WO2020162396A1

WO2020162396A1 - マスクアダプタ、マスクアダプタ取付工具、露光装置、およびデバイス製造方法

Info

Publication number: WO2020162396A1
Application number: PCT/JP2020/003936
Authority: WO
Inventors: 弘樹小宮山; 澄夫八田; 智和長野; 瀬名寺西; 博圭浅海; 高橋　大輔; 智之大川
Original assignee: 株式会社ニコン
Priority date: 2019-02-06
Filing date: 2020-02-03
Publication date: 2020-08-13
Also published as: JPWO2020162396A1; KR20210122240A; CN113330370B; CN113330370A; TWI833889B; TW202102945A; CN118068658A

Abstract

本発明のマスクアダプタの一つの態様は、ステージに支持されたマスクを照明し、前記マスクに形成されたパターンを基板上に露光する露光装置で使用され、前記マスクに取り付けられるマスクアダプタであって、前記パターンが形成された領域外で前記マスクを支持する支持部と、前記ステージに支持される被支持部と、を有する本体部と、前記本体部上であって、前記露光装置の検出部によって検出可能な第１被検出部と、を備え、前記第１被検出部は、前記マスクアダプタに関する情報を含む。

Description

マスクアダプタ、マスクアダプタ取付工具、露光装置、およびデバイス製造方法

　本発明は、マスクアダプタ、マスクアダプタ取付工具、露光装置、およびデバイス製造方法に関する。
　本願は、２０１９年２月６日に出願された日本国特願２０１９－０２０１６７号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。

　例えば、特許文献１には、露光装置で使用される露光マスクに取り付けられるマスク保持部材が記載されている。このようなマスク保持部材を取り付けた状態において露光マスクを使用する際、露光装置の露光精度を向上させることが課題となっていた。

特開平１１－２８８０９９号公報

　前記マスクアダプタに関する情報は、前記露光において、前記マスクが取り付けられた前記マスクアダプタを支持する前記ステージの移動を制御するための制御情報を含む構成としてもよい。

　前記マスクアダプタに関する情報は、前記マスクアダプタの剛性を含む構成としてもよい。

　前記第１被検出部は、バーコードである構成としてもよい。

　本発明のマスクアダプタの一つの態様は、ステージに支持されたマスクを照明し、前記マスクに形成されたパターンを基板上に露光する露光装置で使用され、前記マスクに取り付けられるマスクアダプタであって、前記マスクのうち前記パターンが形成された領域外に取り付けられる取付け部と、前記ステージに支持される被支持部と、を有する本体部と、前記本体部上であって、前記露光装置の検出部によって検出可能な第２被検出部と、を備え、前記第２被検出部は、前記マスクアダプタに取り付けられた前記マスクに関する情報を含む。

　前記本体部上であって、前記露光装置の検出部によって検出可能な第２被検出部を備え、前記第２被検出部は、前記マスクアダプタに取り付けられた前記マスクに関する情報を含む構成としてもよい。

　前記第１被検出部と前記第２被検出部とは、隣り合って配置されている構成としてもよい。

　前記マスクに関する情報は、前記マスクの平面度、前記マスクに形成されたパターンの種類、前記マスクの寸法誤差、前記マスクの重量誤差、前記マスクに形成されたパターンの描画誤差のうち少なくとも１つを含む構成としてもよい。

　前記第２被検出部を変更可能に表示する表示部を備える構成としてもよい。

　前記表示部は、前記マスクが有する前記マスクに関する情報を、表示する構成としてもよい。

　前記第２被検出部は、電子バーコードである構成としてもよい。

　前記表示部は、前記マスクアダプタに前記マスクとは異なる別のマスクが取り付けられると、前記別のマスクの前記マスクに関する情報を表示する構成としてもよい。

　本発明のマスクアダプタの一つの態様は、ステージに支持されたマスクを照明し、前記マスクに形成されたパターンを基板上に露光する露光装置で使用され、前記マスクに取り付けられるマスクアダプタであって、前記マスクのうち前記パターンが形成された領域外に取り付けられる取付け部と、前記ステージに支持される被支持部と、を有する本体部と、前記マスクが取り付けられた前記マスクアダプタと前記マスクとは異なる別のマスクとをそれぞれ搬送可能な搬送装置により、前記マスクが取り付けられた前記マスクアダプタが前記ステージへ搬送されたことを、前記露光装置が第１センサを使って認識するための第１被認識部と、を備える。

　前記マスクが取り付けられた前記マスクアダプタと前記別のマスクとをそれぞれ搬送可能な搬送装置により、前記マスクが取り付けられた前記マスクアダプタが前記ステージへ搬送されたことを、前記露光装置が第１センサを使って認識するための第１被認識部をさらに備える構成としてもよい。

　前記第１被認識部は、前記本体部上に設けられ、前記第１センサから射出された光を反射する反射部を備え、前記反射部は、前記第１センサから射出された光を前記第１センサが位置する方向とは異なる方向に反射する構成としてもよい。

　前記第１被認識部は、前記第１センサから射出された光が通過する第１通過部を有する構成としてもよい。

　前記第１被認識部は、前記露光装置の前記搬送装置に設けられた前記第１センサによって検出される構成としてもよい。

　本発明のマスクアダプタの一つの態様は、ステージに支持されたマスクを照明し、前記マスクに形成されたパターンを基板上に露光する露光装置で使用され、前記マスクに取り付けられるマスクアダプタであって、前記マスクのうち前記パターンが形成された領域外に取り付けられる取付け部と、前記ステージに支持される被支持部と、を有する本体部と、前記マスクが取り付けられた前記マスクアダプタと前記マスクとは異なる別のマスクとをそれぞれ支持可能な前記ステージに、前記マスクアダプタが支持されたことを前記露光装置が第２センサを使って認識するための第２被認識部と、を備える。

　前記マスクが取り付けられた前記マスクアダプタと前記別のマスクとをそれぞれ支持可能な前記ステージに、前記マスクアダプタが支持されたことを前記露光装置が第２センサを使って認識するための第２被認識部を備える構成としてもよい。

　前記第２被認識部は、前記第２センサから射出された光が通過する第２通過部を有する構成としてもよい。

　前記第２通過部は、前記本体部に設けられた貫通孔である構成としてもよい。

　前記第２被認識部は、前記ステージに設けられている前記第２センサにより検出される構成としてもよい。

　前記本体部は、前記マスクの周囲を囲む枠状の形状を有する構成としてもよい。

　本発明の露光装置の一つの態様は、上記のマスクアダプタに取り付けられた前記マスクを照明する照明光学系と、前記照明光学系により照明された前記マスクのパターンを前記基板上に投影する投影光学系と、を備える。

　本発明のデバイス製造方法の一つの態様は、上記の露光装置で基板を露光処理することと、露光された前記基板を現像処理することと、を含む。

　本発明のデバイス製造方法の一つの態様は、上記のマスクアダプタに取り付けられたマスクを照明することと、照明された前記マスクのパターンの像を基板上に投影することにより、前記基板を露光することと、露光された前記基板を現像処理することと、を含む。

　本発明のマスクアダプタ取付工具の一つの態様は、上記の前記マスクアダプタに前記マスクを取り付ける。

　本発明のマスクアダプタ取付工具の一つの態様は、マスク上に形成されたパターンを基板上に露光する露光装置で使用されるマスクアダプタに前記マスクを取り付けるマスクアダプタ取付工具であって、前記マスクアダプタに取り付けられる前記マスクに関する情報を含む第２被検出部を、前記マスクアダプタに設けられた表示部に表示させる書き込み部を備える。

　前記マスクに設けられた前記マスクに関する情報を含む第３被検出部を検出する第２検出部を備え、前記書き込み部は、前記第２検出部によって前記第３被検出部から検出した情報に基づいて、前記表示部に前記第２被検出部を表示させる構成としてもよい。

　前記マスクを前記マスクアダプタから取り外す工具でもあり、前記マスクが前記マスクアダプタから取り外されたことを検出する取り外し検出部を備え、前記書き込み部は、前記取り外し検出部によって前記マスクが前記マスクアダプタから取り外されたことを検出すると、前記表示部の表示を消去する構成としてもよい。

　前記マスクに設けられた前記マスクに関する情報を含む第３被検出部を検出する第２検出部を備える構成としてもよい。

　本発明のマスクアダプタ取付工具の一つの態様は、マスク上に形成されたパターンを基板上に露光する露光装置で使用されるマスクアダプタに前記マスクを取り付けるマスクアダプタ取付工具であって、前記マスクに設けられた前記マスクに関する情報を含む第３被検出部を検出する第２検出部を備える。

　前記マスクを、前記マスクアダプタに対して上下方向に移動させる昇降装置を備え、前記昇降装置は、前記マスクアダプタの上方に位置する前記マスクを下降させ、前記マスクアダプタへ配置させる構成としてもよい。

　前記昇降装置は、平面視において前記マスクの周囲を囲む枠状を有する前記マスクアダプタへ、前記マスクを配置させる構成としてもよい。

　本発明の露光装置の一つの態様は、上記のマスクアダプタ取付工具により、前記マスクアダプタに取り付けられた前記マスクを照明する照明光学系と、前記照明光学系により照明された前記マスクのパターンを前記基板上に投影する投影光学系と、を備える。

　本発明のデバイス製造方法の一つの態様は、上記のマスクアダプタ取付工具を用いて、マスクアダプタにマスクを取り付けることと、前記マスクアダプタに取り付けられた前記マスクを照明することと、照明された前記マスクのパターンの像を基板上に投影することにより、前記基板を露光することと、露光された前記基板を現像処理することと、を含む。

図１は、本実施形態の露光装置を示す概略構成図である。図２は、本実施形態のマスクケースを示す斜視図である。図３Ａは、本実施形態のマスクアダプタがマスクに取り付けられたマスクアセンブリを上側から視た平面図である。図３Ｂは、本実施形態の露光装置において単体で扱われるマスクを上側から視た平面図である。図４は、本実施形態のマスクアダプタの一部を示す斜視図である。図５は、本実施形態のマスクアダプタの一部を上側から視た平面図である。図６は、本実施形態のマスクアダプタ取付工具を示す斜視図である。図７は、本実施形態のマスクアダプタ取付工具を上側から視た平面図である。図８は、本実施形態のマスクアダプタ取付工具を示す断面図であって、図７におけるVIII－VIII断面図である。図９は、本実施形態のマスクアダプタが取り付けられたマスクを使用して、露光装置において基板を露光する手順の一部を示す平面図である。図１０は、本実施形態のマスクアセンブリが配置された状態のマスクステージを上側から視た平面図である。図１１は、本実施形態のマスクアセンブリが配置された状態のマスクステージの一部を上側から視た平面図である。

　以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態に係るマスクアダプタおよびマスクアダプタ取付工具について説明する。
　なお、本発明の範囲は、以下の実施の形態に限定されず、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。また、以下の図面においては、各構成をわかりやすくするために、各構造における縮尺および数等を、実際の構造における縮尺および数等と異ならせる場合がある。

　また、各図において適宜示すＺ軸方向は、正の側を上側とし、負の側を下側とする上下方向である。Ｘ軸方向およびＹ軸方向は、上下方向（Ｚ軸方向）と直交する方向であって、互いに直交する水平方向である。以下の説明においては、Ｚ軸方向と平行な方向を「上下方向Ｚ」と呼び、Ｘ軸方向と平行な方向を「第１方向Ｘ」と呼び、Ｙ軸方向と平行な方向を「第２方向Ｙ」と呼ぶ。また、第１方向Ｘのうち正の側（＋Ｘ側）を「第１方向Ｘの一方側」と呼び、負の側（－Ｘ側）を「第１方向Ｘの他方側」と呼ぶ。また、第２方向Ｙのうち正の側（＋Ｙ側）を「第２方向Ｙの一方側」と呼び、負の側（－Ｙ側）を「第２方向Ｙの他方側」と呼ぶ。本実施形態の説明において第１方向Ｘおよび第２方向Ｙは、マスクアダプタおよびマスクを基準とする水平方向である。上下方向Ｚ（Ｚ軸方向）回りの回転（傾斜）方向をθｚ方向として説明を行う。

　図１は、本実施形態の露光装置ＥＸを示す概略構成図である。
　露光装置ＥＸは、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパターンの像を基板Ｐ上に投影することによって基板Ｐを露光する装置である。本実施形態の露光装置ＥＸによって露光される基板Ｐは、例えば、フラットパネルディスプレイ用の基板である。露光装置ＥＸは、図１に示すように、露光部ＥＰと、マスクライブラリＬＢと、搬送装置Ｈ１，Ｈ２と、チャンバＣＨと、制御装置ＣＯＮＴと、を備える。

　露光部ＥＰは、マスクＭのパターンを基板Ｐに露光する部分である。露光部ＥＰは、マスクステージ（ステージ）ＭＳＴと、基板ステージＰＳＴと、照明光学系ＩＬと、投影ユニットＰＬと、を備える。露光装置ＥＸは、露光部ＥＰにおいて、マスクステージＭＳＴに支持されたマスクＭを照明し、マスクＭに形成されたパターンを基板Ｐ上に露光する。

　マスクステージＭＳＴは、マスクＭを支持する。基板ステージＰＳＴは、基板Ｐを支持する。照明光学系ＩＬは、例えば米国特許第５，７２９，３３１号明細書などに開示される照明光学系と同様に構成され、マスクステージＭＳＴに支持されているマスクＭを露光光ＥＬで照明する。露光光ＥＬとしては、例えばｉ線（波長３６５ｎｍ）、ｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）のうち少なくとも１つの波長を含む光が用いられる。また、照明光学系ＩＬで用いられる光源、および該光源から照射される露光光ＥＬの波長は、特に限定されず、例えばＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）、ＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）などの紫外光や、Ｆ_２レーザ光（波長１５７ｎｍ）などの真空紫外光であってもよい。

　投影ユニットＰＬは、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパターンの像を基板ステージＰＳＴに支持されている基板Ｐに投影露光する。投影ユニットＰＬは、例えば米国特許第６，５５２，７７５号明細書などに開示される投影光学系と同様な構成の、いわゆるマルチレンズ型の投影光学系であり、例えば正立正像を形成する両側テレセントリックな複数の投影光学系を備えている。例えば、投影ユニットＰＬに備えられた複数の投影光学系は、それぞれの投影光学系の中にフォーカス位置、シフト量、非線形補正量等を補正できる補正機構を有している。各補正機構やその補正方法は、例えば特許公報４，２１１，２７２号公報、米国特許公報６，８１１，９５３号公報等に記載されている構成および方法を採用できる。

　図示は省略するが、露光部ＥＰには、マスクステージＭＳＴを第１方向Ｘおよび第２方向Ｙに移動可能な駆動装置と、基板ステージＰＳＴを第１方向Ｘおよび第２方向Ｙに移動可能な駆動装置と、が設けられている。

　マスクライブラリＬＢは、マスクＭが収納されたマスクケースＣを保管する保管部である。マスクライブラリＬＢは、複数の収容部ＬＢａを備える。複数の収容部ＬＢａは、上下方向Ｚに沿って配置されている。各収容部ＬＢａには、それぞれマスクケースＣが収容される。収容部ＬＢａに収容されたマスクケースＣには、マスクＭが１枚ずつ個別に収納されている。マスクＭが収納されたマスクケースＣは、搬送車Ｖによって露光装置ＥＸまで運ばれ、マスクライブラリＬＢの各収容部ＬＢａに収容される。

　図２は、本実施形態のマスクケースＣを示す斜視図である。
　マスクケースＣは、図２に示すように、マスク収納部ＣＡと、取手部ＣＢと、を備える。マスク収納部ＣＡは、収納部本体ＣＡ１と、蓋部ＣＡ２と、を備える。収納部本体ＣＡ１は、上側に開口する平面視矩形状の箱状である。収納部本体ＣＡ１の内部には、マスクＭが収納される。マスクケースＣは、例えば、米国特許出願公開２０１０／０２２０３０４号明細書や国際公開第２０１６／１２１６３５号等に開示されたマスクケースと同様の構成であるとよい。

　蓋部ＣＡ２は、収納部本体ＣＡ１に着脱可能に取り付けられている。蓋部ＣＡ２は、収納部本体ＣＡ１の上側の開口を塞ぎ、収納部本体ＣＡ１の内部を密閉する。蓋部ＣＡ２の外縁部には、取手部ＣＢが設けられている。取手部ＣＢは、蓋部ＣＡ２を開閉する際に用いられる部分である。取手部ＣＢは、例えば、３つ設けられている。

　蓋部ＣＡ２の上面には、第１窓部ＣＣ１と、第２窓部ＣＣ２と、が設けられている。第１窓部ＣＣ１および第２窓部ＣＣ２は、蓋部ＣＡ２が収納部本体ＣＡ１に取り付けられた状態において、マスクケースＣの内部を視認可能とする透明な部分である。第１窓部ＣＣ１および第２窓部ＣＣ２は、例えば、透明樹脂等により形成されている。

　第１窓部ＣＣ１は、蓋部ＣＡ２の上面のうち外縁部に設けられている。第１窓部ＣＣ１を介することで、マスクケースＣ内に収納されたマスクＭまたは後述するマスクアダプタ１０に設けられた被検出部を、リーダによってマスクケースＣの外部から読み取り可能である。本実施形態においてリーダは、バーコードリーダである。

　第２窓部ＣＣ２は、蓋部ＣＡ２の上面のうち中央部に設けられている。第２窓部ＣＣ２は、例えば、４つ設けられている。第２窓部ＣＣ２を介してマスクケースＣの内部を視ることで、マスクケースＣ内にマスクＭが収納されているか否かを確認できる。

　搬送装置Ｈ１は、マスクケースＣを搬送する装置である。搬送装置Ｈ１は、図示は省略するが、マスクケースＣを上下方向Ｚおよび第２方向Ｙに移動可能なマスクケース搬送部を備える。搬送装置Ｈ１は、マスクケース搬送部によって、搬送車Ｖ上のマスクケースＣをマスクライブラリＬＢの収容部ＬＢａに収容する。また、搬送装置Ｈ１は、マスクライブラリＬＢの収容部ＬＢａに収容されたマスクケースＣを、蓋部ＣＡ２を取り外した状態で搬送装置Ｈ１の最上部まで上昇させ、マスクケースＣ内のマスクＭを搬送装置Ｈ２に受け渡す。

　搬送装置Ｈ２は、搬送装置Ｈ１の最上部に移動させられたマスクケースＣ内のマスクＭを露光部ＥＰに搬送する装置である。搬送装置Ｈ２は、図１に示すように、キャリアガイドＨ２ａと、キャリアＨ２ｂと、を備える。キャリアガイドＨ２ａは、第１方向Ｘに延びている。キャリアＨ２ｂは、マスクＭを上側から把持して保持する。キャリアＨ２ｂは、キャリアガイドＨ２ａに沿って第１方向Ｘに移動し、マスクステージＭＳＴの上側まで移動させる。キャリアＨ２ｂは、把持したマスクＭを、マスクステージＭＳＴ上に載置する。

　チャンバＣＨは、露光部ＥＰ、マスクライブラリＬＢ、および搬送装置Ｈ１，Ｈ２を内部に収容する。チャンバＣＨの内部は、所定環境に設定されている。
　制御装置ＣＯＮＴは、搬送装置Ｈ１，Ｈ２の動作等を含む露光装置ＥＸ全体の動作を制御する。制御装置ＣＯＮＴは、マスクＭがマスクステージＭＳＴに載置され、基板Ｐが基板ステージＰＳＴに載置されると、マスクＭ上のパターンを基板Ｐ上に露光（形成）するように、マスクステージＭＳＴと基板ステージＰＳＴとを、投影ユニットＰＬと照明光学系ＩＬとに対して、第１方向Ｘへ相対的に移動させる。基板Ｐを露光する際、制御装置ＣＯＮＴは、基板Ｐ上の複数のショット領域を順次露光してもよい。また、複数のショット領域が第２方向Ｙに並んで配置される場合、制御装置ＣＯＮＴは、マスクステージＭＳＴと基板ステージＰＳＴとを、投影ユニットＰＬと照明光学系ＩＬとに対して、第２方向Ｙへ相対的に移動させてもよい。

　次に、本実施形態の露光装置ＥＸで使用されるマスクＭについて説明する。図３Ａは、本実施形態のマスクアダプタ１０がマスクＭ１に取り付けられたマスクアセンブリＭＡを上側から視た平面図である。図３Ｂは、露光装置ＥＸにおいて単体で扱われるマスクＭ２を上側から視た平面図である。図４は、本実施形態のマスクアダプタ１０の一部を示す斜視図である。図５は、本実施形態のマスクアダプタ１０の一部を上側から視た平面図である。

　マスクＭは、パターンが形成されたガラス製の板状部材である。本実施形態の露光装置ＥＸで扱われるマスクＭは、図３Ａに示すようにマスクアダプタ１０が取り付けられたマスクアセンブリＭＡの状態で扱われるマスクＭ１と、図３Ｂに示すように単体で扱われるマスクＭ２と、を含む。マスクＭ１は、マスクアダプタ１０が取り付けられたマスクアセンブリＭＡの状態でマスクケースＣ内に収納され、マスクアセンブリＭＡの状態で搬送装置Ｈ２によって搬送されてマスクステージＭＳＴに配置される。一方、マスクＭ２は、単体でマスクケースＣ内に収納され、単体で搬送装置Ｈ２によって搬送されてマスクステージＭＳＴに配置される。

　図３Ａに示すように、マスクＭ１は、単体で扱われるマスクＭ２よりも小さい。マスクＭ１の第１方向Ｘの寸法と第２方向Ｙの寸法は、マスクＭ２の第１方向Ｘの寸法と第２方向Ｙの寸法よりも短い。マスクＭ１にマスクアダプタ１０が取り付けられたマスクアセンブリＭＡは、単体で扱われるマスクＭ２と同等の大きさである。つまり、マスクアセンブリＭＡの第２方向Ｙの寸法は、マスクＭ２の第２方向Ｙの寸法と略等しい。すなわち、マスクアダプタ１０は、マスクＭ１の第２方向Ｙの寸法を、マスクＭ２の第２方向Ｙの寸法と略等しくなるように、大きさを変更する変更装置であるといえる。また、マスクアセンブリＭＡの第１方向Ｘの寸法は、マスクＭ２の第１方向Ｘの寸法と略等しい。すなわち、マスクアダプタ１０は、マスクＭ１の第１方向Ｘの寸法を、マスクＭ２の第１方向Ｘの寸法と略等しくなるように、大きさを変更する変更装置であるといえる。マスクＭ１にマスクアダプタ１０を取り付けてマスクＭ２と同等の大きさとすることで、単体でマスクＭ２が使用される露光装置ＥＸにおいて、マスクＭ２よりも小さいマスクＭ１を使用することが可能となる。

　マスクＭ１は、第２方向Ｙの一方側（＋Ｙ側）の外縁部における第１方向Ｘの中央部に第３被検出部ＭＢを備える。本実施形態において第３被検出部ＭＢは、バーコードである。第３被検出部ＭＢは、例えば、マスクＭ１の上面に貼り付けられたシールである。第３被検出部ＭＢは、マスクＭ１に関する情報を含む。マスクＭ１に関する情報は、例えば、マスクＭ１の平面度、マスクＭ１に形成されたパターンの種類、マスクＭ１の寸法誤差、マスクＭ１の重量誤差、マスクＭ１に形成されたパターンの描画誤差等を含む。マスクＭ１は、たとえ同じ製造方法で作られたとしても、わずかではあるが、個体差が生じる。第３被検出部ＭＢに含まれるマスクＭ１に関する情報は、このマスクＭ１の個体差の情報を有している。

　なお、本明細書において「被検出部が情報を含む」とは、リーダ等の検出部によって被検出部を検出することで、当該情報をリーダ等の検出部が取得可能なことを含む。また、被検出部を読み取り可能なリーダは、特に限定されず、露光装置ＥＸに設けられるリーダであってもよいし、後述するマスクアダプタ取付工具２０に設けられた第２検出部２６であってもよいし、その他のリーダであってもよい。なお、上述したとおり、リーダは、バーコードリーダであってもよいし、例えば、カメラ（撮像装置）であってもよい。

　図３Ｂに示すように、単体で扱われるマスクＭ２も、マスクＭ２に関する情報を含む被検出部Ｍ２ａを備える。マスクＭ２に設けられた被検出部Ｍ２ａは、マスクＭ２のうち第２方向Ｙの一方側（＋Ｙ側）の外縁部における第１方向Ｘの一方側（＋Ｘ側）寄りの部分に設けられている。マスクＭ２に設けられた被検出部Ｍ２ａは、例えば、バーコードであり、マスクＭ２に貼り付けられたシールである。マスクＭ２に関する情報は、マスクＭ２の平面度、マスクＭ２に形成されたパターンの種類、マスクＭ２に形成されたパターンの描画誤差等を含む。マスクＭ２に設けられた被検出部Ｍ２ａに含まれるマスクＭ２に関する情報は、マスクＭ２の個体差に応じて異なる。

　次に、露光装置ＥＸで使用され、マスクＭ１に取り付けられる本実施形態のマスクアダプタ１０について説明する。マスクアダプタ１０は、図３Ａに示すように、上下方向Ｚに沿って視た平面視において、マスクアダプタ１０が取り付けられるマスクＭ１の周囲を囲む枠状の部材である。本実施形態においてマスクアダプタ１０は、第１方向Ｘに長い矩形枠状である。マスクアダプタ１０の外形は、単体で扱われるマスクＭ２の外形と、形状および大きさがほぼ同じである。マスクアダプタ１０は、マスクアダプタ１０にマスクＭ１が取り付けられたときの重さが、マスクＭ２の重さと略等しくなるように構成されている。マスクアダプタ１０は、枠部（被支持部）１１と、第１被検出部１３と、表示装置１２と、支持部１６と、第１位置決め部１４，１５と、第２位置決め部１７と、を備える。枠部１１と支持部１６とは、マスクアダプタ１０の本体部を構成する。

　枠部１１は、マスクＭ１のうちパターンが形成された領域外の部分に取り付けられ、マスクステージＭＳＴに支持される部分である。枠部１１は、マスクＭ１の周囲を囲む枠状の形状を有する。枠部１１は、矩形枠状である。枠部１１は、第１辺部１１ａと、第２辺部１１ｂと、第３辺部１１ｃと、第４辺部１１ｄと、を備える。第１辺部１１ａと第２辺部１１ｂとは、第１方向Ｘに延び、第２方向Ｙに間隔を空けて配置されている。第１辺部１１ａは、第２辺部１１ｂよりも第２方向Ｙの一方側（＋Ｙ側）に位置する。第３辺部１１ｃと第４辺部１１ｄとは、第２方向Ｙに延び、第１方向Ｘに間隔を空けて配置されている。第３辺部１１ｃは、第４辺部１１ｄよりも第１方向Ｘの一方側（＋Ｘ側）に位置する。第３辺部１１ｃは、第１辺部１１ａにおける第１方向Ｘの一方側の端部と第２辺部１１ｂにおける第１方向Ｘの一方側の端部とを繋いでいる。第４辺部１１ｄは、第１辺部１１ａにおける第１方向Ｘの他方側（－Ｘ側）の端部と第２辺部１１ｂにおける第１方向Ｘの他方側の端部とを繋いでいる。

　なお、枠部１１は、複数の部材（例えば、第１～第４辺部１１ａ～１１ｄの４部材、第１辺部１１ａと第３辺部１１ｃとが連結された部材と第２辺部１１ｂと第４辺部１１ｄとが連結された部材との２部材等）をメカ的に連結させて構成してもよいし、一枚の板から中央部に開口を設け一体的な構成としてもよい。

　枠部１１には、枠部１１を上下方向Ｚに貫通する複数の切欠部１１ｆが形成されている。切欠部１１ｆは、第１辺部１１ａの内縁部と第２辺部１１ｂの内縁部とのそれぞれに、第１方向Ｘに間隔を空けて２つずつ設けられている。切欠部１１ｆは、枠部１１の内側に開口している。換言すると、切欠部１１ｆは、枠部１１の内側が切欠かれた部分である。
切欠部１１ｆは、マスクアダプタ１０にマスクＭ１が取り付けられた状態において、上下方向Ｚに沿って視てマスクＭ１の外側に位置する。

　第１被検出部１３は、リーダによって情報を読み取り可能な部分である。第１被検出部１３は、枠部１１の上面（＋Ｚ側の面）に配置されている。より詳細には、第１被検出部１３は、第１辺部１１ａの外縁部における第１方向Ｘの中央やや一方側（＋Ｘ側）寄りの部分に配置されている。第１被検出部１３の位置は、マスクアセンブリＭＡがマスクケースＣ内に載置された際に、マスクケースＣの蓋部ＣＡ２に設けられた第１窓部ＣＣ１の位置と第１方向Ｘおよび第２方向Ｙの位置が略重なる位置、つまりマスクアセンブリＭＡがマスクケースＣ内に載置され、蓋部ＣＡ２が閉じられた状態で、第１窓部ＣＣ１を介してリーダが第２被検出部ＭＢａを読み取ることが可能な位置である。すなわち、第１被検出部１３は、露光装置ＥＸのリーダ（第１検出部）によって検出可能な位置に設けられている。

　本実施形態において第１被検出部１３は、バーコードである。すなわち、第１被検出部１３は、バーコードリーダによって情報を読み取り可能である。第１被検出部１３は、例えば、枠部１１の上面に貼り付けられたシールである。

　第１被検出部１３は、マスクアダプタ１０に関する情報を含む。マスクアダプタ１０に関する情報は、マスクアセンブリＭＡ、つまりマスクアダプタ１０が取り付けられたマスクＭ１、が露光装置ＥＸ内に配置された際に露光装置ＥＸ内の各ユニットを制御するために必要な制御情報（パラメータ）と、マスクアダプタ１０の各種パラメータと、を含む。
制御情報は、露光において、マスクステージＭＳＴの移動を制御するための情報を含む。
具体的に制御情報は、例えば、マスクステージＭＳＴを移動させる際の制御ゲイン、マスクアダプタ１０の個体差に応じて各制御パラメータを補償するフィルタ等を含む。マスクアダプタ１０の各種パラメータは、マスクアダプタ１０の剛性、マスクアダプタ１０の質量、マスクアダプタ１０の寸法、マスクアダプタ１０の材質等を含む。第１被検出部１３に含まれるマスクアダプタ１０に関する情報は、マスクアダプタ１０の個体差に応じて異なる。

　表示装置１２は、枠部１１の上面（＋Ｚ側の面）に配置されている。より詳細には、表示装置１２は、第１辺部１１ａの外縁部のうち第１方向Ｘの一方側（＋Ｘ側）寄りの部分に配置されている。表示装置１２は、第１被検出部１３の第１方向Ｘの一方側に隣り合って配置されている。

　表示装置１２は、表示部１２ａを備える。表示部１２ａは、例えば、電子ペーパーにより構成されている。表示部１２ａには、表示装置１２に入力された情報に基づいた文字およびマーク等が表示される。表示装置１２への情報の入力、消去、書き換え等は、後述する書き込み部２７によって行われる。例えば、表示装置１２への情報の入力、消去、書き換え等は、当該表示装置１２に対応する書き込み部２７のみによって可能となっている。

　第１被検出部１３と表示部１２ａとは、第１方向Ｘに隣り合って配置されている。マスクアダプタ１０がマスクＭ１に取り付けられた状態において表示部１２ａは、第２被検出部ＭＢａを表示する。これにより、第２被検出部ＭＢａは、被支持部である枠部１１上に設けられ、第１被検出部１３と第２被検出部ＭＢａとは、隣り合って配置される。第２被検出部ＭＢａは、リーダによって情報を読み取り可能な表示である。本実施形態において第２被検出部ＭＢａは、電子バーコードである。すなわち、第２被検出部ＭＢａは、バーコードリーダによって情報を読み取り可能である。

　第２被検出部ＭＢａは、マスクアダプタ１０に取り付けられるマスクＭ１に関する情報を含む。マスクＭ１に関する情報は、マスクＭ１の平面度、マスクＭ１に形成されたパターンの種類、マスクＭ１の寸法誤差、マスクＭ１の重量誤差、マスクＭ１に形成されたパターンの描画誤差のうち少なくとも１つを含む。第２被検出部ＭＢａに含まれるマスクＭ１に関する情報は、マスクアダプタ１０に取り付けられるマスクＭ１の個体差に応じて異なる。

　第２被検出部ＭＢａは、マスクＭ１に設けられた第３被検出部ＭＢに含まれる情報が、後述する書き込み部２７等のライターを介して表示装置１２に入力されたことに基づいて表示部１２ａに表示される。すなわち、表示部１２ａは、マスクＭ１に設けられた情報を、マスクＭ１に関する情報として表示する。本実施形態において第２被検出部ＭＢａは、第３被検出部ＭＢと同様のマークである。すなわち、本実施形態において表示部１２ａは、マスクＭ１に設けられた第３被検出部ＭＢと同様のマークを、第２被検出部ＭＢａとして表示する。

　マスクアセンブリＭＡにおいて表示部１２ａに表示される第２被検出部ＭＢａの位置は、マスクアセンブリＭＡと単体で扱われるマスクＭ２とを上下方向Ｚに重ねた場合に、上下方向Ｚに沿って視て、上述したマスクＭ２に設けられる被検出部Ｍ２ａと重なる位置である。すなわち、露光装置ＥＸ内でマスクアセンブリＭＡを扱う際における露光装置ＥＸの各部に対する第２被検出部ＭＢａの相対位置は、露光装置ＥＸ内でマスクＭ２を扱う際における露光装置ＥＸの各部に対するマスクＭ２の被検出部Ｍ２ａの相対位置とほぼ同じである。

　また、第２被検出部ＭＢａの位置は、マスクアセンブリＭＡがマスクケースＣ内に載置された際に、マスクケースＣの蓋部ＣＡ２に設けられた第１窓部ＣＣ１の位置と第１方向Ｘおよび第２方向Ｙの位置が略重なる位置、つまりマスクアセンブリＭＡがマスクケースＣ内に載置され、蓋部ＣＡ２が閉じられた状態で、第１窓部ＣＣ１を介してリーダが第２被検出部ＭＢａを読み取ることが可能な位置である。すなわち、第２被検出部ＭＢａは、露光装置ＥＸのリーダ（第１検出部）によって検出可能な位置に設けられている。

　なお、マスクアダプタ１０に対して異なるマスクＭ１を載せ替えることなく使用する場合は、表示装置１２に対する情報の入力、消去、書き換え等が不要なため、マスクアダプタ１０には、表示装置１２の代わりに、第１被検出部１３のように、マスクＭ１に関する情報が印字されたシールが設けられてもよい。

　支持部１６は、第１辺部１１ａの内縁部と第２辺部１１ｂの内縁部とのそれぞれに複数ずつ設けられている。各辺部において複数の支持部１６は、第１方向Ｘに沿って間隔を空けて並んで配置されている。各支持部１６は、各辺部から第２方向Ｙに沿って、枠部１１の内側に突出している。支持部１６は、マスクアダプタ１０に取り付けられるマスクＭ１を下側から支持する。これにより、マスクアダプタ１０に取り付けられるマスクＭ１がマスクアダプタ１０に対して上下方向Ｚに位置決めされる。

　第１位置決め部１４は、第４辺部１１ｄの内縁部に、第２方向Ｙに間隔を空けて一対設けられている。一対の第１位置決め部１４は、第４辺部１１ｄの内縁部における第２方向Ｙの両端部にそれぞれ設けられている。第１位置決め部１５は、第３辺部１１ｃの内縁部に、第２方向Ｙに間隔を空けて一対設けられている。一対の第１位置決め部１５は、第３辺部１１ｃの内縁部における第２方向Ｙの両端部にそれぞれ設けられている。第１位置決め部１４と第１位置決め部１５とは、マスクアダプタ１０に取り付けられるマスクＭ１を第１方向Ｘに挟んで、マスクＭ１を第１方向Ｘに位置決めする。

　第１位置決め部１４は、枠部１１の内側（＋Ｘ側）に突出する突出部１４ａを備える。
突出部１４ａは、マスクＭ１における第１方向Ｘの他方側（－Ｘ側）の縁部と接触する。
第１位置決め部１５は、本体部１５ａと、弾性部１５ｂと、を備える。図示は省略するが、本体部１５ａは、第１方向Ｘに延びる長孔を介したネジ止めによって枠部１１に固定されている。すなわち、本体部１５ａは、ネジ止め固定される前において、長孔の範囲内で第１方向Ｘに移動可能である。弾性部１５ｂは、本体部１５ａに対して弾性ヒンジを介して接続されている。弾性部１５ｂは、マスクＭ１における第１方向Ｘの一方側（＋Ｘ側）の縁部に接触する。弾性部１５ｂは、マスクＭ１に対して、マスクＭ１を第１位置決め部１４に押し付ける向きに弾性力を加える。これにより、マスクＭ１に第１方向Ｘの弾性力を加えた状態で、マスクＭ１をマスクアダプタ１０に取り付けることができ、マスクアダプタ１０に対するマスクＭ１の第１方向Ｘの位置を決めることができる。

　なお、マスクＭ１のマスクアダプタ１０に対する固定は、クランプ部品を用いて行ってもよい。この場合であっても、弾性部１５ｂによってマスクＭ１に第１方向Ｘ向きの弾性力を加えてもよい。これにより、マスクＭ１に作用する力を第１方向Ｘに集中させることができる。

　このようにして、第１位置決め部１４と第１位置決め部１５とは、第１方向Ｘから、マスクアダプタ１０にマスクＭ１を固定する。マスクアセンブリＭＡは、ＸＹ平面内の大きさが大きいため、マスクステージＭＳＴにマスクアセンブリＭＡが載置された際、マスクアセンブリＭＡの第２方向Ｙの両端がマスクステージＭＳＴに支持され、ＹＺ平面内で下側に凸となるようにマスクアセンブリＭＡが変形する（撓む）。本実施形態のように投影ユニットＰＬが複数の投影光学系により構成された場合、制御装置ＣＯＮＴによって、マスクアセンブリＭＡの撓みに則して、投影ユニットＰＬの各投影光学系をそれぞれ制御することにより、マスクアセンブリＭＡの撓みの影響がなく、基板Ｐを露光することができる。

　なお、マスクステージＭＳＴにマスクＭ２が載置された場合においても、マスクアダプタ１０と同様にマスクＭ２は、下側に凸となるように変形する（撓む）。したがって、マスクＭ２がマスクステージＭＳＴに載置された場合でもマスクアセンブリＭＡがマスクステージＭＳＴに載置された場合でも、ＹＺ平面内で下側に凸となるようにマスクＭが撓むため、制御装置ＣＯＮＴによって、同じように投影ユニットＰＬの各投影光学系を制御することができる。

　なお、第１位置決め部１４と第１位置決め部１５とは、第１辺部１１ａと第２辺部１１ｂとにそれぞれ設けられ、マスクＭ１を第２方向Ｙからマスクアダプタ１０に固定するようにしてもよい。この場合、マスクアセンブリＭＡがマスクステージＭＳＴに載置された場合、マスクＭ１は、ＸＺ平面内で下側に凸となるように変形する（撓む）。この場合、制御装置ＣＯＮＴは、露光中に、マスクＭ１の変形に沿うように、基板ステージＰＳＴを、上下方向（Ｚ方向）の位置を調整しながら、第１方向Ｘへ移動させるとよい。これにより、制御装置ＣＯＮＴは、露光中、基板Ｐの上下方向Ｚの位置を、投影ユニットＰＬの投影光学系のフォーカス位置に維持することができる。

　第２位置決め部１７は、マスクＭ１を第２方向Ｙに挟んで一対設けられている。一対の第２位置決め部１７のそれぞれは、第１辺部１１ａの内縁部における第１方向Ｘの中央部と、第２辺部１１ｂの内縁部における第１方向Ｘの中央部とに設けられている。一対の第２位置決め部１７は、マスクアダプタ１０に取り付けられるマスクＭ１を第２方向Ｙに挟んで、マスクＭ１を第２方向Ｙに位置決めする。図示は省略するが、第２位置決め部１７は、第２方向Ｙに延びる長孔を介したネジ止めにより枠部１１に固定されている。すなわち、第２位置決め部１７は、ネジ止め固定される前において、長孔の範囲内で第２方向Ｙに移動可能である。

　マスクアダプタ１０は、被認識部１８を備える。被認識部１８は、露光装置ＥＸに設けられた後述する各センサによってマスクＭ（マスクＭ１）がマスクアダプタ１０に取り付けられていることを識別するための部分である。換言すると、被認識部１８は、各センサによりマスクアセンブリＭＡかマスクアダプタ１０に取り付けられていないマスクＭ２かを識別するための部分である。本実施形態において被認識部１８は、第１被認識部１８ａと、第２被認識部１８ｂと、を含む。第１被認識部１８ａおよび第２被認識部１８ｂは、枠部１１における第１辺部１１ａの外縁部に設けられている。

　第１被認識部１８ａは、図４に示すように、枠部１１に設けられている。より詳細には、第１被認識部１８ａは、第１辺部１１ａに設けられた凹部１１ｅに埋め込まれている。
凹部１１ｅは、第１辺部１１ａの上面から下側に窪み、枠部１１の外側に開口している。
第１被認識部１８ａは、凹部１１ｅの底面に、例えば、ネジ止め固定されている。第１被認識部１８ａは、光を反射する反射部１８ｃを備える。本実施形態において反射部１８ｃは、第１被認識部１８ａの上面の一部である。反射部１８ｃは、第１方向Ｘの他方側（－Ｘ側）に向かうに従って下側に位置する向きに傾く傾斜面である。反射部１８ｃは、後述するセンサ（第１センサ）Ｓ１から射出された光ＳＬをセンサＳ１が位置する方向とは異なる方向に反射する。本実施形態において反射部１８ｃは、上側から射出された光ＳＬを、第１方向Ｘの他方側に傾いた斜め上方に反射する。

　第２被認識部１８ｂは、図５に示すように、マスクアダプタ１０を貫通する貫通部である。本実施形態において第２被認識部１８ｂは、枠部１１に設けられ、第１辺部１１ａを上下方向Ｚに貫通する貫通孔である。第２被認識部１８ｂは、例えば、第１方向Ｘに長い長円状の孔である。第２被認識部１８ｂは、後述するセンサ（第２センサ）Ｓ４から射出された光ＳＬを通過させる。すなわち、第２被認識部１８ｂは、センサＳ４から射出された光ＳＬが通過する通過部（第２通過部）を有する。

　次に、マスクＭ１をマスクアダプタ１０に取り付ける手順について説明する。本実施形態においてマスクアダプタ１０には、マスクアダプタ取付工具２０を介して、マスクＭ１が取り付けられる。図６は、マスクＭ１をマスクアダプタ１０に取り付ける本実施形態のマスクアダプタ取付工具２０を示す斜視図である。図７は、マスクアダプタ取付工具２０を上側（＋Ｚ側）から視た平面図である。図８は、マスクアダプタ取付工具２０を示す断面図であって、図７におけるVIII－VIII断面図である。

　本実施形態においてマスクアダプタ取付工具２０は、マスクアダプタ１０にマスクＭ１取り付ける工具であり、かつ、マスクアダプタ１０からマスクＭ１を取り外す工具でもある。本実施形態においてマスクアダプタ取付工具２０は、マスクアダプタ１０に対してマスクＭ１を上下方向Ｚに移動させることで、マスクアダプタ１０へのマスクＭ１の取り付け、およびマスクアダプタ１０からのマスクＭ１の取り外しを行う。

　マスクアダプタ取付工具２０は、図６から図８に示すように、基部２１と、ガイド部２２ａ，２２ｂ，２２ｃと、可動部２４と、昇降装置２３と、一対のマスク保持部２５と、第２検出部２６と、書き込み部２７と、第３検出部２８と、を備える。
　なお、図６および図８においては、第２検出部２６、書き込み部２７および第３検出部２８の図示を省略している。また、図７においては、基部２１および昇降装置２３の図示を省略している。

　基部２１は、図６に示すように、上下方向Ｚに沿って視て、第１方向Ｘの他方側（－Ｘ側）に開口する角張ったＵ字状である。基部２１は、柱部２１ａ，２１ｂ，２１ｃと、複数の足部２１ｄと、を備える。柱部２１ａは、第２方向Ｙに延びている。柱部２１ｂは、柱部２１ａのうち第２方向Ｙの他方側（－Ｙ側）の端部から第１方向Ｘの他方側（－Ｘ側）に延びている。柱部２１ｃは、柱部２１ａのうち第２方向Ｙの一方側（＋Ｙ側）の端部から第１方向Ｘの他方側に延びている。複数の足部２１ｄは、柱部２１ａ，２１ｂ，２１ｃから下側に延びている。マスクアダプタ取付工具２０は、複数の足部２１ｄを介して、地面に設置されている。

　図８に示すように、角張ったＵ字状の基部２１の内側には、第１方向Ｘの他方側（－Ｘ側）の開口から、マスクケースＣを搭載した搬送車Ｖが進入可能である。基部２１の内側に進入する搬送車Ｖに搭載されたマスクケースＣは、蓋部ＣＡ２が取り外された状態であり、内部には、マスクアダプタ１０が収納されている。

　ガイド部２２ａは、図６に示すように、柱部２１ａの第２方向Ｙの中央部から上側に延びている。ガイド部２２ｂは、柱部２１ｂにおける第１方向Ｘの他方側（－Ｘ側）の端部から上側に延びている。ガイド部２２ｃは、柱部２１ｃにおける第１方向Ｘの他方側の端部から上側に延びている。

　可動部２４は、上下方向Ｚに沿って視て、第１方向Ｘの他方側（－Ｘ側）に開口する角張ったＵ字状である。可動部２４は、ガイド部２２ａ，２２ｂ，２２ｃに支持されて基部２１よりも上側に配置されている。可動部２４は、ガイド部２２ａ，２２ｂ，２２ｃに沿って上下方向Ｚに移動可能である。

　可動部２４は、柱部２４ａ，２４ｂ，２４ｃを備える。柱部２４ａは、第２方向Ｙに延びている。柱部２４ａの第２方向Ｙの中央部は、ガイド部２２ａに連結されている。柱部２４ｂは、柱部２４ａのうち第２方向Ｙの他方側（－Ｙ側）の端部から第１方向Ｘの他方側（－Ｘ側）に延びている。柱部２４ｂにおける第１方向Ｘの他方側の端部は、ガイド部２２ｂに連結されている。柱部２４ｃは、柱部２４ａのうち第２方向Ｙの一方側（＋Ｙ側）の端部から第１方向Ｘの他方側（－Ｘ側）に延びている。柱部２４ｃにおける第１方向Ｘの他方側の端部は、ガイド部２２ｃに連結されている。柱部２４ｂおよび柱部２４ｃのそれぞれの上面には、第１方向Ｘに延びるレール部２４ｄが設けられている。

　昇降装置２３は、柱部２１ａの第２方向Ｙの中央部に設けられている。昇降装置２３は、ガイド部２２ａ，２２ｂ，２２ｃに沿って、可動部２４を上下方向Ｚに移動可能な装置である。昇降装置２３は、ハンドル部２３ａを備える。作業者は、ハンドル部２３ａを回すことにより、可動部２４を上下方向Ｚに移動させることができる。昇降装置２３は、可動部２４を上下方向Ｚに移動させることで、マスク保持部２５に保持されたマスクＭ１を上下方向Ｚに移動させる。

　一対のマスク保持部２５は、可動部２４に取り付けられており、可動部２４とともに上下方向Ｚに移動可能である。一対のマスク保持部２５は、第１方向Ｘに間隔を空けて配置されている。一対のマスク保持部２５は、例えば、第１方向Ｘに互いに対称に配置されている。

　一対のマスク保持部２５は、それぞれ、レール部２５ａと、一対の第１スライド部２５ｅと、一対の第２スライド部２５ｂと、一対のアーム部２５ｃと、一対のハンド部２５ｄと、を備える。レール部２５ａは、第２方向Ｙに延びている。レール部２５ａの第２方向Ｙの両端部は、一対の第１スライド部２５ｅのそれぞれを介して、柱部２４ｂ，２４ｃそれぞれのレール部２４ｄ上に連結されている。一対の第１スライド部２５ｅがレール部２４ｄに沿って第１方向Ｘに移動することで、レール部２５ａは、第１方向Ｘに移動可能である。

　一対の第２スライド部２５ｂは、第２方向Ｙに沿ってレール部２５ａ上に配置されている。一対の第２スライド部２５ｂは、レール部２５ａに沿って第２方向Ｙに移動可能である。一対のアーム部２５ｃは、一対の第２スライド部２５ｂのそれぞれにおける第１方向Ｘの側面から下側に延びている。一対のハンド部２５ｄは、一対のアーム部２５ｃの下側の端部のそれぞれに固定されている。アーム部２５ｃおよびハンド部２５ｄは、第２スライド部２５ｂを介して第２方向Ｙに移動可能である。

　一対のハンド部２５ｄは、マスクＭ１の第２方向Ｙの両側からそれぞれ近づいて、マスクＭ１の第２方向Ｙの縁部を把持可能である。本実施形態においてマスク保持部２５は、一対設けられているため、合計４つのハンド部２５ｄによってマスクＭ１を把持し、保持することができる。一対のマスク保持部２５によってマスクＭ１を保持した状態で、昇降装置２３によって可動部２４を上下方向Ｚに移動させることで、マスクＭ１を上下方向Ｚに移動させることができる。

　第２検出部２６は、図７に示すように、柱部２４ｃに取り付けられている。第２検出部２６は、柱部２４ｃから第２方向Ｙの他方側（－Ｙ側）に突出している。第２検出部２６は、第２方向Ｙの他方側の端部に、検出本体部２６ａを備える。検出本体部２６ａは、マスクアダプタ取付工具２０に保持されたマスクＭ１の第３被検出部ＭＢの上側に位置する。検出本体部２６ａは、バーコードである第３被検出部ＭＢに上側から光を照射し、第３被検出部ＭＢからの反射光を読み取ることで、第３被検出部ＭＢに含まれる情報を読み取り可能である。これにより、第２検出部２６は、マスクＭ１に設けられたマスクＭ１に関する情報を含む第３被検出部ＭＢを読み取って検出できる。第２検出部２６は、第３被検出部ＭＢを読み取ると、読み取った情報を書き込み部２７へと送信する。

　書き込み部２７は、柱部２４ｃに取り付けられている。書き込み部２７は、第２検出部２６の第１方向Ｘの一方側（＋Ｘ側）に配置されている。書き込み部２７は、柱部２４ｃから第２方向Ｙの他方側（－Ｙ側）に突出している。書き込み部２７のうち第２方向Ｙの他方側の端部は、基部２１の内側に進入した搬送車Ｖに搭載されたマスクケースＣ内のマスクアダプタ１０の上側に位置する。

　書き込み部２７は、マスクアダプタ１０に備えられた表示装置１２に対して、第２検出部２６から送られた情報を送信可能である。これにより、書き込み部２７は、第３被検出部ＭＢに含まれた情報を含む第２被検出部ＭＢａを、マスクアダプタ１０に設けられた表示部１２ａに表示させる。すなわち、書き込み部２７は、第２検出部２６によって第３被検出部ＭＢから検出した（読み取った）情報に基づいて、マスクアダプタ１０の表示部１２ａに第２被検出部ＭＢａを表示させる。書き込み部２７は、表示装置１２に信号を送り、表示部１２ａの表示を消去させることもできる。

　第３検出部２８は、柱部２４ｂに取り付けられている。第３検出部２８は、延伸部２８ａと、第１測定部２８ｂと、第２測定部２８ｃと、を備える。延伸部２８ａは、柱部２４ｂから第２方向Ｙの一方側（＋Ｙ側）に延びている。延伸部２８ａのうち第２方向Ｙの一方側の端部は、マスクアダプタ取付工具２０に保持されたマスクＭ１の上側に位置する。

　第１測定部２８ｂおよび第２測定部２８ｃは、延伸部２８ａに設けられている。第１測定部２８ｂは、基部２１の内側に進入した搬送車Ｖに搭載されたマスクケースＣ内のマスクアダプタ１０の上側に位置する。第１測定部２８ｂは、マスクアダプタ１０の上下方向Ｚの位置を測定可能である。第２測定部２８ｃは、マスクアダプタ取付工具２０に保持されたマスクＭ１の上側に位置する。第２測定部２８ｃは、マスクＭ１の上下方向Ｚの位置を測定可能である。第１測定部２８ｂおよび第２測定部２８ｃは、例えば、レーザ変位計である。

　第３検出部２８は、第１測定部２８ｂよって測定されたマスクアダプタ１０の上下方向Ｚの位置と、第２測定部２８ｃによって測定されたマスクアダプタ１０の上下方向Ｚの位置とに基づいて、マスクＭ１にマスクアダプタ１０が取り付けられているか否かを検出可能である。

　具体的に、第３検出部２８は、第１測定部２８ｂの測定結果および第２測定部２８ｃの測定結果から、マスクＭ１とマスクアダプタ１０との上下方向Ｚの相対位置を算出する。
ここで、第３検出部２８には、マスクＭ１がマスクアダプタ１０に取り付けられた状態におけるマスクＭ１とマスクアダプタ１０との上下方向Ｚの相対位置情報が記憶されている。算出したマスクＭ１の相対位置が、マスクアダプタ１０に取り付けられた状態におけるマスクＭ１の相対位置と同じ場合、第３検出部２８は、マスクＭ１がマスクアダプタ１０に取り付けられていると判断する。

　一方、算出したマスクＭ１の相対位置が、マスクアダプタ１０に取り付けられた状態におけるマスクＭ１の相対位置よりも上側である場合、第３検出部２８は、マスクＭ１がマスクアダプタ１０から取り外されていると判断する。これにより、第３検出部２８は、マスクアダプタ１０にマスクＭ１が取り付けられていること、およびマスクアダプタ１０からマスクＭ１が取り外されていることを検出可能である。

　第３検出部２８は、マスクアダプタ１０に対するマスクＭ１の相対位置が上側に変化した場合、マスクアダプタ１０からマスクＭ１が取り外されたと判断する。これにより、第３検出部２８は、マスクアダプタ１０からマスクＭ１が取り外されたことを検出可能である。第３検出部２８は、検出結果を第２検出部２６および書き込み部２７に送信可能である。

　作業者は、上述したマスクアダプタ取付工具２０を用いてマスクＭ１をマスクアダプタ１０に取り付ける。まず、作業者は、マスクＭ１をマスクアダプタ取付工具２０に保持させる。作業者は、図示しないリフター上に配置したマスクＭ１をリフターごと基部２１の内側に進入させ、リフターによってマスクＭ１をマスク保持部２５の上下方向Ｚの位置まで上昇させる。次に、作業者は、各ハンド部２５ｄを第２方向Ｙに移動させ、リフターによって上昇させられたマスクＭ１の外縁部を各ハンド部２５ｄによって把持させる。これにより、作業者は、マスクアダプタ取付工具２０にマスクＭ１を保持させることができる。

　次に、作業者は、リフターを基部２１の外側に出した後、図８に示すように、マスクケースＣが搭載された搬送車Ｖを基部２１の内側に進入させる。上述したように、このときマスクケースＣの蓋部ＣＡ２は外された状態となっており、マスクケースＣの内部には、マスクアダプタ１０が配置されている。そのため、収納部本体ＣＡ１は上側に開口しており、マスクアダプタ１０は収納部本体ＣＡ１の開口を介して上側に露出している。

　次に、作業者は、昇降装置２３のハンドル部２３ａを回して可動部２４およびマスク保持部２５ごとマスクＭ１を下側に移動させ、マスクＭ１をマスクアダプタ１０に上側から近づける。これにより、作業者は、マスクＭ１がマスクアダプタ１０の支持部１６によって下側から支持される位置まで移動させ、マスクＭ１をマスクアダプタ１０の内側に配置する。すなわち、昇降装置２３は、マスクアダプタ１０の上方に位置するマスクＭ１を下降させ、平面視においてマスクＭ１の周囲を囲む枠状を有するマスクアダプタ１０の内側にマスクＭ１を配置する。このとき、各ハンド部２５ｄは、マスクアダプタ１０に設けられた切欠部１１ｆに挿入される。そのため、ハンド部２５ｄがマスクアダプタ１０に干渉することなく、マスクアダプタ１０が支持部１６によって下側から支持される位置までマスクＭ１を移動させることができる。

　次に、作業者は、マスクＭ１の第１方向Ｘの位置を微調整して、マスクアダプタ１０における第１位置決め部１４の突出部１４ａに突き当てる。これにより、マスクＭ１がマスクアダプタ１０に対して第１方向Ｘに位置決めされる。そして、作業者は、第１位置決め部１５の本体部１５ａを図示しない長孔に沿って第１方向Ｘに移動させ、弾性部１５ｂをマスクＭ１に接触させる。そして、作業者は、本体部１５ａを枠部１１にネジ止め固定する。これにより、マスクＭ１をマスクアダプタ１０に対して第１方向Ｘに固定できる。

　次に、作業者は、第２位置決め部１７を図示しない長孔に沿って第２方向Ｙに移動させてマスクＭ１に接触させ、第２位置決め部１７を枠部１１にネジ止め固定する。これにより、マスクＭ１をマスクアダプタ１０に対して第２方向Ｙに固定できる。以上により、作業者は、マスクＭ１をマスクアダプタ１０に取り付けることができる。

　マスクＭ１がマスクアダプタ１０に取り付けられると、第３検出部２８によってマスクＭ１がマスクアダプタ１０に取り付けられたことが検出され、第３検出部２８の検出結果が第２検出部２６に送信される。第３検出部２８から検出結果を受信した第２検出部２６は、マスクＭ１の第３被検出部ＭＢを読み取り、読み取った情報を書き込み部２７に送信する。第２検出部２６から第３被検出部ＭＢを読み取った情報を受信した書き込み部２７は、マスクアダプタ１０の表示装置１２に当該情報を送信し、表示部１２ａに第２被検出部ＭＢａを表示させる。

　なお、厳密には、本実施形態の第３検出部２８は、マスクＭ１が支持部１６によって下側から支持されてマスクアダプタ１０の内側に配置された時点において、マスクＭ１がマスクアダプタ１０に取り付けられたことを検出し、検出結果を第２検出部２６に送信する。すなわち、本実施形態においては、例えば、上述した第１位置決め部１４，１５および第２位置決め部１７によってマスクＭ１をマスクアダプタ１０に固定している際に、第２検出部２６および書き込み部２７が上述したように動作して、表示部１２ａに第２被検出部ＭＢａを表示させる。

　マスクＭ１のマスクアダプタ１０への取り付け、および書き込み部２７による表示部１２ａへの書き込みが終了した後、作業者は、ハンド部２５ｄを切欠部１１ｆ内で第２方向Ｙに移動させて、ハンド部２５ｄをマスクＭ１から取り外す。そして、作業者は、昇降装置２３のハンドル部２３ａを取り付ける際とは逆向きに回して、可動部２４およびマスク保持部２５を上昇させ、元の位置に戻す。その後、作業者は、搬送車Ｖを基部２１の外側に出して、マスクケースＣの収納部本体ＣＡ１に蓋部ＣＡ２を取り付ける。

　マスクＭ１がマスクアダプタ１０に取り付けられたマスクアセンブリＭＡを収納したマスクケースＣは、搬送車Ｖによって露光装置ＥＸのマスクライブラリＬＢまで搬送され、搬送装置Ｈ１によって収容部ＬＢａに収容される。このとき、露光装置ＥＸの制御装置ＣＯＮＴは、収容部ＬＢａに搬送されたマスクケースＣ内に収納されたマスクＭの情報を読み取り、記憶する。

　具体的には、例えば、制御装置ＣＯＮＴは、搬送装置Ｈ１に設けられた図示しないリーダによって第１窓部ＣＣ１を介してマーク等の被検出部を読み取ることで、マスクＭの状態を検出する。マスクＭが、マスクアダプタ１０に取り付けられたマスクＭ１である場合、搬送装置Ｈ１に設けられた図示しないリーダ（第１検出部）は、マスクアダプタ１０の第１被検出部１３と表示部１２ａに表示された第２被検出部ＭＢａとを読み取る。これにより、制御装置ＣＯＮＴは、収納されたマスクＭが、マスクアダプタ１０に取り付けられたマスクＭ１であることを識別し、第１被検出部１３に含まれるマスクアダプタ１０に関する情報と、第２被検出部ＭＢａに含まれるマスクＭ１に関する情報と、を記憶する。

　一方、マスクＭが、単体で扱われるマスクＭ２の場合には、搬送装置Ｈ１に設けられた図示しないリーダは、マスクＭ２に設けられた被検出部Ｍ２ａのみを読み取る。これにより、制御装置ＣＯＮＴは、収納されたマスクＭが、マスクアダプタ１０に取り付けられていないマスクＭ２であることを識別し、マスクＭ２の被検出部Ｍ２ａに含まれるマスクＭ２に関する情報を記憶する。制御装置ＣＯＮＴは、上述したようにしてマスクライブラリＬＢの各収容部ＬＢａに収容されたマスクケースＣ内のマスクＭの情報をリスト化して記憶する。

　次に、マスクアダプタ１０に取り付けられたマスクＭ１を使用して、露光装置ＥＸにおいて基板Ｐを露光する手順について説明する。図９は、マスクアセンブリＭＡ、つまりマスクアダプタ１０に取り付けられたマスクＭ１を使用して、露光装置ＥＸにおいて基板Ｐを露光する手順の一部を示す平面図である。

　まず、制御装置ＣＯＮＴは、次の基板Ｐの露光に使用するマスクＭとしてマスクアダプタ１０に取り付けられたマスクＭ１を、搬送装置Ｈ１，Ｈ２によってマスクステージＭＳＴまで搬送させる。搬送装置Ｈ１は、図示しないマスクケース搬送部によって、使用するマスクＭ１が収納されたマスクケースＣを収容部ＬＢａ内から搬送装置Ｈ１の最上部まで移動させる。このとき、マスクケース搬送部は、蓋部ＣＡ２を取り外して収容部ＬＢａ内に残した状態で、マスクケースＣを移動させる。

　制御装置ＣＯＮＴは、搬送装置Ｈ１のマスクケース搬送部によって蓋部ＣＡ２を取り外した後、マスクケースＣを移動させる前に、搬送装置Ｈ１に設けられた図示しないリーダによって、マスクケースＣ内のマスクＭに設けられた被検出部を読み取ることで、マスクＭを検出する。これにより、制御装置ＣＯＮＴは、搬送するマスクＭが、次の基板Ｐの露光に使用するマスクＭであるか否かを確認する。制御装置ＣＯＮＴは、リーダによって読み取った情報に基づいて、搬送するマスクＭが誤っていないことを確認した後、搬送装置Ｈ１のマスクケース搬送部によって、マスクＭが収納されたマスクケースＣを搬送装置Ｈ１の最上部まで移動させる。

　制御装置ＣＯＮＴには、マスクライブラリＬＢにマスクケースＣを収納した際に、マスクＭの情報がリスト化されて記憶されているが、上述したように使用するマスクＭを搬送する際に、マスクＭの被検出部を読み取ってマスクＭを再度確認することで、誤ったマスクＭを露光部ＥＰへ搬送することを抑制できる。制御装置ＣＯＮＴは、搬送するマスクＭが間違えていると判断した場合、マスクライブラリＬＢにマスクＭを戻すように搬送装置Ｈ１を制御する。

　搬送装置Ｈ２は、搬送装置Ｈ１の最上部に移動させられたマスクケースＣ内に収納されたマスクＭ１を、図９に示すようにマスクアダプタ１０ごとキャリアＨ２ｂで把持し、マスクケースＣ内から取り出す。キャリアＨ２ｂは、図９に示すように、キャリア本体部Ｈ２ｃと、キャリア本体部Ｈ２ｃから第２方向Ｙに突出する複数の爪部Ｈ２ｄと、を備える。爪部Ｈ２ｄは、例えば、キャリア本体部Ｈ２ｃの第２方向Ｙの両縁部に２つずつ、合計４つ設けられている。キャリアＨ２ｂは、４つの爪部Ｈ２ｄによってマスクＭ１がマスクアダプタ１０に取り付けられたマスクアセンブリＭＡを第２方向Ｙに挟んで把持する。より詳細には、キャリアＨ２ｂは、マスクアダプタ１０を爪部Ｈ２ｄによって挟んで把持する。なお、キャリアＨ２ｂは、単体のマスクＭ２を搬送する際には、マスクＭ２を爪部Ｈ２ｄによって挟んで把持する。

　ここで、キャリアＨ２ｂによってマスクＭを把持した際、制御装置ＣＯＮＴは、キャリアＨ２ｂに設けられたセンサＳ１，Ｓ２，Ｓ３を用いて、キャリアＨ２ｂが把持したマスクＭが、マスクアダプタ１０に取り付けられたマスクＭ１か、単体で扱われるマスクＭ２か、を識別する。センサＳ１，Ｓ２，Ｓ３は、例えば、射出した光がマスクアダプタ１０またはマスクＭ２に反射され、その反射光を受光する場合にＯＮ状態となり、反射光を受光しない場合にＯＦＦ状態となるセンサである。

　センサＳ１は、マスクＭの第２方向Ｙの一方側（＋Ｙ側）の端部に設けられた第１被認識部１８ａを識別可能な位置となるキャリア本体部Ｈ２ｃに設けられる。センサＳ１は、不図示であるが、光ＳＬの射出部と、光ＳＬが反射された反射光を受光可能な受光部とを備える。センサＳ１は、図４に示すように、キャリアＨ２ｂがマスクアセンブリＭＡを把持した場合、マスクアダプタ１０の第１被認識部１８ａの上側に位置する。センサＳ１の射出部は、第１被認識部１８ａに光ＳＬを射出する。より詳細には、センサＳ１は、第１被認識部１８ａの反射部１８ｃに向かって上側から光ＳＬを射出する。先述したとおり、反射部１８ｃは、第１方向Ｘの他方側（－Ｘ側）に向かうに従って下側に位置する向きに傾く傾斜面を有しているため、キャリアＨ２ｂがマスクアセンブリＭＡを把持する場合には、センサＳ１から射出された光ＳＬは、反射部１８ｃによってセンサＳ１が位置する方向とは異なる方向に反射される。そのため、センサＳ１の受光部は、第１被認識部１８ａから反射された光ＳＬを受光せず、ＯＦＦ状態となる。

　センサＳ２，Ｓ３は、図９に示すように、キャリア本体部Ｈ２ｃの第１方向Ｘの両端部にそれぞれ設けられている。センサＳ２，Ｓ３は、不図示だが、センサＳ１と同様に、光ＳＬの射出部と、光ＳＬが反射された反射光を受光する受光部とを備える。センサＳ２，Ｓ３は、キャリアＨ２ｂがマスクアセンブリＭＡを把持した場合、マスクＭ１の上側に位置する。センサＳ２，Ｓ３のそれぞれの射出部は、マスクＭ１に向かって上側から光ＳＬを射出する。センサＳ２，Ｓ３から射出された光ＳＬは、マスクＭ１によって反射されセンサＳ２，Ｓ３のそれぞれの受光部に受光される。そのため、センサＳ２，Ｓ３は、ＯＮ状態となる。

　このように、キャリアＨ２ｂがマスクアセンブリＭＡを把持した場合、センサＳ１はＯＦＦ状態となり、センサＳ２，Ｓ３はＯＮ状態となる。この場合、制御装置ＣＯＮＴは、キャリアＨ２ｂがマスクアセンブリＭＡを把持していることを検出し、搬送しているマスクＭがマスクＭ１であることを識別する。

　一方、キャリアＨ２ｂが単体で扱われるマスクＭ２を把持した場合には、センサＳ１，Ｓ２，Ｓ３のいずれもがＯＮ状態となる。マスクＭ２は、第１被認識部１８ａのような反射部１８ｃを有していないため、センサＳ１の受光部は、マスクＭ２に向けて射出された光ＳＬがマスクＭ２によって反射し、その反射光を受光する。これにより、センサＳ１は、ＯＮ状態となる。センサＳ２，Ｓ３は、キャリアＨ２ｂがマスクアセンブリＭＡを把持した場合と同様に、射出される光ＳＬがマスクＭ２によって反射されて各センサＳ２，Ｓ３のそれぞれに受光される。これにより、センサＳ２，Ｓ３は、いずれもＯＮ状態となる。このようにセンサＳ１，Ｓ２，Ｓ３がＯＮ状態となる場合、制御装置ＣＯＮＴは、キャリアＨ２ｂが単体で扱われるマスクＭ２を把持していることを検出し、搬送しているマスクＭがマスクＭ２であることを識別する。

　以上のように、第１被認識部１８ａは、露光装置ＥＸ内の搬送装置Ｈ２に設けられたセンサＳ１によって、搬送装置Ｈ２がマスクアダプタ１０に取り付けられていないマスクＭ２をマスクステージＭＳＴに搬送しているか、搬送装置Ｈ２がマスクＭ１が取り付けられたマスクアダプタ１０をマスクステージＭＳＴへ搬送しているかを、露光装置ＥＸが識別するために用いられる。

　なお、キャリアＨ２ｂが何も把持していない場合には、センサＳ１，Ｓ２，Ｓ３から射出された光ＳＬは、どこにも反射されず、各センサＳ１，Ｓ２，Ｓ３の受光部はその反射光を受光しない。そのため、センサＳ１，Ｓ２，Ｓ３は、いずれもＯＦＦ状態となる。この場合、制御装置ＣＯＮＴは、キャリアＨ２ｂが何も把持していないことを検出する。

　制御装置ＣＯＮＴは、上述したようにして識別されたマスクＭが、使用するマスクＭと合致しているかどうかを判断する。制御装置ＣＯＮＴは、マスクＭが、使用するマスクＭと合致している場合、キャリアＨ２ｂをキャリアガイドＨ２ａに沿って移動させ、マスクＭをマスクステージＭＳＴに配置する。一方、識別されたマスクＭが使用するマスクＭと合致していない場合、キャリアＨ２ｂに把持されたマスクＭをマスクケースＣに戻し、使用するマスクＭと合致する他のマスクＭを再度搬送する。本説明においては、制御装置ＣＯＮＴは、キャリアＨ２ｂが把持するマスクＭ１が使用するマスクＭと合致すると判断し、マスクＭ１をマスクアダプタ１０に取り付けられたマスクアセンブリＭＡの状態でマスクステージＭＳＴに配置する。なお、キャリアＨ２ｂが有するセンサの数は、３個に限られず、４個以上でもよい。

　図１０は、マスクアセンブリＭＡが配置された状態のマスクステージＭＳＴを上側から視た平面図である。図１１は、マスクアセンブリＭＡが配置された状態のマスクステージＭＳＴの一部を上側から視た平面図である。

　マスクステージＭＳＴは、図１０に示すように、矩形枠状であり、内縁部によってマスクアダプタ１０の外縁部を下側から支持する。すなわち、マスクステージＭＳＴは、被支持部である枠部１１を介して、マスクＭ１が取り付けられたマスクアダプタ１０を支持する。マスクステージＭＳＴは、マスクアダプタ１０を吸着保持する。マスクステージＭＳＴのマスクアダプタ１０の支持方法は、例えば、国際公開第２０１７／０３８，７８８号明細書に開示された方法である。マスクステージＭＳＴの内縁部には、マスクステージＭＳＴを上下方向Ｚに貫通する貫通部ＰＨが設けられている。キャリアＨ２ｂによってマスクアセンブリＭＡをマスクステージＭＳＴに配置する際、キャリアＨ２ｂの爪部Ｈ２ｄは、貫通部ＰＨに挿入される。これにより、爪部Ｈ２ｄがマスクステージＭＳＴに干渉することなく、キャリアＨ２ｂによってマスクアセンブリＭＡをマスクステージＭＳＴ上に配置できる。

　マスクステージＭＳＴには、図５および図１１に示すように、センサＳ４，Ｓ５が設けられている。センサＳ４，Ｓ５は、図５および図１１に示すように、Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３と同様に、光ＳＬの射出部と、光ＳＬが反射された光を受光する受光部とを備える。センサＳ４，Ｓ５は、射出部から射出した光が、マスクアセンブリＭＡまたはマスクＭ２によって反射され、その反射光を受光部が受光する場合にＯＮ状態となり、反射光を受光しない場合にＯＦＦ状態となるセンサである。

　センサＳ４は、図５に示すように、上側に光ＳＬを射出する射出部Ｓ４ａを備える。マスクステージＭＳＴにマスクアセンブリＭＡが配置された状態において、射出部Ｓ４ａは、貫通部である第２被認識部１８ｂの下側に位置する。センサＳ４は、射出部Ｓ４ａから第２被認識部１８ｂに光を射出する。

　センサＳ５は、図１１に示すように、上側に光ＳＬを射出する射出部Ｓ５ａを備える。
マスクステージＭＳＴにマスクアセンブリＭＡが配置された状態において、射出部Ｓ５ａは、マスクアダプタ１０における枠部１１の角部１１ｇの下側に位置する。
　なお、マスクステージＭＳＴに配置されたマスクＭが、単体で扱われるマスクＭ２である場合、センサＳ４，Ｓ５の各射出部Ｓ４ａ，Ｓ５ａは、マスクＭ２の下側に位置する。

　ここで、マスクステージＭＳＴにマスクＭが配置された際、制御装置ＣＯＮＴは、センサＳ４，Ｓ５を用いて、配置されたマスクＭが、マスクアダプタ１０が取り付けられたマスクＭ１か、単体で扱われるマスクＭ２か、を識別する。

　マスクステージＭＳＴに配置されたマスクＭが、マスクＭ１がマスクアダプタ１０に取り付けられたマスクアセンブリＭＡである場合、センサＳ４から射出される光ＳＬは、貫通部である第２被認識部１８ｂを通過する。そのため、センサＳ４の受光部は、反射光を受光せずＯＦＦ状態となる。また、マスクステージＭＳＴに配置されたマスクＭがマスクＭ１である場合、センサＳ５から射出される光ＳＬは、マスクアダプタ１０の角部１１ｇによって反射され、センサＳ５に受光される。そのため、センサＳ５は、ＯＮ状態となる。制御装置ＣＯＮＴは、センサＳ４がＯＦＦ状態となり、センサＳ５がＯＮ状態となった場合に、マスクステージＭＳＴにマスクアセンブリＭＡが配置されていると識別する。

　一方、マスクステージＭＳＴに単体で扱われるマスクＭ２が配置されている場合、センサＳ４，Ｓ５のそれぞれの射出部Ｓ４ａ，Ｓ５ａから射出される光ＳＬは、いずれもマスクＭ２に反射され、各受光部に受光される。そのため、センサＳ４とセンサＳ５とは、いずれもＯＮ状態となる。この場合、制御装置ＣＯＮＴは、マスクステージＭＳＴに配置されたマスクＭが、単体で扱われるマスクＭ２であると識別する。

　以上のように、第２被認識部１８ｂは、マスクステージＭＳＴに設けられたセンサＳ４によって、マスクＭ１が取り付けられたマスクアダプタ１０の枠部１１がマスクステージＭＳＴに支持されたか、マスクアダプタ１０に取り付けられていないマスクＭ２がマスクステージＭＳＴに支持されたかを識別するために用いられる。

　なお、マスクステージＭＳＴに何も載置されてしていない場合には、センサＳ４，Ｓ５から射出された光ＳＬは、どこにも反射されず、各センサＳ４，Ｓ５の受光部はその反射光を受光しない。そのため、センサＳ４，Ｓ５は、いずれもＯＦＦ状態となる。この場合、制御装置ＣＯＮＴは、マスクステージＭＳＴに何も載置されていないことを検出する。

　制御装置ＣＯＮＴは、上述したようにして識別されたマスクＭが、使用するマスクＭと合致しているかどうかを判断する。制御装置ＣＯＮＴは、マスクＭが、使用するマスクＭと合致している場合、露光部ＥＰを制御して、基板Ｐの露光を開始する。一方、識別されたマスクＭが使用するマスクＭと合致していない場合、マスクステージＭＳＴに配置されたマスクＭをマスクケースＣに戻し、使用するマスクＭと合致する他のマスクＭを再度搬送する。制御装置ＣＯＮＴは、再度搬送された他のマスクＭが使用するマスクＭと一致するかを、センサＳ４，Ｓ５を用いて再度識別し、合致するまでその作業を繰り返す。本説明においては、制御装置ＣＯＮＴは、マスクステージＭＳＴに配置されたマスクＭ１が使用するマスクＭと合致すると判断し、マスクアダプタ１０に取り付けられたマスクＭ１を使用して基板Ｐの露光を開始する。

　マスクアダプタ１０に取り付けられたマスクＭ１を使用して基板Ｐを露光する場合、制御装置ＣＯＮＴは、第１被検出部１３および第２被検出部ＭＢａから読み取った情報に基づいてマスクステージＭＳＴの移動を制御し、基板Ｐの露光を行う。

　本実施形態において制御装置ＣＯＮＴは、基板Ｐの露光を行う前に、各被検出部および各被認識部から得られる情報を用いて、投影ユニットＰＬの設定を変更する。以下の説明においては、各被検出部および各被認識部から得られる情報を「識別情報」と呼ぶ。制御装置ＣＯＮＴは、識別情報に基づいて、マスクステージＭＳＴに搭載されるマスクＭが、マスクアダプタ１０に取り付けられた状態のマスクＭ１であると識別すると、投影ユニットＰＬに備えられた各投影光学系内に設けられた各補正機構を制御する。

　具体的に、制御装置ＣＯＮＴは、識別情報のうち、マスクステージＭＳＴにマスクＭが支持された際にそのマスクＭの大きさや個体差の情報に基づいて、各補正機構を制御する。マスクＭの大きさや個体差によってマスクＭの撓み具合が変わるため、制御装置ＣＯＮＴは、マスクＭの大きさや個体差による撓み方の違いに応じて、各補正機構を制御する。
なお、制御装置ＣＯＮＴは、上述した補正機構の制御を、搬送装置Ｈ１，Ｈ２によりマスクＭがマスクステージＭＳＴに載置されるまでの間に行うと良い。この場合、マスクＭがマスクステージＭＳＴに載置された後すぐに、基板Ｐの露光処理を行うことができる。

　制御装置ＣＯＮＴは、マスクアセンブリＭＡを使って露光装置ＥＸが基板Ｐを露光することを検出した場合、照明光学系ＩＬを制御し、基板Ｐを露光する際に、投影ユニットＰＬに含まれる複数の投影光学系のうち第２方向Ｙの両端に位置する投影光学系に露光光ＥＬを供給しないようにする。ここで、マスクアダプタ１０には、パターンが形成されておらず、第２方向Ｙの両端に位置する投影光学系に向けて照明光学系ＩＬからの光が射出されると、露光光ＥＬが投影光学系に入射する前にマスクアダプタ１０に反射されて、露光部ＥＰ内においてノイズ光となり、露光不良の原因となる虞がある。そのため、照明光学系ＩＬからマスクアセンブリＭＡに射出される露光光ＥＬの一部を遮光する等により、照明光学系ＩＬから第２方向Ｙの両端に位置する投影光学系に向けた露光光ＥＬの供給をしないことで、露光不良が生じることを抑制できる。この場合、制御装置ＣＯＮＴは、第２方向Ｙの両端に位置する投影光学系に設けられたフォーカス位置、シフト量、像面傾斜等を変更する補正機構も変更しないようにする。なお、照明光学系ＩＬからの露光光ＥＬを供給しない投影光学系は、第２方向Ｙの両端に位置する投影光学系のみに限られず、マスクアダプタ１０に取り付けられるマスクＭ１の大きさに応じて、適宜決められる。

　マスクＭ１を使用した露光が終了すると、制御装置ＣＯＮＴは、マスクステージＭＳＴに配置されたマスクアセンブリＭＡを搬送装置Ｈ２によって元のマスクケースＣ内に戻し、マスクアセンブリＭＡが収納されたマスクケースＣを搬送装置Ｈ１によってマスクライブラリＬＢの収容部ＬＢａに収容する。

　次に、マスクアダプタ１０に取り付けられたマスクＭ１を露光装置ＥＸ内から取り出し、マスクＭ１をマスクアダプタ１０から取り外す手順について説明する。
　制御装置ＣＯＮＴは、露光装置ＥＸから取り出すマスクケースＣについての情報を受信すると、搬送装置Ｈ１によって該当するマスクケースＣを搬送車Ｖ上に積載する。これにより、搬送車ＶによってマスクケースＣを露光装置ＥＸの外部に取り出すことができる。
本説明においては、取り出されたマスクケースＣに収納されたマスクＭは、マスクアダプタ１０に取り付けられたマスクＭ１である。

　作業者は、搬送車Ｖによって露光装置ＥＸの外部に取り出されたマスクケースＣの蓋部ＣＡ２を取り外し、マスクアダプタ１０に対するマスクＭ１の固定を解除する。具体的に作業者は、マスクアダプタ１０の第１位置決め部１５および第２位置決め部１７のネジ止めを外し、第１位置決め部１５および第２位置決め部１７をマスクＭ１から離した状態とする。

　次に、作業者は、蓋部ＣＡ２が取り外されたマスクケースＣを積載した搬送車Ｖを、マスクアダプタ取付工具２０における基部２１の内側に進入させる。そして、作業者は、昇降装置２３のハンドル部２３ａを回して可動部２４およびマスク保持部２５を下側に移動させ、ハンド部２５ｄを介してマスク保持部２５にマスクＭ１を保持させる。マスクＭ１をマスク保持部２５に保持させた後、作業者は、ハンドル部２３ａを逆向きに回して、可動部２４およびマスク保持部２５とともにマスクＭ１を上側に移動させ、マスクアダプタ１０から取り外す。

　ここで、マスクＭ１がマスクアダプタ１０に対して上側に移動して取り外された際、マスクアダプタ取付工具２０に設けられた第３検出部２８は、上述したようにしてマスクアダプタ１０からマスクＭ１が取り外されたことを検出し、検出結果を書き込み部２７に送る。検出結果を受信した書き込み部２７は、マスクアダプタ１０の表示装置１２に信号を送り、表示部１２ａに表示された第２被検出部ＭＢａを消去する。このように書き込み部２７は、第３検出部２８によってマスクアダプタ１０からマスクＭ１が取り外されたことを検出した場合に、表示部１２ａの表示を消去する。

　作業者は、マスクＭ１を上側に移動させてマスクアダプタ１０から取り外した後、搬送車Ｖを基部２１の外側に出し、代わりに図示しないリフターを基部２１の内側に進入させる。そして、作業者は、リフターをマスクＭ１の高さまで上昇させ、リフター上にマスクＭ１を積載する。作業者は、マスクＭ１がリフター上に配置された状態で、ハンド部２５ｄを第２方向Ｙに移動させて、マスク保持部２５からマスクＭ１を取り外す。そして、作業者は、マスクＭ１が配置されたリフターを下降させ、基部２１の内側から出す。その後、作業者は、リフターを用いてマスクＭ１を所定の保管場所へと搬送する。

　なお、露光装置ＥＸにおいてマスクＭ１を再び使用する際には、上述した手順と同様にして、マスクアダプタ１０にマスクＭ１を取り付ける。この際、マスクアダプタ１０に取り付けられるマスクＭ１が前回取り付けられたマスクＭ１と異なる別のマスクＭ１である場合、表示部１２ａには、前回と異なる第２被検出部ＭＢａが表示される。すなわち、表示部１２ａは、マスクアダプタ１０に別のマスクＭ１が取り付けられると、別のマスクＭ１に関する情報を表示する。

　例えば、マスクアダプタ１０は、製造誤差等により個体差が生じる。そのため、マスクアダプタ１０ごとに剛性等のパラメータが異なり、マスクステージＭＳＴ上における撓み、およびマスクステージＭＳＴを移動させた際の挙動等が異なる。これにより、マスクアダプタ１０が取り付けられたマスクＭ１を使用する場合の制御情報を予め制御装置ＣＯＮＴに入力していても、個体差によってマスクアダプタ１０のパラメータがばらつくことで、露光精度が低下する場合があった。特に、基板Ｐがフラットパネルディスプレイ用の基板である場合、基板Ｐが比較的大きく、マスクアダプタ１０およびマスクＭ１も比較的大きくなる。そのため、僅かな製造誤差等によっても、露光中におけるマスクＭ１およびマスクアダプタ１０の挙動が大きく変化し、露光精度が大きく低下する場合があった。

　これに対して、本実施形態によれば、マスクアダプタ１０は、マスクアダプタ１０に関する情報を含む第１被検出部１３を備える。そのため、露光装置ＥＸにおいて第１被検出部１３を読み取ることで、マスクアダプタ１０の個体差に応じた露光を行うことができる。これにより、マスクアダプタ１０に取り付けられたマスクＭ１を使用する際に、露光装置ＥＸの露光精度を向上させることができる。

　また、本実施形態によれば、第１被検出部１３に含まれるマスクアダプタ１０に関する情報は、露光において、マスクステージＭＳＴの移動を制御するための制御情報を含む。
そのため、例えば、マスクアダプタ１０に取り付けられたマスクＭ１を保持するマスクステージＭＳＴを、露光中に好適に制御して動かすことができる。これにより、露光装置ＥＸの露光精度をより向上できる。

　また、本実施形態によれば、第１被検出部１３に含まれるマスクアダプタ１０に関する情報は、マスクアダプタ１０の剛性を含む。マスクアダプタ１０のパラメータとしては、マスクアダプタ１０の剛性が、マスクステージＭＳＴの移動制御に特に影響を与えやすい。具体的には、マスクステージＭＳＴは、露光中、第１方向Ｘにほぼ直進して移動するはずが、マスクアダプタ１０の関する情報がないと、第２方向Ｙに蛇行したり、θｚ方向に回転したりしながら第１方向Ｘへ移動する可能性がある。そのため、第１被検出部１３に含まれる情報にマスクアダプタ１０の剛性が含まれていることで、露光中に、より精度よくマスクステージＭＳＴを第１方向Ｘへ移動させることができる。これにより、露光装置ＥＸの露光精度をより向上できる。

　また、本実施形態によれば、第１被検出部１３は、バーコードである。そのため、露光装置ＥＸによる第１被検出部１３の読み取りを容易にできる。また、例えば、第１被検出部１３をシールに印刷してマスクアダプタ１０に貼り付けることで、第１被検出部１３をマスクアダプタ１０に容易に設けることができる。

　また、例えば、マスクアダプタ１０と同様に、マスクＭのパラメータも個体差によってばらつきが生じる。そのため、マスクＭには、マスクＭに関する情報を含む被検出部が設けられている。制御装置ＣＯＮＴは、マスクＭとして単体で扱われるマスクＭ２を使用する場合、マスクＭ２に設けられた被検出部Ｍ２ａを、露光装置ＥＸ内のリーダによって読み取ることで、マスクＭ２の個体差に応じて露光中の制御を調整する。しかし、マスクアダプタ１０に取り付けられたマスクＭ１は、単体で使用されるマスクＭ２よりも小さい。
そのため、マスクアダプタ１０に取り付けられたマスクＭ１に設けられた第３被検出部ＭＢは、単体で使用されるマスクＭ２に設けられる被検出部Ｍ２ａと、露光装置ＥＸの各部に対する相対位置が異なり、露光装置ＥＸ内のリーダによって読み取れない、または読み取りにくい場合がある。

　これに対して、本実施形態によれば、マスクアダプタ１０は、マスクアダプタ１０に取り付けられるマスクＭ１に関する情報を含む第２被検出部ＭＢａを備える。そのため、単体で使用されるマスクＭ２に設けられた被検出部Ｍ２ａと同じ相対位置に、第２被検出部ＭＢａを設けることで、マスクアダプタ１０に取り付けられたマスクＭ１を使用する場合であっても、単体で使用されるマスクＭ２の被検出部Ｍ２ａを読み取るリーダと同じリーダによって、第２被検出部ＭＢａを読み取りやすい。したがって、マスクＭ１に関する情報を容易に読み取ることができる。

　また、本実施形態によれば、第１被検出部１３と第２被検出部ＭＢａとは、隣り合って配置されている。そのため、露光装置ＥＸに設けられた１つのリーダによって、第１被検出部１３および第２被検出部ＭＢａの両方を読み取りやすい。

　また、本実施形態によれば、マスクＭ１に関する情報は、マスクＭ１の平面度、マスクＭ１に形成されたパターンの種類、マスクＭ１の寸法誤差、マスクＭ１の重量誤差、マスクＭ１に形成されたパターンの描画誤差のうち少なくとも１つを含む。そのため、マスクアダプタ１０に取り付けられたマスクＭ１を使用する場合に、露光装置ＥＸ内の各ユニットをより好適に制御できる。これにより、露光装置ＥＸの露光精度をより向上できる。

　また、本実施形態によれば、マスクアダプタ１０は、第２被検出部ＭＢａが表示される表示部１２ａを備え、表示部１２ａは、マスクアダプタ１０に異なる別のマスクＭ１が取り付けられると、別のマスクＭ１に関する情報を表示する。そのため、マスクアダプタ１０に取り付けられるマスクＭ１ごとに、各マスクＭ１に対応した第２被検出部ＭＢａを表示部１２ａに表示できる。これにより、マスクアダプタ１０を複数の異なるマスクＭ１に対して使用することができる。

　また、本実施形態によれば、表示部１２ａは、マスクＭ１に設けられた情報（第３被検出部ＭＢ）を、マスクＭ１に関する情報として表示する。そのため、マスクアダプタ１０に取り付けられるマスクＭ１に関する情報を、好適に表示部１２ａに表示させることができる。

　また、本実施形態によれば、第２被検出部ＭＢａは、電子バーコードである。そのため、露光装置ＥＸによる第２被検出部ＭＢａの読み取りを容易にできる。また、表示部１２ａに対する情報の書き込みおよび表示を容易にできる。

　また、例えば、露光装置ＥＸの制御装置ＣＯＮＴが、マスクアダプタ１０に取り付けられたマスクＭ１と単体で扱われるマスクＭ２とを誤認識した場合、露光中の制御が不適切な制御となる。そのため、正常に基板Ｐを露光できない、または露光精度が大きく低下する場合がある。

　これに対して、本実施形態によれば、マスクアダプタ１０は、露光装置ＥＸに設けられたセンサによってマスクＭがマスクアダプタ１０に取り付けられていることを識別するための被認識部１８を備える。そのため、露光装置ＥＸの制御装置ＣＯＮＴは、センサによって被認識部１８を識別することで、マスクＭがマスクアダプタ１０に取り付けられていることを容易に識別できる。これにより、マスクアダプタ１０に取り付けられたマスクＭ１を使用する場合に、制御装置ＣＯＮＴが、マスクアダプタ１０に取り付けられていないマスクＭ２であると誤認識することを抑制できる。そのため、露光中の制御を適切に行うことができ、露光装置ＥＸによる露光精度を向上できる。

　また、本実施形態によれば、マスクアダプタ１０は、露光装置ＥＸ内の搬送装置Ｈ２に設けられたセンサＳ１によって、搬送装置Ｈ２がマスクアダプタ１０に取り付けられていないマスクＭ２をマスクステージＭＳＴへ搬送しているか、搬送装置Ｈ２がマスクＭ１が取り付けられたマスクアダプタ１０をマスクステージＭＳＴへ搬送しているかを、露光装置ＥＸが識別するための第１被認識部１８ａを備える。そのため、マスクステージＭＳＴにマスクＭを載置する前に、マスクＭがマスクアダプタ１０に取り付けられていることを識別できる。

　また、本実施形態によれば、第１被認識部１８ａは、反射部１８ｃを備え、反射部１８ｃは、第１センサであるセンサＳ１から射出された光ＳＬをセンサＳ１が位置する方向とは異なる方向に反射する。そのため、制御装置ＣＯＮＴは、センサＳ１が反射された光ＳＬを受光しないことで、マスクＭがマスクアダプタ１０に取り付けられていることを識別できる。

　また、本実施形態によれば、マスクアダプタ１０は、マスクステージＭＳＴに設けられたセンサＳ４によって、マスクＭ１が取り付けられたマスクアダプタ１０の枠部１１がマスクステージＭＳＴに支持されたか、マスクアダプタ１０に取り付けられていないマスクＭ２がマスクステージＭＳＴに支持されたかを識別するための第２被認識部１８ｂを備える。そのため、マスクＭがマスクステージＭＳＴに載置された際に、マスクＭがマスクアダプタ１０に取り付けられていることを識別できる。

　また、本実施形態によれば、第２被認識部１８ｂは、センサＳ４から射出された光ＳＬが通過する通過部（第２通過部）を有する。そのため、制御装置ＣＯＮＴは、センサＳ４から射出された光ＳＬが反射されずセンサＳ４に受光しないことで、マスクＭにマスクアダプタ１０が取り付けられていることを識別できる。なお、本実施形態においては、第２被認識部１８ｂは、通過部（第２通過部）からなる。

　また、本実施形態によれば、第２被認識部１８ｂの通過部（第２通過部）は、枠部１１に設けられた貫通孔である。そのため、マスクアダプタ１０の一部を、例えば、プレス加工等により打ち抜くことで、第２被認識部１８ｂの通過部を容易に作ることができる。これにより、マスクアダプタ１０の製造を容易にできる。

　また、本実施形態によれば、第１被認識部１８ａと第２被認識部１８ｂとをそれぞれ用いて、マスクＭをキャリアＨ２ｂで把持した際と、マスクＭをマスクステージＭＳＴに配置した際との２回、マスクＭの状態を識別する。制御装置ＣＯＮＴは、２回のうち少なくとも何れかのマスクＭの状態を識別する際に誤ったマスクＭが搬送されると、マスクＭの搬送を中止する。そのため、誤ったマスクＭを用いて基板Ｐを露光することをより抑制できる。

　また、本実施形態によれば、枠部１１は、マスクアダプタ１０に取り付けられるマスクＭ１の周囲を囲む枠状の形状を有する。そのため、マスクＭ１がマスクアダプタ１０に取り付けられたマスクアセンブリＭＡとして、外形をマスクＭ１の外形よりも大きくできる。これにより、マスクアダプタ１０が取り付けられたマスクアセンブリＭＡとして取り扱うことで、マスクＭ２よりも小さいマスクＭ１を、マスクＭ２が単体で使用される露光装置ＥＸにおいて取り扱うことができる。したがって、露光装置ＥＸにおいて使用するマスクＭの大きさを小さくできるため、マスクＭを用意するコストを低減できる。また、マスクＭ１用の露光装置ＥＸで使用されていたマスクＭ１を、マスクアダプタ１０を用いることで、マスクＭ２用の露光装置ＥＸでも使用することができる。これにより、マスクＭ２用の露光装置ＥＸで試験露光を行う際に、わざわざマスクＭ２を作ることなく、試験露光を行うことができる。

　また、例えば、マスクアダプタ１０の表示部１２ａに表示された第２被検出部ＭＢａに含まれる情報が、マスクアダプタ１０に取り付けられたマスクＭ１と異なるマスクＭ１の情報である場合、露光装置ＥＸ内のリーダによって読み取られる情報が不適切な情報となり、露光中の制御が不適切な制御となる。そのため、露光装置ＥＸの露光精度が低下する虞がある。

　これに対して、本実施形態によれば、マスクＭ１をマスクアダプタ１０に取り付けるマスクアダプタ取付工具２０は、マスクアダプタ１０に取り付けられるマスクＭ１に関する情報を含む第２被検出部ＭＢａを、マスクアダプタ１０に設けられた表示部１２ａに表示させる書き込み部２７を備える。そのため、マスクＭ１をマスクアダプタ１０に取り付ける際に、マスクＭ１の情報を第２被検出部ＭＢａとしてマスクアダプタ１０の表示部１２ａに書き込むことができる。これにより、マスクアダプタ取付工具２０を用いてマスクＭ１をマスクアダプタ１０に取り付けることで、マスクアダプタ１０の表示部１２ａに異なるマスクＭ１の情報が書き込まれることを抑制できる。したがって、露光装置ＥＸ内のリーダによって読み取られる情報が不適切な情報となることを抑制でき、露光装置ＥＸの露光精度を向上できる。

　また、本実施形態によれば、マスクアダプタ取付工具２０は、マスクＭ１に設けられたマスクＭ１に関する情報を含む第３被検出部ＭＢを検出する第２検出部２６を備え、書き込み部２７は、第２検出部２６によって第３被検出部ＭＢから検出した情報に基づいて、表示部１２ａに第２被検出部ＭＢａを表示させる。そのため、書き込み部２７によって誤ったマスクＭ１の情報を表示部１２ａに書き込むことが抑制され、マスクアダプタ１０の表示部１２ａに適切な第２被検出部ＭＢａを表示させることができる。これにより、露光装置ＥＸ内のリーダによって読み取られる情報が不適切な情報となることをより抑制でき、露光装置ＥＸの露光精度をより向上できる。

　また、例えば、マスクアダプタ１０からマスクＭ１を取り外した後に、マスクアダプタ１０の表示部１２ａに表示された第２被検出部ＭＢａを消去し忘れた場合、第２被検出部ＭＢａが表示されたままのマスクアダプタ１０に異なるマスクＭ１が取り付けられた際に、表示部１２ａの情報が上書きされない虞がある。そのため、マスクアダプタ１０に取り付けられたマスクＭ１についての第２被検出部ＭＢａとは異なる第２被検出部ＭＢａが表示部１２ａに表示されたままとなる虞がある。

　これに対して、本実施形態によれば、マスクアダプタ取付工具２０は、マスクアダプタ１０からマスクＭ１を取り外す工具でもあり、かつ、マスクアダプタ１０からマスクＭ１が取り外されたことを検出する第３検出部２８を備える。そして、書き込み部２７は、第３検出部２８によってマスクアダプタ１０からマスクＭ１が取り外されたことを検出した場合に、表示部１２ａの表示を消去する。そのため、マスクアダプタ１０からマスクＭ１を取り外す際に、表示部１２ａに表示された第２被検出部ＭＢａを消去し忘れることを抑制できる。そのため、表示部１２ａに異なるマスクＭ１についての第２被検出部ＭＢａが表示された状態となることを抑制できる。これにより、露光装置ＥＸ内のリーダによって読み取られる情報が不適切な情報となることをより抑制でき、露光装置ＥＸの露光精度をより向上できる。

　また、本実施形態によれば、マスクアダプタ取付工具２０は、マスクＭ１を上下方向Ｚに移動させる昇降装置２３を備え、昇降装置２３は、マスクアダプタ１０の上方に位置するマスクＭ１を下降させ、平面視においてマスクＭ１の周囲を囲む枠状を有するマスクアダプタ１０の内側にマスクＭ１を配置する。そのため、マスクアダプタ１０に比べて小さいマスクＭ１を移動させて、マスクアダプタ１０にマスクＭ１を取り付けることができる。したがって、マスクアダプタ１０を移動させてマスクＭ１に取り付ける場合に比べて、マスクアダプタ１０にマスクＭ１を取り付けることが容易である。

　なお、本発明の実施形態は、上述した実施形態に限られず、以下の構成を採用することもできる。
　第１被検出部は、リーダによって情報を読み取り可能で、マスクアダプタに関する情報を含むならば、特に限定されない。第２被検出部は、リーダによって情報を読み取り可能で、マスクアダプタに取り付けられるマスクに関する情報を含み、かつ、表示部に表示可能ならば、特に限定されない。第３被検出部は、リーダによって情報を読み取り可能で、マスクに関する情報を含むならば、特に限定されない。

　第１被検出部、第２被検出部および第３被検出部は、上述したバーコードのような一次元コードであってもよいし、二次元コードであってもよいし、文字および数字等であってもよい。また、第１被検出部および第３被検出部は、ＩＣチップ等であってもよい。第２被検出部に含まれる情報と第３被検出部に含まれる情報とは、それぞれマスクに関する情報を含むならば、互いに異なっていてもよい。この場合、例えば、マスクアダプタ取付工具の書き込み部は、読み取り部が第３被検出部から読み取ったマスクに関する情報の一部のみを、表示部に第２被検出部として表示させてもよい。

　第１被検出部に含まれるマスクアダプタに関する情報は、少なくとも１つ以上あればよい。第２被検出部に含まれるマスクに関する情報は、少なくとも１つ以上あればよい。第３被検出部に含まれるマスクに関する情報は、少なくとも１つ以上あればよい。マスクに関する情報は、露光装置内でマスクを制御するための制御情報を含んでもよい。第１被検出部は、設けられなくてもよい。

　被認識部は、マスクにマスクアダプタが取り付けられていることを識別するために用いられる部分であれば、特に限定されない。被認識部は、光を吸収する部分であってもよい。具体的に、上述した実施形態の第１被認識部１８ａは、反射部１８ｃのような斜面の代わりに第１方向Ｘおよび第２方向Ｙに水平な面を有し、当該水平な面に反射防止膜が設けられる構成であってもよい。また、第１被認識部１８ａは、センサＳ１から射出された光ＳＬが通過する通過部（第１通過部）を備えてもよい。この場合、第１被認識部１８ａの通過部をセンサＳ１の光ＳＬが通過するため、センサＳ１はＯＦＦ状態となる。これにより、搬送装置Ｈ２が、マスクＭ１が取り付けられたマスクアダプタ１０をマスクステージＭＳＴへ搬送していることを識別できる。第１被認識部１８ａの通過部（第１通過部）は、第２被認識部１８ｂと同様にマスクアダプタ１０を上下方向Ｚに貫通する貫通孔であってもよいし、切り欠きであってもよい。すなわち、第１被認識部１８ａは、センサＳ１から射出された光ＳＬがセンサＳ１の受光部に入射されない構成であれば、特に限定されない。

　また、上述した実施形態の第２被認識部１８ｂは、貫通孔でなくてもよく、切り欠きであってもよい。また、第２被認識部１８ｂは、第１被認識部１８ａのように、斜面を有していてもよいし、第１方向Ｘおよび第２方向Ｙに水平で反射防止膜が設けられた面を有していてもよい。すなわち、第２被認識部１８ｂは、センサＳ２から射出された光ＳＬがセンサＳ２の受光部に入射されない構成であれば、特に限定されない。被認識部は、設けられなくてもよい。表示部は、第２被検出部を表示できるならば、特に限定されない。表示部は、液晶ディスプレイであってもよいし、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイであってもよい。なお、表示部は、設けられなくてもよい。表示部の代わりとして、第２被検出部ＭＢａが印字されたシールが設けられてもよい。

　なお、上述した実施形態においてマスクアダプタ１０は、マスクＭ１の周囲の４辺を囲む枠状の部材として説明したが、これに限られない。マスクアダプタは、マスクの周囲の３辺を囲むＵ字状であってもよい。マスクの周囲の３辺を囲むＵ字状のマスクアダプタとは、例えば、上述した実施形態のマスクアダプタ１０において第３辺部１１ｃと第４辺部１１ｄとのいずれか一方が無い状態のマスクアダプタである。また、マスクアダプタは、上述した実施形態のマスクアダプタ１０において第３辺部１１ｃと第４辺部１１ｄとの両方が無い状態、すなわち第１辺部１１ａと第２辺部１１ｂとのみにより形成された構成であってもよい。この場合、露光装置は、マスクアダプタに対するマスクの第１方向Ｘの位置を計測するセンサを有していてもよい。当該センサを用いることで、マスクアダプタに対するマスクの第１方向Ｘにおける位置を好適に調整できる。

　また、マスクアダプタは、上述した実施形態のマスクアダプタ１０における第１辺部１１ａと第２辺部１１ｂとのいずれか一方のみにより形成されていてもよい。この場合、マスクステージは、マスクアセンブリの第２方向Ｙの一方側ではマスクを支持し、第２方向Ｙの他方側ではマスクアダプタを支持する。

　マスクアセンブリにおいて、マスクの第２方向Ｙの両側にマスクアダプタの部分が設けられる場合と、マスクの第２方向Ｙのいずれか一方の側のみにマスクアダプタの部分が設けられる場合とでは、マスクアセンブリがマスクステージに載置された際の、ＹＺ平面におけるマスクアセンブリの撓み形状が異なる。制御装置は、先述のとおり、この撓み形状に基づいて、各投影光学系の制御を行ってもよい。

　また、露光装置がマスクアセンブリの第１方向Ｘの両端を支持するマスクステージを備える場合、マスクアダプタは、上述した実施形態のマスクアダプタ１０における第３辺部１１ｃと第４辺部１１ｄとのみにより構成されていてもよいし、第３辺部１１ｃと第４辺部１１ｄとのいずれか一方のみにより構成されていてもよい。

　以上のように、マスクアダプタは、単体で扱われるマスクＭ２がマスクステージに支持される際と同様に、マスクアセンブリをマスクステージに支持できるように、マスクＭ１の寸法を変更できる装置であるならば、特に限定されない。

　識別情報は、マスクの向きを識別する情報を含んでもよい。マスクアセンブリは、図３Ａ等に示されるマスクアセンブリＭＡのように、例えば、第１方向Ｘと第２方向Ｙとのそれぞれの寸法が異なる。このような場合、識別情報は、マスクアセンブリの長辺が第１方向Ｘと平行（短辺が第２方向Ｙと平行）となるようにマスクステージに配置されるか、その長辺が第２方向Ｙと平行（短辺が第１方向Ｘと平行）となるようにマスクステージに配置されるか識別する情報を含んでいてもよい。

　具体的に、上述した実施形態において制御装置ＣＯＮＴは、センサＳ４とセンサＳ５とを用いて、マスクアセンブリＭＡがマスクステージＭＳＴに配置された際の向きを検出してもよい。図１０に示すような場合と異なり、マスクアセンブリＭＡの長辺が第２方向Ｙと平行に配置された場合、センサＳ５の射出部Ｓ５ａからの光は、マスクアセンブリＭＡに照射されず反射されない。そのため、センサＳ５の受光部は光を受光せず、センサＳ５はＯＦＦ状態となる。その一方で、センサＳ４の射出部Ｓ４ａからの光は、マスクアダプタ１０に反射し、センサＳ４の受光部はその反射光を受光する。そのため、センサＳ４は、ＯＮ状態となる。マスクアセンブリＭＡの長辺が第１方向Ｘと平行に配置された場合、つまり図１０に示すような場合、センサＳ５はＯＮ状態となり、センサＳ４はＯＦＦ状態となる。制御装置ＣＯＮＴは、センサＳ４とセンサＳ５とのそれぞれの状態から、マスクステージＭＳＴに載置されるマスクアセンブリＭＡの向きを検出することができる。なお、この場合、制御装置ＣＯＮＴは、マスクステージＭＳＴにマスクＭが配置されるまでの間に、マスクステージＭＳＴにマスクアセンブリＭＡが配置されることを検出しておくとよい。

　また、マスクステージＭＳＴに配置された際の向きに応じて、マスクアセンブリＭＡにおけるマスクステージＭＳＴに支持される箇所が異なる。この場合、例えば、マスクステージＭＳＴを、特許公報第５，６２６，２０６号公報に開示された構成とすることで、マスクステージＭＳＴの第２方向Ｙの位置を変更するとよい。さらに、マスクアセンブリＭＡにおけるマスクステージＭＳＴに配置された際の向きに応じて、マスクアセンブリＭＡのＹＺ平面内の撓み量が異なる。制御装置ＣＯＮＴは、マスクアセンブリＭＡが配置された向きに応じた撓み量の違いに基づいて投影ユニットＰＬにおける各投影光学系の各部を制御し、遮光する投影光学系の本数や、各投影光学系のフォーカス位置やシフト量等を制御するとよい。

　また、識別情報は、マスクアダプタ１０にマスクＭ１が取り付けられる方向を特定する情報を含んでもよい。制御装置ＣＯＮＴは、この識別情報に基づいて、露光前に、投影ユニットＰＬの各投影光学系の調整を行ったり、露光中に、基板ステージＰＳＴの位置を調整したりしてもよい。

　マスクアダプタ取付工具は、マスクをマスクアダプタに取り付けるために用いられる工具ならば、特に限定されない。マスクアダプタ取付工具は、マスクアダプタからマスクを取り外すために用いられる工具でなくてもよい。マスクアダプタ取付工具は、上述した実施形態のように作業者によって手動で動かされる部分があってもよいし、全自動で取付作業を行ってもよい。マスクアダプタ取付工具は、マスクアダプタを移動させることで、マスクをマスクアダプタに取り付けてもよい。マスクアダプタ取付工具は、マスクアダプタを移動させることで、マスクをマスクアダプタから取り外してもよい。

　読み取り部は、マスクアダプタ取付工具から分離されたハンディスキャナ等であってもよい。読み取り部は、設けられなくてもよい。マスクアダプタ取付工具に設けられた検出部は、例えば、上述した第１位置決め部および第２位置決め部によってマスクアダプタにマスクが固定されたことを検出可能であってもよい。検出部は、設けられなくてもよい。

　また、制御装置ＣＯＮＴは、各識別情報を、露光装置ＥＸ外の装置、たとえば基板Ｐにレジストを塗布するコーターや露光装置ＥＸで露光された基板Ｐを現像するデベロッパー等へ送るようにしてもよい。コーターは、露光装置ＥＸより受信した各識別情報に基づいて、基板Ｐへ塗布するレジストの種類や、塗布量・厚み等を変更するようにしてもよい。
また、デベロッパーは、各識別情報に基づいて、現像方法や基板Ｐの洗浄方法などを適宜変更するようにしてもよい。

　投影ユニットＰＬに備えられる投影光学系は、等倍系でもよいし、縮小系、あるいは拡大系でもよい。

　上述した実施形態の露光装置ＥＸは、露光対象物とするステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置、いわゆるスキャナでもよいし、投影領域が露光対象領域と略同サイズとするステッパ方式の露光装置でもよい。露光装置ＥＸは、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを転写する液晶用の露光装置であってもよく、例えば有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ－Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）パネル製造用の露光装置にも適用できる。また、上述した実施形態の露光装置ＥＸは、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、および電子線露光装置などで使用されるマスクまたはレチクルを製造するために、ガラス基板またはシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも適用できる。

　また、上述した露光装置ＥＸにおいて露光対象となる基板Ｐは、ガラスプレートに限られず、例えばウエハ、セラミック基板、フィルム部材、あるいはマスクブランクスなど、他の物体でもよい。また、上述した実施形態のように、露光対象物がフラットパネルディスプレイ用の基板Ｐである場合、その基板Ｐの厚さは特に限定されない。基板Ｐは、例えばフィルム状（可撓性を有するシート状の部材）のものであってもよい。なお、上述した実施形態の露光装置ＥＸは、一辺の長さ、または対角長が５００ｍｍ以上の基板Ｐが露光対象物である場合に特に有効である。また、露光対象物である基板Ｐが可撓性を有するシート状である場合には、該シート状の基板Ｐがロール状に形成されていてもよい。

　液晶表示素子（あるいは半導体素子）などの電子デバイスは、デバイスの機能・性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づいたマスク（あるいはレチクル）を製作するステップ、ガラス基板（あるいはウエハ）を製作するステップ、上述した各実施形態の露光装置、及びその露光方法によりマスク（レチクル）のパターンをガラス基板に転写するリソグラフィステップ、露光されたガラス基板を現像する現像ステップ、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去るエッチングステップ、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除くレジスト除去ステップ、デバイス組み立てステップ、検査ステップ等を経て製造される。この場合、リソグラフィステップで、上記実施形態の露光装置を用いて前述の露光方法が実行され、ガラス基板上にデバイスパターンが形成されるので、高集積度のデバイスを生産性良く製造することができる。

　なお、本明細書において説明した以上の各構成・各方法は、相互に矛盾しない範囲内において、適宜組み合わせることができる。

　１０…マスクアダプタ、１１…枠部（被支持部）、１２ａ…表示部、１３…第１被検出部、１６…支持部、１８ａ…第１被認識部、１８ｂ…第２被認識部、１８ｃ…反射部、２０…マスクアダプタ取付工具、２３…昇降装置、２６…第２検出部、２７…書き込み部、２８…第３検出部、ＥＸ…露光装置、Ｈ２…搬送装置、Ｍ，Ｍ１，Ｍ２…マスク、ＭＢ…第３被検出部、ＭＢａ…第２被検出部、ＭＳＴ…マスクステージ（ステージ）、Ｐ…基板、Ｓ１…センサ（第１センサ）、Ｓ４…センサ（第２センサ）、Ｚ…上下方向

Claims

　ステージに支持されたマスクを照明し、前記マスクに形成されたパターンを基板上に露光する露光装置で使用され、前記マスクに取り付けられるマスクアダプタであって、
　前記パターンが形成された領域外で前記マスクを支持する支持部と、前記ステージに支持される被支持部と、を有する本体部と、
　前記本体部上であって、前記露光装置の検出部によって検出可能な第１被検出部と、を備え、
　前記第１被検出部は、前記マスクアダプタに関する情報を含む、マスクアダプタ。
　前記マスクアダプタに関する情報は、前記露光において、前記マスクが取り付けられた前記マスクアダプタを支持する前記ステージの移動を制御するための制御情報を含む、請求項１に記載のマスクアダプタ。
　前記マスクアダプタに関する情報は、前記マスクアダプタの剛性を含む、請求項１または２に記載のマスクアダプタ。
　前記第１被検出部は、バーコードである、請求項１から３のいずれか一項に記載のマスクアダプタ。
　ステージに支持されたマスクを照明し、前記マスクに形成されたパターンを基板上に露光する露光装置で使用され、前記マスクに取り付けられるマスクアダプタであって、
　前記マスクのうち前記パターンが形成された領域外に取り付けられる取付け部と、前記ステージに支持される被支持部と、を有する本体部と、
　前記本体部上であって、前記露光装置の検出部によって検出可能な第２被検出部と、を備え、
　前記第２被検出部は、前記マスクアダプタに取り付けられた前記マスクに関する情報を含む、マスクアダプタ。
　前記本体部上であって、前記露光装置の検出部によって検出可能な第２被検出部を備え、
　前記第２被検出部は、前記マスクアダプタに取り付けられた前記マスクに関する情報を含む、請求項１から４のいずれか一項に記載のマスクアダプタ。
　前記第１被検出部と前記第２被検出部とは、隣り合って配置されている、請求項６に記載のマスクアダプタ。
　前記マスクに関する情報は、前記マスクの平面度、前記マスクに形成されたパターンの種類、前記マスクの寸法誤差、前記マスクの重量誤差、前記マスクに形成されたパターンの描画誤差のうち少なくとも１つを含む、請求項５から７のいずれか一項に記載のマスクアダプタ。
　前記第２被検出部を変更可能に表示する表示部を備える、請求項５から８のいずれか一項に記載のマスクアダプタ。
　前記表示部は、前記マスクが有する前記マスクに関する情報を表示する、請求項９に記載のマスクアダプタ。
　前記第２被検出部は、電子バーコードである、請求項９または１０に記載のマスクアダプタ。
　前記表示部は、前記マスクアダプタに前記マスクとは異なる別のマスクが取り付けられると、前記別のマスクの前記マスクに関する情報を表示する、請求項８から１１のいずれか一項に記載のマスクアダプタ。
　ステージに支持されたマスクを照明し、前記マスクに形成されたパターンを基板上に露光する露光装置で使用され、前記マスクに取り付けられるマスクアダプタであって、
　前記マスクのうち前記パターンが形成された領域外に取り付けられる取付け部と、前記ステージに支持される被支持部と、を有する本体部と、
　前記マスクが取り付けられた前記マスクアダプタと前記マスクとは異なる別のマスクとをそれぞれ搬送可能な搬送装置により、前記マスクが取り付けられた前記マスクアダプタが前記ステージへ搬送されたことを、前記露光装置が第１センサを使って認識するための第１被認識部と、を備える、マスクアダプタ。
　前記マスクが取り付けられた前記マスクアダプタと前記別のマスクとをそれぞれ搬送可能な搬送装置により、前記マスクが取り付けられた前記マスクアダプタが前記ステージへ搬送されたことを、前記露光装置が第１センサを使って認識するための第１被認識部をさらに備える、請求項１～１２のいずれか一項に記載のマスクアダプタ。
　前記第１被認識部は、前記本体部上に設けられ、前記第１センサから射出された光を反射する反射部を備え、
　前記反射部は、前記第１センサから射出された光を前記第１センサが位置する方向とは異なる方向に反射する請求項１３または１４に記載のマスクアダプタ。
　前記第１被認識部は、前記第１センサから射出された光が通過する第１通過部を有する、請求項１３または１４に記載のマスクアダプタ。
　前記第１被認識部は、前記露光装置の前記搬送装置に設けられた前記第１センサによって検出される、請求項１３～１６のいずれか一項記載のマスクアダプタ。
　ステージに支持されたマスクを照明し、前記マスクに形成されたパターンを基板上に露光する露光装置で使用され、前記マスクに取り付けられるマスクアダプタであって、
　前記マスクのうち前記パターンが形成された領域外に取り付けられる取付け部と、前記ステージに支持される被支持部と、を有する本体部と、
　前記マスクが取り付けられた前記マスクアダプタと前記マスクとは異なる別のマスクとをそれぞれ支持可能な前記ステージに、前記マスクアダプタが支持されたことを前記露光装置が第２センサを使って認識するための第２被認識部と、を備えるマスクアダプタ。
　前記マスクが取り付けられた前記マスクアダプタと前記別のマスクとをそれぞれ支持可能な前記ステージに、前記マスクアダプタが支持されたことを前記露光装置が第２センサを使って認識するための第２被認識部を備える、請求項１から１７のいずれか一項に記載のマスクアダプタ。
　前記第２被認識部は、前記第２センサから射出された光が通過する第２通過部を有する、請求項１８または１９に記載のマスクアダプタ。
　前記第２通過部は、前記本体部に設けられた貫通孔である、請求項２０に記載のマスクアダプタ。
　前記第２被認識部は、前記ステージに設けられている前記第２センサにより検出される、請求項１８～２１のいずれか一項記載のマスクアダプタ。
　前記本体部は、前記マスクの周囲を囲む枠状の形状を有する、請求項１から２２のいずれか一項に記載のマスクアダプタ。
　請求項１から２３のいずれか一項に記載のマスクアダプタに取り付けられた前記マスクを照明する照明光学系と、
　前記照明光学系により照明された前記マスクのパターンを前記基板上に投影する投影光学系と、を備える、露光装置。
　請求項２４の露光装置で基板を露光処理することと、
　露光された前記基板を現像処理することと、
を含む、デバイス製造方法。
　請求項１～２３のいずれか一項に記載されたマスクアダプタに取り付けられたマスクを照明することと、
　照明された前記マスクのパターンの像を基板上に投影することにより、前記基板を露光することと、
　露光された前記基板を現像処理することと、
　を含む、デバイス製造方法。
　請求項１～２３のいずれか一項に記載のマスクアダプタに前記マスクを取り付ける、マスクアダプタ取付工具。
　マスク上に形成されたパターンを基板上に露光する露光装置で使用されるマスクアダプタに前記マスクを取り付けるマスクアダプタ取付工具であって、
　前記マスクアダプタに取り付けられる前記マスクに関する情報を含む第２被検出部を、前記マスクアダプタに設けられた表示部に表示させる書き込み部を備える、マスクアダプタ取付工具。
　前記マスクに設けられた前記マスクに関する情報を含む第３被検出部を検出する第２検出部を備え、
　前記書き込み部は、前記第２検出部によって前記第３被検出部から検出した情報に基づいて、前記表示部に前記第２被検出部を表示させる、請求項２８に記載のマスクアダプタ取付工具。
　前記マスクを前記マスクアダプタから取り外す工具でもあり、
　前記マスクが前記マスクアダプタから取り外されたことを検出する取り外し検出部を備え、
　前記書き込み部は、前記取り外し検出部によって前記マスクが前記マスクアダプタから取り外されたことを検出すると、前記表示部の表示を消去する、請求項２８または２９に記載のマスクアダプタ取付工具。
　前記マスクに設けられた前記マスクに関する情報を含む第３被検出部を検出する第２検出部を備える、請求項２７に記載のマスクアダプタ取付工具。
　マスク上に形成されたパターンを基板上に露光する露光装置で使用されるマスクアダプタに前記マスクを取り付けるマスクアダプタ取付工具であって、
　前記マスクに設けられた前記マスクに関する情報を含む第３被検出部を検出する第２検出部を備える、マスクアダプタ取付工具。
　前記マスクを、前記マスクアダプタに対して上下方向に移動させる昇降装置を備え、
　前記昇降装置は、前記マスクアダプタの上方に位置する前記マスクを下降させ、前記マスクアダプタへ配置させる、請求項２７から３２のいずれか一項に記載のマスクアダプタ取付工具。
　前記昇降装置は、平面視において前記マスクの周囲を囲む枠状を有する前記マスクアダプタへ、前記マスクを配置させる、請求項３３に記載のマスクアダプタ取付工具。
　請求項２７から３４のいずれか一項に記載のマスクアダプタ取付工具により、前記マスクアダプタに取り付けられた前記マスクを照明する照明光学系と、
　前記照明光学系により照明された前記マスクのパターンを前記基板上に投影する投影光学系と、を備える、露光装置。
　請求項２７～３４のいずれか一項に記載されたマスクアダプタ取付工具を用いて、マスクアダプタにマスクを取り付けることと、
　前記マスクアダプタに取り付けられた前記マスクを照明することと、
　照明された前記マスクのパターンの像を基板上に投影することにより、前記基板を露光することと、
　露光された前記基板を現像処理することと、
　を含むデバイス製造方法。