JPH04289864A - レチクルステージ - Google Patents
レチクルステージInfo
- Publication number
- JPH04289864A JPH04289864A JP3052935A JP5293591A JPH04289864A JP H04289864 A JPH04289864 A JP H04289864A JP 3052935 A JP3052935 A JP 3052935A JP 5293591 A JP5293591 A JP 5293591A JP H04289864 A JPH04289864 A JP H04289864A
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- JP
- Japan
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- reticle
- reticule
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- Withdrawn
Links
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Projection-Type Copiers In General (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体素子の製造等に
係わる露光装置に、所定のマスクパターンが形成された
レチクルを装着するステージの構成に関する。
係わる露光装置に、所定のマスクパターンが形成された
レチクルを装着するステージの構成に関する。
【０００２】
【従来の技術】図４は従来のレチクルステージを示す斜
視図である。ガラス基板の表面にマスクパターンを形成
したレチクルは、該表面の平面性が３μｍ 程度以下の
高精度であり、かかるガラス基板の表面を真空吸着する
レチクルステージのレチクル吸着面の平面性も、５〜１
０μｍ の高精度に加工されている。
視図である。ガラス基板の表面にマスクパターンを形成
したレチクルは、該表面の平面性が３μｍ 程度以下の
高精度であり、かかるガラス基板の表面を真空吸着する
レチクルステージのレチクル吸着面の平面性も、５〜１
０μｍ の高精度に加工されている。
【０００３】図４（イ） において、レチクルを搭載し
その位置合わせ（アライメント）をしたのち、レチクル
（ガラス基板） の表面を真空吸着によって固定する
レチクルステージ１は、上面の対向２辺の中央部にアラ
イメントマーク２を設け、アライメントマーク２を形成
した石英板３を挟むように、真空吸着溝４を形成する。
その位置合わせ（アライメント）をしたのち、レチクル
（ガラス基板） の表面を真空吸着によって固定する
レチクルステージ１は、上面の対向２辺の中央部にアラ
イメントマーク２を設け、アライメントマーク２を形成
した石英板３を挟むように、真空吸着溝４を形成する。
【０００４】図４（ロ） において、マスクパターン保
護用のペリクルが形成されたレチクルを真空吸着するレ
チクルステージ５は、レチクル表面の左右方向端部が接
触する構成である。ペリクル付きのレチクルを真空吸着
する上面には、レチクルステージ１と同様にアライメン
トマーク２が形成された石英板３を固着し、真空吸着溝
４が形成される。
護用のペリクルが形成されたレチクルを真空吸着するレ
チクルステージ５は、レチクル表面の左右方向端部が接
触する構成である。ペリクル付きのレチクルを真空吸着
する上面には、レチクルステージ１と同様にアライメン
トマーク２が形成された石英板３を固着し、真空吸着溝
４が形成される。
【０００５】内法寸法ＡおよびＢが １００ｍｍ程度で
あり、レチクル表面の左右方向端部および前後方向端部
が接触するステージ１および５において、一般に真空吸
着溝４を形成した上面の幅ａは８ｍｍ程度，真空吸着溝
４の幅ｂは２〜３ｍｍ程度である。従って、真空吸着溝
４の幅方向にステージ１の上面の幅ｃは２〜３ｍｍ程度
になる。
あり、レチクル表面の左右方向端部および前後方向端部
が接触するステージ１および５において、一般に真空吸
着溝４を形成した上面の幅ａは８ｍｍ程度，真空吸着溝
４の幅ｂは２〜３ｍｍ程度である。従って、真空吸着溝
４の幅方向にステージ１の上面の幅ｃは２〜３ｍｍ程度
になる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】従来のレチクルステー
ジ１および５において、レチクルの表面およびレチクル
ステージ１，５の上面の平面性は、前述したように３μ
ｍ 程度以下，５〜１０μｍの高精度である。そのため
、ステージ１，５に搭載したレチクルのアライメントを
しようとする、レチクル表面がステージ１，５の上面に
密着し、レチクルのアライメント特にレチクルの微細調
整が困難であるという問題点があった。
ジ１および５において、レチクルの表面およびレチクル
ステージ１，５の上面の平面性は、前述したように３μ
ｍ 程度以下，５〜１０μｍの高精度である。そのため
、ステージ１，５に搭載したレチクルのアライメントを
しようとする、レチクル表面がステージ１，５の上面に
密着し、レチクルのアライメント特にレチクルの微細調
整が困難であるという問題点があった。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記問題点の除去を目的
とした本発明のレチクルステージは、図１によれば、レ
チクル１１の表面１２の四隅が接触する４個所に突部１
６を設け、同一平面内に形成された突部１６の各上面１
７に、レチクル吸着用吸気孔１８が開口することを特徴
とする。また、図２の実施例によれば、レチクル表面１
２の一方の対向端部がそれぞれ全長に渡って接触する一
対の突部２２を設け、同一平面内に形成された突部２２
の各上面２３に複数のレチクル吸着用吸気孔２５が開口
し、該複数の開口が方形であることを特徴とする。さら
に、図３の実施例によれば、レチクル表面１２の一方の
対向端部がそれぞれ全長に渡って接触する一対の突部２
７を設け、同一平面内に形成された突部２７の各上面２
８に、上面２８の外縁部を残すレチクル吸着用吸気孔２
９が開口することを特徴とする。
とした本発明のレチクルステージは、図１によれば、レ
チクル１１の表面１２の四隅が接触する４個所に突部１
６を設け、同一平面内に形成された突部１６の各上面１
７に、レチクル吸着用吸気孔１８が開口することを特徴
とする。また、図２の実施例によれば、レチクル表面１
２の一方の対向端部がそれぞれ全長に渡って接触する一
対の突部２２を設け、同一平面内に形成された突部２２
の各上面２３に複数のレチクル吸着用吸気孔２５が開口
し、該複数の開口が方形であることを特徴とする。さら
に、図３の実施例によれば、レチクル表面１２の一方の
対向端部がそれぞれ全長に渡って接触する一対の突部２
７を設け、同一平面内に形成された突部２７の各上面２
８に、上面２８の外縁部を残すレチクル吸着用吸気孔２
９が開口することを特徴とする。
【０００８】
【作用】上記手段によれば、レチクルステージとレチク
ルとの接触面積が、従来のレチクルステージを使用する
より狭くなる。従って、本発明によるレチクルステージ
に搭載したレチクルは、そのアライメントに際して微調
整が容易であり、アライメント作業の効率が向上する。
ルとの接触面積が、従来のレチクルステージを使用する
より狭くなる。従って、本発明によるレチクルステージ
に搭載したレチクルは、そのアライメントに際して微調
整が容易であり、アライメント作業の効率が向上する。
【０００９】
【実施例】図１は本発明の第１の実施例によるレチクル
ステージとそのステージにレチクルを搭載した斜視図、
図２は本発明の第２の実施例によるレチクルステージと
そのステージにレチクルを搭載した斜視図、図３は本発
明の第３の実施例によるレチクルステージとそのステー
ジにレチクルを搭載した斜視図である。
ステージとそのステージにレチクルを搭載した斜視図、
図２は本発明の第２の実施例によるレチクルステージと
そのステージにレチクルを搭載した斜視図、図３は本発
明の第３の実施例によるレチクルステージとそのステー
ジにレチクルを搭載した斜視図である。
【００１０】図１において、レチクル１１の表面 （図
の下面） １２の四隅を真空吸着するレチクルステージ
１５は、該四隅が接触する突部１６を設け、各突部１６
には１〜２ｍｍ程度の幅ｄで上面１７が残るように吸気
孔１８を設け、各吸気孔１８には吸気管１９を接続する
。各突部１６の突出量ｈは１ｍｍ以下であり、アライメ
ントマーク２が形成された一対の石英板３は左右方向の
対向部に植設する。かかるステージ１５に搭載したレチ
クル１１の表面１２は、４ヶ所の上面１７と接触する。 従って、表面１２と上面１７との接触面積は、従来のレ
チクルステージ１または５を使用したときに比べ著しく
小さくなる。
の下面） １２の四隅を真空吸着するレチクルステージ
１５は、該四隅が接触する突部１６を設け、各突部１６
には１〜２ｍｍ程度の幅ｄで上面１７が残るように吸気
孔１８を設け、各吸気孔１８には吸気管１９を接続する
。各突部１６の突出量ｈは１ｍｍ以下であり、アライメ
ントマーク２が形成された一対の石英板３は左右方向の
対向部に植設する。かかるステージ１５に搭載したレチ
クル１１の表面１２は、４ヶ所の上面１７と接触する。 従って、表面１２と上面１７との接触面積は、従来のレ
チクルステージ１または５を使用したときに比べ著しく
小さくなる。
【００１１】図２において、レチクル１１の表面 （図
の下面） １２の左端部および右端部を真空吸着するレ
チクルステージ２１は、該左端部， 右端部が対向する
突部２２を設け、各突部２２には１〜２ｍｍ程度の幅ｄ
で格子形状の上面２３が残るように、アライメントマー
ク２が形成された石英板３を固着する凹所２４と、複数
の吸気孔２５を設ける。 凹所２４の深さは、植設した石英板３の上面が上面２３
より１ｍｍ以下の深さとなるように設定する。ステージ
２１より導出する吸気管１９は、各吸気孔２５または各
吸気孔２５と凹所２４とに接続する。かかるステージ２
１に搭載したレチクル１１の表面１２は、一対の格子状
上面２３と接触する。従って、表面１２と上面２３との
接触面積は、従来のレチクルステージ１または５を使用
したときに比べ著しく小さくなる。
の下面） １２の左端部および右端部を真空吸着するレ
チクルステージ２１は、該左端部， 右端部が対向する
突部２２を設け、各突部２２には１〜２ｍｍ程度の幅ｄ
で格子形状の上面２３が残るように、アライメントマー
ク２が形成された石英板３を固着する凹所２４と、複数
の吸気孔２５を設ける。 凹所２４の深さは、植設した石英板３の上面が上面２３
より１ｍｍ以下の深さとなるように設定する。ステージ
２１より導出する吸気管１９は、各吸気孔２５または各
吸気孔２５と凹所２４とに接続する。かかるステージ２
１に搭載したレチクル１１の表面１２は、一対の格子状
上面２３と接触する。従って、表面１２と上面２３との
接触面積は、従来のレチクルステージ１または５を使用
したときに比べ著しく小さくなる。
【００１２】図３において、レチクル１１の表面 （図
の下面） １２の左端部および右端部を真空吸着するレ
チクルステージ２６は、該左端部， 右端部が対向する
突部２７を設け、各突部２７には１〜２ｍｍ程度の幅ｄ
で角形の外縁部上面２８が残るように、例えば深さ１ｍ
ｍ以下の吸気孔２９を形成する。吸気孔２９の中央部に
は、アライメントマーク２が形成された石英板３を植設
し、ステージ２６より導出する吸気管１９は吸気孔２９
に接続する。かかるステージ２６に搭載したレチクル１
１の表面１２は、一対の上面２８と接触する。従って、
表面１２と上面２８との接触面積は、従来のレチクルス
テージ１または５を使用したときに比べ著しく小さくな
る。
の下面） １２の左端部および右端部を真空吸着するレ
チクルステージ２６は、該左端部， 右端部が対向する
突部２７を設け、各突部２７には１〜２ｍｍ程度の幅ｄ
で角形の外縁部上面２８が残るように、例えば深さ１ｍ
ｍ以下の吸気孔２９を形成する。吸気孔２９の中央部に
は、アライメントマーク２が形成された石英板３を植設
し、ステージ２６より導出する吸気管１９は吸気孔２９
に接続する。かかるステージ２６に搭載したレチクル１
１の表面１２は、一対の上面２８と接触する。従って、
表面１２と上面２８との接触面積は、従来のレチクルス
テージ１または５を使用したときに比べ著しく小さくな
る。
【００１３】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、レ
チクルアライメントに際して微調整が容易であり、アラ
イメント作業の効率が向上するのみならず、該効率向上
に付随して、レチクルの傷付けたり汚染することが約８
０％減少し、不良率を大きく低減した効果が得られた。
チクルアライメントに際して微調整が容易であり、アラ
イメント作業の効率が向上するのみならず、該効率向上
に付随して、レチクルの傷付けたり汚染することが約８
０％減少し、不良率を大きく低減した効果が得られた。
【図１】 本発明の第１の実施例によるレチクルステ
ージの説明図である。
ージの説明図である。
【図２】 本発明の第２の実施例によるレチクルステ
ージの説明図である。
ージの説明図である。
【図３】 本発明の第３の実施例によるレチクルステ
ージの説明図である。
ージの説明図である。
【図４】 従来のレチクルステージの説明図である。
１１はレチクル
１２はレチクル表面
１５，２１，２６はレチクルステージ
１６，２２，２７は突部
１７，２３，２８は突部上面
Claims (3)
- 【請求項１】 マスクパターンが形成されたレチクル
表面（１２）の四隅が接触する４個所に突部（１６）を
設け、同一平面内に形成された該突部（１６）の各上面
（１７）に、レチクル吸着用吸気孔（１８）が開口する
ことを特徴とするレチクルステージ。 - 【請求項２】 マスクパターンが形成されたレチクル
表面（１２）の一方の対向端部がそれぞれ全長に渡って
接触する一対の突部（２２）を設け、同一平面内に形成
された該突部（２２）の各上面（２３）に複数のレチク
ル吸着用吸気孔（２５）が開口し、該複数の開口が方形
であることを特徴とするレチクルステージ。 - 【請求項３】 マスクパターンが形成されたレチクル
表面（１２）の一方の対向端部がそれぞれ全長に渡って
接触する一対の突部（２７）を設け、同一平面内に形成
された該突部（２７）の各上面（２８）に、該上面（２
８）の外縁部を残すレチクル吸着用吸気孔（２９）が開
口することを特徴とするレチクルステージ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3052935A JPH04289864A (ja) | 1991-03-19 | 1991-03-19 | レチクルステージ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3052935A JPH04289864A (ja) | 1991-03-19 | 1991-03-19 | レチクルステージ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04289864A true JPH04289864A (ja) | 1992-10-14 |
Family
ID=12928720
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3052935A Withdrawn JPH04289864A (ja) | 1991-03-19 | 1991-03-19 | レチクルステージ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04289864A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0714649U (ja) * | 1993-08-12 | 1995-03-10 | 東洋電機製造株式会社 | 真空吸着チャック |
| WO2002065519A1 (fr) * | 2001-02-13 | 2002-08-22 | Nikon Corporation | Dispositif de support, procede de support, dispositif d'exposition et procede de production des dispositifs |
| JP2003131387A (ja) * | 2001-10-22 | 2003-05-09 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | マスクと露光対象基板との搬送に兼用できる搬送アーム及びそれを備えた露光装置 |
-
1991
- 1991-03-19 JP JP3052935A patent/JPH04289864A/ja not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0714649U (ja) * | 1993-08-12 | 1995-03-10 | 東洋電機製造株式会社 | 真空吸着チャック |
| WO2002065519A1 (fr) * | 2001-02-13 | 2002-08-22 | Nikon Corporation | Dispositif de support, procede de support, dispositif d'exposition et procede de production des dispositifs |
| JPWO2002065519A1 (ja) * | 2001-02-13 | 2004-06-17 | 株式会社ニコン | 保持装置、保持方法、露光装置、およびデバイス製造方法 |
| US7081946B2 (en) | 2001-02-13 | 2006-07-25 | Nikon Corporation | Holding apparatus, holding method, exposure apparatus and device manufacturing method |
| KR100855527B1 (ko) * | 2001-02-13 | 2008-09-01 | 가부시키가이샤 니콘 | 유지장치, 유지방법, 노광장치 및 디바이스 제조방법 |
| JP2003131387A (ja) * | 2001-10-22 | 2003-05-09 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | マスクと露光対象基板との搬送に兼用できる搬送アーム及びそれを備えた露光装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19980514 |