JPH07130607A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
- Publication number
- JPH07130607A JPH07130607A JP5159687A JP15968793A JPH07130607A JP H07130607 A JPH07130607 A JP H07130607A JP 5159687 A JP5159687 A JP 5159687A JP 15968793 A JP15968793 A JP 15968793A JP H07130607 A JPH07130607 A JP H07130607A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- case
- reticle
- information
- bar code
- opening
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70491—Information management, e.g. software; Active and passive control, e.g. details of controlling exposure processes or exposure tool monitoring processes
- G03F7/70541—Tagging, i.e. hardware or software tagging of features or components, e.g. using tagging scripts or tagging identifier codes for identification of chips, shots or wafers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/70741—Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70866—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece
Landscapes
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Library & Information Science (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 安全対策を施した基板ケース情報の自動読み
取り装置を備えた露光装置を提供することを目的とす
る。 【構成】 マスクＲの複数枚を個別に収納するケース２
を保持するライブラリー１と、ライブラリーを収納する
とともに、開閉扉１４を有する空調チャンバー２０とを
有し、マスクのパターンをウエハ１６へ転写する露光装
置において、開閉扉の開閉状態を検知する扉検知センサ
ー１１ａ、１１ｂと、ケースのライブラリーへの装着状
態を検知するケース位置センサー１２ａ、１２ｂと、ケ
ースのケースバーコードＢＣ１を読み取るリーダ８と、
リーダ駆動アーム１０とを備え、上記２つのセンサーか
らの夫々の検知信号に基づいて、開閉扉が閉状態であ
り、かつケースの全てが完全な位置に装着されていると
き、バーコードＢＣ１をリーダにより読み取るようにリ
ーダ駆動アームを作動させる。
取り装置を備えた露光装置を提供することを目的とす
る。 【構成】 マスクＲの複数枚を個別に収納するケース２
を保持するライブラリー１と、ライブラリーを収納する
とともに、開閉扉１４を有する空調チャンバー２０とを
有し、マスクのパターンをウエハ１６へ転写する露光装
置において、開閉扉の開閉状態を検知する扉検知センサ
ー１１ａ、１１ｂと、ケースのライブラリーへの装着状
態を検知するケース位置センサー１２ａ、１２ｂと、ケ
ースのケースバーコードＢＣ１を読み取るリーダ８と、
リーダ駆動アーム１０とを備え、上記２つのセンサーか
らの夫々の検知信号に基づいて、開閉扉が閉状態であ
り、かつケースの全てが完全な位置に装着されていると
き、バーコードＢＣ１をリーダにより読み取るようにリ
ーダ駆動アームを作動させる。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造装置や、液
晶基板製造装置等に用いられる多種多様なレチクルや、
多量に使用されるマスク等の基板を常に清浄な状態下で
正確に管理・保管し、且つ、必要な時に随時、基板を取
り出し、使用する事が可能な基板管理装置を備えた露光
装置に関するものである。
晶基板製造装置等に用いられる多種多様なレチクルや、
多量に使用されるマスク等の基板を常に清浄な状態下で
正確に管理・保管し、且つ、必要な時に随時、基板を取
り出し、使用する事が可能な基板管理装置を備えた露光
装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造工程や液晶表示素子製造工程
の一部であるフォトリソグラフィ−工程では、各工程毎
にレチクルやマスクを使用して、ウェハ上に回路を焼き
付けて、次のプロセスに移行するが、通常、フォトリソ
グラフィ−工程で使用されるパタ−ンは、それぞれ異な
っている。従って、各工程に応じて種々のレチクルやマ
スクを多量に必要とし、且つ、必要な時に所望のレチク
ルやマスクを取り出し、フォトリソグラフィ−工程で使
用するのが、一般的であり、膨大な量のレチクルやマス
クをレチクルストッカ−やレチクルチェンジャ−と言わ
れる装置で常に保管、及び管理している。ところで、従
来のこの種の装置は、レチクルやマスクを前記の管理装
置に保管する際に、必ずレチクルやマスクの情報を制御
部のコンピュ−タに手入力する必要があった。この場
合、レチクルやマスクの持っている情報を入力する手段
として、基板ケ−ス内に収納されたレチクルやマスクを
オペレ−タが基板ケ−スを開けてレチクルやマスクに書
き込まれた情報を目視にて確認した後でコンソ−ルから
入力する方法と、基板ケ−ス上にレチクルやマスクの情
報を表示して、これらをオペレ−タが確認した後、コン
ソ−ルから入力する方法がある。また、最近では、基板
ケ−ス上のレチクルやマスクの情報をたとえばバ−コ−
ドの様な管理コ−ドと併せて表示する事により、半自動
で入力する方法が取られてきた。同様に、レチクルやマ
スクの管理装置から、基板ケ−スと共に、レチクルやマ
スクを取り出す際にも、上記に述べた一連の作業を行っ
ていた。
の一部であるフォトリソグラフィ−工程では、各工程毎
にレチクルやマスクを使用して、ウェハ上に回路を焼き
付けて、次のプロセスに移行するが、通常、フォトリソ
グラフィ−工程で使用されるパタ−ンは、それぞれ異な
っている。従って、各工程に応じて種々のレチクルやマ
スクを多量に必要とし、且つ、必要な時に所望のレチク
ルやマスクを取り出し、フォトリソグラフィ−工程で使
用するのが、一般的であり、膨大な量のレチクルやマス
クをレチクルストッカ−やレチクルチェンジャ−と言わ
れる装置で常に保管、及び管理している。ところで、従
来のこの種の装置は、レチクルやマスクを前記の管理装
置に保管する際に、必ずレチクルやマスクの情報を制御
部のコンピュ−タに手入力する必要があった。この場
合、レチクルやマスクの持っている情報を入力する手段
として、基板ケ−ス内に収納されたレチクルやマスクを
オペレ−タが基板ケ−スを開けてレチクルやマスクに書
き込まれた情報を目視にて確認した後でコンソ−ルから
入力する方法と、基板ケ−ス上にレチクルやマスクの情
報を表示して、これらをオペレ−タが確認した後、コン
ソ−ルから入力する方法がある。また、最近では、基板
ケ−ス上のレチクルやマスクの情報をたとえばバ−コ−
ドの様な管理コ−ドと併せて表示する事により、半自動
で入力する方法が取られてきた。同様に、レチクルやマ
スクの管理装置から、基板ケ−スと共に、レチクルやマ
スクを取り出す際にも、上記に述べた一連の作業を行っ
ていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記の如き従来の技術
においては、レチクルやマスク等の基板若しくは、基板
ケ−ス上の情報表示や識別マ−クをオペレ−タが目視に
て確認し、手動にて入力していた為に、オペレ−タのミ
スに起因した基板及び、基板ケ−ス情報の誤読、及びコ
ンソ−ルへの誤入力をしてしまうという問題があった。
同様に、基板ケ−ス上のバ−コ−ド等で構成される識別
マ−クをバ−コ−ドリ−ダを用いてオペレ−タが読み取
る場合においても同様に、必ずオペレ−タの作業が介在
する為、誤入力をしてしまう問題が有った。又、上記レ
チクルやマスク等の基板上やそれら基板を収納するケー
ス上に付された識別マ−クを装置により自動的に読み取
り、装置定数（パラメ−タ）の１つとして処理する方法
も取られているが、この場合も、基板ケ−スの内に収納
されるべきレチクルやマスク等の基板が正しい組み合わ
せでなっかった場合、照合を行う事が出来ずに誤ったレ
チクルやマスクを使用しステッパやアライナ等でウェハ
を露光してしまうという非常に重大な問題点が有った。
そのため、レチクルやマスク上の識別マークとケース上
の識別マークとを自動的に読み取って比較（照合）する
ようにすれば、その問題は解決する。しかしながら、そ
のためには、基板ケースに付された識別マーク等の情報
パターンを自動的に読み取る装置を露光装置等に内蔵さ
せる必要がある。その場合、読み取り装置は基板ケース
の装着部付近に設けられるので、オペレータ等が基板ケ
ースの装着、交換のために作業している間に、読み取り
装置が作動すると、オペレータに思わぬ傷害を与えかね
ないといった安全上の問題が生じる。
においては、レチクルやマスク等の基板若しくは、基板
ケ−ス上の情報表示や識別マ−クをオペレ−タが目視に
て確認し、手動にて入力していた為に、オペレ−タのミ
スに起因した基板及び、基板ケ−ス情報の誤読、及びコ
ンソ−ルへの誤入力をしてしまうという問題があった。
同様に、基板ケ−ス上のバ−コ−ド等で構成される識別
マ−クをバ−コ−ドリ−ダを用いてオペレ−タが読み取
る場合においても同様に、必ずオペレ−タの作業が介在
する為、誤入力をしてしまう問題が有った。又、上記レ
チクルやマスク等の基板上やそれら基板を収納するケー
ス上に付された識別マ−クを装置により自動的に読み取
り、装置定数（パラメ−タ）の１つとして処理する方法
も取られているが、この場合も、基板ケ−スの内に収納
されるべきレチクルやマスク等の基板が正しい組み合わ
せでなっかった場合、照合を行う事が出来ずに誤ったレ
チクルやマスクを使用しステッパやアライナ等でウェハ
を露光してしまうという非常に重大な問題点が有った。
そのため、レチクルやマスク上の識別マークとケース上
の識別マークとを自動的に読み取って比較（照合）する
ようにすれば、その問題は解決する。しかしながら、そ
のためには、基板ケースに付された識別マーク等の情報
パターンを自動的に読み取る装置を露光装置等に内蔵さ
せる必要がある。その場合、読み取り装置は基板ケース
の装着部付近に設けられるので、オペレータ等が基板ケ
ースの装着、交換のために作業している間に、読み取り
装置が作動すると、オペレータに思わぬ傷害を与えかね
ないといった安全上の問題が生じる。
【０００４】そこで本発明は、露光装置のオペレータに
対する安全対策を施した基板ケース情報の自動読み取り
装置を備えた露光装置を提供することを目的とする。
対する安全対策を施した基板ケース情報の自動読み取り
装置を備えた露光装置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、マスク（Ｒ）
のパターンを感光基板（ウェハ１６）へ転写する露光機
器（７、１５、１７）と、露光機器で使用するマスク
（Ｒ）の複数枚を個別に収納する複数個のケース（２）
を着脱自在に保持するケース保管部（ライブラリー１）
と、選ばれた１つのケース（２）からマスクを取り出し
て露光機器のマスク載置部（７）へ搬送する搬送機構
（３、４、５、６）と、露光機器、ケース保管部、搬送
機構を空調された防塵空間内に収納するとともに、ケー
ス保管部（ライブラリー１）と対向した位置に開閉扉
（１４）を有する空調チャンバー（２０）とを備えた露
光装置に適用される。
のパターンを感光基板（ウェハ１６）へ転写する露光機
器（７、１５、１７）と、露光機器で使用するマスク
（Ｒ）の複数枚を個別に収納する複数個のケース（２）
を着脱自在に保持するケース保管部（ライブラリー１）
と、選ばれた１つのケース（２）からマスクを取り出し
て露光機器のマスク載置部（７）へ搬送する搬送機構
（３、４、５、６）と、露光機器、ケース保管部、搬送
機構を空調された防塵空間内に収納するとともに、ケー
ス保管部（ライブラリー１）と対向した位置に開閉扉
（１４）を有する空調チャンバー（２０）とを備えた露
光装置に適用される。
【０００６】そして本発明においては、ケース保管部
（１）と隣接して配置され、ケース（２）の夫々の特定
位置に付されたケース情報パターン（ケースバーコード
ＢＣ１）を読み取る情報読み取り手段（リーダ８）と、
この読み取り手段（８）がケース（２）の特定位置と対
向する状態で、ケース（２）の複数個の並び方向（上下
方向）に沿って相対移動させる移動手段（リーダ駆動ア
ーム１０）と、開閉扉（１４）の開閉状態を検知し、開
状態のときに第１の検知信号を出力する第１検知手段
（扉検知センサー１１ａ、１１ｂ）と、ケース保管部
（１）に装着されたケース（２）のうち少なくとも１個
がケース装着部分（スロット）に対して不完全な位置関
係で装着されているとき、第２の検知信号を出力する第
２検知手段（ケース位置センサー１２ａ、１２ｂ）とを
設ける。
（１）と隣接して配置され、ケース（２）の夫々の特定
位置に付されたケース情報パターン（ケースバーコード
ＢＣ１）を読み取る情報読み取り手段（リーダ８）と、
この読み取り手段（８）がケース（２）の特定位置と対
向する状態で、ケース（２）の複数個の並び方向（上下
方向）に沿って相対移動させる移動手段（リーダ駆動ア
ーム１０）と、開閉扉（１４）の開閉状態を検知し、開
状態のときに第１の検知信号を出力する第１検知手段
（扉検知センサー１１ａ、１１ｂ）と、ケース保管部
（１）に装着されたケース（２）のうち少なくとも１個
がケース装着部分（スロット）に対して不完全な位置関
係で装着されているとき、第２の検知信号を出力する第
２検知手段（ケース位置センサー１２ａ、１２ｂ）とを
設ける。
【０００７】その上でさらに、第１、第２の検知信号に
基づいて、開閉扉（１４）が閉じた状態で、かつケース
（２）の全てが完全な位置に装着されているとき、装着
されたケースの情報パターン（バーコードＢＣ１）を読
み取り手段（リーダ８）によって読み取るように、移動
手段（アーム１０）を作動させる制御手段（装置内の制
御用コンピュータ）を設けるようにした。
基づいて、開閉扉（１４）が閉じた状態で、かつケース
（２）の全てが完全な位置に装着されているとき、装着
されたケースの情報パターン（バーコードＢＣ１）を読
み取り手段（リーダ８）によって読み取るように、移動
手段（アーム１０）を作動させる制御手段（装置内の制
御用コンピュータ）を設けるようにした。
【０００８】
【作用】本発明では、露光装置を扱うオペレータがマス
クのケースを装置に装着したり、交換したりする際に、
不用意にケース保管部（ライブラリー１）と読み取り手
段（リーダ８）とが相対移動することによる事故を防止
できる。また、読み取り手段（リーダ８）が作動中は空
調チャンバー（２０）の開閉扉（１４）が開かないよう
にロックすることもできるので、未熟なオペレータに対
しても安全性が確保される。さらに、ケース保管部への
ケースの装着状態が不完全な場合、例え読み取り手段
（リーダ８）でケースの情報パターンを読み取り可能で
あっても、誤検出の可能性が生じるが、本発明ではケー
スの不完全な装着による読み取りエラーは生じない。さ
らにケースの不完全な装着によって読み取り手段（リー
ダ８）が相対移動時にそのケースと衝突することも未然
に防止できる。
クのケースを装置に装着したり、交換したりする際に、
不用意にケース保管部（ライブラリー１）と読み取り手
段（リーダ８）とが相対移動することによる事故を防止
できる。また、読み取り手段（リーダ８）が作動中は空
調チャンバー（２０）の開閉扉（１４）が開かないよう
にロックすることもできるので、未熟なオペレータに対
しても安全性が確保される。さらに、ケース保管部への
ケースの装着状態が不完全な場合、例え読み取り手段
（リーダ８）でケースの情報パターンを読み取り可能で
あっても、誤検出の可能性が生じるが、本発明ではケー
スの不完全な装着による読み取りエラーは生じない。さ
らにケースの不完全な装着によって読み取り手段（リー
ダ８）が相対移動時にそのケースと衝突することも未然
に防止できる。
【０００９】
【実施例】以下、図面を用いて本発明の実施例を説明す
る。図１は、本発明の第１実施例に係る基板管理装置を
組み込んだ半導体露光装置の概略構成図であり、第２図
は、該半導体露光装置の正面図である。先ず、図１にお
いて、露光時に使用されるレチクルＲが収納されたレチ
クルケ−ス２は、半導体露光装置を収納する空調チャン
バー２０の前面扉１４を開ける事によりケ−ス保管部
（ライブラリー）１に複数のスロット毎に装填・保管さ
れる。前面扉１４の開閉状態は、常に前面扉検知センサ
１１ａ，１１ｂによって監視され、同様に、レチクルケ
−ス２のライブラリー１への装着の有無は、ライブラリ
ー１の装着スロット毎に設けられたケ−ス有無センサ１
８によって監視される様構成されている。尚、前面扉１
４はスモークド・アクリル等の半透明の板材で作られて
いるため、必ずしも剛性が高くなく、オペレータが前面
扉１４を閉じたとしても、多少たわんでいることもあ
る。そのため前面扉検知センサー１１ａ、１１ｂは扉１
４の上部と下部の夫々の対応した２カ所に設け、扉１４
がたわみなく正しく閉じられているかを、２つのセンサ
ーのアンドで監視する。
る。図１は、本発明の第１実施例に係る基板管理装置を
組み込んだ半導体露光装置の概略構成図であり、第２図
は、該半導体露光装置の正面図である。先ず、図１にお
いて、露光時に使用されるレチクルＲが収納されたレチ
クルケ−ス２は、半導体露光装置を収納する空調チャン
バー２０の前面扉１４を開ける事によりケ−ス保管部
（ライブラリー）１に複数のスロット毎に装填・保管さ
れる。前面扉１４の開閉状態は、常に前面扉検知センサ
１１ａ，１１ｂによって監視され、同様に、レチクルケ
−ス２のライブラリー１への装着の有無は、ライブラリ
ー１の装着スロット毎に設けられたケ−ス有無センサ１
８によって監視される様構成されている。尚、前面扉１
４はスモークド・アクリル等の半透明の板材で作られて
いるため、必ずしも剛性が高くなく、オペレータが前面
扉１４を閉じたとしても、多少たわんでいることもあ
る。そのため前面扉検知センサー１１ａ、１１ｂは扉１
４の上部と下部の夫々の対応した２カ所に設け、扉１４
がたわみなく正しく閉じられているかを、２つのセンサ
ーのアンドで監視する。
【００１０】ケ−ス保管部１に装填された複数個のレチ
クルケ−ス２の背面（扉１４と対向する面）には、レチ
クルＲの識別情報を含むラベル状のケ−スバ−コ−ドＢ
Ｃ１が貼り替え可能に設けられ、このケ−スバ−コ−ド
ＢＣ１は、ライブラリー１の前面側を上下動するリ−ダ
駆動ア−ム１０に取り付けられたケ−スバ−コ−ドリ−
ダ８によって読み取られる。ケ−スバ−コ−ドＢＣ１の
識別情報は、後述するレチクルＲ上のレチクルバ−コ−
ドＢＣ２の識別情報と同内容（同一名）となっている
が、別々のバ−コ−ド規約で記録されている。例えば、
ケ−スバ−コ−ドＢＣ１は、一般的なコ−ド３９方式
で、また、レチクルバ−コ−ドＢＣ２は、独自方式によ
って、それぞれ構成されている。これらバーコードの規
約については後で詳しく述べる。また、ケ−ス位置セン
サ１２ａ，１２ｂは、ライブラリー１の一方の側面に垂
直に光ビームを投射し、その光ビームがレチクルケース
２の一部によって遮光されるか否かを検知する。これに
よって、ライブラリー１に装着された複数個のレチクル
ケースのうち、不完全な装着状態にあるケースの存在を
モニターする。
クルケ−ス２の背面（扉１４と対向する面）には、レチ
クルＲの識別情報を含むラベル状のケ−スバ−コ−ドＢ
Ｃ１が貼り替え可能に設けられ、このケ−スバ−コ−ド
ＢＣ１は、ライブラリー１の前面側を上下動するリ−ダ
駆動ア−ム１０に取り付けられたケ−スバ−コ−ドリ−
ダ８によって読み取られる。ケ−スバ−コ−ドＢＣ１の
識別情報は、後述するレチクルＲ上のレチクルバ−コ−
ドＢＣ２の識別情報と同内容（同一名）となっている
が、別々のバ−コ−ド規約で記録されている。例えば、
ケ−スバ−コ−ドＢＣ１は、一般的なコ−ド３９方式
で、また、レチクルバ−コ−ドＢＣ２は、独自方式によ
って、それぞれ構成されている。これらバーコードの規
約については後で詳しく述べる。また、ケ−ス位置セン
サ１２ａ，１２ｂは、ライブラリー１の一方の側面に垂
直に光ビームを投射し、その光ビームがレチクルケース
２の一部によって遮光されるか否かを検知する。これに
よって、ライブラリー１に装着された複数個のレチクル
ケースのうち、不完全な装着状態にあるケースの存在を
モニターする。
【００１１】次に、レチクルＲを搬送する部分の構成に
ついて説明するが、その構成は特公平１−３６２５５号
公報、特公平３−７８３号公報に開示されているので、
ここでは簡単に説明する。ライブラリー１に保管されて
いるレチクルケース２内のレチクルは、図１中でＸ−Ｙ
平面と平行に収納されている。このため、所望のレチク
ルＲをケース２から取り出したり、ケース２へ戻す搬送
アーム３がＹ，Ｚ方向に移動可能に設けられる。搬送ア
ーム３はライブラリー１に装着されたケース内に進入し
て、予め指定されたレチクルＲのみをＹ方向に取り出
し、そのままＺ方向の最上位置まで移動し、キャリア４
への受渡位置ＣＡ１迄レチクルＲを搬送する。搬送ア−
ム３には、真空吸着穴が設けられており、不図示の真空
ポンプのＯＮ，ＯＦＦによりレチクルＲを保持、解除す
る。キャリア４は、Ｘ，Ｚ方向に移動可能であり、その
下部に吸着穴を有する。また、キャリア４には４辺を基
準に２方向から挟み込んでレチクルＲをプリアライメン
トする機構（不図示）が設けられており、キャリア４
は、レチクルＲを受渡位置ＣＡ１から位置ＣＡ２まで搬
送する。
ついて説明するが、その構成は特公平１−３６２５５号
公報、特公平３−７８３号公報に開示されているので、
ここでは簡単に説明する。ライブラリー１に保管されて
いるレチクルケース２内のレチクルは、図１中でＸ−Ｙ
平面と平行に収納されている。このため、所望のレチク
ルＲをケース２から取り出したり、ケース２へ戻す搬送
アーム３がＹ，Ｚ方向に移動可能に設けられる。搬送ア
ーム３はライブラリー１に装着されたケース内に進入し
て、予め指定されたレチクルＲのみをＹ方向に取り出
し、そのままＺ方向の最上位置まで移動し、キャリア４
への受渡位置ＣＡ１迄レチクルＲを搬送する。搬送ア−
ム３には、真空吸着穴が設けられており、不図示の真空
ポンプのＯＮ，ＯＦＦによりレチクルＲを保持、解除す
る。キャリア４は、Ｘ，Ｚ方向に移動可能であり、その
下部に吸着穴を有する。また、キャリア４には４辺を基
準に２方向から挟み込んでレチクルＲをプリアライメン
トする機構（不図示）が設けられており、キャリア４
は、レチクルＲを受渡位置ＣＡ１から位置ＣＡ２まで搬
送する。
【００１２】ロ−ドア−ム５とアンロ−ドア−ム６はＹ
方向、Ｚ方向に移動可能である。ロ−ドア−ム５とアン
ロ−ドア−ム６とは、位置ＣＡ２とレチクルステージ７
との間をＹ方向に個別に移動可能であり、Ｚ方向につい
ては、一体に移動する構成となっている。ロ−ドア−ム
５とアンロ−ドア−ム６とには、搬送ア−ム３と同様に
レチクルＲ保持の為の真空吸着穴が設けられており、真
空のＯＮ，ＯＦＦによりレチクルＲの吸着保持、解除が
可能となっている。
方向、Ｚ方向に移動可能である。ロ−ドア−ム５とアン
ロ−ドア−ム６とは、位置ＣＡ２とレチクルステージ７
との間をＹ方向に個別に移動可能であり、Ｚ方向につい
ては、一体に移動する構成となっている。ロ−ドア−ム
５とアンロ−ドア−ム６とには、搬送ア−ム３と同様に
レチクルＲ保持の為の真空吸着穴が設けられており、真
空のＯＮ，ＯＦＦによりレチクルＲの吸着保持、解除が
可能となっている。
【００１３】ここで、レチクルステ−ジ７は、投影露光
装置の本体に設けられ、レチクルＲを露光の為に搭載す
るステ−ジである。レチクルステ−ジ７上に載置された
レチクルＲの原画パタ−ンは、投影レンズ１５を通して
ウェハステ−ジ１７上のウェハ１６に転写される。また
本装置には、ロードアーム５によってレチクルステージ
７へ搬送される途中のレチクルＲ上のレチクルバ−コー
ドＢＣ２を読み取るバ−コ−ドリ−ダ９が設けられ、さ
らにバーコードリーダ９の内容を解析する処理部１３が
設けられている。尚、此のバ−コ−ドリ−ダ９は、ライ
ブラリー１とレチクルステ−ジ７の間のレチクル搬送経
路上であれば、どの様な配置、構成でも良い。次に図２
について説明する。レチクルＲ上のレチクルバ−コ−ド
ＢＣ２には、識別情報が記録されているが、本発明の管
理装置を搭載した半導体露光装置の空調チャンバー２０
の外壁には、表示操作部（表示用ブラウン管とキーボー
ドのセット）１９が設けられ、ここで複数のレチクルＲ
の選択・登録が可能な構成に成っている。また、レチク
ルバ−コ−ドＢＣ２、ケ−スバ−コ−ドＢＣ１から読み
取られた識別情報、及び表示操作部１９より入力した命
令・条件及び識別情報等は、使用すべきレチクルＲのパ
タ−ン情報や各種の露光処理条件とともに予め相互に対
応付けられている。このため、レチクルバ−コ−ドＢＣ
２、ケ−スバ−コ−ドＢＣ１の夫々を読み取った情報、
及び表示操作部１９より予め入力された命令・条件等の
情報は、表示操作部１９と接続された装置制御用のコン
ピュータによって相互に照合される構成になっている。
尚、本実施例では、図２に示すように同一構成のライブ
ラリー１が左右に並置され、どちらのライブラリー１か
らもレチクルを搬送できるようになっている。
装置の本体に設けられ、レチクルＲを露光の為に搭載す
るステ−ジである。レチクルステ−ジ７上に載置された
レチクルＲの原画パタ−ンは、投影レンズ１５を通して
ウェハステ−ジ１７上のウェハ１６に転写される。また
本装置には、ロードアーム５によってレチクルステージ
７へ搬送される途中のレチクルＲ上のレチクルバ−コー
ドＢＣ２を読み取るバ−コ−ドリ−ダ９が設けられ、さ
らにバーコードリーダ９の内容を解析する処理部１３が
設けられている。尚、此のバ−コ−ドリ−ダ９は、ライ
ブラリー１とレチクルステ−ジ７の間のレチクル搬送経
路上であれば、どの様な配置、構成でも良い。次に図２
について説明する。レチクルＲ上のレチクルバ−コ−ド
ＢＣ２には、識別情報が記録されているが、本発明の管
理装置を搭載した半導体露光装置の空調チャンバー２０
の外壁には、表示操作部（表示用ブラウン管とキーボー
ドのセット）１９が設けられ、ここで複数のレチクルＲ
の選択・登録が可能な構成に成っている。また、レチク
ルバ−コ−ドＢＣ２、ケ−スバ−コ−ドＢＣ１から読み
取られた識別情報、及び表示操作部１９より入力した命
令・条件及び識別情報等は、使用すべきレチクルＲのパ
タ−ン情報や各種の露光処理条件とともに予め相互に対
応付けられている。このため、レチクルバ−コ−ドＢＣ
２、ケ−スバ−コ−ドＢＣ１の夫々を読み取った情報、
及び表示操作部１９より予め入力された命令・条件等の
情報は、表示操作部１９と接続された装置制御用のコン
ピュータによって相互に照合される構成になっている。
尚、本実施例では、図２に示すように同一構成のライブ
ラリー１が左右に並置され、どちらのライブラリー１か
らもレチクルを搬送できるようになっている。
【００１４】次に、前述の如く構成された半導体露光装
置の動作について図３、及び図４も加えて以下に説明す
る。図３は、本発明の実施例に於けるケ−スバ−コ−ド
リ−ダ８の単独シ−ケンスを表し、図４は、表示操作部
１９と接続されたコンピュ−タ（不図示）上での識別情
報を照合・処理する場合のシ−ケンスを示している。図
３において、レチクルＲを露光装置に装填してウェハを
露光する場合、ステップ１００からステップ１０２迄
は、オペレ−タのマニュアル作業（工程）であり、ステ
ップ１０３以降は露光装置の自動工程となる。
置の動作について図３、及び図４も加えて以下に説明す
る。図３は、本発明の実施例に於けるケ−スバ−コ−ド
リ−ダ８の単独シ−ケンスを表し、図４は、表示操作部
１９と接続されたコンピュ−タ（不図示）上での識別情
報を照合・処理する場合のシ−ケンスを示している。図
３において、レチクルＲを露光装置に装填してウェハを
露光する場合、ステップ１００からステップ１０２迄
は、オペレ−タのマニュアル作業（工程）であり、ステ
ップ１０３以降は露光装置の自動工程となる。
【００１５】先ず、ステップ１００で前面扉１４をオペ
レータが手動で開ける作業を行う。前面扉１４は、ケー
スバーコードリーダ８の駆動アーム１０が図２のように
最上部の待機位置にあるときだけ開けることができるよ
うにオートロックされる。この時、コンピュータは前面
扉検知センサ１１ａ、１１ｂがＯＦＦとなったことを確
認し、この状態でのケ−スバ−コ−ドリ−ダ８の動作、
及びリーダ駆動アーム１０の動作を完全に停止させる。
以上のように、リーダ駆動アーム１０がライブラリー１
の上部端部に用意されたホームポジションに退避する
迄、前面扉１４は安全機構（不図示）によって開かない
ようにロックされる為、操作未熟なオペレータに対する
安全性を高めている。
レータが手動で開ける作業を行う。前面扉１４は、ケー
スバーコードリーダ８の駆動アーム１０が図２のように
最上部の待機位置にあるときだけ開けることができるよ
うにオートロックされる。この時、コンピュータは前面
扉検知センサ１１ａ、１１ｂがＯＦＦとなったことを確
認し、この状態でのケ−スバ−コ−ドリ−ダ８の動作、
及びリーダ駆動アーム１０の動作を完全に停止させる。
以上のように、リーダ駆動アーム１０がライブラリー１
の上部端部に用意されたホームポジションに退避する
迄、前面扉１４は安全機構（不図示）によって開かない
ようにロックされる為、操作未熟なオペレータに対する
安全性を高めている。
【００１６】さて、次のステップ１０１において、オペ
レータは所望のレチクルＲが収納されたレチクルケース
２（１個もしくは複数個）を手動操作においてライブラ
リー１のスロットに装填し、ステップ１０２において空
調チャンバー２０の前面扉１４を手動操作で閉じる。そ
の後オペレータは表示操作部１９により、レチクルＲ情
報をその名前とともに入力し、露光工程の開始を指令す
る。この際レチクルＲに関する情報、及び露光装置の状
態（特にレチクルの保管位置、搬送状況等）は常に表示
操作部１９に表示され、確認が可能である。
レータは所望のレチクルＲが収納されたレチクルケース
２（１個もしくは複数個）を手動操作においてライブラ
リー１のスロットに装填し、ステップ１０２において空
調チャンバー２０の前面扉１４を手動操作で閉じる。そ
の後オペレータは表示操作部１９により、レチクルＲ情
報をその名前とともに入力し、露光工程の開始を指令す
る。この際レチクルＲに関する情報、及び露光装置の状
態（特にレチクルの保管位置、搬送状況等）は常に表示
操作部１９に表示され、確認が可能である。
【００１７】この後、次のステップ１０３、１０４、１
０５において、露光装置は自動的にライブラリー１の状
態を診断し、次に作業へ進めるか否かを判断する。ま
ず、ステップ１０３において、コンピュータは前面扉検
知センサ１１ａ、１１ｂにより、前面扉１４の開閉状態
をチェックする。万一、前面扉検知センサ１１ａ、１１
ｂのどちらか一方でも開状態（ＯＰＥＮ）の場合、処理
はステップ１１２に移り、ケ−スバ−コ−ドリ−ダ８、
及びリーダ駆動アーム１０が動作中でなければ、ただち
にステップ１１４に進み、表示操作部１９に前面扉１４
が開いている旨を表示（警告）すると共に、前面扉検知
センサ１１ａ、１１ｂが閉状態（ＣＬＯＳＥ）を検知す
るまで待機する。
０５において、露光装置は自動的にライブラリー１の状
態を診断し、次に作業へ進めるか否かを判断する。ま
ず、ステップ１０３において、コンピュータは前面扉検
知センサ１１ａ、１１ｂにより、前面扉１４の開閉状態
をチェックする。万一、前面扉検知センサ１１ａ、１１
ｂのどちらか一方でも開状態（ＯＰＥＮ）の場合、処理
はステップ１１２に移り、ケ−スバ−コ−ドリ−ダ８、
及びリーダ駆動アーム１０が動作中でなければ、ただち
にステップ１１４に進み、表示操作部１９に前面扉１４
が開いている旨を表示（警告）すると共に、前面扉検知
センサ１１ａ、１１ｂが閉状態（ＣＬＯＳＥ）を検知す
るまで待機する。
【００１８】また、ステップ１１２において、ケ−スバ
−コ−ドリ−ダ８、及びリーダ駆動アーム１０が作業中
（動作中）である場合は、ステップ１１３にてケ−スバ
−コ−−ドリ−ダ８、及びリーダ駆動アーム１０の動作
を総て停止させる処理を行ってから、ステップ１１４に
進み、同様に表示操作部１９に警告表示すると共に、前
面扉検知センサ１１ａ、１１ｂが閉状態（ＣＬＯＳＥ）
になる迄ステップ１０３の処理を繰り返しつつ待機す
る。
−コ−ドリ−ダ８、及びリーダ駆動アーム１０が作業中
（動作中）である場合は、ステップ１１３にてケ−スバ
−コ−−ドリ−ダ８、及びリーダ駆動アーム１０の動作
を総て停止させる処理を行ってから、ステップ１１４に
進み、同様に表示操作部１９に警告表示すると共に、前
面扉検知センサ１１ａ、１１ｂが閉状態（ＣＬＯＳＥ）
になる迄ステップ１０３の処理を繰り返しつつ待機す
る。
【００１９】一方、ステップ１０３で、前面扉検知セン
サ１１ａ、１１ｂがどちらも閉状態（ＣＬＯＳＥ）を検
知している場合は、処理がステップ１０４に移る事にな
る。ステップ１０４においては、レチクルケース２の装
填状態が正常か否かを判断する為に、レチクルケース有
無センサ１８、及びケース位置センサ１２ａ、１２ｂの
出力をチェックする。つまり、ライブラリー１に装填さ
れたレチクルケース２がスロット内の正常な位置に装填
されると、そのスロットに対応したレチクルケース有無
センサ１８は閉状態（ＯＮ）となり、且つケース位置セ
ンサ１２ａ、１２ｂの出力もＯＮ状態（ＯＫ）となる
為、処理は次のステップ１０５に移る事になる。
サ１１ａ、１１ｂがどちらも閉状態（ＣＬＯＳＥ）を検
知している場合は、処理がステップ１０４に移る事にな
る。ステップ１０４においては、レチクルケース２の装
填状態が正常か否かを判断する為に、レチクルケース有
無センサ１８、及びケース位置センサ１２ａ、１２ｂの
出力をチェックする。つまり、ライブラリー１に装填さ
れたレチクルケース２がスロット内の正常な位置に装填
されると、そのスロットに対応したレチクルケース有無
センサ１８は閉状態（ＯＮ）となり、且つケース位置セ
ンサ１２ａ、１２ｂの出力もＯＮ状態（ＯＫ）となる
為、処理は次のステップ１０５に移る事になる。
【００２０】しかし、万一ライブラリー１に装填された
レチクルケース２が異常位置にあると、すなわち、レチ
クルケース２が完全にライブラリー１のスロット内の位
置決め機構（不図示）迄挿入されておらず、レチクルケ
ース２がわずかに前方へ偏心して装填されている状態
（所謂飛び出しエラー）では、レチクルケース有無セン
サ１８が例え閉状態（ＯＮ）となっていても、ケース位
置センサ１２ａ、１２ｂはケースの一部分によって遮光
され、これによってライブラリー１内のどこかのスロッ
ト内のケースの装着が不完全であることがチェックされ
る。このような場合、リーダ駆動アーム１０とレチクル
ケース２との機械的な干渉（衝突）、及びケースバーコ
ードの読み取りエラーを防止するために、コンピュータ
はステップ１１５へ処理を進める。
レチクルケース２が異常位置にあると、すなわち、レチ
クルケース２が完全にライブラリー１のスロット内の位
置決め機構（不図示）迄挿入されておらず、レチクルケ
ース２がわずかに前方へ偏心して装填されている状態
（所謂飛び出しエラー）では、レチクルケース有無セン
サ１８が例え閉状態（ＯＮ）となっていても、ケース位
置センサ１２ａ、１２ｂはケースの一部分によって遮光
され、これによってライブラリー１内のどこかのスロッ
ト内のケースの装着が不完全であることがチェックされ
る。このような場合、リーダ駆動アーム１０とレチクル
ケース２との機械的な干渉（衝突）、及びケースバーコ
ードの読み取りエラーを防止するために、コンピュータ
はステップ１１５へ処理を進める。
【００２１】そのステップ１１５において露光装置は表
示操作部１９にケースの飛び出しエラーがある旨の表示
を行い、オペレータに警告を促す。このとき、レチクル
ケース２が装着されているにもかかわらず、レチクルケ
ース有無センサー１８が開状態（ＯＦＦ）になっている
スロットがある場合、コンピュータはそのスロット番号
を検知して表示操作部１９にその番号を表示する。ただ
し、そのためには、ライブラリー１の各スロット毎にケ
ースを装着したことをコンピュータに伝えるためのスイ
ッチを設け、オペレータがケース装着時にそのスイッチ
を押している必要がある。さて、オペレータはステップ
１１６において前面扉１４を開き、表示操作部１９の表
示情報に基づいて異常位置にあるレチクルケース２を見
つけ出し、そのケースをライブラリー１に再装填し直
す。このとき前面扉１４が開いているため処理はステッ
プ１０３に戻る事になる。
示操作部１９にケースの飛び出しエラーがある旨の表示
を行い、オペレータに警告を促す。このとき、レチクル
ケース２が装着されているにもかかわらず、レチクルケ
ース有無センサー１８が開状態（ＯＦＦ）になっている
スロットがある場合、コンピュータはそのスロット番号
を検知して表示操作部１９にその番号を表示する。ただ
し、そのためには、ライブラリー１の各スロット毎にケ
ースを装着したことをコンピュータに伝えるためのスイ
ッチを設け、オペレータがケース装着時にそのスイッチ
を押している必要がある。さて、オペレータはステップ
１１６において前面扉１４を開き、表示操作部１９の表
示情報に基づいて異常位置にあるレチクルケース２を見
つけ出し、そのケースをライブラリー１に再装填し直
す。このとき前面扉１４が開いているため処理はステッ
プ１０３に戻る事になる。
【００２２】またケース位置センサ１２ａ、１２ｂは透
過型センサを採用する事により、レチクルケース２の異
常状態が単数個であっても複数個であっても、投光部で
あるケース位置センサ１２ａから出射された光束は、い
ずれかの異常位置にあるレチクルケース２の一部分によ
って遮断される為、受光部であるケース位置センサ１２
ｂは出射光束を検出出来ず、いずれかのレチクルケース
２の装着状態に異常があることが判明する。
過型センサを採用する事により、レチクルケース２の異
常状態が単数個であっても複数個であっても、投光部で
あるケース位置センサ１２ａから出射された光束は、い
ずれかの異常位置にあるレチクルケース２の一部分によ
って遮断される為、受光部であるケース位置センサ１２
ｂは出射光束を検出出来ず、いずれかのレチクルケース
２の装着状態に異常があることが判明する。
【００２３】上記の処理において、総ての異常が無い場
合は読み取り工程前の安全確認作業が完了し、ステップ
１０５、１０６、１０７、１０８、１０９、１１０、１
１１に示されたケースバーコードＢＣ１の読み取り処理
を行う。ステップ１０５においては、通常ホームポジシ
ョンで待機しているはずのケースバーコードリーダ８
（図３中ではＲＣＢリーダとする）とリーダ駆動アーム
１０が動作状態（ホームポジション以外の位置）にある
かを確認し、動作状態の場合は、ステップ１０６におい
てケースバーコードリーダ８とリーダ駆動アーム１０を
一旦ホームポジションへ戻し、ケースバーコードリーダ
８の位置確認作業を行う。また、既にケースバーコード
ＢＣ１の読み取り作業が終了し、他の処理状態、又はス
タンバイ状態にある場合はステップ１０７における処理
となる。
合は読み取り工程前の安全確認作業が完了し、ステップ
１０５、１０６、１０７、１０８、１０９、１１０、１
１１に示されたケースバーコードＢＣ１の読み取り処理
を行う。ステップ１０５においては、通常ホームポジシ
ョンで待機しているはずのケースバーコードリーダ８
（図３中ではＲＣＢリーダとする）とリーダ駆動アーム
１０が動作状態（ホームポジション以外の位置）にある
かを確認し、動作状態の場合は、ステップ１０６におい
てケースバーコードリーダ８とリーダ駆動アーム１０を
一旦ホームポジションへ戻し、ケースバーコードリーダ
８の位置確認作業を行う。また、既にケースバーコード
ＢＣ１の読み取り作業が終了し、他の処理状態、又はス
タンバイ状態にある場合はステップ１０７における処理
となる。
【００２４】ステップ１０７において、ケースバーコー
ドＢＣ１の読み取り対象となるレチクルケース２が存在
しているかを判断する。これは、ライブラリー１に、例
えばオペレータが新たなレチクルケース２をステップ１
０１において５個装填した場合、そのうち１個目から５
個目迄はステップ１０７を経由し、ステップ１０８にお
いてリーダ駆動アーム１０を新たな５個のレチクルケー
ス２の背面位置へ順次移動させて、ステップ１０９にお
いて新たな５個のケースの夫々に貼り付けられたケース
バーコードＢＣ１をケースバーコードリーダ８にて順次
読み取り、その読み取った情報をスロット位置とともに
コンピュータへ転送する。このとき、ステップ１０９に
おいてケースバーコードＢＣ１の読み取りエラーが発生
した場合であっても、露光装置のコンピュータは、その
エラーを含んだ情報を登録し、次の未読み取り状態のレ
チクルケース２上に位置するケースバーコードＢＣ１の
読み取り処理を実行する。当然の事ながら、コンピュー
タに転送・登録された情報は、コンピュータで管理さ
れ、図４に示される処理ルーチンにより、レチクルＲ上
のレチクルバーコードＢＣ２、及び表示操作部１９より
入力された各種情報との比較照合に使われ、各種処理が
露光装置上で行われる。
ドＢＣ１の読み取り対象となるレチクルケース２が存在
しているかを判断する。これは、ライブラリー１に、例
えばオペレータが新たなレチクルケース２をステップ１
０１において５個装填した場合、そのうち１個目から５
個目迄はステップ１０７を経由し、ステップ１０８にお
いてリーダ駆動アーム１０を新たな５個のレチクルケー
ス２の背面位置へ順次移動させて、ステップ１０９にお
いて新たな５個のケースの夫々に貼り付けられたケース
バーコードＢＣ１をケースバーコードリーダ８にて順次
読み取り、その読み取った情報をスロット位置とともに
コンピュータへ転送する。このとき、ステップ１０９に
おいてケースバーコードＢＣ１の読み取りエラーが発生
した場合であっても、露光装置のコンピュータは、その
エラーを含んだ情報を登録し、次の未読み取り状態のレ
チクルケース２上に位置するケースバーコードＢＣ１の
読み取り処理を実行する。当然の事ながら、コンピュー
タに転送・登録された情報は、コンピュータで管理さ
れ、図４に示される処理ルーチンにより、レチクルＲ上
のレチクルバーコードＢＣ２、及び表示操作部１９より
入力された各種情報との比較照合に使われ、各種処理が
露光装置上で行われる。
【００２５】さて、新たなケースのうち５個目に当たる
レチクルケース２上のケースバーコードＢＣ１が読み取
られると、コンピュータはステップ１０７において、読
み取るべきレチクルケース２が無いと判断し、次のステ
ップ１１０において読み取りエラーの有無をチェック
し、エラーが無い場合は処理終了となる。しかし乍ら、
ケースバーコードＢＣ２の読み取りエラーがあった場
合、コンピュータはステップ１１１において表示操作部
１９よりその時のエラー状況（ステータス）を表示する
とともに、エラー回避に必要な操作等を表示する。
レチクルケース２上のケースバーコードＢＣ１が読み取
られると、コンピュータはステップ１０７において、読
み取るべきレチクルケース２が無いと判断し、次のステ
ップ１１０において読み取りエラーの有無をチェック
し、エラーが無い場合は処理終了となる。しかし乍ら、
ケースバーコードＢＣ２の読み取りエラーがあった場
合、コンピュータはステップ１１１において表示操作部
１９よりその時のエラー状況（ステータス）を表示する
とともに、エラー回避に必要な操作等を表示する。
【００２６】そしてステップ１１２でオペレータは、エ
ラーが発生した情報（レチクルコード）や各種修正作業
を表示操作部１９のキーボードより入力する。これによ
って読み取りエラーが生じたケース情報を遅滞なく修正
する事により、誤ったレチクルでの露光処理が回避でき
る。更に、ステップ１０３において監視される前面扉１
４の開閉状態は常に前面扉検知センサ１１ａ、１１ｂに
より検出されているので、その検知信号を、複数台の露
光装置を群管理するホストコンピュータに転送すること
によって、露光装置単体だけでなく、ホストコンピュー
タ上でもチェックすることができるので、２重の安全管
理がなされる。この場合、ホストコンピュータから工場
内の警報システムを作動させることもできる。さらに、
ステップ１０９で読み取られたケースバーコードＢＣ１
に含まれる情報をホストコンピュータに転送して管理す
るようにすれば、リソグラフィ工程を統括的に管理する
ホストコンピュータは総ての露光装置、あるいは検査装
置内で処理されている複数枚のレチクルの所在管理を迅
速に行う事が出来る。
ラーが発生した情報（レチクルコード）や各種修正作業
を表示操作部１９のキーボードより入力する。これによ
って読み取りエラーが生じたケース情報を遅滞なく修正
する事により、誤ったレチクルでの露光処理が回避でき
る。更に、ステップ１０３において監視される前面扉１
４の開閉状態は常に前面扉検知センサ１１ａ、１１ｂに
より検出されているので、その検知信号を、複数台の露
光装置を群管理するホストコンピュータに転送すること
によって、露光装置単体だけでなく、ホストコンピュー
タ上でもチェックすることができるので、２重の安全管
理がなされる。この場合、ホストコンピュータから工場
内の警報システムを作動させることもできる。さらに、
ステップ１０９で読み取られたケースバーコードＢＣ１
に含まれる情報をホストコンピュータに転送して管理す
るようにすれば、リソグラフィ工程を統括的に管理する
ホストコンピュータは総ての露光装置、あるいは検査装
置内で処理されている複数枚のレチクルの所在管理を迅
速に行う事が出来る。
【００２７】次に図１、及び図４を参照して、レチクル
ケース２のケースバーコードＢＣ１、レチクルＲ上のレ
チクルバーコードＢＣ２、及び露光装置の表示操作部１
９からオペレータが入力したレチクルの識別情報等を相
互に照合し、識別情報の照合結果により、露光装置の処
理を決定するシーケンスを説明する。図４に示されるス
テップ２０１は、先のステップ１０９に相当し、ライブ
ラリー１に装填されたレチクルケース２上のケースバー
コードＢＣ１を、ケースバーコードリーダ８で読み取
り、ケースバーコードＢＣ１に含まれているレチクルＲ
の識別情報を露光装置の制御コンピュータに登録すると
共に、工場内のホストコンピュータにも転送するステッ
プである。
ケース２のケースバーコードＢＣ１、レチクルＲ上のレ
チクルバーコードＢＣ２、及び露光装置の表示操作部１
９からオペレータが入力したレチクルの識別情報等を相
互に照合し、識別情報の照合結果により、露光装置の処
理を決定するシーケンスを説明する。図４に示されるス
テップ２０１は、先のステップ１０９に相当し、ライブ
ラリー１に装填されたレチクルケース２上のケースバー
コードＢＣ１を、ケースバーコードリーダ８で読み取
り、ケースバーコードＢＣ１に含まれているレチクルＲ
の識別情報を露光装置の制御コンピュータに登録すると
共に、工場内のホストコンピュータにも転送するステッ
プである。
【００２８】次に、ステップ２０２において、露光に使
用されるレチクルＲはコンピュータの指示に基づいて搬
送アーム３によりレチクルケース２より取り出され、ラ
イブラリー１の後部上方に位置するキャリア４への受け
渡し位置ＣＡ１にてキャリア４へ受け渡される。受け渡
されたレチクルＲはキャリア４上で正確にプリアライメ
ントされた後、キャリア４と共にロードアーム５への受
け渡し位置ＣＡ２に移動する。この時レチクルＲは、キ
ャリア４に堅固に真空吸着されている為、プリアライメ
ント以後の移動によるレチクルＲのＸＹ平面内の誤差は
殆ど無い機構となっている。ここで、ロードアーム５は
退避位置より前進し、位置ＣＡ２で待機するキャリア４
の直下に移動した後、上昇（Ｚ方向）し、プリアライメ
ントされた状態のまま正確にキャリア４よりレチクルＲ
を受け渡される。
用されるレチクルＲはコンピュータの指示に基づいて搬
送アーム３によりレチクルケース２より取り出され、ラ
イブラリー１の後部上方に位置するキャリア４への受け
渡し位置ＣＡ１にてキャリア４へ受け渡される。受け渡
されたレチクルＲはキャリア４上で正確にプリアライメ
ントされた後、キャリア４と共にロードアーム５への受
け渡し位置ＣＡ２に移動する。この時レチクルＲは、キ
ャリア４に堅固に真空吸着されている為、プリアライメ
ント以後の移動によるレチクルＲのＸＹ平面内の誤差は
殆ど無い機構となっている。ここで、ロードアーム５は
退避位置より前進し、位置ＣＡ２で待機するキャリア４
の直下に移動した後、上昇（Ｚ方向）し、プリアライメ
ントされた状態のまま正確にキャリア４よりレチクルＲ
を受け渡される。
【００２９】次に、ステップ２０３においてロードアー
ム５はレチクルＲを載置した状態で、レチクルバーコー
ドＢＣ２を読み取るバーコードリーダ９の直下を、処理
部１３からの同期信号を受けながら一定速度で通過す
る。レチクルＲ上のレチクルバーコードＢＣ２に含まれ
る識別情報（名前）がバーコードリーダ９で読み取られ
ると、その識別情報は瞬時に露光装置の制御コンピュー
タに登録されると共に、ホストコンピュータにも転送さ
れる。続くステップ２０４において、ステップ２０１に
て読み取られたレチクルケース２上の識別情報（名前）
と、ステップ２０３において読み取られたレチクルＲ上
の識別情報（名前）が同じであるか否かを照合する。こ
の時、ケース側とレチクル側の各識別情報に加えて、表
示操作部１９からオペレータによって入力されたレチク
ルの識別情報（名前）も併せて照合する。ステップ２０
４で比較照合された識別情報が１つでも異なる場合は、
処理はステップ２０６に移り、コンピュータは表示操作
部１９にエラーを表示する。
ム５はレチクルＲを載置した状態で、レチクルバーコー
ドＢＣ２を読み取るバーコードリーダ９の直下を、処理
部１３からの同期信号を受けながら一定速度で通過す
る。レチクルＲ上のレチクルバーコードＢＣ２に含まれ
る識別情報（名前）がバーコードリーダ９で読み取られ
ると、その識別情報は瞬時に露光装置の制御コンピュー
タに登録されると共に、ホストコンピュータにも転送さ
れる。続くステップ２０４において、ステップ２０１に
て読み取られたレチクルケース２上の識別情報（名前）
と、ステップ２０３において読み取られたレチクルＲ上
の識別情報（名前）が同じであるか否かを照合する。こ
の時、ケース側とレチクル側の各識別情報に加えて、表
示操作部１９からオペレータによって入力されたレチク
ルの識別情報（名前）も併せて照合する。ステップ２０
４で比較照合された識別情報が１つでも異なる場合は、
処理はステップ２０６に移り、コンピュータは表示操作
部１９にエラーを表示する。
【００３０】ステップ２０７においてオペレータは表示
されたエラー情報に基づいて、誤って読み取られた識別
情報を修正するか否かを判断し、修正しない場合は該当
するレチクルＲを未露光、エラーレチクルとして扱い、
レチクルの確認処理を終了する。しかしながら、ステッ
プ２０７で識別情報を修正すると判断し、ステップ２０
８で識別情報の各種データを修正して適正な状態に回復
させた場合、またはステップ２０４で前記レチクルケー
ス２上の識別情報とレチクルＲ上の識別情報とオペレー
タによる入力レチクル識別情報とが相互に一致した場合
は、ステップ２０５のウェハ露光処理が実行され、当該
レチクルＲによる一連の処理が終了する。
されたエラー情報に基づいて、誤って読み取られた識別
情報を修正するか否かを判断し、修正しない場合は該当
するレチクルＲを未露光、エラーレチクルとして扱い、
レチクルの確認処理を終了する。しかしながら、ステッ
プ２０７で識別情報を修正すると判断し、ステップ２０
８で識別情報の各種データを修正して適正な状態に回復
させた場合、またはステップ２０４で前記レチクルケー
ス２上の識別情報とレチクルＲ上の識別情報とオペレー
タによる入力レチクル識別情報とが相互に一致した場合
は、ステップ２０５のウェハ露光処理が実行され、当該
レチクルＲによる一連の処理が終了する。
【００３１】本実施例での基板管理システムは、レチク
ルＲ上の識別情報であるレチクルバーコードＢＣ２とレ
チクルケース２上の識別情報であるケースバーコードＢ
Ｃ１を敢えて異なった規格の識別情報、例えば、レチク
ルバーコードＢＣ２を独自のコード方式とし、ケースバ
ーコードＢＣ１を一般的なコード３９方式にする事によ
り、オペレ−タによる入力情報と併せて、比較、参照の
手段の多元化が図られている。また、本実施例の基板管
理システムでは、レチクルＲ上の識別情報と基板ケ−ス
上の識別情報とをバ−コ−ド方式としたが、いずれか一
方をキャラクタやドット等の全く異なった方式の識別情
報にして組み合わせることでも同様に比較、参照の手段
の多元化が図られる。
ルＲ上の識別情報であるレチクルバーコードＢＣ２とレ
チクルケース２上の識別情報であるケースバーコードＢ
Ｃ１を敢えて異なった規格の識別情報、例えば、レチク
ルバーコードＢＣ２を独自のコード方式とし、ケースバ
ーコードＢＣ１を一般的なコード３９方式にする事によ
り、オペレ−タによる入力情報と併せて、比較、参照の
手段の多元化が図られている。また、本実施例の基板管
理システムでは、レチクルＲ上の識別情報と基板ケ−ス
上の識別情報とをバ−コ−ド方式としたが、いずれか一
方をキャラクタやドット等の全く異なった方式の識別情
報にして組み合わせることでも同様に比較、参照の手段
の多元化が図られる。
【００３２】以上のように、レチクルＲ上のバーコード
ＢＣ２とレチクルケース２のバーコードＢＣ１との各規
格を互いに異ならせる際、独自の方式のバーコード規格
の一例としては、例えばUSP.4,567,361 に開示された方
式が知られている。ここに開示された方式は、１つのキ
ャラクターや制御コード（同期、スタート、ストップ
等）を表すバーコードが全て３本の暗線（各暗線の幅や
間隔はコード毎に異なる）で構成することを１つの独自
性としている。
ＢＣ２とレチクルケース２のバーコードＢＣ１との各規
格を互いに異ならせる際、独自の方式のバーコード規格
の一例としては、例えばUSP.4,567,361 に開示された方
式が知られている。ここに開示された方式は、１つのキ
ャラクターや制御コード（同期、スタート、ストップ
等）を表すバーコードが全て３本の暗線（各暗線の幅や
間隔はコード毎に異なる）で構成することを１つの独自
性としている。
【００３３】その他、独自方式のバーコード規格として
は、１つのキャラクターコードを８ビット分のバー（１
本の幅は例えば０．２３ｍｍ）で表し、読み取り走査方
向のはじめの１ビット目を常に暗線にしてスタートビッ
トとし、最後の８ビット目を常に透明線（地の色）にし
てストップビットとし、その間の２ビット目から７ビッ
ト目までの６ビット分でキャラクター（英文文字、数
字、記号等）を定義する方式もある。この場合、バーコ
ードはスタートビット側から読み取られることになり、
逆方向から読み取ることはできない。
は、１つのキャラクターコードを８ビット分のバー（１
本の幅は例えば０．２３ｍｍ）で表し、読み取り走査方
向のはじめの１ビット目を常に暗線にしてスタートビッ
トとし、最後の８ビット目を常に透明線（地の色）にし
てストップビットとし、その間の２ビット目から７ビッ
ト目までの６ビット分でキャラクター（英文文字、数
字、記号等）を定義する方式もある。この場合、バーコ
ードはスタートビット側から読み取られることになり、
逆方向から読み取ることはできない。
【００３４】そのようなバーコード規格を図５、図６を
参照して説明する。図５は、一連のバーコード列の配置
を示し、同図中の矢印方向に読み取り（読み取りレーザ
スポットの走査等）が行われる。一群のバーコード列の
最初と最後には、１つのコード分の幅（８ビット分）に
渡って暗部とされたブランクＢｒが形成される。読み取
りスタート側のブランクＢｒの直後、及び読み取りスト
ップ側のブランクＢｒの直前には３本の暗線を１ビット
おきに並べた同期コードＳＹＣが配置される。この同期
コードＳＹＣは他のキャラクターコードＣＣと区別する
ために、１ビット目は透明線に定められ、２ビット目、
４ビット目、６ビット目が暗線に定められている。
参照して説明する。図５は、一連のバーコード列の配置
を示し、同図中の矢印方向に読み取り（読み取りレーザ
スポットの走査等）が行われる。一群のバーコード列の
最初と最後には、１つのコード分の幅（８ビット分）に
渡って暗部とされたブランクＢｒが形成される。読み取
りスタート側のブランクＢｒの直後、及び読み取りスト
ップ側のブランクＢｒの直前には３本の暗線を１ビット
おきに並べた同期コードＳＹＣが配置される。この同期
コードＳＹＣは他のキャラクターコードＣＣと区別する
ために、１ビット目は透明線に定められ、２ビット目、
４ビット目、６ビット目が暗線に定められている。
【００３５】キャラクターコードＣＣは読み取り方向の
１ビット目ｂ１が暗線に定められ、８ビット目ｂ８が透
明線に定められ、そしてその間の２〜７ビット（ｂ２〜
ｂ７）分でキャラクターを表すように定められている。
キャラクターコードＣＣの一例は図６（Ａ）、（Ｂ）、
（Ｃ）に示すように定められ、６ビット目ｂ６と、７ビ
ット目ｂ７との２ビット分で４つのグループを表し、図
６（Ａ）のようにｂ６＝“０”（透明線）、ｂ７＝
“１”（暗線）のグループには主に記号“＃”、
“＆”、“％”、“／”がビットｂ２〜ｂ５の４ビット
分で割当てられている。また図６（Ｂ）に示すように、
ｂ６＝“１”、ｂ７＝“１”のグループには、主に数字
“０”〜“９”が割当てられ、図６（Ｃ）のようにｂ６
＝“１”、ｂ７＝“０”のグループとｂ６＝“０”、ｂ
７＝“０”のグループとの２つのグループには、主に英
大文字“Ａ”〜“Ｚ”が割当てられている。
１ビット目ｂ１が暗線に定められ、８ビット目ｂ８が透
明線に定められ、そしてその間の２〜７ビット（ｂ２〜
ｂ７）分でキャラクターを表すように定められている。
キャラクターコードＣＣの一例は図６（Ａ）、（Ｂ）、
（Ｃ）に示すように定められ、６ビット目ｂ６と、７ビ
ット目ｂ７との２ビット分で４つのグループを表し、図
６（Ａ）のようにｂ６＝“０”（透明線）、ｂ７＝
“１”（暗線）のグループには主に記号“＃”、
“＆”、“％”、“／”がビットｂ２〜ｂ５の４ビット
分で割当てられている。また図６（Ｂ）に示すように、
ｂ６＝“１”、ｂ７＝“１”のグループには、主に数字
“０”〜“９”が割当てられ、図６（Ｃ）のようにｂ６
＝“１”、ｂ７＝“０”のグループとｂ６＝“０”、ｂ
７＝“０”のグループとの２つのグループには、主に英
大文字“Ａ”〜“Ｚ”が割当てられている。
【００３６】このようなバーコード列は、主にレチクル
ＲのバーコードＢＣ２として設けられるが、ケース用の
バーコードＢＣ１として用いてもよい。例えば、図５、
６に示した独自のコード規格をケース用のバーコードＢ
Ｃ１として使い、レチクルＲ上のバーコードＢＣ２は、
先のUSP.4,567,361 に開示された独自のコード規格とし
てもよい。
ＲのバーコードＢＣ２として設けられるが、ケース用の
バーコードＢＣ１として用いてもよい。例えば、図５、
６に示した独自のコード規格をケース用のバーコードＢ
Ｃ１として使い、レチクルＲ上のバーコードＢＣ２は、
先のUSP.4,567,361 に開示された独自のコード規格とし
てもよい。
【００３７】また、コード規格が異なっていても、ケー
ス上のバーコードＢＣ１で表される名前等が、例えば
“TEST-EXP.AA ”であれば、それに収納されるレチクル
Ｒ上のバーコードＢＣ２も“TEST-EXP.AA ”の名前に定
められているのが原則である。その原則は、ケースのバ
ーコードＢＣ１の読み取り内容と、レチクルのバーコー
ドＢＣ２の読み取り内容とを直接照合する場合があるか
ら必要なのであって、先に述べたように、オペレータが
操作表示装置１９のキーボード等から入力した名前やコ
ード等を介在させた照合処理を行う場合は、必ずしもそ
の原則に従う必要はない。例えば、オペレータが操作表
示装置１９から登録した名前が“TEST-EXP.AA 1505G9-A
A ”である場合、ケース側のバーコードＢＣ１には名前
として、“TEST-EXP.AA ”が付され、レチクルＲ側のバ
ーコードＢＣ２には名前として“1505G9-AA ”が付され
ていても、照合結果をＯＫとすることができる。すなわ
ち、装置内のコンピュータはオペレータが登録した名前
の一部とケースの名前とが一致することをもって、ケー
スの適格性を判断し、さらにオペレータが登録した名前
の他の一部とレチクルＲの名前とが一致することをもっ
て、レチクルＲの適格性を判断するものである。
ス上のバーコードＢＣ１で表される名前等が、例えば
“TEST-EXP.AA ”であれば、それに収納されるレチクル
Ｒ上のバーコードＢＣ２も“TEST-EXP.AA ”の名前に定
められているのが原則である。その原則は、ケースのバ
ーコードＢＣ１の読み取り内容と、レチクルのバーコー
ドＢＣ２の読み取り内容とを直接照合する場合があるか
ら必要なのであって、先に述べたように、オペレータが
操作表示装置１９のキーボード等から入力した名前やコ
ード等を介在させた照合処理を行う場合は、必ずしもそ
の原則に従う必要はない。例えば、オペレータが操作表
示装置１９から登録した名前が“TEST-EXP.AA 1505G9-A
A ”である場合、ケース側のバーコードＢＣ１には名前
として、“TEST-EXP.AA ”が付され、レチクルＲ側のバ
ーコードＢＣ２には名前として“1505G9-AA ”が付され
ていても、照合結果をＯＫとすることができる。すなわ
ち、装置内のコンピュータはオペレータが登録した名前
の一部とケースの名前とが一致することをもって、ケー
スの適格性を判断し、さらにオペレータが登録した名前
の他の一部とレチクルＲの名前とが一致することをもっ
て、レチクルＲの適格性を判断するものである。
【００３８】このような場合、オペレータがレチクルＲ
をケース２に手動にて収納するとき、まちがいを起こし
易いように見えるが、実際にはレチクルＲ上、ケース２
上に付される情報パターンとして、オペレータが一読で
きる文字による印刷も併用されるので、そのようなまち
がいは起こりにくい。図７はレチクルＲ上のバーコード
ＢＣ２とレチクルの名前の文字表記ＮＲとの配置例を示
し、図８はケース２に貼り付けるラベルＬＢ上のバーコ
ードＢＣ１とレチクルの名前の文字表記ＮＲとの配置例
を示す。一般にオペレータはレチクルＲ上、又はケース
２上の文字表記ＮＲを確認して、互いに一致するレチク
ルＲとケース２とを組み合わせていく。このため、オペ
レータがキーボードから登録した名前を介在とした照合
処理の場合、各バーコードＢＣ１、ＢＣ２は、必ずしも
その文字表記ＮＲの全てを表すようにコード化されてい
る必要はない。
をケース２に手動にて収納するとき、まちがいを起こし
易いように見えるが、実際にはレチクルＲ上、ケース２
上に付される情報パターンとして、オペレータが一読で
きる文字による印刷も併用されるので、そのようなまち
がいは起こりにくい。図７はレチクルＲ上のバーコード
ＢＣ２とレチクルの名前の文字表記ＮＲとの配置例を示
し、図８はケース２に貼り付けるラベルＬＢ上のバーコ
ードＢＣ１とレチクルの名前の文字表記ＮＲとの配置例
を示す。一般にオペレータはレチクルＲ上、又はケース
２上の文字表記ＮＲを確認して、互いに一致するレチク
ルＲとケース２とを組み合わせていく。このため、オペ
レータがキーボードから登録した名前を介在とした照合
処理の場合、各バーコードＢＣ１、ＢＣ２は、必ずしも
その文字表記ＮＲの全てを表すようにコード化されてい
る必要はない。
【００３９】以上のように本実施例によれば、基板ケ−
ス上の情報を包含したケ−スバ−コ−ドＢＣ１を自動的
に読み取る機能を基板ケ−ス保管部１に付加し、且つ、
レチクルＲ上の情報を包含したレチクルバ−コ−ドＢＣ
２を自動的に読み取る機能を同様に付加し、同時に、オ
ペレ−タによる入力情報と併せて比較、参照する事によ
り各種情報を自動的に認識、登録、修正する事ができ、
基板管理の自動化に効果がある。加えて、本基板管理装
置は、レチクルＲ上の識別情報であるレチクルバーコー
ドＢＣ２とレチクルケース２上の識別情報であるケース
バーコードＢＣ１を敢えて異なった体系の識別情報、例
えば、レチクルバーコードＢＣ２を独自方式のバーコー
ドとし、ケースバーコードＢＣ１をコード３９の様に別
方式にする事により、ある一方の識別情報（独自方式の
バーコード）に製造上の大量欠陥が発生し読み取り不能
や読み取り誤りが頻発する状態においても、もう一方の
識別情報（例えばコード３９）により読み取り不能や誤
りによる大量のロット不良を防ぐ事が可能である。ま
た、欠陥の生じていない識別情報（例えばコード３９）
により、総ての管理情報を代替可能な為、非常に少ない
時間的ロスでエラー処理を行う事が可能である。つま
り、通常の経験において、例えばケースバーコードＢＣ
１が表されているコード３９に欠陥が発生しやすいとな
れば、表示操作部１９においてレチクルバーコードＢＣ
２が表されている独自方式のバーコードにプライオリテ
ィーを付加し、万一各々の識別情報間に照合の結果差異
が認められれば、ソフト上で自動的にレチクルバーコー
ドＢＣ２を優先してエラー処理し、復旧によるロスタイ
ムを無くす事も可能である。これは、従来の様に、オペ
レータがレチクルＲと識別情報を目視で観察する必要が
無く、且つ、同一方式の識別情報を利用する識別情報の
欠陥（例えば、バーコードやキャラクタの欠陥）に対し
て非常に安全性が高く、且つ、半導体製造工程の自動化
が図れるという大きな利点がある。その上、適正でない
レチクルによるウェハの誤露光を未然に防止する事が出
来る為、大量の製造損失を防ぐ事が出来る。
ス上の情報を包含したケ−スバ−コ−ドＢＣ１を自動的
に読み取る機能を基板ケ−ス保管部１に付加し、且つ、
レチクルＲ上の情報を包含したレチクルバ−コ−ドＢＣ
２を自動的に読み取る機能を同様に付加し、同時に、オ
ペレ−タによる入力情報と併せて比較、参照する事によ
り各種情報を自動的に認識、登録、修正する事ができ、
基板管理の自動化に効果がある。加えて、本基板管理装
置は、レチクルＲ上の識別情報であるレチクルバーコー
ドＢＣ２とレチクルケース２上の識別情報であるケース
バーコードＢＣ１を敢えて異なった体系の識別情報、例
えば、レチクルバーコードＢＣ２を独自方式のバーコー
ドとし、ケースバーコードＢＣ１をコード３９の様に別
方式にする事により、ある一方の識別情報（独自方式の
バーコード）に製造上の大量欠陥が発生し読み取り不能
や読み取り誤りが頻発する状態においても、もう一方の
識別情報（例えばコード３９）により読み取り不能や誤
りによる大量のロット不良を防ぐ事が可能である。ま
た、欠陥の生じていない識別情報（例えばコード３９）
により、総ての管理情報を代替可能な為、非常に少ない
時間的ロスでエラー処理を行う事が可能である。つま
り、通常の経験において、例えばケースバーコードＢＣ
１が表されているコード３９に欠陥が発生しやすいとな
れば、表示操作部１９においてレチクルバーコードＢＣ
２が表されている独自方式のバーコードにプライオリテ
ィーを付加し、万一各々の識別情報間に照合の結果差異
が認められれば、ソフト上で自動的にレチクルバーコー
ドＢＣ２を優先してエラー処理し、復旧によるロスタイ
ムを無くす事も可能である。これは、従来の様に、オペ
レータがレチクルＲと識別情報を目視で観察する必要が
無く、且つ、同一方式の識別情報を利用する識別情報の
欠陥（例えば、バーコードやキャラクタの欠陥）に対し
て非常に安全性が高く、且つ、半導体製造工程の自動化
が図れるという大きな利点がある。その上、適正でない
レチクルによるウェハの誤露光を未然に防止する事が出
来る為、大量の製造損失を防ぐ事が出来る。
【００４０】以上、本発明の実施例では、空調チャンバ
ー２０の前面扉１４の開閉状態と各レチクルケース２の
装着状態との両方を検知して、ケースバーコードリーダ
８を駆動可能としたが、前面扉１４の開閉状態は必ずし
もチェックする必要はない。その代わりに、ライブラリ
ー１のケース装着面側に、オペレータが手をさし込んだ
ことを検知する赤外線センサー（障害物センサー）を設
けることが必要となる。
ー２０の前面扉１４の開閉状態と各レチクルケース２の
装着状態との両方を検知して、ケースバーコードリーダ
８を駆動可能としたが、前面扉１４の開閉状態は必ずし
もチェックする必要はない。その代わりに、ライブラリ
ー１のケース装着面側に、オペレータが手をさし込んだ
ことを検知する赤外線センサー（障害物センサー）を設
けることが必要となる。
【００４１】以上、本発明の実施例では、露光装置に装
着されるレチクルケース２に関する管理について述べた
が、本発明は必ずしも露光装置への適用に限られるもの
ではない。例えば、特公平４−７３７７５号公報に開示
されているように、ライブラリーに装着されたケース内
に収納されたレチクルを水平に取り出して、レチクル上
の異物検査を行い、異物の付着したレチクルを垂直に持
ちかえて洗浄する装置に対しても本発明を全く同様に適
用できる。
着されるレチクルケース２に関する管理について述べた
が、本発明は必ずしも露光装置への適用に限られるもの
ではない。例えば、特公平４−７３７７５号公報に開示
されているように、ライブラリーに装着されたケース内
に収納されたレチクルを水平に取り出して、レチクル上
の異物検査を行い、異物の付着したレチクルを垂直に持
ちかえて洗浄する装置に対しても本発明を全く同様に適
用できる。
【００４２】このような洗浄装置は、複数個のケースを
装着するライブラリーと、ケース内のレチクルを搬送す
る搬送機構と、搬送されたレチクル上に付着した異物を
光電的に検出する異物検査部と、搬送機構を介して搬送
されるレチクルをスクラブ、もしくはウェット洗浄する
洗浄部と、それらライブラリー、搬送機構、異物検査
部、及び洗浄部を温調された防塵空間に一体に収納する
前面扉付の空調チャンバーとで構成される。
装着するライブラリーと、ケース内のレチクルを搬送す
る搬送機構と、搬送されたレチクル上に付着した異物を
光電的に検出する異物検査部と、搬送機構を介して搬送
されるレチクルをスクラブ、もしくはウェット洗浄する
洗浄部と、それらライブラリー、搬送機構、異物検査
部、及び洗浄部を温調された防塵空間に一体に収納する
前面扉付の空調チャンバーとで構成される。
【００４３】また本発明は、数百枚以上のレチクルを保
管するレチクルストッカーにも全く同様に適用できる。
レチクルストッカーとは空調チャンバー内に数百個のレ
チクル保管棚を有し、そこにレチクルをむき出しのまま
保管するものである。そして露光装置や洗浄装置で必要
とされるレチクルを取り出すときには、空のレチクルケ
ースを空調チャンバーの前面扉を開けてライブラリーに
セットし、保管棚の使用すべきレチクルの１枚を自動搬
送機構により取り出して、指定されたケース内に自動収
納するものである。従ってこの場合も、ケースに付され
た情報パターンとレチクルに付された情報パターンとを
比較して、その適正を判断することによって、レチクル
の誤った取り出しを防止することができる。
管するレチクルストッカーにも全く同様に適用できる。
レチクルストッカーとは空調チャンバー内に数百個のレ
チクル保管棚を有し、そこにレチクルをむき出しのまま
保管するものである。そして露光装置や洗浄装置で必要
とされるレチクルを取り出すときには、空のレチクルケ
ースを空調チャンバーの前面扉を開けてライブラリーに
セットし、保管棚の使用すべきレチクルの１枚を自動搬
送機構により取り出して、指定されたケース内に自動収
納するものである。従ってこの場合も、ケースに付され
た情報パターンとレチクルに付された情報パターンとを
比較して、その適正を判断することによって、レチクル
の誤った取り出しを防止することができる。
【００４４】
【発明の効果】以上本発明によれば、マスク（レチク
ル）ケース内に付与された情報パターンを自動的に読み
取る際、オペレータに対する安全性が十分に確保されて
いるので、情報読み取り手段が相対移動することによっ
てオペレータに思わぬ損害を与えることが防止される。
またケースの装着不良による事故（読み取り手段との衝
突）も防ぐことができる。
ル）ケース内に付与された情報パターンを自動的に読み
取る際、オペレータに対する安全性が十分に確保されて
いるので、情報読み取り手段が相対移動することによっ
てオペレータに思わぬ損害を与えることが防止される。
またケースの装着不良による事故（読み取り手段との衝
突）も防ぐことができる。
【図１】本発明による装置の実施例の概略構成図であ
る。
る。
【図２】本発明の管理装置を搭載した半導体露光装置の
正面図である。
正面図である。
【図３】本発明の実施例に於けるケ−スバ−コ−ドリ−
ダの単独シ−ケンスを示すフローチャートである。
ダの単独シ−ケンスを示すフローチャートである。
【図４】ホストコンピュ−タ上での識別情報を照合・処
理する場合のシ−ケンスを示すフローチャートである。
理する場合のシ−ケンスを示すフローチャートである。
【図５】独自のバーコード規格によるコードパターン配
列の一例を示す図である。
列の一例を示す図である。
【図６】独自のバーコード規格によるキャラクターコー
ドの一例を示す図である。
ドの一例を示す図である。
【図７】レチクル上に付与されたバーコードＢＣ２と文
字表示による名前との配列例を示す図である。
字表示による名前との配列例を示す図である。
【図８】ケース上に付与されるバーコードＢＣ１と文字
表記による名前とが印刷されたラベルの一例を示す図で
ある。
表記による名前とが印刷されたラベルの一例を示す図で
ある。
１−−−−−−基板ケ−ス保管部 ２−−−−−−レ
チクルケ−ス ３−−−−−−搬送ア−ム ４−−−−−−キ
ャリア ５−−−−−−ロ−ドア−ム ６−−−−−−ア
ンロ−ドア−ム ７−−−−−−レチクルステ−ジ ８−−−−−−ケ
−スバ−コ−ドリ−ダ ９−−−−−−バ−コ−ドリ−ダ １０−−−−−リ
−ダ駆動ア−ム １１ａ,b−−−前面扉検知センサ １２ａ,b−−−ケ
−ス位置センサ １３−−−−−処理部 １４−−−−−前
面扉 １５−−−−−投影レンズ １６−−−−−ウ
ェハ １７−−−−−ウェハステ−ジ １８−−−−−レ
チクルケ−ス有無センサ １９−−−−−表示操作部 ２０−−−−−半
導体露光装置 ＣＡ１−−−−受渡し位置 ＣＡ２−−−−プ
リアライメント位置 ＢＣ１−−−−ケ−スバ−コ−ド ＢＣ２−−−−レ
チクルバ−コ−ド Ｒ−−−−−−レチクル
チクルケ−ス ３−−−−−−搬送ア−ム ４−−−−−−キ
ャリア ５−−−−−−ロ−ドア−ム ６−−−−−−ア
ンロ−ドア−ム ７−−−−−−レチクルステ−ジ ８−−−−−−ケ
−スバ−コ−ドリ−ダ ９−−−−−−バ−コ−ドリ−ダ １０−−−−−リ
−ダ駆動ア−ム １１ａ,b−−−前面扉検知センサ １２ａ,b−−−ケ
−ス位置センサ １３−−−−−処理部 １４−−−−−前
面扉 １５−−−−−投影レンズ １６−−−−−ウ
ェハ １７−−−−−ウェハステ−ジ １８−−−−−レ
チクルケ−ス有無センサ １９−−−−−表示操作部 ２０−−−−−半
導体露光装置 ＣＡ１−−−−受渡し位置 ＣＡ２−−−−プ
リアライメント位置 ＢＣ１−−−−ケ−スバ−コ−ド ＢＣ２−−−−レ
チクルバ−コ−ド Ｒ−−−−−−レチクル
Claims (4)
- 【請求項１】マスクのパターンを感光基板へ転写する露
光機器と、該露光機器で使用すべきマスクの複数枚を個
別に収納する複数個のケースを着脱自在に保持するケー
ス保管部と、該ケース保管部内の選ばれた１つのケース
からマスクを取り出して前記露光機器のマスク載置部へ
搬送する搬送機構と、前記露光機器、ケース保管部、及
び搬送機構を、空調された防塵空間内に収納するととも
に、前記ケース保管部のケース装着部分と対向した位置
に開閉扉を有する空調チャンバーとで構成される露光装
置において、 前記空調チャンバー内の前記ケース保管部のケース装着
部分と隣接して配置され、前記ケースの夫々の特定位置
に付されたケース情報パターンを読み取る情報読み取り
手段と；該情報読み取り手段が前記ケースの特定位置と
対向する状態で、前記情報読み取り手段と前記ケース保
管部とを、前記ケースの複数個が並ぶ方向に沿って相対
移動させる移動手段と；前記開閉扉の開閉状態を検知
し、開状態のときに第１の検知信号を出力する第１検知
手段と；前記ケース保管部に装着されたケースのうちの
少なくとも１個が、ケース装着部分に対して不完全な位
置関係に装着されているとき、第２の検知信号を出力す
る第２検知手段と；前記第１、及び第２の検知信号に基
づいて、前記開閉扉が閉状態で、かつ前記ケースの全て
が完全な位置に装着されているとき、前記装着されたケ
ースの情報パターンを前記情報読み取り手段によって読
み取るように、前記移動手段を作動させる制御手段とを
設けたことを特徴とする露光装置。 - 【請求項２】前記開閉扉はロック機構を有し、前記制御
手段によって少なくとも前記移動手段が作動している間
は、前記ロック機構によって前記開閉扉が開かれること
を防止することを特徴とする請求項第１項に記載の装
置。 - 【請求項３】前記ケース保管部のケース装着部分は、前
記ケースの夫々を前記開閉扉の方向から挿入する複数の
スロットを上下方向に有し、前記情報読み取り手段は前
記複数のスロットの夫々に装着されたケースと前記開閉
扉との間の空間を前記移動手段によって上下方向に移動
する如く保持され、前記情報パターンは前記ケースの前
記開閉扉と対向する面側に着脱可能に貼り付けられたラ
ベルに形成されていることを特徴とする請求項第１項に
記載の装置。 - 【請求項４】前記制御手段は、前記情報読み取り手段に
よって前記複数のスロットの少なくとも１つに装着され
た新たなケースに付された情報パターンを読み取るよう
に前記移動手段を上下動させた後、前記読み取り手段を
前記複数のスロットの前面空間から退避した位置に設定
すべく前記移動手段を制御することを特徴とする請求項
第３項に記載の装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15968793A JP3412193B2 (ja) | 1993-06-29 | 1993-06-29 | 露光装置 |
| US08/249,268 US5442163A (en) | 1993-06-29 | 1994-05-25 | Exposure apparatus |
| KR1019940015115A KR950001890A (ko) | 1993-06-29 | 1994-06-29 | 광 노출 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15968793A JP3412193B2 (ja) | 1993-06-29 | 1993-06-29 | 露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07130607A true JPH07130607A (ja) | 1995-05-19 |
| JP3412193B2 JP3412193B2 (ja) | 2003-06-03 |
Family
ID=15699130
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15968793A Expired - Lifetime JP3412193B2 (ja) | 1993-06-29 | 1993-06-29 | 露光装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5442163A (ja) |
| JP (1) | JP3412193B2 (ja) |
| KR (1) | KR950001890A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002203775A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-07-19 | Nikon Corp | 露光装置 |
| JP2002353097A (ja) * | 2001-05-22 | 2002-12-06 | Nikon Corp | 除電装置及び露光装置 |
| JP2011124591A (ja) * | 2004-10-29 | 2011-06-23 | Nikon Corp | レチクル保護装置及び露光装置 |
| WO2020162396A1 (ja) * | 2019-02-06 | 2020-08-13 | 株式会社ニコン | マスクアダプタ、マスクアダプタ取付工具、露光装置、およびデバイス製造方法 |
Families Citing this family (30)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5752695A (en) * | 1996-04-08 | 1998-05-19 | Eastman Kodak Company | Film sample positioning apparatus |
| US5844683A (en) * | 1996-05-22 | 1998-12-01 | Applied Materials, Inc. | Position sensor system for substrate holders |
| JP3728015B2 (ja) * | 1996-06-12 | 2005-12-21 | キヤノン株式会社 | 電子ビーム露光システム及びそれを用いたデバイス製造方法 |
| JPH10154646A (ja) * | 1996-11-22 | 1998-06-09 | Nikon Corp | 搬送装置 |
| JPH10163094A (ja) * | 1996-12-03 | 1998-06-19 | Nikon Corp | 露光装置及び露光方法並びに搬送装置 |
| JPH10209039A (ja) | 1997-01-27 | 1998-08-07 | Nikon Corp | 投影露光方法及び投影露光装置 |
| EP0940721A3 (en) * | 1998-03-04 | 2003-03-12 | Agilent Technologies, Inc. (a Delaware corporation) | Reticle library apparatus and method |
| JPH11274050A (ja) * | 1998-03-25 | 1999-10-08 | Canon Inc | 露光装置およびデバイス製造方法 |
| AU3054999A (en) * | 1998-04-02 | 1999-10-25 | Nikon Corporation | Method and apparatus for wafer processing, and method and apparatus for exposure |
| US6466838B1 (en) * | 1998-05-14 | 2002-10-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Semiconductor exposure apparatus and device manufacturing method using the same |
| JP2000252200A (ja) | 1999-03-02 | 2000-09-14 | Nikon Corp | 露光用基板およびその情報読み取り方法および装置、露光装置、およびこれを用いた半導体デバイス製造方法 |
| TW446858B (en) * | 1999-04-21 | 2001-07-21 | Asm Lithography Bv | Lithographic projection apparatus, method of manufacturing a device using such a lithographic projection apparatus, and device made by such a method of manufacturing |
| JP4365934B2 (ja) * | 1999-05-10 | 2009-11-18 | キヤノン株式会社 | 露光装置、半導体製造装置およびデバイス製造方法 |
| US6592673B2 (en) | 1999-05-27 | 2003-07-15 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for detecting a presence or position of a substrate |
| TW490594B (en) * | 1999-06-09 | 2002-06-11 | Asm Lithography Bv | Lithographic projection method |
| US6421113B1 (en) * | 2000-02-14 | 2002-07-16 | Advanced Micro Devices, Inc. | Photolithography system including a SMIF pod and reticle library cassette designed for ESD protection |
| JP2001308003A (ja) * | 2000-02-15 | 2001-11-02 | Nikon Corp | 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法 |
| US6631102B2 (en) * | 2000-03-22 | 2003-10-07 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Imaging device and method for use in an autochanger |
| KR100342091B1 (ko) * | 2000-05-23 | 2002-06-26 | 송유진 | 원두커피 볶음기 및 그 제어방법 |
| US6848876B2 (en) * | 2001-01-12 | 2005-02-01 | Asyst Technologies, Inc. | Workpiece sorter operating with modular bare workpiece stockers and/or closed container stockers |
| KR100383260B1 (ko) * | 2001-03-08 | 2003-05-09 | 삼성전자주식회사 | 레티클 위치감지장치기능을 갖는 포크 암을 구비한 레이클이송장치 |
| JPWO2003017344A1 (ja) * | 2001-08-20 | 2004-12-09 | 株式会社ニコン | マスク交換方法及び露光装置 |
| DE10229988A1 (de) * | 2002-07-03 | 2004-02-05 | Infineon Technologies Ag | Verfahren und Anordnung zur Handhabung von Retikeln |
| KR100463341B1 (ko) * | 2002-09-18 | 2004-12-23 | 송유진 | 원두커피 볶음기 및 그 제어방법 |
| US6829035B2 (en) * | 2002-11-12 | 2004-12-07 | Applied Materials Israel, Ltd. | Advanced mask cleaning and handling |
| US6950176B1 (en) * | 2004-01-12 | 2005-09-27 | Advanced Micro Devices, Inc. | Method and system for monitoring EUV lithography mask flatness |
| GB2415291B (en) * | 2004-06-15 | 2008-08-13 | Nanobeam Ltd | Charged particle beam system |
| JP2006173276A (ja) * | 2004-12-14 | 2006-06-29 | Miraial Kk | レチクル処理システム |
| GB2476476B (en) * | 2009-12-23 | 2013-05-22 | Nanobeam Ltd | Charged particle beam system |
| CN114077163B (zh) * | 2020-08-14 | 2023-03-31 | 长鑫存储技术有限公司 | 光罩传送装置及曝光系统 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4433547A (en) * | 1982-07-30 | 1984-02-28 | Firey Joseph C | Torque leveller |
| US4567361A (en) * | 1983-05-23 | 1986-01-28 | Gca Corporation | Reticle bar code and method and apparatus for reading same |
| US4715392A (en) * | 1983-11-10 | 1987-12-29 | Nippon Kogaku K. K. | Automatic photomask or reticle washing and cleaning system |
| US5095195A (en) * | 1988-08-03 | 1992-03-10 | Thru-The-Wall Corporation | Automated videocassette dispensing terminal with reservation feature |
| JPH03783A (ja) * | 1989-05-29 | 1991-01-07 | Tamura Kaken Kk | スクリーン印刷用のインク及びその洗浄剤 |
-
1993
- 1993-06-29 JP JP15968793A patent/JP3412193B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1994
- 1994-05-25 US US08/249,268 patent/US5442163A/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-06-29 KR KR1019940015115A patent/KR950001890A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002203775A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-07-19 | Nikon Corp | 露光装置 |
| JP2002353097A (ja) * | 2001-05-22 | 2002-12-06 | Nikon Corp | 除電装置及び露光装置 |
| JP2011124591A (ja) * | 2004-10-29 | 2011-06-23 | Nikon Corp | レチクル保護装置及び露光装置 |
| WO2020162396A1 (ja) * | 2019-02-06 | 2020-08-13 | 株式会社ニコン | マスクアダプタ、マスクアダプタ取付工具、露光装置、およびデバイス製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR950001890A (ko) | 1995-01-04 |
| JP3412193B2 (ja) | 2003-06-03 |
| US5442163A (en) | 1995-08-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3412193B2 (ja) | 露光装置 | |
| TW309503B (ja) | ||
| US6480751B1 (en) | Component supplying method, component arrangement data forming method and electronic component mounting apparatus using the methods | |
| EP1343363A1 (en) | Feeder verification with a camera | |
| KR19990023632A (ko) | 기판관리장치 및 기판수납장치 | |
| JP4357861B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| JP2810899B2 (ja) | 電子部品誤実装防止装置 | |
| KR100292699B1 (ko) | 프로브 검사장치 | |
| WO1999003139A1 (fr) | Boitier de rangement et dispositif d'alignement | |
| JP5770014B2 (ja) | フォトマスク及び露光装置 | |
| JPH11147613A (ja) | 原版搬送装置 | |
| US7025262B2 (en) | Component control in a placement machine | |
| JP2001022053A (ja) | 基板収納ケースおよび露光装置 | |
| JPH06291500A (ja) | 電子部品実装方法 | |
| JP2000221138A (ja) | 基板検査装置および基板検査方法 | |
| JPH1184632A (ja) | ペリクルの管理装置、投影露光装置および投影露光方法 | |
| JPH10267860A (ja) | 異物検査装置 | |
| JP2757626B2 (ja) | レチクルケース | |
| JP3706955B2 (ja) | 露光方法 | |
| JPH11176723A (ja) | 接続識別装置 | |
| JPH07335539A (ja) | 半導体露光装置 | |
| JP3013359B2 (ja) | 半導体露光装置 | |
| JPS62281439A (ja) | 自動マスク搬送装置 | |
| JPS62102527A (ja) | 露光装置 | |
| KR100251275B1 (ko) | 체크섬기능을갖는에러체크방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140328 Year of fee payment: 11 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |