JP2005183549A

JP2005183549A - 基板移載装置

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Publication number: JP2005183549A
Application number: JP2003419994A
Authority: JP
Inventors: Hideaki Meguro; 英明目黒
Original assignee: Toppan Printing Co Ltd
Current assignee: Toppan Inc
Priority date: 2003-12-17
Filing date: 2003-12-17
Publication date: 2005-07-07
Anticipated expiration: 2023-12-17
Also published as: JP4356443B2

Abstract

【課題】局所クリーン化のシステムを効果的に運用するに際し、ブランク収納ケースからＳＭＩＦ−Ｐｏｄへのブランクの移載を人手を介することなく行う基板移載装置を提供すること。
【解決手段】第一載置部（Ａ）、回転ステージ部（Ｂ）、第二載置部（Ｃ）、直行座標型ロボット部（Ｄ）を具備し、これらはこの順にＸ軸方向に配置され、Ｘ軸ユニットは、上記配置と平行にＸ軸方向に配置され、ブランク収納ケ−ス１１からブランクをＳＭＩＦ−Ｐｏｄ３１へ移載する際には、ブランクの収納方向の１８０度変更が可能である。ハンドユニット４１は、エアチャック４２のＹ軸を回転軸として１８０度回転し、ブランクを表裏反転させる反転機構を有する。
【選択図】図１

Description

本発明は、半導体装置の回路パターンが描かれる前の、感光剤が塗布されたブランクをマスク収納容器に移載する装置に関するものであり、特に、複数枚のブランクが収納されたブランク収納ケースからＳＭＩＦ−Ｐｏｄへ、人手を介さずにブランクを移載するための基板移載装置に関する。

半導体装置の製造においては、電子線描画装置等で石英基板上に各種パターンが形成されたマスクパターンを、ウエハ上に転写するフォトリソグラフィ技術が広く利用されている。このフォトリソグラフィ技術によるパターンの転写では、例えば、電子線描画装置等でマスクを描画する前に、感光剤が塗布されたブランク上に異物があると、そこが未露光部となってパターン欠陥を発生させることになる。

このパターン欠陥は、パターン欠陥部が少ない場合には修正装置を使ってパターンを修正することも考えられるが、多い場合には修正にかかる時間や再度欠陥検査をする時間を考慮して不良品とし、再度マスクを製作する。

ウエハ上で、０．１５μｍ以下のパターンが必要とされる１ＧＤＲＡＭ相当の半導体装置においては、マスクパターンは、４分の１に縮小して転写されるため、必要となるマスクのパターンは０．６μｍ以下となる。
このため、クラス１０では不十分であり、クラス１からクラス０．１程度の環境が必要になるものと予想されている。

このような環境を、その建設コスト及び運転コストを増大させずに実現する技術として局所クリーン化技術が挙げられる。この局所クリーン化技術は、従来のクリーンルーム全体の清浄度をより高いものにするものではなく、対象となる最小限の空間だけを清浄に保つといった技術である。
すなわち、局所クリーン化技術は、異物などを付着させないように収納しておくマスク収納容器と、各装置への受け渡しの雰囲気を清浄に保つミニエンバイロンメント室との組み合わせで構成されている。

このマスク収納容器は、窒素などの不活性ガスを充填できるＳＭＩＦ（ＳｔａｎｄａｒｄＭｅｃｈａｎｉｃａｌＩｎｔｅｒｆａｃｅ）−Ｐｏｄ（標準機械的インターフェイス機構の統一規格のマスク用ボックス）である。
ここで、標準機械的インターフェイス機構とは、標準機械的インターフェイスＳＭＩＦシステムに適合した、底部、蓋部のロック、取り出し機構などを備えていることを意味している。

標準機械的インターフェイス機構を備えた装置では、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄを介して基板（ブランク、マスク、或いはウエハ）の投入及び受け取り、及びＳＭＩＦ−Ｐｏｄによって各装置間の基板の移動、搬送を行うことができる。

また、ミニエンバイロンメント室は、清浄な受け渡しの雰囲気として、クリーンルーム内とは別のミニの清浄な部屋を装置に直付けする形で、すなわち、仲介室として設けたものである。
この仲介室を介して清浄なＳＭＩＦ−Ｐｏｄ内と、清浄な装置内との間で基板の投入及び受け取りを行い、異物の付着を回避している。
尚、この基板の投入及び受け取りには、機械的な工夫も施されている。

この局所クリーン化技術は、半導体装置の製造工程全般に係わる技術であるが、マスク製造工程においては、例えば、電子線描画装置等で半導体装置の回路パターンを描画する前の、ブランクを収納しておくための清浄なＳＭＩＦ−Ｐｏｄと、このＳＭＩＦ−Ｐｏｄから人手を介することなくブランクを清浄な電子線描画装置内に受け渡すための、ミニエンバイロンメント室からなるシステムとなる。

ところで、基板メーカから供給されるブランクは、所定のサイズ、精度に磨かれた石英基板上に遮光体となるクロムなどが蒸着され、更に感光剤が塗布されたものである。このブランクは、複数枚、例えば、５枚のブランクが１個の運搬用のブランク収納ケースに収納された状態で供給される。
上記ＳＭＩＦ−Ｐｏｄとミニエンバイロンメント室からなるシステムを効果的に運用するためには、ブランク収納ケースからＳＭＩＦ−Ｐｏｄに移載する際に、ブランクに異物を付着させないように移載する必要がある。

しかるに、ブランク収納ケースからＳＭＩＦ−Ｐｏｄへのブランクの移載は、すべて人手を介して行われている。すなわち、ブランク収納ケースの蓋部の取り外し、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄの蓋部の取り外し、治具を用いてのブランク収納ケースからのブランクの取り出し、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄの本体への載置、及びＳＭＩＦ−Ｐｏｄの本体への蓋部の取り付け、といった一連の移載作業は人手を介して行われている。このため、作業者の人為的要因による異物の付着が増大している。
特開２０００−１３８１５３号公報特開２００１−４８１５２号公報特開２００１−５３１３６号公報

本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、マスク製造工程において、前記ＳＭＩＦ−Ｐｏｄとミニエンバイロンメント室といった要素技術からなる局所クリーン化のシステムを効果的に運用するに際し、ブランク収納ケースからＳＭＩＦ−Ｐｏｄへのブランクの移載を人手を介することなく移載することのできる基板移載装置を提供することを課題とするものである。

本発明は、オープンカセットに収納されたブランクをＳＭＩＦ−Ｐｏｄに移載する基板移載装置において、
１）ａ）ブランクが収納されたブランク収納ケ−スを載置する第一載置台、
ｂ）該ブランク収納ケ−スの固定具、
ｃ）エアチャック、グリップ、爪、支柱からなり、ブランク収納ケ−スの蓋部を把持し昇降する蓋部開閉機構、
ｄ）第一載置台のＸ軸上のピボットを回転軸とし、第一載置台をＺ軸ユニットの方向へ９０度回転させる本体回転機構、で構成される第一載置部（Ａ）、
２）ａ）ロボットハンドで把持されたブランクを載置する爪台及びステージ、
ｂ）該ステージの中心のＺ軸を回転軸とし、ステージを１８０度回転させることが可能な支柱、
ｃ）該支柱の取り付け台、で構成される回転ステージ部（Ｂ）、
３）ａ）ＳＭＩＦ−Ｐｏｄを載置する第二載置台、
ｂ）該ＳＭＩＦ−Ｐｏｄの固定具、
ｃ）エアチャック、グリップ、爪、支柱からなり、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄの蓋部を把持し昇降する蓋部開閉機構、
ｄ）支持台、で構成される第二載置部（Ｃ）、
４）Ｘ軸ユニット、Ｙ軸ユニット、Ｚ軸ユニット、及びＺ軸ユニットの第一載置台側の面に設けられ、Ｙ軸に平行で水平な一対のロボットハンドを第一載置台側に向けて有するハンドユニット、で構成されるブランクの搬送手段としての直行座標型ロボット部（Ｄ）、を具備し、上記第一載置部（Ａ）、回転ステージ部（Ｂ）、第二載置部（Ｃ）は、この順にＸ軸方向に配置され、上記直行座標型ロボット部（Ｄ）のＸ軸ユニットは、上記第一載置部（Ａ）、回転ステージ部（Ｂ）、第二載置部（Ｃ）の配列と平行にＸ軸方向に配置され、前記ブランク収納ケ−スからブランクをＳＭＩＦ−Ｐｏｄへ移載する際には、ブランクの収納方向を１８０度変更することが可能であることを特徴とする基板移載装置である。

また、本発明は、上記発明による基板移載装置において、前記ハンドユニットは、ブランクを把持した状態でエアチャックの中心のＹ軸を回転軸として１８０度回転し、ブランクを表裏反転させる反転機構をＺ軸ユニットとの間に有することを特徴とする基板移載装置である。

また、本発明は、上記発明による基板移載装置において、前記基板移載装置は、密閉された空間内に配置されており、空気が該空間上部からファンフィルタユニット（ＦＦＵ）及びケミカルフィルタを通じて流入され、下部の排出口から排出され、該空間内の圧力が外部に対しプラス圧であることを特徴とする基板移載装置である。

また、本発明は、上記発明による基板移載装置において、前記第二載置部（Ｃ）は、ＲＦＩＤタグ（ＲａｄｉｏＦｒｅｑｕｅｎｃｙ−Ｉｄｅｎｔｉｆｉｃａｔｉｏｎ：無線タグ）の書き込み／読み取り装置を具備し、ＳＭＩＦ−ＰｏｄにはＲＦＩＤタグが付設されていることを特徴とする基板移載装置である。

本発明は、第一載置部（Ａ）、回転ステージ部（Ｂ）、第二載置部（Ｃ）、直行座標型ロボット部（Ｄ）を具備し、第一載置部（Ａ）、回転ステージ部（Ｂ）、第二載置部（Ｃ）は、この順にＸ軸方向に配置され、直行座標型ロボット部（Ｄ）のＸ軸ユニットは、第一載置部（Ａ）、回転ステージ部（Ｂ）、第二載置部（Ｃ）の配列と平行にＸ軸方向に配置され、ブランク収納ケ−スからブランクをＳＭＩＦ−Ｐｏｄへ移載する際には、ブランクの収納方向を１８０度変更することが可能な基板移載装置であるので、局所クリーン化のシステムを効果的に運用するに際し、ブランク収納ケースからＳＭＩＦ−Ｐｏｄへのブランクの移載を人手を介することなく行うことのできる基板移載装置となる。

また、本発明は、ハンドユニットが、ブランクを把持した状態でエアチャックの中心のＹ軸を回転軸として１８０度回転し、ブランクを表裏反転させる反転機構をＺ軸ユニットとの間に有するので、誤って、感光剤が塗布された面が表裏逆の状態でブランク収納ケ−スに収納されていた場合でも、人手を介さずに正常な表裏の状態に戻すことができる。

また、本発明は、基板移載装置が、密閉された空間内に配置されており、空気が該空間上部からファンフィルタユニット（ＦＦＵ）及びケミカルフィルタを通じて流入されるので、清浄度をグレードダウンした環境においても、ブランクのブランク収納ケ−スからＳＭＩＦ−Ｐｏｄへの移載を可能としたものとなる。また、製造工程で使用する薬品の微量な成分が浮遊する環境下でもブランクのブランク収納ケ−スからＳＭＩＦ−Ｐｏｄへの移
載を可能としたものとなる。

また、本発明は、第二載置部（Ｃ）は、ＲＦＩＤタグ（無線タグ）の書き込み／読み取り装置を具備し、ＳＭＩＦ−ＰｏｄにはＲＦＩＤタグが付設されているので、各々の工程で情報を読み出し、書き込みを行うことが出来、製造工程における進行管理、品質管理、事故管理などが効果的になる。

以下に、本発明の実施の形態を詳細に説明する。

図１（ａ）は、本発明による基板移載装置の一実施例の概略を示す平面図である。また、図１（ｂ）は、正面図である。
図１（ａ）、（ｂ）に示すように、本発明による基板移載装置は、第一載置部（Ａ）、回転ステージ部（Ｂ）、第二載置部（Ｃ）、及び直行座標型ロボット部（Ｄ）で構成されている。第一載置部（Ａ）、回転ステージ部（Ｂ）、第二載置部（Ｃ）は、この順にＸ軸方向に配置され、また、直行座標型ロボット部（Ｄ）のＸ軸ユニット（図示せず）は、上記第一載置部（Ａ）、回転ステージ部（Ｂ）、第二載置部（Ｃ）の配列と平行にＸ軸方向に配置されている。

図１（ａ）中、破線は移載されるブランクの動線を表している。直行座標型ロボット部（Ｄ）のハンドユニット（４１）は、ブランク収納ケ−スの本体（１２）に収納されているブランク（１）を、その先端部の両端面で把持し、ブランク収納ケ−スの本体（１２）からＳＭＩＦ−Ｐｏｄの本体（３２）へと移載する。或いは、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄの本体（３２）へのブランクの収納方向を１８０度変更する際には、一旦、ステージ（２０）上にブランクを載置し、ステージ（２０）の１８０度回転によってブランクの方向を変え、再びステージ（２０）上からＳＭＩＦ−Ｐｏｄの本体（３２）へと移載する。

第一載置部（Ａ）は、基板が収納されたオープンカセット、例えば、ブランクが収納されたブランク収納ケ−ス（１１）を載置する第一載置台（１０）、及びいずれも図示しない、第一載置台上のブランク収納ケ−スの固定具、エアチャック、グリップ、爪、支柱からなり、ブランク収納ケ−スの蓋部（１３）を把持し昇降する蓋部開閉機構、第一載置台（１０）のＸ軸上のピボット（１４）を回転軸とし、第一載置台をＺ軸ユニット（４５）の方向へ９０度回転させる本体回転機構で構成されている。

また、回転ステージ部（Ｂ）は、ロボットハンド（４３）で把持されたブランク（１）を載置する爪台（２３）及びステージ（２０）、ステージの中心のＺ軸を回転軸とし、ステージを１８０度回転させることが可能な支柱（２１）、及び支柱の取り付け台（２２）で構成されている。
また、第二載置部（Ｃ）は、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄ（３１）を載置する第二載置台（３０）、支持台（３４）、及びいずれも図示しない、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄ上のＳＭＩＦ−Ｐｏｄの固定具、エアチャック、グリップ、爪、支柱からなり、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄの蓋部（３３）を把持し昇降する蓋部開閉機構で構成されている。

また、直行座標型ロボット部（Ｄ）は、Ｘ軸ユニット、Ｘ軸ユニット上に設けられたＹ軸ユニット、Ｙ軸ユニット上に設けられたＺ軸ユニット（４５）、及びハンドユニット（４１）で構成されている。
ハンドユニット（４１）は、Ｚ軸ユニット（４５）の第一載置台（１０）側の面に設けられており、Ｙ軸に平行で水平な一対のロボットハンド（４３）を第一載置台（１０）側に向けて有している。尚、図１においては、Ｚ軸ユニット（４５）及びハンドユニット（４１）は示されているが、Ｘ軸ユニット及びＹ軸ユニットは省略してある。

図２は、図１に示す第一載置部（Ａ）の左側面図である。図２（ａ）は、白太矢印で示すように、第一載置部（Ａ）の正面から第一載置台（１０）上にブランク収納ケ−ス（１１）が載置され、ブランク収納ケ−スの本体（１２）がブランク収納ケ−スの固定具によって固定された状態を示している。
図２（ｂ）は、蓋部開閉機構によって、ブランク収納ケ−スの蓋部（１３）が開けられ、ブランク（１）の先端部が露出し、ブランク収納ケ−スの蓋部（１３）はブランク収納ケ−スの本体（１２）の上方で保持されている状態を示している。また、図２（ｃ）は、本体回転機構によって、第一載置台（１０）のＸ軸上のピボット（１４）を回転軸とし、第一載置台（１０）が図１（ａ）に示すＺ軸ユニット（４５）の方向へ９０度回転された状態を示している。

図２（ａ）、（ｂ）、（ｃ）に示すように、本体（１２）と蓋部（１３）からなるブランク収納ケ−ス（１１）には、感光剤が塗布された複数枚のブランク（１）が縦位置で収納されている。通常、ブランクは感光剤が塗布された面側を上面にしてＳＭＩＦ−Ｐｏｄ（３１）に収納されるので、ブランク収納ケ−ス（１１）を第一載置台（１０）上に載置する際は、感光剤が塗布された面側が第一載置台（１０）の正面方向になるように載置し、本体（１２）を固定する。

第一載置台（１０）上でブランク収納ケ−スの蓋部（１３）が開けられ、ブランク収納ケ−スの本体（１２）の上方へ移動された後に、ブランク収納ケ−スの本体（１２）を固定した第一載置台（１０）は、曲線矢印で示すように、ピボット（１４）を回転軸とし、Ｚ軸ユニット（４５）の方向へ９０度回転される。
この９０度回転によって、ブランク（１）は感光剤が塗布された面側を上面にした状態で水平になる。
図１に示す、第一載置部（Ａ）の第一載置台（１０）及びブランク収納ケ−スの本体（１２）は、この図２（ｃ）に示す状態、すなわち、ブランク（１）が水平になった状態のものである。

また、図３（ａ）は、第二載置部（Ｃ）の正面から第二載置台（３０）上にＳＭＩＦ−Ｐｏｄ（３１）が載置され、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄの本体（３２）がＳＭＩＦ−Ｐｏｄの固定具によって固定された状態を示している。
図３（ｂ）は、蓋部開閉機構によって、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄの蓋部（３３）が開けられ、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄの蓋部（３３）はＳＭＩＦ−Ｐｏｄの本体（３２）の上方で保持されている状態を示している。

また、図３（ｃ）は、ハンドユニット（４１）によって、ブランク（１）が本体（３２）の爪台（３５）上に載置された状態を示している。

ハンドユニット（４１）による、ブランク収納ケ−スの本体（１２）からＳＭＩＦ−Ｐｏｄの本体（３２）へのブランク（１）の移載の開始は、ブランク（１）を収納した第一載置台（１０）上のブランク収納ケ−スの本体（１２）を、図２（ｃ）に示す状態、及び第二載置台（３０）上のＳＭＩＦ−Ｐｏｄ（３１）を図３（ｂ）に示す状態にしてから行われる。

すなわち、この状態で、図１（ａ）に示すハンドユニット（４１）は、Ｙ軸上をブランク収納ケ−スの本体（１２）の方向へ移動する。水平に設けられたロボットハンド（４３）の端部内側の爪（４４）は、エアチャック（４２）の作動によりブランク収納ケ−スの本体（１２）から露出したブランク（１）の先端部の両端面を把持する。
ブランク（１）の先端部の両端面を把持した状態で、ハンドユニット（４１）は、ブラン
ク収納ケ−スの本体（１２）を離れ、破線で示すように、Ｙ軸方向及びＸ軸方向を移動する。

第二載置部（Ｃ）に至ると、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄの本体（３２）の方向へＹ軸上を移動し、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄの本体（３２）の爪台（３５）上にブランク（１）を載置する。第二載置部（Ｃ）では、蓋部開閉機構によりＳＭＩＦ−Ｐｏｄの蓋部（３３）が降下し、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄの本体（３２）が閉じられブランク（１）はＳＭＩＦ−Ｐｏｄ（３１）内に密封される。

一方、ブランク（１）のＳＭＩＦ−Ｐｏｄ（３１）への収納方向を１８０度変更する際には、ブランク（１）を把持したハンドユニット（４１）は、一旦回転ステージ部（Ｂ）のステージ（２０）上にブランク（１）を載置する。このステージ（２０）を１８０度回転することによって、ブランク（１）の方向を変え、再びハンドユニット（４１）はブランク（１）を把持し、ハンドユニット（４１）はステージ（２０）を離れ、第二載置台（３０）上のＳＭＩＦ−Ｐｏｄの本体（３２）へ方向を１８０度変更したブランク（１）を載置し、移載を完了する。

基板移載装置の操作は、シーケンサーによって行われる。予め、ブランクの収納方向の１８０度変更の有無の設定、ブランクの表裏反転の有無の設定、及び自動操作／手動操作の設定を行うことにより、所望する移載作業の自動操作、或いはプッシュボタンによる手動操作を行う。

上記のように、本発明による基板移載装置は、ブランク収納ケースからＳＭＩＦ−Ｐｏｄへのブランクの移載を人手を介することなく行うことができ、これにより、作業者の人為的要因による異物の付着を防止することができる。

また、本発明は、ハンドユニットが、ブランクを把持した状態でエアチャックの中心のＹ軸を回転軸として１８０度回転し、ブランクを表裏反転させる反転機構をＺ軸ユニットとの間に有することを特徴とする基板移載装置である。
図４は、反転機構を備えたハンドユニットの一例の斜視図である。図４に示すように、反転機構（４６）は、Ｚ軸ユニット（４５）とハンドユニット（４１）との間に設けられており、エアチャック（４２）中心のＹ軸を回転軸とし、ハンドユニット（４１）を１８０度回転させることができる。

この１８０度回転は、例えば、図１（ａ）に示すように、ハンドユニット（４１）がブランク収納ケ−スの本体（１２）を離れ、破線で示すように、Ｙ軸方向を移動する間、或いは、ハンドユニット（４１）が第二載置台（３０）の方向へ破線上を移動する間に行うことができる。

前記のように、基板メーカーから供給される、感光剤が塗布されたブランクは、複数枚が１個のブランク収納ケ−スに収納された状態で供給される。また、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄへの移載においては、感光剤が塗布された面側を上面にして収納される。
しかし、例えば、ブランク収納ケ−スに収納された複数枚のブランクの１枚が、誤って、その感光剤が塗布された面が表裏逆の状態で収納されていた場合、人手を介した移載であれば表裏を正常な状態に戻して移載することは容易に可能である。

基板移載装置において、このように、ブランク収納ケ−ス内においてブランクの表裏が、誤って収納されていても、基板移載装置が反転機構を有することによって、人手を介さずに正常な表裏の状態に戻すことができるものとなる。

また、請求項３に係わる発明は、基板移載装置が、密閉された空間内に配置されており、空気が該空間上部からファンフィルタユニット（ＦＦＵ）及びケミカルフィルタを通じて流入され、下部の排出口から排出され、空間内の圧力が外部に対しプラス圧であることを特徴としている。
局所クリーン化技術の利点は、例えば、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄとミニエンバイロンメント室を全装置に対し導入すれば、例えば、クラス１程度のＳＭＩＦ−Ｐｏｄ内と装置内に対し、クリーンルームの清浄度を意図的に、例えば、クラス１０００程度にグレードダウンすることができることにある。

すなわち、請求項３に係わる発明は、清浄度をグレードダウンした環境においても、ブランクをブランク収納ケ−スからＳＭＩＦ−Ｐｏｄへの移載を可能としたものである。

また、フォトマスクの製造工程は、基板上に感光剤を塗布する工程、感光剤上に露光する工程、現像工程、エッチング工程、感光剤を剥離する工程など、複数の工程で構成されている。このため、製造工程で使用する薬品の微量な成分が浮遊する環境でブランク及びマスクを処理し、一時保管することが通常である。
このような環境でブランク及びマスクを保管する場合、環境中に浮遊する種々な薬品の成分に汚染されるといった問題がある。

前記薬品の成分、例えば、アンモニア、アミン類などの塩基性物質、または、ＮＯ_X、ＳＯ_X、有機酸などの酸性物質が、例えば、化学増幅型感光剤が塗布された基板に付着して内部に浸透し、パターン寸法の変化や、感光剤に変化を引き起しマスクを不良品としてしまうといった問題が発生することがある。

図５は、本発明に係わるケミカルフィルタが付設されたファンフィルタユニット（ＦＦＵ）（５０）の一例を示す断面図である。ファンフィルタユニット（ＦＦＵ）（５０）の下方の隔壁（６０）が密閉された空間を形成する。図５においては、隔壁（６０）の上部の部分のみが示されている。この空間内、ファンフィルタユニット（ＦＦＵ）の下方に基板移載装置が配置されている（図示せず）。
図１（ａ）に示す基板移載装置の全体が、この空間内に配置されるが、図５は、基板移載装置の全体が配置された際の、図１（ａ）の側からの断面図である。

ファンフィルタユニット（ＦＦＵ）（５０）は、例えば、清浄度クラス１０００程度のクリーンルーム内に設置される。一例として示すファンフィルタユニット（ＦＦＵ）（５０）のファンフィルタユニット本体（５１）は、その断面内を図５の左方からの空気が通過できるような構造になっており、クリーンルーム内の空気（５２）が送風機（５３）によって吸い込まれ、プレフィルタ（５４）を通過した空気が導かれている。

ファンフィルタユニット（ＦＦＵ）（５０）の下部には空気フィルタ（５５）及びケミカルフィルタ（５６）が備え付けられている。空気フィルタ（５５）及びケミカルフィルタ（５６）を通過し、吹き出し開口面（５７）から吹き出される清浄な空気（５８）は、浮遊粉塵や各種ガスが捕捉され、例えば、クラス１程度の清浄度の層流となっている。
ファンフィルタユニット（ＦＦＵ）（５０）の吹き出し開口面（５７）から吹き出される清浄な空気（５８）は、下方にある基板移載装置に向け一様に吹き出されている。

空気フィルタ（５５）としては、非常に細かいガラス繊維に少量のバインダを加えた紙状の濾材を、濾材面積を広げるために蜜に折りたたみ、その間にセパレータを入れた構造のフィルタで、粉塵捕集効率が、０．１μｍの粉塵に対して９９．９９９７％以上のＨＥＰＡフィルタ（ＨｉｇｈＥｆｆｉｃｉｅｎｃｙＰａｒｔｉｃｕｌａｔｅＡｉｒＦｉｌｔｅｒ）が用いられる。

ケミカルフィルタ（５６）は、物理吸着、化学吸着、イオン交換反応などの方法で空気中のガスを取り除く作用があり、取り除くガスの種類に応じて選定する。物理吸着は、粒状及び破砕状活性炭、或いは繊維状活性炭による捕集、化学吸着は、中和反応、酸化・還元反応による除去、イオン交換反応は、イオン交換繊維による反応除去であり、上記試薬をハニカム構造の繊維材層内に封入し用いられる。

請求項４に係わる発明は、製造工程を管理する際に必要な情報をＳＭＩＦ−Ｐｏｄに付設したＲＦＩＤタグに書き込み、読み出すものであり、例えば、基板移載装置においては、ブランクの板厚、感光剤、膜厚などの情報を書き込み、以後の製造装置及び検査装置においては、各々の情報を読み出し、書き込みを行う。すなわち、製造工程における進行管理、品質管理、事故管理などを効果的に行うものである。

（ａ）は、本発明による基板移載装置の一実施例の概略を示す平面図である。

（ｂ）は、正面図である。
（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、図１に示す第一載置部の左側面図である。（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、第二載置部の正面図である。反転機構を備えたハンドユニットの一例の斜視図である。本発明に係わるケミカルフィルタが付設されたファンフィルタユニット（ＦＦＵ）の一例を示す断面図である。

符号の説明

１・・・ブランク
１０・・・第一載置台
１１・・・ブランク収納ケ−ス
１２・・・ブランク収納ケ−スの本体
１３・・・ブランク収納ケ−スの蓋部
１４・・・ピボット
２０・・・ステージ
２１・・・支柱
２２・・・取り付け台
２３、３５・・・爪台
３０・・・第二載置台
３１・・・ＳＭＩＦ−Ｐｏｄ
３２・・・ＳＭＩＦ−Ｐｏｄの本体
３３・・・ＳＭＩＦ−Ｐｏｄの蓋部
３４・・・支持台
４１・・・ハンドユニット
４２・・・エアチャック
４３・・・ロボットハンド
４４・・・爪
４５・・・Ｚ軸ユニット
５０・・・ケミカルフィルタが付設されたファンフィルタユニット（ＦＦＵ）
５１・・・ファンフィルタユニット本体
５２・・・クリーンルーム内の空気
５３・・・送風機
５４・・・プレフィルタ
５５・・・空気フィルタ
５６・・・ケミカルフィルタ
５７・・・開口面
５８・・・吹き出される清浄な空気
６０・・・隔壁
Ａ・・・第一載置部
Ｂ・・・回転ステージ部
Ｃ・・・第二載置部
Ｄ・・・直行座標型ロボット部

Claims

オープンカセットに収納されたブランクをＳＭＩＦ−Ｐｏｄに移載する基板移載装置において、
１）ａ）ブランクが収納されたブランク収納ケ−スを載置する第一載置台、
ｂ）該ブランク収納ケ−スの固定具、
ｃ）エアチャック、グリップ、爪、支柱からなり、ブランク収納ケ−スの蓋部を把持し昇降する蓋部開閉機構、
ｄ）第一載置台のＸ軸上のピボットを回転軸とし、第一載置台をＺ軸ユニットの方向へ９０度回転させる本体回転機構、で構成される第一載置部（Ａ）、
２）ａ）ロボットハンドで把持されたブランクを載置する爪台及びステージ、
ｂ）該ステージの中心のＺ軸を回転軸とし、ステージを１８０度回転させることが可能な支柱、
ｃ）該支柱の取り付け台、で構成される回転ステージ部（Ｂ）、
３）ａ）ＳＭＩＦ−Ｐｏｄを載置する第二載置台、
ｂ）該ＳＭＩＦ−Ｐｏｄの固定具、
ｃ）エアチャック、グリップ、爪、支柱からなり、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄの蓋部を把持し昇降する蓋部開閉機構、
ｄ）支持台、で構成される第二載置部（Ｃ）、
４）Ｘ軸ユニット、Ｙ軸ユニット、Ｚ軸ユニット、及びＺ軸ユニットの第一載置台側の面に設けられ、Ｙ軸に平行で水平な一対のロボットハンドを第一載置台側に向けて有するハンドユニット、で構成されるブランクの搬送手段としての直行座標型ロボット部（Ｄ）、
を具備し、上記第一載置部（Ａ）、回転ステージ部（Ｂ）、第二載置部（Ｃ）は、この順にＸ軸方向に配置され、上記直行座標型ロボット部（Ｄ）のＸ軸ユニットは、上記第一載置部（Ａ）、回転ステージ部（Ｂ）、第二載置部（Ｃ）の配列と平行にＸ軸方向に配置され、前記ブランク収納ケ−スからブランクをＳＭＩＦ−Ｐｏｄへ移載する際には、ブランクの収納方向を１８０度変更することが可能であることを特徴とする基板移載装置。
前記ハンドユニットは、ブランクを把持した状態でエアチャックの中心のＹ軸を回転軸として１８０度回転し、ブランクを表裏反転させる反転機構をＺ軸ユニットとの間に有することを特徴とする請求項１記載の基板移載装置。
前記基板移載装置は、密閉された空間内に配置されており、空気が該空間上部からファンフィルタユニット（ＦＦＵ）及びケミカルフィルタを通じて流入され、下部の排出口から排出され、該空間内の圧力が外部に対しプラス圧であることを特徴とする請求項１、又は請求項２記載の基板移載装置。
前記第二載置部（Ｃ）は、ＲＦＩＤタグ（ＲａｄｉｏＦｒｅｑｕｅｎｃｙ−Ｉｄｅｎｔｉｆｉｃａｔｉｏｎ：無線タグ）の書き込み／読み取り装置を具備し、ＳＭＩＦ−ＰｏｄにはＲＦＩＤタグが付設されていることを特徴とする請求項１、請求項２、又は請求項３記載の基板移載装置。