KR100774828B1 - 레티클 방향전환장치 - Google Patents
레티클 방향전환장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100774828B1 KR100774828B1 KR1020060129287A KR20060129287A KR100774828B1 KR 100774828 B1 KR100774828 B1 KR 100774828B1 KR 1020060129287 A KR1020060129287 A KR 1020060129287A KR 20060129287 A KR20060129287 A KR 20060129287A KR 100774828 B1 KR100774828 B1 KR 100774828B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- reticle
- case
- rotary actuator
- stage
- redirection device
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/66—Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
- H01L21/6735—Closed carriers
- H01L21/67359—Closed carriers specially adapted for containing masks, reticles or pellicles
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
- H01L21/67715—Changing the direction of the conveying path
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
본 발명은 레티클의 이송 방향을 전환시킬 수 있는 방향전환장치를 구비하여 서로 다른 종류의 레티클케이스 내부에 레티클을 원하는 특정 방향으로 수납시킬 수 있도록 한 레티클 방향전환장치에 관한 것이다.
이를 실현하기 위한 본 발명은 레티클케이스의 내부에 수납된 레티클을 이송시키기 위한 레티클 이송장치를 포함하는 레티클 방향전환장치에 있어서,
상기 레티클케이스의 일측에 위치되어 레티클이 상면에 로딩될 수 있도록 구비된 회전스테이지; 상기 스테이지의 저면에 결합되어 일측 방향으로 회전되는 로터리액츄에이터; 를 포함하는 것을 특징으로 한다.
이와 같은 본 발명에 의하면, 레티클의 방향을 전환시킬 수 있는 방향전환장치를 구비하여 서로 다른 종류의 레티클케이스 내부에 레티클을 원하는 특정 방향으로 자동 수납시킬 수 있게 됨으로써, 상기 레티클의 파손을 방지할 수 있는 장점이 있다.
포토마스크 공정, 레티클, 레티클케이스, 방향전환
Description
도 1은 종래의 레티클 이송장치를 보여주는 개략적인 구성도,
도 2는 본 발명에 따른 레티클 방향전환장치를 보여주는 구성도,
도 3은 본 발명에 따른 레티클 방향전환장치의 구성으로 보여주는 측면도,
도 4는 본 발명에 따른 레티클 방향전환장치의 다른 실시예를 보여주는 구성도이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
10 : 방향전환장치 11 : 회전스테이지
12 : 로터리액츄에이터 100 : 레티클케이스
110 : 레티클 200 : 레티클케이스
300 : 레티클이송장치
본 발명은 레티클 방향전환장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 레티클의 이송 방향을 전환시킬 수 있는 방향전환장치를 구비하여 서로 다른 종류의 레티클 케이스 내부에 레티클을 원하는 특정 방향으로 수납시킬 수 있도록 한 레티클 방향전환장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 제조공정 중 포토마스크(photo mask) 공정은 웨이퍼 상에 실제로 필요로 하는 회로를 구현하기 위하여 설계하고자 하는 회로 패턴이 그려진 레티클(reticle) 또는 마스크(mask)에 빛을 조사하여 웨이퍼 상에 도포된 감광제(photo resist)를 감광시킴으로써 원하는 패턴을 웨이퍼 상에 형성할 수 있게 된다.
통상 '노광 공정' 또는 '사진식각공정'이라 불리는 이 공정은 웨이퍼 표면에 일정한 패턴을 형성하는 과정과 관련된 것이다.
즉, 포토마스크공정은 사진 기술과 화학적 부식법을 병용한 것으로, 웨이퍼 상에 감광제를 도포한 후, 상기 웨이퍼를 원하는 방향의 빛만 통과시키도록 패턴 정보가 담겨져 있는 레티클을 투과한 빛에 노출시키면, 상기 감광제는 레티클에 담겨진 패턴에 따라 원하는 영역에서만 감광되므로, 감광된 영역의 감광제를 제거함으로써, 웨이퍼 표면에 원하는 패턴이 형성될 수 있는 것이다.
상기 레티클은 주변의 공기 속에 떠다니는 파티클의 부착이나 사람이 직접 접촉하는 것에 의해 발생하는 오염 또는 손상 등을 방지하기 위해 전용 레티클 케이스에 수용하여 취급하게 되는 것이 일반적이다.
도 1은 종래의 레티클 이송장치를 보여주는 개략적인 구성도이다.
도 1을 참조하면, 포토마스크공정에는 여러 종류의 서로 다른 레티클 케이스(100),(200)를 사용하게 되고, 레티클(110)은 레티클이송장치(300)를 통하여 이 송되게 된다.
그러나 상기 같은 종류의 레티클케이스(100) 간에는 레티클(110)의 이송 방향이 동일하여 레티클이송장치(300)를 통하여 이송할 수 있지만, 상기 레티클케이스(100)에서 다른 종류의 레티클케이스(200)로 이송될 경우에는 레티클(110)의 방향이 180°반대로 수납되어 있어 상기 레티클이송장치(300)로 이송하기에는 어려움이 있다.
이 경우 상기 레티클이송장치(300)의 사용이 불가능하므로 작업자가 상기 레티클(110)을 직접 들어서 이송하여야 하는 번거로움이 있다.
또한, 상기 레티클(110)을 작업자가 직접 이송하는 과정에서 실수로 인하여 레티클(110)이 파손되는 문제점이 있다.
본 발명은 상술한 문제점을 해결하고자 안출된 것으로, 레티클의 방향을 전환시킬 수 있는 방향전환장치를 구비함으로써 서로 다른 종류의 레티클케이스 내부에 레티클을 원하는 특정 방향으로 수납시킬 수 있는 레티클 방향전환장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
상술한 바와 같은 목적을 구현하기 위한 본 발명의 레티클 방향전환장치는,
레티클케이스의 내부에 수납된 레티클을 이송시키기 위한 레티클 이송장치를 포함하는 레티클 방향전환장치에 있어서,
상기 레티클케이스의 일측에 위치되어 레티클이 상면에 로딩될 수 있도록 구비된 회전스테이지; 상기 스테이지의 저면에 결합되어 일측 방향으로 회전되는 로터리액츄에이터; 를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 로터리액츄에이터는 수평방향으로 180°씩 회전되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 레티클이송장치의 그립은 모터의 동력을 전달받아 회전가능하게 조립된 것을 특징으로 한다.
이하 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대한 구성 및 작용을 상세히 설명하면 다음과 같다.
여기서, 종래 구성과 동일한 부분에 대해서는 동일한 부호 및 명칭을 사용한다.
도 2는 본 발명에 따른 레티클 방향전환장치를 보여주는 구성도이고, 도 3은 본 발명에 따른 레티클 방향전환장치의 구성으로 보여주는 측면도이다.
여기서, 레티클케이스(100)(200)와, 레티클이송장치(300)의 구성은 종래의 기술과 동일하므로 설명의 중복을 피하기 위하여 상세한 설명은 생략하고, 새로이 부가되는 구성 부재들의 동작을 중심으로 하여 상세히 설명한다.
상기 레티클케이스(100),(200)는 내부에 위치된 레티클(110)은 서로 다른 방향으로 수납되어 있어, 상기 레티클케이스(100),(200) 간에 원활한 이송이 이루어 질 수 있는 구조가 마련되어야 한다.
이를 구현하기 위한 실시예를 설명하기 위하여 도 2와 도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 레티클 방향전환장치(10)는 회전스테이지(11), 로터리액츄에이터(12)를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 회전스테이지(11)는 레티클케이스(100),(200)의 일측에 위치되고, 상면에는 레티클이송장치(300)에 의해 픽업된 레티클(110)이 로딩된다.
상기 로터리액츄에이터(12)는 회전스테이지(11)의 저면에 회전가능하게 결합된다.
상기 로터리액츄에이터(12)는 회전스테이지(11)를 일측 방향으로 회전시키는 역할을 하게 된다. 이 경우 상기 로터리액츄에이터(12)는 서로 다른 종류의 레티클케이스(100),(200) 내부에 상기 레티클(110)을 원하는 특정 방향으로 수납시킬 수 있도록 수평방향으로 180°씩 회전하게 된다.
이상과 같은 구성의 본 발명에 따른 레티클 방향전환장치의 작용을 설명하면 다음과 같다.
먼저, 상기 레티클이송장치(300)는 레티클케이스(100) 내의 레티클(110)을 픽업하여 레티클케이스(200)에 수납시키게 된다.
이 경우 상기 레티클케이스(100)와 다른 종류인 레티클케이스(200)는 내부에 수납되는 레티클(110)의 수납방향이 반대로 되어있어, 회전스테이지(11)에 상기 레티클(110)을 로딩시키게 된다.
상기 회전스테이지(11)는 저면에 조립된 로터리액츄에이터(12)에 의해 로딩 된 레티클(110)을 수평방향으로 180°회전시킨다.
상기 회전된 레티클(110)은 레티클이송장치(300)가 다시 픽업하여 레티클케이스(200)에 수납시키게 된다.
따라서, 기존에 수작업으로 이루어지던 레티클(110)의 이송을 상기 방향전환장치(10)를 통하여 자동이송이 가능하게 된다.
한편, 같은 종류로 구성된 레티클케이스(100) 간의 레티클(110)은 이송방향이 같으므로 상기 방향전환장치(10)를 거치지 않고 곧 바로 이송하게 된다.
도 4는 본 발명에 따른 레티클 방향전환장치의 다른 실시예를 보여주는 구성도이다.
도 4에 도시된 바와 같이, 레티클이송장치(310)의 그립(320)은 모터(M)의 동력을 전달받아 회전가능하게 조립되어 있다.
이 경우 상기 그립(320)이 회전하면서 레티클케이스(100)에서 픽업한 레티클(110)을 180°회전시킴으로써, 수납방향이 다른 레티클케이스(200) 내부에 상기 레티클(110)을 곧바로 수납시킬 수 있게 된다.
이상에서는 본 발명을 특정의 바람직한 실시 예를 들어 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 상기한 실시 예에 한정되지 않으며 본 발명의 기술사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변경과 수정이 가능함은 물론이다.
이상에서 상세히 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 레티클 방향전환장치는, 레티클의 방향을 전환시킬 수 있는 방향전환장치를 구비하여 서로 다른 종류의 레티클케이스 내부에 레티클을 원하는 특정 방향으로 자동 수납시킬 수 있게 됨으로써 레티클의 파손을 방지할 수 있는 장점이 있다.
Claims (3)
- 레티클케이스의 내부에 수납된 레티클을 이송시키기 위한 레티클이송장치를 포함하는 레티클 방향전환장치에 있어서,상기 레티클케이스의 일측에 위치되어 레티클이 상면에 로딩될 수 있도록 구비된 회전스테이지;상기 스테이지의 저면에 결합되어 일측 방향으로 회전되는 로터리액츄에이터;를 포함하는 것을 특징으로 하는 레티클 방향전환장치.
- 제 1항에 있어서, 상기 로터리액츄에이터는 수평방향으로 180°씩 회전되는 것을 특징으로 하는 레티클 방향전환장치.
- 제 1항에 있어서, 상기 레티클이송장치의 그립은 모터의 동력을 전달받아 회전가능하게 조립된 것을 특징으로 하는 레티클 방향전환장치.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060129287A KR100774828B1 (ko) | 2006-12-18 | 2006-12-18 | 레티클 방향전환장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060129287A KR100774828B1 (ko) | 2006-12-18 | 2006-12-18 | 레티클 방향전환장치 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR100774828B1 true KR100774828B1 (ko) | 2007-11-07 |
Family
ID=39061457
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020060129287A KR100774828B1 (ko) | 2006-12-18 | 2006-12-18 | 레티클 방향전환장치 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100774828B1 (ko) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100911767B1 (ko) | 2007-11-15 | 2009-08-10 | (주)티이에스 | 반도체 제조 라인의 파드 교환장치 |
EP2706564A1 (en) * | 2011-05-02 | 2014-03-12 | Murata Machinery, Ltd. | Orientation adjustment device, and orientation adjustment method |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20020049820A (ko) * | 2000-12-20 | 2002-06-26 | 박종섭 | 반도체 제조를 위한 노광시스템의 레티클 로딩장치 |
KR20050031124A (ko) * | 2003-09-29 | 2005-04-06 | 삼성전자주식회사 | 노광장치 |
KR20050102836A (ko) * | 2004-04-23 | 2005-10-27 | 삼성전자주식회사 | 노광설비의 레티클 얼라인 장치 및 그의 방법 |
KR20060008441A (ko) * | 2004-07-20 | 2006-01-27 | 삼성전자주식회사 | 레티클 로딩장치 |
-
2006
- 2006-12-18 KR KR1020060129287A patent/KR100774828B1/ko not_active IP Right Cessation
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20020049820A (ko) * | 2000-12-20 | 2002-06-26 | 박종섭 | 반도체 제조를 위한 노광시스템의 레티클 로딩장치 |
KR20050031124A (ko) * | 2003-09-29 | 2005-04-06 | 삼성전자주식회사 | 노광장치 |
KR20050102836A (ko) * | 2004-04-23 | 2005-10-27 | 삼성전자주식회사 | 노광설비의 레티클 얼라인 장치 및 그의 방법 |
KR20060008441A (ko) * | 2004-07-20 | 2006-01-27 | 삼성전자주식회사 | 레티클 로딩장치 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100911767B1 (ko) | 2007-11-15 | 2009-08-10 | (주)티이에스 | 반도체 제조 라인의 파드 교환장치 |
EP2706564A1 (en) * | 2011-05-02 | 2014-03-12 | Murata Machinery, Ltd. | Orientation adjustment device, and orientation adjustment method |
CN103650126A (zh) * | 2011-05-02 | 2014-03-19 | 村田机械株式会社 | 方向调整装置以及方向调整方法 |
EP2706564A4 (en) * | 2011-05-02 | 2014-12-03 | Murata Machinery Ltd | ORIENTATION ADJUSTMENT DEVICE AND ORIENTATION ADJUSTMENT METHOD |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7726891B2 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
US7498118B2 (en) | Apparatus for removing liquid in immersion lithography process and method of immersion lithography | |
JP5154007B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP4926433B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP5008268B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP4331199B2 (ja) | 液浸露光用塗布膜形成装置および塗布膜形成方法 | |
JP2008135583A (ja) | 塗布膜形成装置および塗布膜形成方法 | |
JP2006310733A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP2009088555A (ja) | リソグラフィのパターニングにおいて用いるウェハ処理の方法 | |
JP5071109B2 (ja) | レチクル搬送装置、露光装置、レチクル搬送方法、レチクルの処理方法、及びデバイス製造方法 | |
CN111226303B (zh) | 掩模图案形成方法、存储介质和基片处理装置 | |
JP4813333B2 (ja) | 膜形成方法、膜形成装置、パターン形成方法およびコンピュータ読取可能な記憶媒体 | |
WO2020012777A1 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP2008198820A (ja) | 基板処理方法及び基板処理装置 | |
KR100774828B1 (ko) | 레티클 방향전환장치 | |
JP4386359B2 (ja) | 保護膜形成装置、基板処理システム、および除去方法 | |
JP2006140199A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP2004228474A (ja) | 原版搬送装置 | |
JP2007012998A (ja) | 基板洗浄装置およびそれを備えた基板処理システム | |
KR20020096086A (ko) | 노광용 파티클 제거 장치 | |
JP2005183549A (ja) | 基板移載装置 | |
JPH1184632A (ja) | ペリクルの管理装置、投影露光装置および投影露光方法 | |
JP2005221618A (ja) | 基板収納方向制御装置 | |
JP2006278824A (ja) | 基板処理装置 | |
KR100774829B1 (ko) | 회전식 레티클이송장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |