JPH06325996A - レティクルフレーム - Google Patents
レティクルフレームInfo
- Publication number
- JPH06325996A JPH06325996A JP11021793A JP11021793A JPH06325996A JP H06325996 A JPH06325996 A JP H06325996A JP 11021793 A JP11021793 A JP 11021793A JP 11021793 A JP11021793 A JP 11021793A JP H06325996 A JPH06325996 A JP H06325996A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reticle
- frame
- size
- alignment
- receiver
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】レティクルのサイズのちがうレティクルも使用
できるように共用化を図り、既存のレティクルを活かし
て使用することを目的とする。 【構成】露光領域の開口部7をくり抜いたレティクル受
け3に、レティクルを接着剤により接着させる。レティ
クルアライメント用十字マーク2a,2bを有するレテ
ィクルフレーム2とレティクル受け3を挾み込むように
押え金具4と受け金具で取付ネジにより取付固定する。 【効果】レティクルのサイズが異なってもレティクルフ
レームを使用することにより装置のレティクルサイズを
変えなくても対応することができる。このため、既存の
レティクルをそのまま使用することができるので原価低
減の効果がある。
できるように共用化を図り、既存のレティクルを活かし
て使用することを目的とする。 【構成】露光領域の開口部7をくり抜いたレティクル受
け3に、レティクルを接着剤により接着させる。レティ
クルアライメント用十字マーク2a,2bを有するレテ
ィクルフレーム2とレティクル受け3を挾み込むように
押え金具4と受け金具で取付ネジにより取付固定する。 【効果】レティクルのサイズが異なってもレティクルフ
レームを使用することにより装置のレティクルサイズを
変えなくても対応することができる。このため、既存の
レティクルをそのまま使用することができるので原価低
減の効果がある。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、縮小投影露光装置に係
り、特に、半導体素子製造用のレティクルフレームに関
する。
り、特に、半導体素子製造用のレティクルフレームに関
する。
【0002】
【従来の技術】従来のレティクルフレームは、レティク
ルフレームの外周を3点ピン等で位置決めし、3点ピン
基準でレティクルをレティクルフレームに真空吸着させ
ていた。このため、レティクルを露光装置に装着する際
は、真空チューブをひきずりながら装着することにな
り、レティクルを自動搬送することができなかった。
ルフレームの外周を3点ピン等で位置決めし、3点ピン
基準でレティクルをレティクルフレームに真空吸着させ
ていた。このため、レティクルを露光装置に装着する際
は、真空チューブをひきずりながら装着することにな
り、レティクルを自動搬送することができなかった。
【0003】また、レティクルフレームレスの場合(現
在ではこれが主流である。)レティクルサイズにあわせ
た専用の露光装置で対応していた。このため既存のサイ
ズのレティクルを使用しようとしても使用できず、新規
にレティクルを製作し、対応していた。
在ではこれが主流である。)レティクルサイズにあわせ
た専用の露光装置で対応していた。このため既存のサイ
ズのレティクルを使用しようとしても使用できず、新規
にレティクルを製作し、対応していた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術は、レテ
ィクルのサイズが変わると露光装置自体もレティクルサ
イズに対応した専用の露光装置となっていた。このため
顧客の既存のプロセスのレティクルを使用することがで
きず、同パターンのレティクルもサイズに合わせ新規に
製作していた。
ィクルのサイズが変わると露光装置自体もレティクルサ
イズに対応した専用の露光装置となっていた。このため
顧客の既存のプロセスのレティクルを使用することがで
きず、同パターンのレティクルもサイズに合わせ新規に
製作していた。
【0005】本発明の目的はレティクルサイズの共用化
によるプロセス上の原価低減を目的としており、更に、
露光装置のレティクルサイズの対応力の向上を目的とす
る。
によるプロセス上の原価低減を目的としており、更に、
露光装置のレティクルサイズの対応力の向上を目的とす
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
にレティクルを受ける構造を持つレティクルフレームで
構成することにより、レティクルのサイズの違いをレテ
イクルフレームが吸収するようにしたものである。
にレティクルを受ける構造を持つレティクルフレームで
構成することにより、レティクルのサイズの違いをレテ
イクルフレームが吸収するようにしたものである。
【0007】また、レティクルとレティクルフレームの
位置合わせは、レティクルフレームにアライメント用の
十字マークをつけることにより、レティクルのアライメ
ントマークとレティクルフレームのアライメントマーク
を別置きのアライメントマーク合わせ装置により、予め
位置合わせすることによりレティクルサイズの共用化を
図ったものである。
位置合わせは、レティクルフレームにアライメント用の
十字マークをつけることにより、レティクルのアライメ
ントマークとレティクルフレームのアライメントマーク
を別置きのアライメントマーク合わせ装置により、予め
位置合わせすることによりレティクルサイズの共用化を
図ったものである。
【0008】
【作用】レティクルを乗せるレティクルフレームはレテ
ィクルアライメント用の十字マークを有し、レティクル
受けとの2ピース構造により、レティクルフレームのア
ライメントマークとレティクルのパターン面は同一面上
となる。レティクルのアライメントマークとレティクル
フレームのアライメントマークは、機外のアライメント
装置により予め位置合わせを行いマーク間のずれを取り
除いておく。露光装置は、レティクルフレームのアライ
メントマークを基準にレティクルアライメントを行うこ
とにより、サイズの異なるレティクルをアライメントし
たのと同じ効果が得られる。
ィクルアライメント用の十字マークを有し、レティクル
受けとの2ピース構造により、レティクルフレームのア
ライメントマークとレティクルのパターン面は同一面上
となる。レティクルのアライメントマークとレティクル
フレームのアライメントマークは、機外のアライメント
装置により予め位置合わせを行いマーク間のずれを取り
除いておく。露光装置は、レティクルフレームのアライ
メントマークを基準にレティクルアライメントを行うこ
とにより、サイズの異なるレティクルをアライメントし
たのと同じ効果が得られる。
【0009】このことから、レティクルサイズの異なる
レティクルもレティクルフレームのアライメントマーク
との合せにより使用することが可能となり、レテイクル
サイズの対応も良好となる。
レティクルもレティクルフレームのアライメントマーク
との合せにより使用することが可能となり、レテイクル
サイズの対応も良好となる。
【0010】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図1,図2により
説明する。露光領域の開口部7をくり抜いたレティクル
受け3に、レティクル1を接着剤8により接着させる。
レティクルアライメント用十字マーク2a,2bを有す
るレティクルフレーム2とレティクル受け3を挾み込む
ように押え金具4と受け金具5で取付ネジ6により取付
固定する構造を持つ。レティクル1のパターン面とレテ
ィクルフレーム2のアライメントマーク2a,2bは、
レティクル受け3の同一面上となり高さ方向のずれがな
くなる。レティクル1のアライメントマークとレティク
ルフレーム2のアライメントマーク2a,2bは、光学
顕微鏡を用いた別置きアライメント装置によりマーク同
志の位置決めを行い取付ネジ6で固定する。
説明する。露光領域の開口部7をくり抜いたレティクル
受け3に、レティクル1を接着剤8により接着させる。
レティクルアライメント用十字マーク2a,2bを有す
るレティクルフレーム2とレティクル受け3を挾み込む
ように押え金具4と受け金具5で取付ネジ6により取付
固定する構造を持つ。レティクル1のパターン面とレテ
ィクルフレーム2のアライメントマーク2a,2bは、
レティクル受け3の同一面上となり高さ方向のずれがな
くなる。レティクル1のアライメントマークとレティク
ルフレーム2のアライメントマーク2a,2bは、光学
顕微鏡を用いた別置きアライメント装置によりマーク同
志の位置決めを行い取付ネジ6で固定する。
【0011】本実施例によればレティクルのサイズが小
さい場合において、露光装置およびレティクルサイズに
関係するプロセスにおいても、新規のレティクルを作成
しなくても既存のレティクルを使用することができるた
め、原価低減の効果がある。
さい場合において、露光装置およびレティクルサイズに
関係するプロセスにおいても、新規のレティクルを作成
しなくても既存のレティクルを使用することができるた
め、原価低減の効果がある。
【0012】
【発明の効果】本発明によれば、レティクルのサイズが
異なってもレティクルフレームを使用することにより装
置のレティクルサイズを変えなくても対応することがで
きる。このため、既存のレティクルをそのまま使用する
ことができるので原価低減の効果がある。
異なってもレティクルフレームを使用することにより装
置のレティクルサイズを変えなくても対応することがで
きる。このため、既存のレティクルをそのまま使用する
ことができるので原価低減の効果がある。
【図1】本実施例のレティクルフレームの斜視図であ
る。
る。
【図2】本実施例のレティクルフレームの断面図であ
る。
る。
1…レティクル、2…レティクルフレーム、2a,2b
…レティクルアライメントマーク、3…レティクル受
け、4…押え金具、5…受け金具、6…取付ネジ、7…
露光領域の開口部、8…接着剤。
…レティクルアライメントマーク、3…レティクル受
け、4…押え金具、5…受け金具、6…取付ネジ、7…
露光領域の開口部、8…接着剤。
Claims (2)
- 【請求項1】レティクルを使用し、レティクルのパター
ンをウェハに露光する装置において、レティクルサイズ
の共用化を図るために、レティクルフレームを構成し、
前記レティクルフレームにレティクルアライメント用十
字マークを有したことを特徴とするレティクルフレー
ム。 - 【請求項2】請求項1において、前記レティクルフレー
ムの材質が、ガラス系の材質であることを特徴とするレ
ティクルフレーム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11021793A JPH06325996A (ja) | 1993-05-12 | 1993-05-12 | レティクルフレーム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11021793A JPH06325996A (ja) | 1993-05-12 | 1993-05-12 | レティクルフレーム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06325996A true JPH06325996A (ja) | 1994-11-25 |
Family
ID=14530048
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11021793A Pending JPH06325996A (ja) | 1993-05-12 | 1993-05-12 | レティクルフレーム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06325996A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1308788A2 (de) * | 2001-11-02 | 2003-05-07 | SUSS MicroTec Lithography GmbH | Vorrichtung zum Ausrichten von Masken in der Fotolithographie |
AT413305B (de) * | 2003-01-31 | 2006-01-15 | Suess Microtec Lithography | Verfahren und vorrichtung zum ausrichten eines justier-mikroskops mittels verspiegelter justiermaske |
JP2007164047A (ja) * | 2005-12-16 | 2007-06-28 | Advanced Color Tec Kk | フォトマスク |
KR100796343B1 (ko) * | 2006-03-27 | 2008-01-21 | 권선용 | 펠리클 프레임용 내경 고정지그 |
JP2008113046A (ja) * | 2003-10-27 | 2008-05-15 | Asml Netherlands Bv | レチクルホルダおよびレチクルのアセンブリ |
US7839489B2 (en) | 2003-10-27 | 2010-11-23 | Asml Netherlands B.V. | Assembly of a reticle holder and a reticle |
WO2020162396A1 (ja) * | 2019-02-06 | 2020-08-13 | 株式会社ニコン | マスクアダプタ、マスクアダプタ取付工具、露光装置、およびデバイス製造方法 |
-
1993
- 1993-05-12 JP JP11021793A patent/JPH06325996A/ja active Pending
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1308788A2 (de) * | 2001-11-02 | 2003-05-07 | SUSS MicroTec Lithography GmbH | Vorrichtung zum Ausrichten von Masken in der Fotolithographie |
DE10153851A1 (de) * | 2001-11-02 | 2003-05-22 | Suss Microtec Lithography Gmbh | Vorrichtung zum Ausrichten von Masken in der Fotolithographie |
EP1308788A3 (de) * | 2001-11-02 | 2004-04-28 | SUSS MicroTec Lithography GmbH | Vorrichtung zum Ausrichten von Masken in der Fotolithographie |
US6891602B2 (en) | 2001-11-02 | 2005-05-10 | Süss Micro Tec Lithography GmbH | Device for aligning masks in photolithography |
DE10153851B4 (de) * | 2001-11-02 | 2006-11-16 | Suss Microtec Lithography Gmbh | Vorrichtung zum Ausrichten von Masken in der Fotolithographie |
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WO2020162396A1 (ja) * | 2019-02-06 | 2020-08-13 | 株式会社ニコン | マスクアダプタ、マスクアダプタ取付工具、露光装置、およびデバイス製造方法 |
CN113330370A (zh) * | 2019-02-06 | 2021-08-31 | 株式会社尼康 | 掩模配接器、掩模配接器安装工具、曝光装置以及元件制造方法 |
JPWO2020162396A1 (ja) * | 2019-02-06 | 2021-12-02 | 株式会社ニコン | マスクアダプタ、マスクアダプタ取付工具、露光装置、およびデバイス製造方法 |
TWI833889B (zh) * | 2019-02-06 | 2024-03-01 | 日商尼康股份有限公司 | 遮罩配接器、遮罩配接器安裝工具、曝光裝置以及元件製造方法 |
CN113330370B (zh) * | 2019-02-06 | 2024-04-09 | 株式会社尼康 | 掩模配接器、其安装工具、曝光装置以及元件制造方法 |
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