JP2018194841A - リソグラフィレチクルシステム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィレチクルシステム100であって、レチクル104と、レチクル104の前に取り付けられた第1のペリクル膜112と、第1のペリクル膜112の前に取り付けられた第2のペリクル膜122とを備え、第1のペリクル膜112はレチクル104と第2のペリクル膜122との間に配置され、第2のペリクル膜122は、第1のペリクル膜112およびレチクル104に対して取り外し可能に取り付けられている。
【選択図】図1
Description
レチクルと、
上記レチクルの前に取り付けられた第1のペリクル膜と、
上記第1のペリクル膜の前に取り付けられた第2のペリクル膜とを備え、
上記第1のペリクル膜は上記レチクルと上記第2のペリクル膜との間に配置され、
上記第2のペリクル膜は、上記第1のペリクル膜および上記レチクルに対して取り外し可能に取り付けられている。
上記レチクルは上記レチクル支持体上に配置され、
上記第2のペリクルフレームは、上記レチクル支持体上に、このレチクル支持体に対して取り外し可能に取り付けられている。
リソグラフィ露光ツールであって、
光源と、
基板支持体と、
上記第1の局面に従うレチクルシステムと、
上記光源からの光を上記レチクルシステムの上記レチクルを介して上記基板支持体へ向けて導くための光学系と
を含むリソグラフィ露光ツールが提供される。
上記リソグラフィ露光ツールは、
光源と、
基板支持体と、
上記第1の局面に従うレチクルシステムと、
上記光源からの光を上記レチクルシステムの上記レチクルを介して上記基板支持体へ向けて導くための光学系と
を含み、
上記方法は、
上記リソグラフィ露光ツールから、上記レチクル、上記第1のペリクル膜および上記第2のペリクル膜をアンロードすることと、
(上記レチクルのアンロードに続いて)上記第1のペリクル膜の前の上記第2のペリクル膜を取り除くこととを含み、この取り除く際に上記第1のペリクル膜は上記レチクル上に残っており、
上記第1のペリクル膜の前に第3のペリクル膜を取り外し可能に取り付けることと、
上記レチクル、上記第1のペリクル膜および上記第3のペリクル膜を、上記リソグラフィ露光ツール内にロードすることと
を含む。
上記リソグラフィ露光ツールは、
光源と、
基板支持体と、
上記第1の局面に従うレチクルシステムと、
上記光源からの光を上記レチクルシステムの上記レチクルを介して上記基板支持体へ向けて導くための光学系と
を含み、
上記方法は、
上記第1のペリクル膜の前の上記第2のペリクル膜を取り除くことを含み、この取り除く際に上記第1のペリクル膜は上記レチクル上に残っており、
上記第1のペリクル膜の前に第3のペリクル膜を取り外し可能に取り付けること
を含む。
上記第2のペリクル膜を取り外すのに続いて、上記第2のペリクルフレームを上記ツールの保管位置に搬送すること、および、
上記第3のペリクル膜を取り外し可能に取り付けるのに先立って、上記ツールの上記保管位置から上記第3のペリクルフレームを上記第1のペリクル膜の前方の位置に搬送すること
を含んでもよい。これにより、ペリクルの交換はさらに自動化され得る。
Claims (15)
- リソグラフィレチクルシステム(100)であって、
レチクル(104)と、
上記レチクル(104)の前に取り付けられた第1のペリクル膜(112)と、
上記第1のペリクル膜(112)の前に取り付けられた第2のペリクル膜(122)とを備え、
上記第1のペリクル膜(112)は上記レチクル(104)と上記第2のペリクル膜(122)との間に配置され、
上記第2のペリクル膜(122)は、上記第1のペリクル膜(112)および上記レチクル(104)に対して取り外し可能に取り付けられているシステム。 - 請求項1に記載のシステムにおいて、さらに、
上記第1のペリクル膜(112)を支持する第1のペリクルフレーム(114)を備え、
上記第1のペリクルフレーム(114)が上記レチクル(104)上に取り付けられているシステム。 - 請求項1または2に記載のシステムにおいて、さらに、
上記第2のペリクル膜(122)を支持する第2のペリクルフレーム(124)を備え、
上記第2のペリクルフレーム(124)は上記第1のペリクル膜(112)および上記レチクル(104)に対して取り外し可能に取り付けられているシステム。 - 請求項3に記載のシステムにおいて、さらに、
レチクル支持体(102)を備え、
上記レチクル(104)は上記レチクル支持体(102)上に配置され、
上記第2のペリクルフレーム(124)は、上記レチクル支持体(102)上に、このレチクル支持体(102)に対して取り外し可能に取り付けられているシステム。 - 請求項3に記載のシステムにおいて、
上記第2のペリクルフレーム(124)は、上記第1のペリクル膜(112)を支持する第1のペリクルフレーム(114)上に、この第1のペリクルフレーム(114)に対して取り外し可能に取り付けられているシステム。 - 請求項5に記載のシステムにおいて、
上記第2のペリクルフレーム(124)は、上記第1のペリクルフレーム(114)の外側壁面に隣接して配置されているシステム。 - 請求項5に記載のシステムにおいて、
上記第2のペリクルフレーム(124)は、上記第1のペリクルフレーム(114)の頂面上に配置されているシステム。 - 請求項3から7までのいずれか一つに記載のシステムにおいて、
上記第2のペリクルフレーム(124)は、第1のペリクルフレーム(114)の、または、上記レチクル(104)を支持するようになっているレチクル支持体(102)の機械的結合部材(129)と取り外し可能に係合するようになっている機械的結合部材(129)を含むシステム。 - 請求項3から7までのいずれか一つに記載のシステムにおいて、
上記第2のペリクルフレーム(124)は、第1のペリクルフレーム(114)の、または、上記レチクル(104)を支持するようになっているレチクル支持体(102)の磁気的結合部材(129)と磁気的に結合するようになっている磁気的結合部材(129)を含むシステム。 - 請求項1から9までのいずれか一つに記載のシステムにおいて、
上記第2のペリクルフレーム(124)はガス入口(126)を含むシステム。 - 請求項1から10までのいずれか一つに記載のシステムにおいて、
上記第1のペリクル膜(112)と上記第2のペリクル膜(122)は、或る距離だけ離間されているシステム。 - リソグラフィ露光ツール(200)であって、
光源(206)と、
基板支持体(202)と、
請求項1から11までのいずれか一つに記載のレチクルシステム(100)と、
上記光源からの光を上記レチクルシステムの上記レチクルを介して上記基板支持体へ向けて導くための光学系(210)と
を含むリソグラフィ露光ツール。 - 請求項12に記載のリソグラフィ露光ツール(200)において、
上記光源は極端紫外線光源であるリソグラフィ露光ツール。 - 請求項12または13に記載のリソグラフィ露光ツール(200)のペリクル膜を交換する方法であって、
上記方法は、
上記リソグラフィ露光ツール(200)から、上記レチクル(104)、上記第1のペリクル膜(112)および上記第2のペリクル膜(122)をアンロードすることと、
上記第1のペリクル膜(112)の前の上記第2のペリクル膜(122)を取り除くこととを含み、この取り除く際に上記第1のペリクル膜(112)は上記レチクル(104)上に残っており、
上記第1のペリクル膜(112)の前に第3のペリクル膜(132)を取り外し可能に取り付けることと、
上記レチクル(104)、上記第1のペリクル膜(112)および上記第3のペリクル膜(132)を、上記リソグラフィ露光ツール内にロードすることと
を含む方法。 - 請求項12または13に記載のリソグラフィ露光ツール内でペリクル膜を交換する方法であって、
上記方法は、
上記第1のペリクル膜(112)の前の上記第2のペリクル膜(122)を取り除くことを含み、この取り除く際に上記第1のペリクル膜(112)は上記レチクル(104)上に残っており、
上記第1のペリクル膜(112)の前に第3のペリクル膜(132)を取り外し可能に取り付けること
を含む方法。
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