JPH1184632A - ペリクルの管理装置、投影露光装置および投影露光方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】ペリクル膜の材質やその透過率の低下などに応
じてペリクルを効果的に管理する管理装置を提供する。 【解決手段】原板Ｒを覆うペリクル２には、ペリクル２
のバーコード２Ｂが設けられる。このバーコード２Ｂを
バーコードリーダ４で読取って、ペリクル２のＩＤコー
ドを検出する、ＩＤコードでホストコンピュータをアク
セスし、ペリクル２の使用履歴やペリクル膜の材質を読
み出す。読み出された使用履歴から、ペリクル２の透過
率が所定値以下であると推定されるときは、その旨をモ
ニタに表示する。ペリクル膜の材質が露光に適していな
いときは、その旨をモニタに表示する。露光を禁止して
もよい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ペリクルで覆われ
た原板のパターンを基板に露光する投影露光装置や露光
方法に関する。また本発明は、ペリクルの使用履歴など
を管理する装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来から、原板（以下、レチクル）上に
形成されたパターンをペリクルで覆ったまま照明し、そ
のパターンを投影光学系を介して感光基板（以下、ウエ
ハと呼ぶ）に露光する投影露光装置が知られている。ペ
リクルは周知のように、ペリクル枠の一方の端面にペリ
クル膜を張り付けたものである。ペリクルを使用するこ
とにより、パターンに直接ごみが付着しないようにな
る。ペリクル枠の高さは、投影光学系の焦点深度よりも
パターン面から離れた位置にペリクル膜が配設されるよ
うに設定され、ペリクル膜にごみや塵が付着しても感光
基板上でごみの像がぼけ、パターン転写不良が防止され
る。

【０００３】ペリクルでパターンが覆われたレチクルを
ここではペリクル付きレチクルと呼ぶ。ペリクル付きレ
チクルを使用する場合の露光手順を以下に説明する。

【０００４】レチクルを洗浄する。 ペリクルをレチクルに貼る。レチクル上とペリクル膜
上のゴミの有無の検査を先行して行なうこともある。 ペリクルをレチクルに貼った後、ペリクル膜上のゴミ
の有無を検査する。 ペリクル付きレチクルをレチクルケースに収納してレ
チクルライブラリに保管する。 露光に必要なペリクル付きレチクルをレチクルライブ
ラリから取りだし、露光装置のレチクルステージ上に搬
送してセットする。 露光装置ではレチクルステージ上でレチクルをアライ
メントする。 レチクルパターンをウエハ上に露光する。 露光終了後、ペリクル付きレチクルはレチクルライブ
ラリまで搬送されてレチクルケースに収容される。 この間、必要に応じてレチクル、ペリクルのごみの有
無が検査される。

【０００５】上述したように、ペリクル付きレチクルの
ペリクル膜には、使用する露光装置に対応したｇ線、ｉ
線、エキシマレーザ等の露光光が照射される。そのた
め、ペリクル膜が露光光を吸収しペリクル膜の透過率が
低下することが知られている。あるいは、レチクルを保
管する環境中の汚染物質がペリクル膜に吸収されてその
透過率が低下することもある。

【０００６】上述したように、投影露光装置の露光光と
して従来主流であったｇ線、ｉ線に代ってエキシマレー
ザが使用されはじめている。ｇ線やｉ線の露光光に対し
ては有機系材料のペリクル膜が使用され、エキシマレー
ザに対しては無機系材料のペリクル膜が使用される。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】

（１）従来は、ペリクル膜の透過率を検査したり予測す
ることは行なっていないので、予め定めた一定の期間が
経過したときに一律にペリクル膜を張替えている。その
ため、実際には透過率が所定値以上であるのに張替える
といった無駄な作業を行なう場合もある。

【０００８】（２）周知のように、エキシマレーザは有
機物の組織を破壊するため、ｇ線あるいはｉ線用ペリク
ルを誤ってエキシマ用レチクルに使用した場合には、エ
キシマレーザにより瞬時にペリクル膜が融けてしまい、
ペリクルの張替えが必要となるばかりか、レチクル上に
融けたペリクルが付着し、ウエハ上に転写される回路パ
ターンに不良が発生する。

【０００９】本発明の第１の目的は、ペリクル膜の材質
やその透過率の低下などに応じてペリクルを効果的に管
理する管理装置を提供することにある。本発明の第２の
目的は、ペリクル膜の材質やその透過率の低下などを検
出して不適切なペリクルの使用を回避するようにした投
影露光装置および投影露光方法を提供することにある。

【課題を解決するための手段】 一実施の形態を示す図面に対応づけて本発明を説明す
る。 （１）請求項１の発明は、原板Ｒを覆うペリクル２の管
理装置に適用され、上述した目的は、ペリクル２に設け
られ、当該ペリクル２に関する情報が記録されている情
報記録部２Ｂと、情報を検出する検出手段４とを具備す
ることにより達成される。 （２）請求項２の発明は、請求項１記載のペリクルの管
理装置において、ペリクルに関する情報をペリクルを識
別する情報としたものである。 （３）請求項３の発明は、請求項１記載のペリクルの管
理装置において、ペリクルに関する情報をペリクル２の
使用履歴やペリクル膜の材質としたものである。 （４）請求項４の発明は、原板Ｒを覆うペリクルの管理
装置に適用され、上述した目的は、ペリクル２に設けら
れた識別マーク２Ｂを検出する検出手段４と、識別マー
ク２Ｂに対応づけてペリクル２に関する情報を記憶した
記憶手段４１と、検出手段４で検出された識別マーク２
Ｂに基づいて記憶手段４１からペリクルに関する情報を
読み出し、その結果を出力する出力手段４０，２０１，
２０２とを具備することにより達成される。 （５）請求項５の発明は、請求項４記載のペリクルの管
理装置において、ペリクル２に関する情報をペリクルの
使用履歴としたものである。 （６）請求項６の発明は、請求項４記載のペリクルの管
理装置において、ペリクル２に関する情報をペリクル膜
の材質としたものである。 （７）請求項７の発明は、原板Ｒを覆うペリクルの管理
装置に適用され、上述した目的は、ペリクル２に設けら
れその使用履歴を記憶した記憶手段２Ｃと、記憶手段２
Ｃから使用履歴を読み出す読み出し手段４Ａと、この読
み出し手段４Ａで読み出された使用履歴を出力する出力
手段２０１，２０２とを具備することにより達成され
る。 （８）請求項８の発明は、原板Ｒを覆うペリクルの管理
装置に適用され、上述した目的は、ペリクル２に設けら
れた識別マーク２Ｂを検出する検出手段４と、検出手段
４で検出された識別マーク２Ｂに基づいてペリクル２が
使用不可のものであると判定したときに、その結果を出
力する出力手段４０，２０１，２０２とを具備すること
により達成される。 （９）請求項９の発明は、請求項４〜８のいずれかに記
載のペリクルの管理装置において、出力手段４０，２０
１，２０２からの出力結果に基づいてそのペリクル２で
覆われた原板Ｒの使用を禁止する禁止手段１０を具備す
るものである。 （１０）請求項１０の発明は、請求項１〜９のいずれか
に記載のペリクルの管理装置において、検出手段４もし
くは読み出し手段４Ａを原板Ｒを搬送する搬送装置１０
に設けたものである。 （１１）請求項１１の発明は、原板Ｒに形成されたパタ
ーンの像を基板Ｗ上に露光する投影露光装置に適用さ
れ、上述した目的は、原板Ｒを覆うペルクル２に設けら
れた識別マーク２Ｂを検出する検出手段４と、検出手段
４の検出結果に基づいて、ペリクル２が当該露光装置で
使用可能か否かを判定する判定手段４０とを具備するこ
とにより達成される。 （１２）請求項１２の発明は、請求項１１記載の露光装
置において、判定手段４０が、検出手段４の検出結果に
対応づけられたペリクル２の使用履歴に基づいて判定を
行うようにしたものである。 （１３）請求項１３の発明は、請求項１１記載の露光装
置において、判定手段４０が、検出手段４の検出結果に
対応づけられたペリクル２のペリクル膜の材質に基づい
て判定を行うようにしたものである。 （１４）請求項１４の発明は、原板Ｒに形成されたパタ
ーンの像を基板Ｗ上に露光する投影露光方法に適用さ
れ、上述した目的は、原板Ｒを覆うペルクル２に設けら
れた識別マーク２Ｂを検出する検出工程と、検出工程の
検出結果に基づいて、ペリクル２が当該露光装置で使用
可能か否かを判定する判定工程とを具備することにより
達成される。

【００１０】なお、本発明の構成を説明する上記課題を
解決するための手段の項では、本発明を分かり易くする
ために発明の実施の形態の図を用いたが、これにより本
発明が実施の形態に限定されるものではない。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下図面を参照して本発明の実施
の形態について説明する。図１は本発明の第１の実施の
形態によるペリクルの管理装置を備えた基板搬送装置と
露光装置の概略構成を示す斜視図である。図１に示すよ
うに、基板搬送装置は、レチクルＲが収容されたレチク
ルケース１を水平状態にて積層させて収容可能な２つの
レチクルライブラリ１１Ａ，１１Ｂ（１１で代表して説
明する場合もある）と、それぞれのレチクルライブラリ
１１Ａ，１１Ｂのレチクルケース１からレチクルＲを取
り出す搬送アーム１２Ａ，１２Ｂ（１２で代表する場合
もある）と、搬送アーム１２により取り出されたレチク
ルＲを一時的に待機するレチクル待機部１３と、レチク
ル待機部１３に待機されたレチクルＲをレチクルステー
ジ２１に搬送するとともに、レチクルステージ２１上の
レチクルＲをレチクル待機部１３へ搬送する交換アーム
１４Ａ，１４Ｂ（１４で代表する場合もある）とを備え
て構成される。

【００１２】レチクル待機部１３は３つの待機ポジショ
ンＰ１〜Ｐ３においてレチクルＲを保持可能とされてお
り、各待機ポジションＰ１〜Ｐ３に保持されるレチクル
Ｒの２辺の位置決めを行うプリアライメント部（不図
示）を備える。レチクル待機部１３は不図示の移動機構
により図１のＸ方向に移動可能とされている。

【００１３】搬送アーム１２はレチクルＲを真空吸着し
て搬送するものであり、不図示の移動機構により図１の
Ｙ方向およびＺ方向に移動可能とされている。交換アー
ム１４は搬送アーム１２と同様にレチクルＲを真空吸着
して搬送するものであり、不図示の移動機構により図１
のＹ方向およびＺ方向に移動可能とされている。

【００１４】図２はペリクル付きレチクルＲを示し、レ
チクルＲの裏面ＳＲには図示しないパターンが形成さ
れ、このパターンを覆うようにペリクル２が張り付けら
れている。レチクルＲの裏面ＳＲにはバーコードＢＣが
設けられている。このバーコードＢＣにはレチクルＲの
種類等の情報が書込まれている。一方、ペリクル２のペ
リクル枠２Ａの側面にはペリクル２を識別するＩＤコー
ドがバーコード２Ｂとして記録されている。

【００１５】また図１において、交換アーム１４が移動
する経路の上方にはレチクルＲのバーコードＢＣを読取
るためのバーコードリーダ３が設けられ、レチクルステ
ージ２１の側方にはペリクル２のバーコード２Ｂを読取
るためのバーコードリーダ４が設けられている。

【００１６】図１において、投影露光装置２０は、レチ
クルＲが保持されるレチクルステージ２１と、ウエハＷ
を保持するウエハステージ２２と、レチクルＲのパター
ンをウエハＷ上に投影する投影光学系２３とを備えて構
成される。

【００１７】この実施の形態では、図３（ａ）に示すよ
うに、各々が図１に示すように構成される投影露光装置
２０Ａ〜２０Ｃと、各投影露光装置２０Ａ〜２０Ｃに付
設され、各々が図１に示すように構成される基板搬送装
置１０Ａ〜１０Ｃとがホストコンピュータ４０で統括制
御される。図３（ａ）では各露光装置２０Ａ〜２０Ｃの
それぞれにコータデベロッパー３０Ａ〜３０Ｃをそれぞ
れ設け、これらのコータデベロパー３０Ａ〜３０Ｃもホ
ストコンピュータ４０で統括制御される。たとえば、投
影露光装置２０Ａはｇ線露光光を使用し、投影露光装置
２０ＢはＩ線露光光を使用し、投影露光装置２０Ｃはエ
キシマレーザ露光光を使用する。

【００１８】図３（ｂ）に示すように、露光装置２０Ａ
〜２０Ｃは、ホストコンピュータ４０とＬＡＮ（ローカ
ルエリアネットワーク）で接続されたコンピュータ２０
１と、各種情報を表示するモニタ２０２とを備え、各露
光装置２０Ａ〜２０Ｃ側で個別に各種の露光条件を設定
できるようになっている。図示は省略するが、コータデ
ペロッパ３０Ａ〜３０Ｃも独自にコンピュータとモニタ
を備え、個別に各種の処理条件を設定できるようになっ
ている。

【００１９】この実施の形態では、ホストコンピュータ
４０には、ペリクル２に関する情報を記憶する記憶装置
４１が設けられている。記憶装置４１には、ペリクル２
ごとに割当てられたＩＤコードをアドレスとして、たと
えば、ペリクル２の使用履歴、使用可能な露光光の種類
などが記憶される。記憶装置４１にはレチクルＲに関す
る種々の情報も記憶される。レチクル情報に基づいて、
照明条件を含む種々の露光条件が読み出されて設定され
る。

【００２０】記憶装置４１に記憶される使用履歴につい
て説明する。ペリクル膜の透過率の低下は、上述したよ
うに、環境中（たとえばクリーンルーム）の汚染物質の
付着と露光光の照射による。そこで、記憶装置４１に
は、ペリクルへの照射時間と環境中での保管時間を計測
して記憶する。そして、照射積算時間による透過率の低
下特性を予め実験的に求めておき、ホストコンピュータ
４０には、記憶装置４１に記録した照射時間が所定時間
を越えたら透過率が所定値以下になったと推定するよう
なプログラムを設ける。また、環境中の保管時間に対す
る透過率の低下を予め実験的に求めておき、ホストコン
ピュータ４０には、記憶装置４１に記録した保管時間が
所定時間を越えたら透過率が所定値以下になったと推定
するようなプログラムを設ける。実際の透過率の低下は
両方の要因が複合的に重畳されたものであり、これらを
加味して、透過率を推定するのが好ましい。さらに詳細
には、露光光の種類、露光光の強度、ペリクルをクリー
ンルームに入れた日時、ペリクルを貼った日時、クリー
ンルームの区別等を加味するのが好ましい。

【００２１】照射時間の計測は次のようにして行うこと
ができる。たとえば、バーコードで特定される１枚のレ
チクルのパターンの像はウエハの複数のショット領域に
投影される。ここで、１ショットの時間、ショット数、
露光光の強度（照度）はホストコンピュータにより管理
されるので、ホストコンピュータで管理するこれらのデ
ータをレチクルのバーコードと関連づけて記憶すること
により、ペリクルの被照射時間を把握することができ
る。

【００２２】ペリクル付きレチクルがクリーンルーム中
に置かれる時間の計測は次のようにして行うことができ
る。ペリクルをレチクルに貼った時期と環境の種別（た
とえば、クリーンルーム番号）、レチクルをレチクルケ
ースに収納してストッカーに収納した時期とストッカー
番号、露光装置のライブラリにセットした時期と露光装
置の号機番号などをペリクルに対応づけて、その都度オ
ペレータがホストコンピュータに登録すればよい。

【００２３】あるいは、オペレータが介在せずにレチク
ルケースを自動搬送する場合には、自動搬送装置にペリ
クルの記憶素子への書込み装置を設け、ペリクル搬送に
連動して、書込み装置を用いてペリクルの記憶素子へ履
歴を書込めばよい。これにより、ペリクルの環境中の履
歴が把握できる。

【００２４】なお、通常、ペリクル付きレチクルとレチ
クルケースは１対１対応しているので、ペリクルのＩＤ
を直接読取れなくても、レチクルケースのバーコードを
読取ってペリクルのＩＤに関連づけることができ、レチ
クルケースのバーコードによりペリクルの使用履歴を把
握できる。たとえば、読取ったレチクルケースのバーコ
ードに対応してペリクルの使用履歴を記憶することがで
きる。この場合、ペリクルのＩＤに対応して使用履歴を
記憶する記憶領域を予め備えていれば、レチクルケース
のバーコードに対応して記憶されている使用履歴データ
を、ペリクルのＩＤに対応した記憶領域に転送してもよ
い。このようにすることにより、自動搬送の途中でペリ
クルのＩＤが読取れない場合でも、レチクルケースのＩ
Ｄが読取れれば正確に使用履歴の管理が可能となる。

【００２５】次いで、図１を参照して実施の形態の動作
について説明する。まず、搬送アーム１２がレチクルラ
イブラリ１１の＋Ｙ方向へ移動して、レチクルＲを吸着
する。その後、搬送アーム１２は−Ｙ方向および＋Ｚ方
向へ移動してレチクル待機部１３の待機ポジションＰ１
にレチクルＲを受け渡し、レチクル待機部１３から退避
する。レチクル待機部１３の待機ポジションＰ１におい
ては、プリアライメント部によりレチクルＲをプリアラ
イメントする。その後、待機部１３は実線のポジション
Ｐ２まで移動すると、交換アーム１４のフォーク部によ
り待機部１３上のレチクルＲを真空吸着して、レチクル
Ｒをレチクルステージ２１にローディングする。レチク
ルＲがレチクルステージ２１に載置されると、投影露光
装置２０はレチクルＲをファインアライメントし、ウエ
ハステージ２１を昇降してウエハＷ上に焦点位置を設定
する。その後、レチクルＲのパターンと共役なウエハＷ
のショット領域を投影光学系２３の光軸上に順次に位置
決めしながら繰り返し露光を行い、ウエハＷ上の複数の
ショット領域にパターンが投影露光される。

【００２６】レチクルＲがポジションＰ２の待機部１３
からレチクルステージ２１へ移動する途中で、レチクル
ＲのバーコードＢＣがバーコードリーダ３により読取ら
れる。バーコードリーダ３は読取った情報をホストコン
ピュータ４０に供給し、ホストコンピュータ４０は送ら
れてきたレチクルＲのバーコード情報に基づいて、露光
装置２０にセットされるレチクルＲを識別する。識別さ
れたレチクルＲが、予め定めた露光工程において正しい
レチクルであるか否かが判定され、正しければ、レチク
ルＲはレチクルステージ２１へ搬送される。正しくない
場合には、ホストコンピュータ４０の指令により、搬送
アーム１４は、待機部１３を経由してレチクルライブラ
リ１１へレチクルＲを戻し、正しいレチクルＲを取り出
す。レチクルＲが正しければ、ホストコンピュータ４０
はそのレチクルＲに適した照明光学系や投影光学系２３
を設定する。

【００２７】レチクルＲがレチクルステージ２１にセッ
トされると、バーコードリーダ４はペリクル２のバーコ
ード２ＢからＩＤコード情報を読取り、ホストコンピュ
ータ４０に供給する。ホストコンピュータ４０は、送ら
れてきたＩＤコード情報に基づいて、記憶装置４１をア
クセスして、ペリクル情報を読み出す。読み出されたペ
リクル情報の使用履歴に基づいて、ホストコンピュータ
４０は、ペリクルの透過率が所定値以下か否かを判定す
る。透過率が所定値以下と判定されると、ホストコンピ
ュータ４０は、ペリクル２の交換を促す情報を露光装置
２０のコンピュータ２０１を通してモニタ２０２に表示
して、オペレータに報知する。あるいは、ホストコンピ
ュータ４０が露光装置２０による露光を強制的に禁止
し、ペリクル付きレチクルをレチクルステージ２１から
取り除いてレチクルライブラリ１１へ戻してもよい。こ
の場合も、露光装置２０側のモニタ２０２にその旨の情
報を表示する。

【００２８】なお、ＩＤコードをペリクル枠の側面に設
けたバーコードで記録したが、バーコードの設置位置は
ここに限定されるわけではなく、適宜、最適な箇所に設
けることができる。

【００２９】−第２の実施の形態− レチクルステージ２１上にバーコードリーダ４を設け、
レチクルステージ２１上でペリクル２のＩＤコードを読
取るようにしたが、第２の実施の形態である図４に示す
ように、待機部１３のポジションＰ２の位置で読取るよ
うにバーコードリーダ４を配置することもできる。

【００３０】−第３の実施の形態− 第３の実施の形態である図５に示すように、レチクルラ
イブラリ１１Ａに収容されている状態でペリクル２のＩ
Ｄコードをバーコードリーダ４で読取るようにしてもよ
い。この場合、レチクルケース１を全体として透明容器
としたり、バーコードリーダ４と対向する領域に開口を
形成したレチクルケースを使用する必要がある。バーコ
ードリーダ４をレチクルライブラリ１１Ａの背面でＺ方
向に昇降するようにしてもよい。

【００３１】図５に示すように、レチクルライブラリ１
１においてペリクル２のバーコードを読取る場合には次
のような利点がある。レチクルステージ２１あるいは待
機部１３へ搬送した後にバーコードリーダ４で読取る方
式では、読取ったペリクルの使用履歴に基づいてホスト
コンピュータ４０がペリクル２が交換する時期にきてい
ると判定する場合には、レチクルステージ２１や待機部
１３からレチクルＲを戻す処理が必要である。しかしな
がら図５のような構成にすれば、レチクルライブラリ１
１Ａに収容されている間にペリクル２の使用履歴を読取
りことができ、レチクルステージ２１や待機部１３に搬
送する前にペリクル２の交換の要否を知ることができる
ので、無駄な搬送処理が不要となり、スループットが向
上する。

【００３２】なお、使用履歴の書込みは、ホストコンピ
ュータ４０からの指示、あるいはコンピュータ２０１か
らの指示により自動的に行うようにするのが好ましい。

【００３３】−変形例− 以上では、ＩＤコードをバーコードで表すようにした
が、２次元コード、文字コードなど、ペリクルが識別で
きるマークならばどのようなものでもよい。たとえば、
ペリクル枠の一部に色彩を施したり、所定の表面処理を
施したり、あるいは、凹凸を設ける等してもよい。この
場合、それぞれのマークを検出したり読み込むのに適し
たセンサやリーダが用いられる。

【００３４】また以上では、ホストコンピュータ４０の
記憶装置４１に予め格納した使用履歴に基づいてペリク
ル２の交換時期を判定するようにした。このような判定
に代えて、読取ったＩＤコードからペリクル膜の種類
（材質）、すなわち、ｇ線用か、ｉ線用か、エキシマ用
かを識別し、エキシマレーザを使用する露光装置２０Ｃ
にｇ線あるいはｉ線用ペリクルが使用されたレチクルＲ
が搬送されるときは、そのレチクルＲの使用を禁止する
ようにしてもよい。このようにペリクルの材質が露光光
に適しているかを判定することにより、ｇ線用、ｉ線用
のペリクルを誤ってエキシマ用レチクルに張り付け場合
でも、露光工程の前段階でその様なレチクルを排除で
き、ペリクルが融けて不良品が発生する事態を未然の防
止することができる。

【００３５】たとえば、ホストコンピュータ４０から露
光装置２０Ｃのコンピュータ２０１を介してそのモニタ
２０２上に使用不可を表示させることができる。この場
合、モニタ２０２上の表示にしたがって、作業者がレチ
クルを除去するように指示することができるが、ホスト
コンピュータ４０からの指示に基づいて、強制的にレチ
クルライブラリ１１に戻すようにしてもよい。露光装置
側のコンピュータ２０１によりペリクル付きレチクルの
適否を判断するようにしてもよい。

【００３６】ホストコンピュータ４０に使用履歴等の情
報を記憶する代りに、図６に示すように、ペリクル２そ
のものに記憶装置２Ｃを設けてもよい。たとえば、ＩＣ
メモリなどの記憶素子をペリクル２のペリクル枠に設置
し、バーコードリーダ４に代えて読取りヘッド４Ａを設
置し、その読取りヘッド４Ａを記憶装置２Ｃに接触させ
て記憶内容を読取ったり、あるいは非接触で記憶内容を
読取るようにしてもよい。この場合、磁気ヘッド４Ａで
使用履歴を書込むようにするのが好ましい。なお、使用
履歴の書込みは、ホストコンピュータ４０からの指示、
あるいはコンピュータ２０１からの指示により自動的に
行うようにするのが好ましい。

【００３７】また、以上のようなペリクル管理装置をペ
リクルの透過率などを検査する検査装置に使用すれば、
大量のペリクルに関するデータの管理を効率よく行うこ
とができる。あるいはまた、ペリクル張り付け装置、レ
チクル保管装置などの周辺装置に使用することもでき
る。

【００３８】以上の実施の形態と請求項との対応におい
て、バーコード２Ｂが識別マークや情報発生部を、バー
コードリーダ４が検出手段を、記憶装置４１あるいは記
憶装置４Ｃが記憶手段を、ホストコンピュータ４０とコ
ンピュータ２０１とモニタ２０２が出力手段を、ホスト
コンピュータ４０が判定手段を、読取りヘッド４Ａが読
取り手段を、使用不可のレチクルをレチクルライブラリ
１１に戻す搬送装置１０が禁止手段を、それぞれ構成す
る。

【００３９】

【発明の効果】以上詳細に説明したように本発明によれ
ば次のような効果を奏する。 （１）本発明によれば、原板を覆うペリクルに設けられ
た情報発生部からペリクルの各種情報を検出することが
でき、露光工程でのペリクルの使用の適否などを知るこ
とができる。またペリクルの張替え時期を適切に管理す
ることができる。 （２）請求項２，３，５，６の発明によれば、ペリクル
の使用履歴やペリクル膜の材質を読み出すことができ、
透過率の低下したペリクル付き原板や露光光に適さない
ペリクル付き原板を露光前に排除できる。 （３）請求項４，５，６の発明によれば、原板を覆うペ
リクルに設けられた識別マークで記憶手段をアクセスし
てペリクルの使用履歴やペリクル膜の材質を読み出し、
その結果を出力するようにしたので、作業者は使用履歴
やペリクル膜の材質に基づいてペリクルの状態を把握す
ることができる。その結果、透過率が所定値以下のペリ
クル付き原板や露光光に適さないペリクル膜を使用した
ペリクル付き原板の使用を禁止することができる。記憶
素子をペリクルに設ける場合に比べて記憶できる情報量
に制限がないという利点もある。 （４）請求項７の発明によれば、ペリクルに記憶素子を
設けので、ペリクルの使用履歴情報の記憶領域をホスト
コンピュータに予め設ける必要がなく、管理装置を簡単
に設けることができる。 （５）請求項８の発明は、原板を覆うペリクルに設けら
れた識別マークを検出すしてペリクルが使用不可のもの
であると判定されたときに、その結果を出力するように
したから、作業者はその出力結果に基づいてそのペリク
ル付き原板の使用を中止することができる。 （６）請求項９の発明によれば、請求項４〜８のいずれ
かに記載のペリクルの管理装置において、使用不可と判
定されたペリクル付き原板の使用が禁止されるから、作
業者がその結果を見誤っても確実にその使用不可のペリ
クルの使用を禁止でかいる。 （７）請求項１０の発明によれば、請求項１〜９のいず
れかに記載のペリクルの管理装置において、検出手段も
しくは読み出し手段が搬送装置に設けられるから、ペリ
クル情報を検出するためのスペースを設ける必要がな
い。 （８）請求項１１〜１４の発明によれば、原板を覆うペ
ルクルに設けられた識別マークを検出してそのペリクル
が当該露光装置で使用可能か否かを判定するようにした
ので、不適切なペリクル付き原板の使用を確実に禁止で
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態による基板搬送装置の構成
を示す斜視図

【図２】本発明の実施の形態によるペリクル付きレチク
ルを示す斜視図

【図３】本発明の実施の形態による制御系のブロック図

【図４】本発明の別の実施の形態による基板搬送装置の
構成を示す斜視図

【図５】本発明のさらに別の実施の形態による基板搬送
装置の構成を示す斜視図

【図６】本発明の実施の形態によるペリクル付きレチク
ルの他の例と読取りヘッドを示す斜視図

【符号の説明】

１ レチクルケース ２ ペリクル ２Ａ ペリクル枠 ２Ｂ バーコード ２Ｃ 記憶装置 ３ レチクル用バーコードリーダ ４ ペリクル用バーコードリーダ ４Ａ 読取りヘッド １０ 基板搬送装置 １１Ａ，１１Ｂ レチクルライブラリ １２Ａ，１２Ｂ 搬送アーム １３ レチクル待機部 １４ 交換アーム ２０ 投影露光装置 ３０Ａ〜３０Ｃ コータデベロッパ ４０ ホストコンピュータ ４１ 記憶装置 ＲＳ レチクルステージ

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】原板を覆うペリクルの管理装置において、 前記ペリクルに設けられ、当該ペリクルに関する情報が
   記録されている情報発生部と、 前記情報を検出する検出手段とを具備することを特徴と
   するペリクルの管理装置。
2. 【請求項２】請求項１記載のペリクルの管理装置におい
   て、 前記ペリクルに関する情報はペリクルを識別する情報で
   あることを特徴とするペリクルの管理装置。
3. 【請求項３】請求項１記載のペリクルの管理装置におい
   て、 前記ペリクルに関する情報は前記ペリクルの使用履歴ま
   たはペリクル膜の材質であることを特徴とするペリクル
   の管理装置。
4. 【請求項４】原板を覆うペリクルの管理装置において、 前記ペリクルに設けられた識別マークを検出する検出手
   段と、 前記識別マークに対応づけて前記ペリクルに関する情報
   を記憶した記憶手段と、 前記検出手段で検出された識別マークに基づいて前記記
   憶手段から前記ペリクルに関する情報を読み出し、その
   結果を出力する出力手段とを具備することを特徴とする
   ペリクルの管理装置。
5. 【請求項５】請求項４記載のペリクルの管理装置におい
   て、 前記ペリクルに関する情報は前記ペリクルの使用履歴で
   あることを特徴とするペリクルの管理装置。
6. 【請求項６】請求項４記載のペリクルの管理装置におい
   て、 前記ペリクルに関する情報はペリクル膜の材質であるこ
   とを特徴とするペリクルの管理装置。
7. 【請求項７】原板を覆うペリクルの管理装置において、 前記ペリクルに設けられ前記ペリクルの使用履歴を記憶
   した記憶手段と、 前記記憶手段から前記使用履歴を読み出す読み出し手段
   と、 この読み出し手段で読み出された使用履歴を出力する出
   力手段とを具備することを特徴とするペリクルの管理装
   置。
8. 【請求項８】原板を覆うペリクルの管理装置において、 前記ペリクルに設けられた識別マークを検出する検出手
   段と、 前記検出手段で検出された識別マークに基づいて前記ペ
   リクルが使用不可のものであると判定したときに、その
   結果を出力する出力手段とを具備することを特徴とする
   ペリクルの管理装置。
9. 【請求項９】請求項４〜８のいずれかに記載のペリクル
   の管理装置において、前記出力手段からの出力結果に基
   づいて、ペリクルで覆われた原板の使用を禁止する禁止
   手段を具備することを特徴とするペリクルの管理装置。
10. 【請求項１０】請求項１〜９のいずれかに記載のペリク
    ルの管理装置において、 前記検出手段もしくは読み出し手段を、前記原板を搬送
    する搬送装置に設けたことを特徴とするペリクルの管理
    装置。
11. 【請求項１１】原板に形成されたパターンの像を基板上
    に露光する投影露光装置において、 前記原板を覆うペルクルに設けられた識別マークを検出
    する検出手段と、 前記検出手段の検出結果に基づいて、前記ペリクルが当
    該露光装置で使用可能か否かを判定する判定手段とを具
    備することを特徴とする投影露光装置。
12. 【請求項１２】請求項１１記載の露光装置において、 前記判定手段は、前記検出手段で検出した検出結果に対
    応づけられているペリクルの使用履歴に基づいて前記判
    定を行うことを特徴とする投影露光装置。
13. 【請求項１３】請求項１１記載の露光装置において、 前記判定手段は、前記検出手段で検出した検出結果に対
    応づけられているペリクル膜の材質に基づいて前記判定
    を行うことを特徴とする投影露光装置。
14. 【請求項１４】原板に形成されたパターンの像を基板上
    に露光する投影露光方法において、 前記原板を覆うペルクルに設けられた識別マークを検出
    する検出工程と、 前記検出工程の検出結果に基づいて、前記ペリクルが当
    該露光装置で使用可能か否かを判定する判定工程とを具
    備することを特徴とする投影露光方法。