JP2013041947A - リソグラフィ装置及び物品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】パターンが形成されたパターン領域を有する原版を用いて、前記パターンを基板に転写するリソグラフィ装置であって、前記原版を保管するストッカと、前記パターンを前記基板に転写する転写処理を行う処理部と、前記ストッカと前記処理部との間で前記原版を搬送する搬送機構と、を有し、前記搬送機構は、前記パターン領域を覆うように配置されることにより、前記パターン領域を保護する保護プレートと、前記保護プレートに配置され、前記原版の前記パターン領域以外の部分を介して前記原版を保持する保持部と、を含むことを特徴とするリソグラフィ装置を提供する。
【選択図】図1
Description
Claims (10)
- パターンが形成されたパターン領域を有する原版を用いて、前記パターンを基板に転写するリソグラフィ装置であって、
前記原版を保管するストッカと、
前記パターンを前記基板に転写する転写処理を行う処理部と、
前記ストッカと前記処理部との間で前記原版を搬送する搬送機構と、を有し、
前記搬送機構は、
前記パターン領域を覆うように配置されることにより、前記パターン領域を保護する保護プレートと、
前記保護プレートに配置され、前記原版の前記パターン領域以外の部分を介して前記原版を保持する保持部と、
を含むことを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記保持部は、前記原版の前記パターン領域を含む面における前記パターン領域以外の部分を介して前記原版を保持することを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記保持部は、前記原版の前記パターン領域を含む面とは反対側の面を介して前記原版を保持することを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記搬送機構は、前記パターン領域を含む面に対して垂直な方向に延在し、前記パターン領域を含む面の対向する2つの辺を囲うように前記保護プレートに配置される保護部材を更に含むことを特徴とする請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 前記保持部は、前記原版の前記パターン領域を含む面とは反対側の面を重力方向に向けて前記原版を保持することを特徴とする請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ストッカは、
前記原版を載置する載置部と、
前記載置部が前記原版を載置している状態において、前記原版の前記パターン領域を含む面に沿った方向に気流を形成する保管環境形成部と、
を含むことを特徴とする請求項1乃至5のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記処理部は、
前記原版を保持するステージと、
前記ステージが前記原版を保持している状態において、前記原版の前記パターン領域を含む面に沿った方向に気流を形成する処理環境形成部と、
を含むことを特徴とする請求項1乃至6のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記処理部は、前記基板に塗布された樹脂に前記原版を押し付けた状態で当該樹脂を硬化させ、硬化した樹脂から前記原版を剥離するインプリント処理を前記転写処理として行うことを特徴とする請求項1乃至7のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記処理部は、前記原版のパターンを投影光学系によって前記基板に投影する露光処理を前記転写処理として行うことを特徴とする請求項1乃至7のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 請求項1乃至9のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置を用いて原版のパターンを基板に転写するステップと、
前記パターンが転写された基板を加工するステップと、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
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