JPH06325996A - レティクルフレーム - Google Patents

レティクルフレーム

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JPH06325996A
JPH06325996A JP11021793A JP11021793A JPH06325996A JP H06325996 A JPH06325996 A JP H06325996A JP 11021793 A JP11021793 A JP 11021793A JP 11021793 A JP11021793 A JP 11021793A JP H06325996 A JPH06325996 A JP H06325996A
Authority
JP
Japan
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reticle
frame
size
alignment
receiver
Prior art date
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Pending
Application number
JP11021793A
Other languages
English (en)
Inventor
Toru Shudo
亨 首藤
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Publication of JPH06325996A publication Critical patent/JPH06325996A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】レティクルのサイズのちがうレティクルも使用
できるように共用化を図り、既存のレティクルを活かし
て使用することを目的とする。 【構成】露光領域の開口部7をくり抜いたレティクル受
け3に、レティクルを接着剤により接着させる。レティ
クルアライメント用十字マーク2a,2bを有するレテ
ィクルフレーム2とレティクル受け3を挾み込むように
押え金具4と受け金具で取付ネジにより取付固定する。 【効果】レティクルのサイズが異なってもレティクルフ
レームを使用することにより装置のレティクルサイズを
変えなくても対応することができる。このため、既存の
レティクルをそのまま使用することができるので原価低
減の効果がある。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、縮小投影露光装置に係
り、特に、半導体素子製造用のレティクルフレームに関
する。
【0002】
【従来の技術】従来のレティクルフレームは、レティク
ルフレームの外周を3点ピン等で位置決めし、3点ピン
基準でレティクルをレティクルフレームに真空吸着させ
ていた。このため、レティクルを露光装置に装着する際
は、真空チューブをひきずりながら装着することにな
り、レティクルを自動搬送することができなかった。
【0003】また、レティクルフレームレスの場合(現
在ではこれが主流である。)レティクルサイズにあわせ
た専用の露光装置で対応していた。このため既存のサイ
ズのレティクルを使用しようとしても使用できず、新規
にレティクルを製作し、対応していた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術は、レテ
ィクルのサイズが変わると露光装置自体もレティクルサ
イズに対応した専用の露光装置となっていた。このため
顧客の既存のプロセスのレティクルを使用することがで
きず、同パターンのレティクルもサイズに合わせ新規に
製作していた。
【0005】本発明の目的はレティクルサイズの共用化
によるプロセス上の原価低減を目的としており、更に、
露光装置のレティクルサイズの対応力の向上を目的とす
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
にレティクルを受ける構造を持つレティクルフレームで
構成することにより、レティクルのサイズの違いをレテ
イクルフレームが吸収するようにしたものである。
【0007】また、レティクルとレティクルフレームの
位置合わせは、レティクルフレームにアライメント用の
十字マークをつけることにより、レティクルのアライメ
ントマークとレティクルフレームのアライメントマーク
を別置きのアライメントマーク合わせ装置により、予め
位置合わせすることによりレティクルサイズの共用化を
図ったものである。
【0008】
【作用】レティクルを乗せるレティクルフレームはレテ
ィクルアライメント用の十字マークを有し、レティクル
受けとの2ピース構造により、レティクルフレームのア
ライメントマークとレティクルのパターン面は同一面上
となる。レティクルのアライメントマークとレティクル
フレームのアライメントマークは、機外のアライメント
装置により予め位置合わせを行いマーク間のずれを取り
除いておく。露光装置は、レティクルフレームのアライ
メントマークを基準にレティクルアライメントを行うこ
とにより、サイズの異なるレティクルをアライメントし
たのと同じ効果が得られる。
【0009】このことから、レティクルサイズの異なる
レティクルもレティクルフレームのアライメントマーク
との合せにより使用することが可能となり、レテイクル
サイズの対応も良好となる。
【0010】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図1,図2により
説明する。露光領域の開口部7をくり抜いたレティクル
受け3に、レティクル1を接着剤8により接着させる。
レティクルアライメント用十字マーク2a,2bを有す
るレティクルフレーム2とレティクル受け3を挾み込む
ように押え金具4と受け金具5で取付ネジ6により取付
固定する構造を持つ。レティクル1のパターン面とレテ
ィクルフレーム2のアライメントマーク2a,2bは、
レティクル受け3の同一面上となり高さ方向のずれがな
くなる。レティクル1のアライメントマークとレティク
ルフレーム2のアライメントマーク2a,2bは、光学
顕微鏡を用いた別置きアライメント装置によりマーク同
志の位置決めを行い取付ネジ6で固定する。
【0011】本実施例によればレティクルのサイズが小
さい場合において、露光装置およびレティクルサイズに
関係するプロセスにおいても、新規のレティクルを作成
しなくても既存のレティクルを使用することができるた
め、原価低減の効果がある。
【0012】
【発明の効果】本発明によれば、レティクルのサイズが
異なってもレティクルフレームを使用することにより装
置のレティクルサイズを変えなくても対応することがで
きる。このため、既存のレティクルをそのまま使用する
ことができるので原価低減の効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本実施例のレティクルフレームの斜視図であ
る。
【図2】本実施例のレティクルフレームの断面図であ
る。
【符号の説明】
1…レティクル、2…レティクルフレーム、2a,2b
…レティクルアライメントマーク、3…レティクル受
け、4…押え金具、5…受け金具、6…取付ネジ、7…
露光領域の開口部、8…接着剤。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】レティクルを使用し、レティクルのパター
    ンをウェハに露光する装置において、レティクルサイズ
    の共用化を図るために、レティクルフレームを構成し、
    前記レティクルフレームにレティクルアライメント用十
    字マークを有したことを特徴とするレティクルフレー
    ム。
  2. 【請求項2】請求項1において、前記レティクルフレー
    ムの材質が、ガラス系の材質であることを特徴とするレ
    ティクルフレーム。
JP11021793A 1993-05-12 1993-05-12 レティクルフレーム Pending JPH06325996A (ja)

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JP11021793A JPH06325996A (ja) 1993-05-12 1993-05-12 レティクルフレーム

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JP11021793A JPH06325996A (ja) 1993-05-12 1993-05-12 レティクルフレーム

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JPH06325996A true JPH06325996A (ja) 1994-11-25

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JP11021793A Pending JPH06325996A (ja) 1993-05-12 1993-05-12 レティクルフレーム

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