向上を招来する。ペリクル膜4の製造コストは高価で、ペリクル膜4の費用はフォトマスクの全コストの30%〜40%を占めている。従って、従来技術におけるフォトマスクは、そのペリクル膜を再利用することができないため、大きな無駄をもたらしている。
本発明は,上記の如き従来技術の欠点を克服するためになされたものであり、従来のペリクルフレームにおいて、フォトマスク中の高価なペリクル膜を再利用できない技術問題を解決するためのフォトマスク用ペリクルフレームの提供を目的とする。
また、本発明は、従来のフォトマスクにおいて、フォトマスク中の高価なペリクル膜を再利用できない技術問題を解決できる、本発明に係るペリクルフレームを備えたフォトマスクの提供を他の目的とする。
また、本発明は、フォトマスクのペリクル膜の取り付け方法の提供を更なる目的とする。
前記目的を達成するために、本発明は以下の通りである。
本発明の実施形態に係るペリクルフレームは、フォトマスクのペリクル膜の取り付けに用いられるペリクルフレームであって、前記ペリクル膜との固定接続に用いられ、第1接続部を備える第1フレームと、前記フォトマスクの基板との固定接続に用いられ、第2接続部を備える第2フレームと、を含み、前記第2接続部及び前記第1接続部により、前記第1フレームと前記第2フレームとを分離しやすくなるように密封固定接続する。
本発明の実施形態に係るペリクルフレームは、フォトマスクのペリクル膜の取り付けに用いられるペリクルフレームであって、前記ペリクル膜との固定接続に用いられ、第1接続部を備える第1フレームと、前記フォトマスクの基板との固定接続に用いられ、第2接続部を備える第2フレームと、を含み、前記第2接続部及び前記第1接続部により、前記第1フレームと前記第2フレームとを分離しやすくなるように密封固定接続する。
本発明の実施形態に係るフォトマスクは、本発明の実施形態に係るペリクルフレームを備えている。
本発明に係るフォトマスクのペリクル膜の取り付方法は、請求項1〜13のいずれかに記載のペリクルフレームを提供する工程S1と、前記ペリクル膜を前記第1フレームに接続させ、前記基板を前記第2フレームに接続させる工程S2と、前記第2接続部及び前記第1接続部により、前記第2接続部及び前記第1接続部によって、前記第1フレームと前記第2フレームとを、分離しやすいように密封固定接続させる工程S3と、を含む。
本発明の実施形態に係るペリクルフレーム、前記ペリクルフレームを備えるフォトマスク、及びフォトマスクのペリクル膜の取り付け方法において、ペリクルフレームを、第1フレームと第2フレームの二つの部分に分けると共に、第1フレームと第2フレームとが分離しやすい取り付け方法を採用することで、商業的価値のないフォトマスクからペリクル膜を取り外した後に、これを所要のフォトマスクに取り付けて、ペリクル膜の再利用を実現可能とし、これによりコストの低減を実現し、資源の無駄を避けることができる。
以下、本発明の特徴及び好ましい実施例について詳細に説明するが、本発明の要旨を逸脱しない範囲内においてさまざまな変更を行い得ることは、自明なことである。また、以下の説明及び図面は本発明を説明するためのものに過ぎず、本発明はこれらによって限定されるものではない。
本発明の実施例におけるフォトマスクのペリクル膜の取り付け方法は、本発明の実施例に係るペリクルフレームにより実現する。本発明の実施例に係るフォトマスクは、本発明の実施例に係るペリクルフレームを備える。本発明の実施例に係るフォトマスクにおいて、本発明の実施例に係る取り付け方法によりペリクル膜の取り付けを行う。
以下、本発明の第1実施例〜第四実施例のペリクルフレーム、ペリクル膜及びその取り付け方法を具体的に説明する。ただし、本発明はこれらの四つの実施例に限定されるものではない。
第1実施例
図4〜図6に示すように、本発明の第1実施例に係るペリクルフレームは、第1フレーム6と第2フレーム5の二つの部分を含み、その中、第1フレーム6は、ペリクル膜4との固定接続に用いられ、スナップフィット60を備えている。第2フレーム5は、フォトマスク基板1との固定接続に用いられ、スロット50を備えている。スロット50とスナップフィット60により第1フレーム6と第2フレーム5を接続した後、スロット50とスナップフィット60との接続は、取外し可能な接続であるため、商業的価値のないフォトマスクからペリクル膜4を取り外す必要がある場合、第1フレーム6と第2フレーム5を便利に分離することができる。
図4〜図6に示すように、本発明の第1実施例に係るペリクルフレームは、第1フレーム6と第2フレーム5の二つの部分を含み、その中、第1フレーム6は、ペリクル膜4との固定接続に用いられ、スナップフィット60を備えている。第2フレーム5は、フォトマスク基板1との固定接続に用いられ、スロット50を備えている。スロット50とスナップフィット60により第1フレーム6と第2フレーム5を接続した後、スロット50とスナップフィット60との接続は、取外し可能な接続であるため、商業的価値のないフォトマスクからペリクル膜4を取り外す必要がある場合、第1フレーム6と第2フレーム5を便利に分離することができる。
ここで、スナップフィット60及びスロット50は、弁当箱、収納箱のケース(箱)蓋と本体との接続に用いられるスナップフィット及びスロットであってもよく、又はロックカップのカップ蓋及びカップ本体との接続に用いられるスナップフィット及びスロットであってもよい。かつ、前記スナップフィット60及びスロット50は、スナップフィット60が第2フレーム5に設けられ、スロット50が第1フレーム6に設けられてもよい。
本実施例において、第1フレーム6と第2フレーム5は寸法的にマッチングされた矩形でり、両者の寸法は一致すべきである。ペリクル膜4の寸法は、第1フレーム6及び第2フレーム5の寸法とマッチングされていなければならない。第1フレーム6及び第2フレーム5の規格は、例えば、内寸456×768mm、外寸474×782mm、又は、内寸736×888mm、外寸754×902mmである場合、それぞれ520×800mmまたは800×920mmのフォトマスクに対応され、ここでのフォトマスクの寸法は、ガラス基板1の寸法と同じである。
フォトマスクの寸法には、330mm*400mm、330mm*450mm、390mm*610mm、500mm*750mm、520mm*800mm、800mm*920mm、850mm*1200mm、1220mm*1400mm、1800mm*2000mmなどの規格があり、その中で、よく使われているのは、500mm*750mm以上の寸法のフォトマスクである。
図5に示すように、スナップフィット60及びスロット50は、それぞれ第1フレーム6及び第2フレーム5の矩形に設置され、その中で、各長辺に二つずつ設置され、各短辺に一つずつ設置されている。短辺に設置する場合、短辺の中点の位置に設置することができる。また、長辺に設置する場合、その三分の一及び三分の二の位置に均一に設置することができる。フォトマスクの寸法によって、スナップフィット60及びスロット50の数は追加することができ、第1フレーム6及び第2フレーム5の矩形に均一に設置することができる。第1フレーム6及び第2フレーム5の材質は、アルミ合金であることが好ましい。
本発明の実施例に係るペリクルフレームにおいて、第1フレーム6又は第2フレーム5のいずれかに、好ましくは第1フレーム6のペリクル膜4に近い位置に、直径1.5mmの円形通気孔を複数(一般的に4つ)(図示しない)配置して、ペリクル膜4を超過圧から保護することができる。また、前記通気孔にはエアフィルタが設けられてもよく、フィルタの直径は防止しようとする塵埃粒径よりも小さく、例えば、直径0.3μm以上の顆粒の通過を制限することができるフィルタであっても良い。
本発明の実施例に係るペリクルフレームにおいて、第1フレーム6と第2フレーム5との密封性を向上させるために、第1フレーム6と第2フレーム5の間にガスケットが設けられている。例えば、第1フレーム6の底面と第2フレーム5の上面との間にガスケットが配置されている。
図7に示すように、本発明の第1実施例に係るフォトマスクは、石英ガラス1、第2フレーム5、第1フレーム6、及びペリクル膜4を含み、その位置関係と接続関係は前記に説明した通りであるため、ここで詳しい説明を省略する。
その中で、石英ガラス1にはパターン3が設けられており、石英ガラス1は本発明の実施例におけるフォトマスクの基板として用いられる。基板の材質は、石英ガラスのみに限定されるものではない。
以下、本発明の実施例に係るフォトマスクのペリクル膜の取り付け方法を、本発明の第1実施例に係るペリクルフレームに基づいて説明する。
図10に示すように、本発明の第1実施例に係るフォトマスクのペリクル膜の取り付け方法は、まず、本発明の第1実施例に係るペリクルフレームを提供する工程と、その後、ペリクル膜4を第1フレーム6の上面に貼り付け、第2フレーム5を石英ガラス1に貼り付ける工程と、最後に、スナップフィット60及びスロット50によって、前記第1フレーム6と前記第2フレーム5を固定接続する工程と、を含む。
スナップフィット60及びスロット50によって、第1フレーム6と第2フレーム5を固定接続する前に、第1フレーム6の底面と第2フレーム5の上面の間にガスケットを配置して、前記第1フレーム6と前記第2フレーム5との接続の密封性を向上することができる。
本発明の実施例に係るフォトマスクの製造工程において、ペリクル膜4の取り付け方法以外に、その他の工程は従来のフォトマスクの製造工程と同じであり、具体的には、図1に示す通りである。
第2実施例
図8〜図9に示すように、本発明の第2実施例に係るペリクルフレームは、第1実施例と同様に、第1フレーム6と第2フレーム5の二つの部分に分けられ、その中で、前記第1フレーム6は、ペリクル膜4との固定接続に用いられる。第1実施例のスナップフィットとは異なって、本実施例において、第1フレーム6の底面に突起61が設けられている。前記第2フレーム5は、前記フォトマスクの石英ガラス1との固定接続に用いられるが、第1実施例と異なって、本実施例において、第2フレーム5の上面に凹溝51が設けられている。
図8〜図9に示すように、本発明の第2実施例に係るペリクルフレームは、第1実施例と同様に、第1フレーム6と第2フレーム5の二つの部分に分けられ、その中で、前記第1フレーム6は、ペリクル膜4との固定接続に用いられる。第1実施例のスナップフィットとは異なって、本実施例において、第1フレーム6の底面に突起61が設けられている。前記第2フレーム5は、前記フォトマスクの石英ガラス1との固定接続に用いられるが、第1実施例と異なって、本実施例において、第2フレーム5の上面に凹溝51が設けられている。
本実施例の接続方式は、挿入式接続と呼ばれ、これは突起61と凹溝51との係合によって、第1フレーム6と第2フレーム5を固定接続させる。凹溝51の入口が弾性を有しているため、挿入する時、突起61は凹溝51の入口を広げて、突起61が完全に挿入した後、凹溝51の入口は弾性によって回復され、突起61の両側に密着されるようになる。また、前記突起61を取り抜く場合、突起61は凹溝51の入口を広げて、前記突起61が完全に取り抜けられた後、凹溝51の入口は弾性により回復される。このように、突起61及び凹溝51も同じように取外し可能な接続方式に属し、従って、商業的価値のないフォトマスクからペリクル膜4を取り外す必要がある場合、同様に第1フレーム6と第2フレーム5の分離が便利になる。
本実施例において、接続した後に、凹溝51の入口が弾性により回復されて突起61の両側に密着されるため、優れた密封性を持っており、他の密封部材を設置する必要がない。
本実施例において、第1フレーム6に突起61を設け、第2フレーム5に凹溝51を設けてもよく、又は、第1フレーム6に凹溝51を設け、第2フレーム5に突起61を設けてもよい。
本実施例のその他の部分は、第1実施例と同様であるため、ここで繰り返し説明を省略する。
第三実施例
本発明の第三実施例に係るペリクルフレームと、第1実施例のペリクルフレームの異なる点は、第三実施例の第1フレーム6にネジ釘(若しくはネジと言う)が設置され、第2フレーム5にナットが設置され、前記ネジと前記ナットの螺合により、第1フレーム6と第2フレーム5の取外し可能な固定接続を実現することにある。
本発明の第三実施例に係るペリクルフレームと、第1実施例のペリクルフレームの異なる点は、第三実施例の第1フレーム6にネジ釘(若しくはネジと言う)が設置され、第2フレーム5にナットが設置され、前記ネジと前記ナットの螺合により、第1フレーム6と第2フレーム5の取外し可能な固定接続を実現することにある。
本実施例において、ナットは第2フレーム5の外表面に、つまり、図4のスロット50の設置位置に固定されることができ、ネジは、第1フレーム6の外表面における雌ねじを有する接続孔を貫通することができる。
本実施例において、第1フレーム6にネジを設け、第2フレーム5にナットを設けてもよく、また、第1フレーム6にナットを設け、第2フレーム5にネジを設けてもよい。
本実施例において、前記ネジと前記ナットはいずれも第1フレーム6及び第2フレーム5の外側表面に設けられ、ネジは第1フレーム6及び第2フレーム5の本体を貫通しないが、本発明はこれに限定されるものではなく、以下の第四実施例が挙げられる。
第四実施例
本実施例において、第1フレーム6及び第2フレーム5には、雌ネジを有し且つ中心合わせした一対の接続孔がそれぞれ設置され、その中の一方はスルーホールであり、他方はノンスルーホールである。フォトマスク内部の密封性を保つために、二つの接続孔を接続するネジは、フォトマスクの内部まで貫通しない。中心合わせした一対の接続孔は、石英ガラスに平行な方向に設けられてもよく、石英ガラスに垂直な方向に設けられてもよい。
本実施例において、第1フレーム6及び第2フレーム5には、雌ネジを有し且つ中心合わせした一対の接続孔がそれぞれ設置され、その中の一方はスルーホールであり、他方はノンスルーホールである。フォトマスク内部の密封性を保つために、二つの接続孔を接続するネジは、フォトマスクの内部まで貫通しない。中心合わせした一対の接続孔は、石英ガラスに平行な方向に設けられてもよく、石英ガラスに垂直な方向に設けられてもよい。
第1フレーム6の底面と第2フレーム5の上面が、凹凸の係合方式で接続される場合、前記接続孔は、石英ガラス1に平行な方向に設置することができる。前記凹凸の係合は、階段状(ステップ状)の係合であってもよく、例えば、第1フレーム6の底面が、内側が高く、外側が低い階段状構造を備え、第2フレーム5の上面は、前記第1フレーム6の底面の構造にマッチングした内側が低く、外側が高い階段状構造を備えることができる。この場合、前記一対の接続孔は、石英ガラス1に平行して階段(ステップ)に設けることができる。
本発明の実施例に係るペリクルフレームは、前記一対の中心合わせした接続孔を接続させるためのネジを更に含み、これにより、第1フレーム6と第2フレーム5は、取外し可能に固定接続される。
以上の第1実施例ないし第四実施例から分かるように、本発明の実施形態に係るペリクルフレームにおいて、スナップフィット60及びスロット50、突起61及び凹溝51による挿入式接続方式、ネジ・ナットによる接続方式、及びネジによって一対の中心合わせした接続孔を接続する方式のいずれも、第1フレーム6と第2フレーム5にそれぞれ設けられた接続部(スナップフィット/スロット、突起/凹溝、ネジ/ナット及び一対の接続孔)により、第1フレーム6及び第2フレーム5を容易に分離する密封式固定接続であり、取外し可能な密封式固定接続も含んでいる。ただし、本発明はこれらに限定されるものではなく、第1フレーム6及び第2フレーム5を容易に分離させる全ての密封式固定接続の方式を採用することができる。
本発明の実施例に係るペリクルフレーム、フォトマスク及びフォトマスクのペリクル膜の取り付け方法は、前記ペリクルフレームを第1フレーム6及び第2フレーム5の二つの部分に分け、石英ガラス1に貼付するフレームを第2フレーム5とし、ペリクル膜4を固定するフレームを第1フレーム6とする。第1フレーム6に一つの接続部を設け、第2フレーム5に前記接続部とマッチングする他の接続部を設け、二つの接続部により、第1フレーム6と第2フレーム5を固定接続することにより、取り付けを完成する。第1フレーム6と第2フレーム5とが分離しやすい取り付け方法を採用することで、商業的価値のないフォトマスクからペリクル膜4を取り外した後、再度取り付けが必要なフォトマスクに取り付けることができ、ペリクル膜4の再利用を実現し、これにより、コストの低減を実現し、資源の無駄を避けることになる。
本発明の特許請求の範囲及び要旨を逸脱しない範囲で、当業者が本発明に対して行った様々な修正、等同切替、改良などは、本発明の特許請求の範囲に含まれると理解すべきである。
Claims (11)
- ペリクル膜をフォトマスクに取り付けるためのペリクルフレームであって、
前記ペリクル膜との固定接続に用いられ、かつ第1接続部を備える第1フレームと、
前記フォトマスクの基板との固定接続に用いられ、かつ第2接続部を備える第2フレームと、を含み、
前記第2接続部及び前記第1接続部により、前記第1フレームと前記第2フレームとを分離しやすくなるように密封固定接続し、
前記第2接続部及び前記第1接続部を接続することにより、前記第1フレームと前記第2フレームとを取外すことができるように密封固定接続し、
前記第1フレーム及び前記第2フレームは寸法的にマッチングする矩形であり、前記第1接続部及び前記第2接続部は、前記矩形の各長辺に少なくとも二つずつ設置され、前記矩形の各短辺に少なくとも一つずつ設置されることを特徴とするペリクルフレーム。 - 前記第1接続部はスナップフィットであり、前記第2接続部はスロットであり、又は、
前記第1接続部はスロットであり、前記第2接続部はスナップフィットであることを特徴とする、請求項1に記載のペリクルフレーム。 - 前記第1接続部は、前記第1フレームに設けられた突起であり、前記第2接続部は、前記第2フレームに設けられた凹溝であり、又は、
前記第1接続部は、前記第1フレームに設けられた凹溝であり、前記第2接続部は、前記第2フレームに設けられた突起であることを特徴とする請求項1に記載のペリクルフレーム。 - 前記第1接続部はネジであり、前記第2接続部はナットであり、又は、
前記第1接続部はナットであり、前記第2接続部はネジであることを特徴とする請求項1に記載のペリクルフレーム。 - 前記第1フレームに、直径0.3μm以上の顆粒の通過を制限する通気孔が設けられていることを特徴とする請求項1に記載のペリクルフレーム。
- 前記通気孔の直径は1.5mmであり、
前記通気孔内に、直径0.3μm以上の顆粒の通過を制限するエアフィルタが設けられていることを特徴とする請求項5に記載のペリクルフレーム。 - 前記第1接続部は、前記第1フレームに設けられ且つ雌ねじを備える第1接続孔であり、
前記第2接続部は、前記第1接続孔と中心合わせされ、前記第2フレームに設けられ且つ雌ねじを備える第2接続孔であり、
前記接続部材はネジであることを特徴とする請求項1に記載のペリクルフレーム。 - 請求項1〜7のいずれか1項に記載のペリクルフレームを備えることを特徴とするフォトマスク。
- 前記第1フレームと前記第2フレームとの間に密封部材が配置されていることを特徴とする請求項8に記載のフォトマスク。
- 前記第1フレームの底面と前記第2フレームの上面との間にガスケットが配置されていることを特徴とする請求項9に記載のフォトマスク。
- 前記基板は石英ガラスであることを特徴とする請求項8に記載のフォトマスク。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201310190217.9 | 2013-05-21 | ||
CN2013101902179A CN103246157A (zh) | 2013-05-21 | 2013-05-21 | 防尘薄膜框架、光学掩膜版及其安装方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014228868A true JP2014228868A (ja) | 2014-12-08 |
Family
ID=48925762
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014104229A Pending JP2014228868A (ja) | 2013-05-21 | 2014-05-20 | ペリクルフレーム、フォトマスク、及びその取り付け方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2014228868A (ja) |
KR (1) | KR20140136891A (ja) |
CN (1) | CN103246157A (ja) |
TW (1) | TW201339741A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018194841A (ja) * | 2017-05-15 | 2018-12-06 | アイメック・ヴェーゼットウェーImec Vzw | リソグラフィレチクルシステム |
JP2019504342A (ja) * | 2015-12-14 | 2019-02-14 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | メンブレンアセンブリ |
JPWO2018008594A1 (ja) * | 2016-07-05 | 2019-04-11 | 三井化学株式会社 | ペリクル膜、ペリクル枠体、ペリクル、その製造方法、露光原版、露光装置、半導体装置の製造方法 |
JPWO2019240166A1 (ja) * | 2018-06-12 | 2021-05-20 | 三井化学株式会社 | ペリクル用支持枠、ペリクル及びペリクル用支持枠の製造方法、並びにペリクルを用いた露光原版及び露光装置 |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6367342B2 (ja) * | 2014-09-19 | 2018-08-01 | 三井化学株式会社 | ペリクル、ペリクルの製造方法及びペリクルを用いた露光方法 |
SG11201701805QA (en) | 2014-09-19 | 2017-04-27 | Mitsui Chemicals Inc | Pellicle, production method thereof, exposure method |
WO2016079052A2 (en) | 2014-11-17 | 2016-05-26 | Asml Netherlands B.V. | Apparatus |
KR101920172B1 (ko) * | 2015-02-24 | 2018-11-19 | 미쯔이가가꾸가부시끼가이샤 | 펠리클막, 펠리클 프레임체, 펠리클 및 그 제조 방법 |
EP3079013B1 (en) * | 2015-03-30 | 2018-01-24 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Pellicle |
US9588417B2 (en) * | 2015-05-28 | 2017-03-07 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Photomask pellicle |
JP6706575B2 (ja) * | 2016-12-22 | 2020-06-10 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルフレーム及びこれを用いたペリクル |
CN107894343B (zh) * | 2017-10-20 | 2020-10-16 | 广东省农业科学院农业资源与环境研究所 | 一种用于土壤中塑料薄膜的回收方法 |
CN111698951A (zh) * | 2018-02-08 | 2020-09-22 | 巴德股份有限公司 | 具有试样收集容器的活检装置 |
CN109487228B (zh) * | 2018-10-18 | 2023-02-21 | 芜湖研历光电科技有限公司 | 一种等离子体化学气相沉积设备的掩膜框架 |
CN109814333A (zh) * | 2019-01-25 | 2019-05-28 | 上海微择科技有限公司 | 一种高性能的防污染颗粒的光罩膜 |
TWI715149B (zh) * | 2019-08-14 | 2021-01-01 | 友達光電股份有限公司 | 顯示裝置 |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59189643U (ja) * | 1983-05-31 | 1984-12-15 | シャープ株式会社 | ペリクル装着装置 |
JPS61145936U (ja) * | 1985-02-28 | 1986-09-09 | ||
JPS6380257A (ja) * | 1986-09-24 | 1988-04-11 | Hitachi Micro Comput Eng Ltd | ホトマスク |
JPH0221649U (ja) * | 1988-07-27 | 1990-02-14 | ||
JPH0342153U (ja) * | 1989-08-31 | 1991-04-22 | ||
JPH03263046A (ja) * | 1990-03-14 | 1991-11-22 | Matsushita Electron Corp | フォトマスク用ペリクル |
JPH0483254A (ja) * | 1990-07-26 | 1992-03-17 | Seiko Epson Corp | フォトマスク及び半導体装置の製造方法 |
JPH04283748A (ja) * | 1991-03-13 | 1992-10-08 | Fujitsu Ltd | ペリクル |
US20020155359A1 (en) * | 2001-04-23 | 2002-10-24 | Intel Corporation | Dual-member pellicle assemblies and methods of use |
JP2003156836A (ja) * | 2001-11-21 | 2003-05-30 | Sony Corp | フォトマスク構造体、露光方法及び露光装置 |
US20130065160A1 (en) * | 2011-09-12 | 2013-03-14 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Removable transparent membrane for a pellicle |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11295880A (ja) * | 1998-04-07 | 1999-10-29 | Seiko Epson Corp | ペリクルフレーム |
US6911283B1 (en) * | 2001-02-07 | 2005-06-28 | Dupont Photomasks, Inc. | Method and apparatus for coupling a pellicle to a photomask using a non-distorting mechanism |
US6573980B2 (en) * | 2001-07-26 | 2003-06-03 | Micro Lithography, Inc. | Removable optical pellicle |
KR20040060569A (ko) * | 2002-12-30 | 2004-07-06 | 주식회사 하이닉스반도체 | 포토 마스크의 펠리클장치 |
-
2013
- 2013-05-21 CN CN2013101902179A patent/CN103246157A/zh active Pending
- 2013-06-20 TW TW102121916A patent/TW201339741A/zh unknown
-
2014
- 2014-05-20 KR KR1020140060292A patent/KR20140136891A/ko not_active Application Discontinuation
- 2014-05-20 JP JP2014104229A patent/JP2014228868A/ja active Pending
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59189643U (ja) * | 1983-05-31 | 1984-12-15 | シャープ株式会社 | ペリクル装着装置 |
JPS61145936U (ja) * | 1985-02-28 | 1986-09-09 | ||
JPS6380257A (ja) * | 1986-09-24 | 1988-04-11 | Hitachi Micro Comput Eng Ltd | ホトマスク |
JPH0221649U (ja) * | 1988-07-27 | 1990-02-14 | ||
JPH0342153U (ja) * | 1989-08-31 | 1991-04-22 | ||
JPH03263046A (ja) * | 1990-03-14 | 1991-11-22 | Matsushita Electron Corp | フォトマスク用ペリクル |
JPH0483254A (ja) * | 1990-07-26 | 1992-03-17 | Seiko Epson Corp | フォトマスク及び半導体装置の製造方法 |
JPH04283748A (ja) * | 1991-03-13 | 1992-10-08 | Fujitsu Ltd | ペリクル |
US20020155359A1 (en) * | 2001-04-23 | 2002-10-24 | Intel Corporation | Dual-member pellicle assemblies and methods of use |
JP2003156836A (ja) * | 2001-11-21 | 2003-05-30 | Sony Corp | フォトマスク構造体、露光方法及び露光装置 |
US20130065160A1 (en) * | 2011-09-12 | 2013-03-14 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Removable transparent membrane for a pellicle |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019504342A (ja) * | 2015-12-14 | 2019-02-14 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | メンブレンアセンブリ |
US11036128B2 (en) | 2015-12-14 | 2021-06-15 | Asml Netherlands B.V. | Membrane assembly |
JP7242299B2 (ja) | 2015-12-14 | 2023-03-20 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | メンブレンアセンブリ |
JPWO2018008594A1 (ja) * | 2016-07-05 | 2019-04-11 | 三井化学株式会社 | ペリクル膜、ペリクル枠体、ペリクル、その製造方法、露光原版、露光装置、半導体装置の製造方法 |
US11042085B2 (en) | 2016-07-05 | 2021-06-22 | Mitsui Chemicals, Inc. | Pellicle film, pellicle frame, pellicle, method for producing same, original plate for light exposure, light exposure apparatus and method for manufacturing semiconductor device |
JP2018194841A (ja) * | 2017-05-15 | 2018-12-06 | アイメック・ヴェーゼットウェーImec Vzw | リソグラフィレチクルシステム |
JPWO2019240166A1 (ja) * | 2018-06-12 | 2021-05-20 | 三井化学株式会社 | ペリクル用支持枠、ペリクル及びペリクル用支持枠の製造方法、並びにペリクルを用いた露光原版及び露光装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201339741A (zh) | 2013-10-01 |
CN103246157A (zh) | 2013-08-14 |
KR20140136891A (ko) | 2014-12-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2014228868A (ja) | ペリクルフレーム、フォトマスク、及びその取り付け方法 | |
US9389499B2 (en) | Pellicle and an assembly of photomask plus pellicle | |
EP2722712B1 (en) | A pellicle | |
TWI670572B (zh) | 防塵膜用支持框 | |
TW200819840A (en) | Display device | |
JP2014206661A (ja) | ペリクルフレーム及びこれを用いたペリクル | |
CN103197472B (zh) | 一种液晶面板的制备方法 | |
CN203811936U (zh) | 显示装置 | |
KR101716497B1 (ko) | 펠리클 프레임 및 펠리클 | |
US20180210270A1 (en) | Backlight module and liquid crystal display module and television set thereof | |
CN105629587A (zh) | 显示面板及其制备方法、显示装置 | |
JP2016062055A (ja) | ペリクルフレームおよびペリクル | |
JP5838774B2 (ja) | 電力変換装置 | |
KR101195125B1 (ko) | 조립형 진공챔버 | |
JP2017504067A (ja) | タイル型液晶パネル及びその組立方法並びにそれを含むタイル型テレビ | |
WO2017020374A1 (zh) | 液晶面板及液晶显示装置 | |
TWI547773B (zh) | 防塵薄膜組件 | |
KR102603296B1 (ko) | 디스플레이 모듈의 분해 방법 및 재제조 방법 | |
TWI491977B (zh) | 防塵薄膜組件的製造方法及由多個分割框並列結合而成的分割框組合體 | |
JP2007283205A (ja) | ファンフィルタユニット | |
JP2007121683A (ja) | 液晶表示パネル複合基板と液晶表示パネルの製造方法 | |
TWI408509B (zh) | 光罩安裝/覆蓋裝置、光阻檢查方法以及使用前述方法之光阻檢查裝置 | |
TW201435483A (zh) | 微影用防塵薄膜組件 | |
JP2004145322A (ja) | 液晶パネルの製造プロセスにおいて内部汚染を避けることのできる二層ガラス基板の構造およびその製作方法 | |
KR101434550B1 (ko) | 펠리클 프레임 가공용 고정지그 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150320 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150407 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20151006 |