JPH04283748A - ペリクル - Google Patents
ペリクルInfo
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- JPH04283748A JPH04283748A JP3047978A JP4797891A JPH04283748A JP H04283748 A JPH04283748 A JP H04283748A JP 3047978 A JP3047978 A JP 3047978A JP 4797891 A JP4797891 A JP 4797891A JP H04283748 A JPH04283748 A JP H04283748A
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- JP
- Japan
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- reticle
- pellicle
- frame member
- frame
- mask
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- Withdrawn
Links
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- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 11
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
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- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 2
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Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置の製造にお
いて露光操作時にマスク、レチクル等に装着するペリク
ルに関する。
いて露光操作時にマスク、レチクル等に装着するペリク
ルに関する。
【０００２】
【従来の技術】ペリクルは、光が照射されるべきマスク
やレチクルに異物が付着するのを避けるため、マスクや
レチクルの表面から焦点深度よりも長い間隔をあけて配
置される透明薄膜とこれを支持するフレームとから構成
される。
やレチクルに異物が付着するのを避けるため、マスクや
レチクルの表面から焦点深度よりも長い間隔をあけて配
置される透明薄膜とこれを支持するフレームとから構成
される。
【０００３】従来のペリクルでは、フレームは金属、一
般にはアルミニウムから製作された一体構造のものであ
った。そしてこれらのペリクルは、使用時には両面テー
プ等を利用してその装着面をマスクやレチクル上に圧着
させて装着される。
般にはアルミニウムから製作された一体構造のものであ
った。そしてこれらのペリクルは、使用時には両面テー
プ等を利用してその装着面をマスクやレチクル上に圧着
させて装着される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】近年、半導体装置の微
細化に伴い、ペリクルの使用は不可欠となってきている
。また、マスクやレチクルの高精度化も要請され、これ
らの平坦性の向上が要求されている。
細化に伴い、ペリクルの使用は不可欠となってきている
。また、マスクやレチクルの高精度化も要請され、これ
らの平坦性の向上が要求されている。
【０００５】ペリクルは、上述のようにその装着面をマ
スクやレチクル上に圧着させて固定されるが、従来はそ
の際に、高精度の要求されるマスクやレチクル自体が歪
められて平坦度が悪化してしまい、これらのパターン位
置精度を低化させてしまうことがあった。従って、ステ
ッパーでのパターン転写の際、ウェーハ上での重ね合わ
せ精度が劣化する等の問題を生じていた。
スクやレチクル上に圧着させて固定されるが、従来はそ
の際に、高精度の要求されるマスクやレチクル自体が歪
められて平坦度が悪化してしまい、これらのパターン位
置精度を低化させてしまうことがあった。従って、ステ
ッパーでのパターン転写の際、ウェーハ上での重ね合わ
せ精度が劣化する等の問題を生じていた。
【０００６】本発明は、ステッパーでのパターン転写の
際のウェーハ上での重ね合わせ精度の劣化等の原因とな
る、ペリクルの装着されたマスクやレチクルの歪を矯正
して、マスクやレチクルのパターン位置精度を向上させ
ることを目的とする。
際のウェーハ上での重ね合わせ精度の劣化等の原因とな
る、ペリクルの装着されたマスクやレチクルの歪を矯正
して、マスクやレチクルのパターン位置精度を向上させ
ることを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この目的は、光が照射さ
れるべき対象物に異物が付着するのを防止するための透
明薄膜とこれを支持するフレームとから構成されるペリ
クルにおいて、当該フレームが、透明薄膜を備えた第一
のフレーム部材と、光が照射されるべき対象物への装着
面を有する第二のフレーム部材と、そして第一及び第二
のフレーム部材の間に挿入されるパッキンとから構成さ
れ、且つこれらの部材及びパッキンが、第一のフレーム
部材から第二のフレーム部材まで達するネジにより一体
化されていることを特徴とする本発明のペリクルによっ
て達成される。
れるべき対象物に異物が付着するのを防止するための透
明薄膜とこれを支持するフレームとから構成されるペリ
クルにおいて、当該フレームが、透明薄膜を備えた第一
のフレーム部材と、光が照射されるべき対象物への装着
面を有する第二のフレーム部材と、そして第一及び第二
のフレーム部材の間に挿入されるパッキンとから構成さ
れ、且つこれらの部材及びパッキンが、第一のフレーム
部材から第二のフレーム部材まで達するネジにより一体
化されていることを特徴とする本発明のペリクルによっ
て達成される。
【０００８】本発明のレチクルを例示する上面図を図１
に、そして図１のＩＩ−ＩＩ線断面図を図２に示す。こ
れらの図において、１は第一のフレーム部材、２はパッ
キン、３は第二のフレーム部材、４，５は調節用ネジ、
６は透明薄膜、７は光照射対象物（すなわちマスク又は
レチクル）である。
に、そして図１のＩＩ−ＩＩ線断面図を図２に示す。こ
れらの図において、１は第一のフレーム部材、２はパッ
キン、３は第二のフレーム部材、４，５は調節用ネジ、
６は透明薄膜、７は光照射対象物（すなわちマスク又は
レチクル）である。
【０００９】第一及び第二のフレーム部材は、従来のペ
リクルのフレームと同じ材料で製作することができ、例
えばアルミニウム等の金属材料を使用することができる
。これらのフレーム部材の間に挿入されるパッキンは、
発塵性のない例えばシリコーンゴムのような軟質材料を
用いるのが好適である。
リクルのフレームと同じ材料で製作することができ、例
えばアルミニウム等の金属材料を使用することができる
。これらのフレーム部材の間に挿入されるパッキンは、
発塵性のない例えばシリコーンゴムのような軟質材料を
用いるのが好適である。
【００１０】第一及び第二のフレーム部材とこれらの間
に挿入されるパッキンとは、図２に見られるように、第
一のフレーム部材の表面から第二のフレーム部材まで達
するネジにより一体化されて、本発明のペリクルのフレ
ームを構成する。このネジは、両方のフレーム部材とパ
ッキンとからなるペリクルフレームの結合を保ち、そし
て後に述べる矯正作用を有効に果たすことができる限り
は、どのようなネジであってもよい。しかしながら、こ
れらのネジは、本発明のペリクルの装着された状態でそ
れらのねじ込みによってレチクル等の表面に損傷を与え
ることがないように、第二のフレームを貫通してレチク
ル等の表面まで達しないような長さであることが望まし
い。ネジがレチクル表面まで達するのを避けるためには
、第二のフレーム部材のネジ穴を貫通させないようにす
ることも有効である。
に挿入されるパッキンとは、図２に見られるように、第
一のフレーム部材の表面から第二のフレーム部材まで達
するネジにより一体化されて、本発明のペリクルのフレ
ームを構成する。このネジは、両方のフレーム部材とパ
ッキンとからなるペリクルフレームの結合を保ち、そし
て後に述べる矯正作用を有効に果たすことができる限り
は、どのようなネジであってもよい。しかしながら、こ
れらのネジは、本発明のペリクルの装着された状態でそ
れらのねじ込みによってレチクル等の表面に損傷を与え
ることがないように、第二のフレームを貫通してレチク
ル等の表面まで達しないような長さであることが望まし
い。ネジがレチクル表面まで達するのを避けるためには
、第二のフレーム部材のネジ穴を貫通させないようにす
ることも有効である。
【００１１】ネジは、通常、フレームの四隅に各１個配
置され、このほかにフレームの各辺の中間部分に少なく
とも１個配置される。
置され、このほかにフレームの各辺の中間部分に少なく
とも１個配置される。
【００１２】本発明のペリクルのフレームの高さは、６
ｍｍ度で十分であるが、フレーム部材のネジ山の加工が
容易になるようにもっと高くしても差支えない。一例と
して、フレーム高さを８ｍｍにしようとする場合には、
例えば１ｍｍの厚さのパッキンを使用し、第一のフレー
ム部材の厚さを４ｍｍ、第二のフレーム部材の厚さを３
ｍｍとすることができる。
ｍｍ度で十分であるが、フレーム部材のネジ山の加工が
容易になるようにもっと高くしても差支えない。一例と
して、フレーム高さを８ｍｍにしようとする場合には、
例えば１ｍｍの厚さのパッキンを使用し、第一のフレー
ム部材の厚さを４ｍｍ、第二のフレーム部材の厚さを３
ｍｍとすることができる。
【００１３】本発明のペリクルにおいては、後に述べる
ように第一及び第二のフレーム部材の弾性の差を利用し
てマスクやレチクルの歪の矯正を行う。すなわち、一方
のフレーム部材に対してもう一方のフレーム部材の方を
より変形しやすく（たわみやすく）しておいて、調節用
ネジの作用で変形しやすい方のフレーム部材をより大き
くたわめさせることによってレチクル等の歪の矯正を行
う。このため、レチクル等の歪をより都合よく矯正する
ためには、透明薄膜の装備された第一のフレーム部材の
剛性をより高くし、レチクル等に装着される第二のフレ
ーム部材の剛性をより低くしておいて、調節用ネジの締
め加減を調整することにより第二のフレームの方をより
大きく変形させて（すなわち反らせて）、ペリクルの装
着されているレチクル等の歪を矯正する方が好ましい。 従って、両方のフレーム部材の構成材料が同一である場
合には、第一のフレーム部材の厚みを第二のフレーム部
材の厚みよりも厚くする方が好ましい。両方のフレーム
部材の材料として異なる材質のものを使用して、両者の
剛性を違うものにすることも可能である。
ように第一及び第二のフレーム部材の弾性の差を利用し
てマスクやレチクルの歪の矯正を行う。すなわち、一方
のフレーム部材に対してもう一方のフレーム部材の方を
より変形しやすく（たわみやすく）しておいて、調節用
ネジの作用で変形しやすい方のフレーム部材をより大き
くたわめさせることによってレチクル等の歪の矯正を行
う。このため、レチクル等の歪をより都合よく矯正する
ためには、透明薄膜の装備された第一のフレーム部材の
剛性をより高くし、レチクル等に装着される第二のフレ
ーム部材の剛性をより低くしておいて、調節用ネジの締
め加減を調整することにより第二のフレームの方をより
大きく変形させて（すなわち反らせて）、ペリクルの装
着されているレチクル等の歪を矯正する方が好ましい。 従って、両方のフレーム部材の構成材料が同一である場
合には、第一のフレーム部材の厚みを第二のフレーム部
材の厚みよりも厚くする方が好ましい。両方のフレーム
部材の材料として異なる材質のものを使用して、両者の
剛性を違うものにすることも可能である。
【００１４】マスクやレチクルの歪の微調整をより容易
にするためには、第一及び第二のフレーム部材の剛性を
同一にすることが有効であろう。すなわちこの場合には
、調節用ネジの作用で両方のフレーム部材が同じように
たわんで、レチクル等の歪の微調整を容易にする。
にするためには、第一及び第二のフレーム部材の剛性を
同一にすることが有効であろう。すなわちこの場合には
、調節用ネジの作用で両方のフレーム部材が同じように
たわんで、レチクル等の歪の微調整を容易にする。
【００１５】本発明のペリクルを使用する際には、上か
ら従来のペリクルと同じように透明薄膜を備えた第一の
フレーム部材と、パッキンと、そして第二のフレーム部
材とを積み重ね、これらを調節用ネジで一体化させ、そ
して第二のフレーム部材のレチクル等への装着面に従来
と同様に両面テープに貼付する等により、レチクル等に
装着する。
ら従来のペリクルと同じように透明薄膜を備えた第一の
フレーム部材と、パッキンと、そして第二のフレーム部
材とを積み重ね、これらを調節用ネジで一体化させ、そ
して第二のフレーム部材のレチクル等への装着面に従来
と同様に両面テープに貼付する等により、レチクル等に
装着する。
【００１６】
【作用】本発明のペリクルにおいては、パッキンを間に
挟んでその上下に配置される第一及び第二のフレーム部
材をネジが一体に結合させる。第一及び第二のフレーム
部材は弾性を異にするので、上記のネジの締め加減を調
整することによって、ペリクルの装着されたマスクやレ
チクルの歪を矯正する。
挟んでその上下に配置される第一及び第二のフレーム部
材をネジが一体に結合させる。第一及び第二のフレーム
部材は弾性を異にするので、上記のネジの締め加減を調
整することによって、ペリクルの装着されたマスクやレ
チクルの歪を矯正する。
【００１７】すなわち図１を参照して説明すれば、例え
ばレチクルが凸に反っている場合、フレームの辺上にあ
るネジ５に対しフレームの四隅にあるネジ４を強く締め
ることで、第一のフレーム部材の弾性によりレチクルの
四隅を上方に持ち上げる力が働き、結果として凸方向の
反りが矯正される。また、レチクルが凹に反っている場
合には、逆にネジ５を強く締めてやればよい。
ばレチクルが凸に反っている場合、フレームの辺上にあ
るネジ５に対しフレームの四隅にあるネジ４を強く締め
ることで、第一のフレーム部材の弾性によりレチクルの
四隅を上方に持ち上げる力が働き、結果として凸方向の
反りが矯正される。また、レチクルが凹に反っている場
合には、逆にネジ５を強く締めてやればよい。
【００１８】
【実施例】５インチ（１２７ｍｍ） の正方形のレチク
ル用の、本発明のペリクルを製作した。これらのペリク
ルのフレームは、１辺の長さが１００ｍｍ の正方形で
ある第一及び第二のフレーム部材（アルミニウム製）と
これらのフレーム部材の間に挿入されるシリコーンゴム
のパッキンとから構成され、鋼製のネジで一体化させた
。ネジの数は、四隅に各１個、そして各辺の中間部に２
個ずつで、合計して１２個であった。また、フレームの
幅は３ｍｍであり、第一のフレーム部材の厚さは４ｍｍ
、第二のフレーム部材の厚さは３ｍｍ、そしてパッキン
の厚さは１ｍｍであった。
ル用の、本発明のペリクルを製作した。これらのペリク
ルのフレームは、１辺の長さが１００ｍｍ の正方形で
ある第一及び第二のフレーム部材（アルミニウム製）と
これらのフレーム部材の間に挿入されるシリコーンゴム
のパッキンとから構成され、鋼製のネジで一体化させた
。ネジの数は、四隅に各１個、そして各辺の中間部に２
個ずつで、合計して１２個であった。また、フレームの
幅は３ｍｍであり、第一のフレーム部材の厚さは４ｍｍ
、第二のフレーム部材の厚さは３ｍｍ、そしてパッキン
の厚さは１ｍｍであった。
【００１９】これらのペリクルを両面テープを使ってレ
チクルに装着後、平坦度計を使用してレチクルの歪を調
べ、その結果反りの見いだされたものに対して先に説明
した要領で矯正を行った。こうして矯正されたレチクル
の平坦度を再度調べてみると、ほとんどのものは十分に
矯正されていることが分かった。矯正の不十分なものに
ついては、再度同様の矯正を施すことでレチクルの平坦
度を申し分なく改善することができた。
チクルに装着後、平坦度計を使用してレチクルの歪を調
べ、その結果反りの見いだされたものに対して先に説明
した要領で矯正を行った。こうして矯正されたレチクル
の平坦度を再度調べてみると、ほとんどのものは十分に
矯正されていることが分かった。矯正の不十分なものに
ついては、再度同様の矯正を施すことでレチクルの平坦
度を申し分なく改善することができた。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のペリクル
によって、ペリクルの装着されたマスクやレチクルの歪
を申し分なく矯正して、マスクやレチクルのパターン位
置精度を向上させることができる。これにより、ステッ
パーでのパターン転写の際にウェーハ上での重ね合わせ
精度が劣化する等の問題を解消することが可能となり、
半導体装置の製造における歩留りの向上に貢献すること
ができる。
によって、ペリクルの装着されたマスクやレチクルの歪
を申し分なく矯正して、マスクやレチクルのパターン位
置精度を向上させることができる。これにより、ステッ
パーでのパターン転写の際にウェーハ上での重ね合わせ
精度が劣化する等の問題を解消することが可能となり、
半導体装置の製造における歩留りの向上に貢献すること
ができる。
【図１】本発明のペリクルの上面図である。
【図２】図１に示した本発明のペリクルのＩＩ−ＩＩ線
断面図である。
断面図である。
１…第一のフレーム部材
２…パッキン
３…第二のフレーム部材
４，５…調節用ネジ
６…レチクル
Claims (1)
- 【請求項１】 光が照射されるべき対象物に異物が付
着するのを防止するための透明薄膜とこれを支持するフ
レームとから構成されるペリクルにおいて、当該フレー
ムが、透明薄膜を備えた第一のフレーム部材と、光が照
射されるべき対象物への装着面を有する第二のフレーム
部材と、そして第一及び第二のフレーム部材の間に挿入
されるパッキンとから構成され、且つこれらの部材及び
パッキンが、第一のフレーム部材から第二のフレーム部
材まで達するネジにより一体化されていることを特徴と
するペリクル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3047978A JPH04283748A (ja) | 1991-03-13 | 1991-03-13 | ペリクル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3047978A JPH04283748A (ja) | 1991-03-13 | 1991-03-13 | ペリクル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04283748A true JPH04283748A (ja) | 1992-10-08 |
Family
ID=12790406
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3047978A Withdrawn JPH04283748A (ja) | 1991-03-13 | 1991-03-13 | ペリクル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04283748A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006005359A (ja) * | 2004-06-17 | 2006-01-05 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置、デバイス製造方法およびペリクルを有するマスク |
| KR20140126244A (ko) * | 2013-04-22 | 2014-10-30 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 펠리클 및 포토마스크와 펠리클의 조립체 |
| JP2014228868A (ja) * | 2013-05-21 | 2014-12-08 | 上海和輝光電有限公司Ｅｖｅｒｄｉｓｐｌａｙ Ｏｐｔｒｏｎｉｃｓ （Ｓｈａｎｇｈａｉ） Ｌｉｍｉｔｅｄ | ペリクルフレーム、フォトマスク、及びその取り付け方法 |
| JP2018194841A (ja) * | 2017-05-15 | 2018-12-06 | アイメック・ヴェーゼットウェーＩｍｅｃ Ｖｚｗ | リソグラフィレチクルシステム |
-
1991
- 1991-03-13 JP JP3047978A patent/JPH04283748A/ja not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006005359A (ja) * | 2004-06-17 | 2006-01-05 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置、デバイス製造方法およびペリクルを有するマスク |
| JP4491382B2 (ja) * | 2004-06-17 | 2010-06-30 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | リソグラフィ装置、デバイス製造方法およびペリクルを有するマスク |
| KR20140126244A (ko) * | 2013-04-22 | 2014-10-30 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 펠리클 및 포토마스크와 펠리클의 조립체 |
| JP2014211591A (ja) * | 2013-04-22 | 2014-11-13 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルおよびこのペリクルを装着するフォトマスク |
| JP2014228868A (ja) * | 2013-05-21 | 2014-12-08 | 上海和輝光電有限公司Ｅｖｅｒｄｉｓｐｌａｙ Ｏｐｔｒｏｎｉｃｓ （Ｓｈａｎｇｈａｉ） Ｌｉｍｉｔｅｄ | ペリクルフレーム、フォトマスク、及びその取り付け方法 |
| JP2018194841A (ja) * | 2017-05-15 | 2018-12-06 | アイメック・ヴェーゼットウェーＩｍｅｃ Ｖｚｗ | リソグラフィレチクルシステム |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19980514 |