JP2005221618A - 基板収納方向制御装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】局所クリーン化のシステムを効果的に運用するに際し、SMIF−Pod内のマスクの収納方向、及び表裏を人手を介することなく変更することのできる基板収納方向制御装置を提供すること。
【解決手段】載置部(A)、円筒座標型ロボット部(C)、回転ステージ部(B)を具備し、この順にX軸方向に配置され、マスクの収納方向を180度変更、及び表裏反転することが可能である。マスクの収納容器がオープンカセットである。密閉された空間内に配置され、上部からFFU及びケミカルフィルタを通じて空気が流入。RFIDの書き込み/読み取り装置を具備し、SMIF−PodにはRFIDが付設される。
【選択図】図1
【解決手段】載置部(A)、円筒座標型ロボット部(C)、回転ステージ部(B)を具備し、この順にX軸方向に配置され、マスクの収納方向を180度変更、及び表裏反転することが可能である。マスクの収納容器がオープンカセットである。密閉された空間内に配置され、上部からFFU及びケミカルフィルタを通じて空気が流入。RFIDの書き込み/読み取り装置を具備し、SMIF−PodにはRFIDが付設される。
【選択図】図1
Description
本発明は、半導体装置の製造に用いられるマスクの収納に関するものであり、特に、マスク収納容器内のマスクの収納方向、及び表裏を人手を介さずに変更するための基板収納方向制御装置に関する。
半導体装置の製造においては、電子線描画装置等で石英基板上に各種パターンが形成されたマスクパターンを、ウエハ上に転写するフォトリソグラフィ技術が広く利用されている。このフォトリソグラフィ技術によるパターンの転写では、例えば、電子線描画装置等でマスクを描画する前に、感光剤が塗布されたブランク上に異物があると、そこが未露光部となってパターン欠陥を発生させることになる。
このパターン欠陥は、パターン欠陥部が少ない場合には修正装置を使ってパターンを修正することも考えられるが、多い場合には修正にかかる時間や再度欠陥検査をする時間を考慮して不良品とし、再度マスクを製作する。
ウエハ上で、0.15μm以下のパターンが必要とされる1GDRAM相当の半導体装置においては、マスクパターンは、4分の1に縮小して転写されるため、必要となるマスクのパターンは0.6μm以下となる。
このため、クラス10では不十分であり、クラス1(0.1μm)からクラス0.1程度の環境が必要になるものと予想されている。
このため、クラス10では不十分であり、クラス1(0.1μm)からクラス0.1程度の環境が必要になるものと予想されている。
このような環境を、その建設コスト及び運転コストを増大させずに実現する技術として局所クリーン化技術が挙げられる。この局所クリーン化技術は、従来のクリーンルーム全体の清浄度をより高いものにするものではなく、対象となる最小限の空間だけを清浄に保つといった技術である。
すなわち、局所クリーン化技術は、異物などを付着させないように収納しておくマスク収納容器と、各装置への受け渡しの雰囲気を清浄に保つミニエンバイロンメント室との組み合わせで構成されている。
すなわち、局所クリーン化技術は、異物などを付着させないように収納しておくマスク収納容器と、各装置への受け渡しの雰囲気を清浄に保つミニエンバイロンメント室との組み合わせで構成されている。
このマスク収納容器は、窒素などの不活性ガスを充填できるSMIF(Standard Mechanical Interface)−Pod(標準機械的インターフェイス機構の統一規格のマスク用ボックス)である。
ここで、標準機械的インターフェイス機構とは、標準機械的インターフェイスSMIFシステムに適合した、底部、蓋部のロック、取り出し機構などを備えていることを意味している。
ここで、標準機械的インターフェイス機構とは、標準機械的インターフェイスSMIFシステムに適合した、底部、蓋部のロック、取り出し機構などを備えていることを意味している。
標準機械的インターフェイス機構を備えた装置では、SMIF−Podを介して基板(ブランク、マスク、或いはウエハ)の投入及び受け取り、及びSMIF−Podによって各装置間の基板の移動、搬送を行うことができる。
また、ミニエンバイロンメント室は、清浄な受け渡しの雰囲気として、クリーンルーム内とは別のミニの清浄な部屋を装置に直付けする形で、すなわち、仲介室として設けたものである。
この仲介室を介して清浄なSMIF−Pod内と、清浄な装置内との間で基板の投入及び受け取りを行い、異物の付着を回避している。
尚、この基板の投入及び受け取りには、機械的な工夫も施されている。
この仲介室を介して清浄なSMIF−Pod内と、清浄な装置内との間で基板の投入及び受け取りを行い、異物の付着を回避している。
尚、この基板の投入及び受け取りには、機械的な工夫も施されている。
この局所クリーン化技術は、半導体装置の製造工程全般に係わる技術であるが、マスク製造工程においては、例えば、検査装置で検査をする前の、マスクを収納しておくための清浄なSMIF−Podと、このSMIF−Pod内から人手を介することなくマスクを清浄な検査装置内に受け渡すための、ミニエンバイロンメント室からなるシステムとなる。
マスク製造工程においては、寸法検査、座標測定検査、欠陥検査、異物検査などの検査が行われる。これらの検査を行う検査装置では、マスクを収納したSMIF−Podが検査装置にセットされた後に、マスクを検査ステージへ搬送する際の、検査装置内の搬送機構が統一されていない。
このため、SMIF−Pod内に収納するマスクの収納方向、及び表裏は検査装置毎に異なったものとなっている。従って、検査を行う際には、各検査装置に適合した収納方向、及び表裏に変更しなければならない。
このため、SMIF−Pod内に収納するマスクの収納方向、及び表裏は検査装置毎に異なったものとなっている。従って、検査を行う際には、各検査装置に適合した収納方向、及び表裏に変更しなければならない。
しかるに、SMIF−Pod内のマスクの収納方向、及び表裏の変更は、すべて人手を介して行われている。すなわち、SMIF−Podの蓋部の取り外し、治具を用いてのSMIF−Podからのマスクの取り出し、収納方向、及び表裏の変更をする動作を伴ったSMIF−Podの本体への載置、及びSMIF−Podの本体への蓋部の取り付け、といった一連の作業は人手を介して行われている。このため、作業者の人為的要因による異物の付着が増大している。
また、治具の取り扱いにおいて、マスクの端面に損傷を与え、マスク基板の粉塵が飛散しマスク表面に異物として再付着することもある。
特開2000−138153号公報
特開2001−48152号公報
特開2001−53136号公報
また、治具の取り扱いにおいて、マスクの端面に損傷を与え、マスク基板の粉塵が飛散しマスク表面に異物として再付着することもある。
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、マスク製造工程において、前記SMIF−Podとミニエンバイロンメント室といった要素技術からなる局所クリーン化のシステムを効果的に運用するに際し、SMIF−Pod内のマスクの収納方向、及び表裏を人手を介することなく変更することのできる基板収納方向制御装置を提供することを課題とするものである。
本発明は、SMIF−Podに収納されたマスクの収納方向、及び表裏を変更する基板収納方向制御装置において、
1)a)マスクが収納されたSMIF−Podを載置する載置台及び支持台、
b)該SMIF−Podの固定具、
c)エアチャック、グリップ、爪、支柱からなり、SMIF−Podの蓋部 を把持し昇降する蓋部開閉機構、で構成される載置部(A)、
2)a)ロボットハンドで把持されたマスクを載置するステージ及び爪台、
b)該ステージの中心のZ軸を回転軸とし、ステージを180度回転させる ことが可能な支柱、
c)該支柱の取り付け台、で構成される回転ステージ部(B)、
3)a)基底部、
b)そのZ軸を回転軸とした回転が可能で、Z軸方向へ昇降が可能な支柱、
c)該支柱の上部に設けられた、水平に直動が可能なアーム、
d)該アームの端部に設けられた、マスクを把持した状態でアームの軸を回 転軸として180度回転しマスクを表裏反転させる反転機構、及びアームの軸に平行で水平な一対のロボットハンドを有するハンドユニット、で構成されるマスクの搬送手段としての円筒座標型ロボット部(C)、を具備し、上記載置部(A)、回転ステージ部(B)、円筒座標型ロボット部(C)は、載置部(A)、円筒座標型ロボット部(C)、回転ステージ部(B)の順にX軸方向に配置され、前記SMIF−Podに収納されたマスクの収納方向を180度変更、及び表裏反転することが可能であることを特徴とする基板収納方向制御装置である。
1)a)マスクが収納されたSMIF−Podを載置する載置台及び支持台、
b)該SMIF−Podの固定具、
c)エアチャック、グリップ、爪、支柱からなり、SMIF−Podの蓋部 を把持し昇降する蓋部開閉機構、で構成される載置部(A)、
2)a)ロボットハンドで把持されたマスクを載置するステージ及び爪台、
b)該ステージの中心のZ軸を回転軸とし、ステージを180度回転させる ことが可能な支柱、
c)該支柱の取り付け台、で構成される回転ステージ部(B)、
3)a)基底部、
b)そのZ軸を回転軸とした回転が可能で、Z軸方向へ昇降が可能な支柱、
c)該支柱の上部に設けられた、水平に直動が可能なアーム、
d)該アームの端部に設けられた、マスクを把持した状態でアームの軸を回 転軸として180度回転しマスクを表裏反転させる反転機構、及びアームの軸に平行で水平な一対のロボットハンドを有するハンドユニット、で構成されるマスクの搬送手段としての円筒座標型ロボット部(C)、を具備し、上記載置部(A)、回転ステージ部(B)、円筒座標型ロボット部(C)は、載置部(A)、円筒座標型ロボット部(C)、回転ステージ部(B)の順にX軸方向に配置され、前記SMIF−Podに収納されたマスクの収納方向を180度変更、及び表裏反転することが可能であることを特徴とする基板収納方向制御装置である。
また、本発明は、上記発明による基板収納方向制御装置において、前記SMIF−Podが、オープンカセットであることを特徴とする基板収納方向制御装置である。
また、本発明は、上記発明による基板収納方向制御装置において、前記基板収納方向制御装置は、密閉された空間内に配置されており、空気が該空間上部からファンフィルタユニット(FFU)及びケミカルフィルタを通じて流入され、下部の排出口から排出され、該空間内の圧力が外部に対しプラス圧であることを特徴とする基板収納方向制御装置である。
また、本発明は、上記発明による基板収納方向制御装置において、前記載置部(A)は、RFIDタグ(Radio Frequency−Identification:無線タグ)の書き込み/読み取り装置を具備し、SMIF−PodにはRFIDタグが付設されていることを特徴とする基板収納方向制御装置である。
本発明は、載置部(A)、回転ステージ部(B)、円筒座標型ロボット部(C)を具備し、載置部(A)、円筒座標型ロボット部(C)、回転ステージ部(B)の順にX軸方向に配置され、SMIF−Podに収納されたマスクの収納方向を180度変更、及び表裏反転することが可能な基板収納方向制御装置であるので、局所クリーン化のシステムを効果的に運用するに際し、SMIF−Pod内のマスクの収納方向、及び表裏を人手を介することなく変更することのできる基板収納方向制御装置となる。
また、本発明は、マスク収納容器としては標準機械的インターフェイスSMIFシステムに適合しない、従来型の収納容器、すなわち、オープンカセットにおいても適用できるので、オープンカセットを用いた際にもマスクの収納方向、及び表裏を人手を介することなく変更することができる。
また、本発明は、基板収納方向制御装置が、密閉された空間内に配置されており、空気が該空間上部からファンフィルタユニット(FFU)及びケミカルフィルタを通じて流入されるので、清浄度をグレードダウンした環境においても、SMIF−Pod内のマスクの収納方向、及び表裏を人手を介することなく変更することのできる。
また、製造工程で使用する薬品の微量な成分が浮遊する環境下でも、SMIF−Pod内のマスクの収納方向、及び表裏を人手を介することなく変更することのできるものとなる。
また、製造工程で使用する薬品の微量な成分が浮遊する環境下でも、SMIF−Pod内のマスクの収納方向、及び表裏を人手を介することなく変更することのできるものとなる。
また、本発明は、載置部(A)は、RFIDタグ(無線タグ)の書き込み/読み取り装置を具備し、SMIF−PodにはRFIDタグが付設されているので、各々の工程で情報を読み出し、書き込みを行うことが出来、製造工程における進行管理、品質管理、事故管理などが効果的になる。
以下に、本発明の実施の形態を詳細に説明する。
図1(a)は、本発明による基板収納方向制御装置の一実施例の概略を示す平面図である。また、図1(b)は、正面図である。
図1(a)、(b)に示すように、本発明による基板収納方向制御装置は、載置部(A)、回転ステージ部(B)、及び円筒座標型ロボット部(C)で構成されている。載置部(A)、回転ステージ部(B)、円筒座標型ロボット部(C)は、載置部(A)、円筒座標型ロボット部(C)、回転ステージ部(B)の順にX軸方向に配置されている。
図1(a)、(b)に示すように、本発明による基板収納方向制御装置は、載置部(A)、回転ステージ部(B)、及び円筒座標型ロボット部(C)で構成されている。載置部(A)、回転ステージ部(B)、円筒座標型ロボット部(C)は、載置部(A)、円筒座標型ロボット部(C)、回転ステージ部(B)の順にX軸方向に配置されている。
図1(c)は、アーム(32)の片端部に設けられた、ハンドユニット(40)の説明図である。図1(c)に示すように、ハンドユニット(40)は、エアチャック(42)、ロボットハンド(43)、及び爪(44)で構成されている。また、マスクを表裏反転させる反転機構(33)は、アーム(32)とハンドユニット(40)との間に設けられている。
尚、図1(a)中、破線は、支柱(31)のZ軸を回転軸とした回転によって、ハンドユニット(40)が水平面を180度旋回する動線を表している。
尚、図1(a)中、破線は、支柱(31)のZ軸を回転軸とした回転によって、ハンドユニット(40)が水平面を180度旋回する動線を表している。
SMIF−Podの本体(12)に収納されているマスクの収納方向を180度変更する際には、円筒座標型ロボット部(C)のハンドユニット(40)は、SMIF−Podの本体(12)に収納されているマスク(1)を、その先端部の両端面で把持し、180度旋回させてステージ(20)上にマスク(1)を載置する。ステージ(20)の180度回転によってマスク(1)の方向を変え、再びステージ(20)上からSMIF−Podの本体(12)へと収納する。
或いは、マスクの表裏を反転させる際には、マスク(1)を把持した状態で載置台(10)の上方において、反転機構(33)を180度回転させ、再びマスク(1)をSMIF−Podの本体(12)に収納する。
或いは、マスクの表裏を反転させる際には、マスク(1)を把持した状態で載置台(10)の上方において、反転機構(33)を180度回転させ、再びマスク(1)をSMIF−Podの本体(12)に収納する。
載置部(A)は、マスクが収納されたSMIF−Pod(11)を載置する載置台(10)、支持台(14)、及びいずれも図示しない、載置台上のSMIF−Podの固定具、エアチャック、グリップ、爪、支柱からなり、SMIF−Podの蓋部(13)を把持し昇降する蓋部開閉機構で構成されている。
また、回転ステージ部(B)は、ロボットハンド(43)で把持されたマスク(1)を載置するステージ(20)及び爪台(23)、ステージの中心のZ軸を回転軸とし、ステージを180度回転させることが可能な支柱(21)、及び支柱の取り付け台(22)で構成されている。
また、円筒座標型ロボット部(C)は、基底部(30)、基底部上に設けられた回転及び昇降が可能な支柱(31)、支柱の上部に設けられ、水平に直動可能なアーム(32)、及びハンドユニット(40)で構成されている。
ハンドユニット(40)は、アームの軸に平行で水平な一対のロボットハンド(43)を有している。
また、反転機構(33)は、ロボットハンド(43)がマスクを把持した状態でハンドユニット(40)にアームの軸を回転軸とした180度回転を与え、マスクを表裏反転させることが可能となっている。
ハンドユニット(40)は、アームの軸に平行で水平な一対のロボットハンド(43)を有している。
また、反転機構(33)は、ロボットハンド(43)がマスクを把持した状態でハンドユニット(40)にアームの軸を回転軸とした180度回転を与え、マスクを表裏反転させることが可能となっている。
図2は、図1(b)に示す載置台(10)上のSMIF−Podの正面図である。図2(a)は、載置部(A)の正面から載置台(10)上にSMIF−Pod(11)が載置
され、SMIF−Podの本体(12)がSMIF−Podの固定具によって固定された状態を示している。
図2(b)は、蓋部開閉機構によって、SMIF−Podの蓋部(13)が開けられ、マスク(1)が露出し、SMIF−Podの蓋部(13)はSMIF−Podの本体(12)の上方で保持されている状態を示している。
され、SMIF−Podの本体(12)がSMIF−Podの固定具によって固定された状態を示している。
図2(b)は、蓋部開閉機構によって、SMIF−Podの蓋部(13)が開けられ、マスク(1)が露出し、SMIF−Podの蓋部(13)はSMIF−Podの本体(12)の上方で保持されている状態を示している。
また、図2(c)は、マスク(1)に収納方向の変更、又は/及び表裏反転が行われた後に、再びハンドユニット(40)によってSMIF−Podの本体(12)の爪台(15)上に載置され、SMIF−Podの蓋部(13)が降下しSMIF−Podの本体(12)が閉じられマスク(1)が密封される状態を示している。
図1(b)に示す載置部(A)の載置台(10)上のSMIF−Podの本体(12)は、この図2(b)に示す状態、すなわち、マスク(1)が露出した状態のものである。
図1(b)に示す載置部(A)の載置台(10)上のSMIF−Podの本体(12)は、この図2(b)に示す状態、すなわち、マスク(1)が露出した状態のものである。
図3は、マスクを表裏反転する動作の一例の説明図である。図3(a)は、図2(b)に示す状態、すなわち、載置台(10)上ではSMIF−Podの蓋部(13)が開けられ、マスク(1)が露出した状態となっている。
また、ハンドユニット(40)は、第一定位置(D)(図1(a)における(D))にある。すなわち、ロボットハンド(43)は、SMIF−Podの本体(12)の方向を向き、アーム(32)は、略中央部が支柱(31)のZ軸上にある。
また、ハンドユニット(40)は、第一定位置(D)(図1(a)における(D))にある。すなわち、ロボットハンド(43)は、SMIF−Podの本体(12)の方向を向き、アーム(32)は、略中央部が支柱(31)のZ軸上にある。
図3(b)に示すように、アーム(32)はSMIF−Podの本体(12)の方向へ移動する。水平に設けられたロボットハンド(43)の端部内側の爪(44)は、エアチャック(42)の作動によりSMIF−Podの本体(12)から露出したマスク(1)の先端部の両端面を把持する。
ハンドユニット(40)がマスク(1)の先端部の両端面を把持した状態で、図3(c)に示すように、支柱(31)は、マスク(1)の反転のために十分な高さ(H)まで上昇する。
ハンドユニット(40)がマスク(1)の先端部の両端面を把持した状態で、図3(c)に示すように、支柱(31)は、マスク(1)の反転のために十分な高さ(H)まで上昇する。
SMIF−Podの本体(12)の上方において、反転機構(33)が作動し、アーム(32)の軸を回転軸とした180度回転を行いマスクを表裏反転させる。次に、支柱(31)が降下しSMIF−Podの本体(12)の爪台(15)上にマスク(1)を載置する。
ハンドユニット(40)は、第一定位置(D)に戻り、載置部(A)では、蓋部開閉機構によりSMIF−Podの蓋部(13)が降下し、SMIF−Podの本体(12)が閉じられマスク(1)はSMIF−Pod(11)内に密封される。
ハンドユニット(40)は、第一定位置(D)に戻り、載置部(A)では、蓋部開閉機構によりSMIF−Podの蓋部(13)が降下し、SMIF−Podの本体(12)が閉じられマスク(1)はSMIF−Pod(11)内に密封される。
尚、マスク(1)の反転のために必要な十分な高さ(H)まで支柱(31)を上昇させず、僅かに、例えば、10mm程度を上昇させた後にハンドユニット(40)を第一定位置(D)より更に支柱(31)側に移動させ、載置部(A)と円筒座標型ロボット部(C)との間でマスク(1)反転のための反転機構(33)の回転を行うことも可能である。この際は、前記蓋部開閉機構の昇降する距離が短くなり、載置部(A)の構造がコンパクトなものとなる。
図4は、マスクの収納方向を180度変更する動作の一例の説明図である。図4(a)は、前記図3(b)に示す状態、すなわち、アーム(32)がSMIF−Podの本体(12)の方向へ移動し、水平に設けられたロボットハンド(43)の端部内側の爪(44)が、エアチャック(42)の作動によりSMIF−Podの本体(12)から露出したマスク(1)の先端部の両端面を把持した状態を示している。
図4(a)に示す状態で、支柱(31)を、僅かに、例えば、10mm程度を上昇させ
ハンドユニット(40)を第一定位置(D)に戻す(図4(b))。次に、支柱(31)の回転によって、ハンドユニット(40)はマスク(1)を把持したまま、図1(a)における動線上を水平に第二定位置(E)(図1(a)における(E))まで180度旋回し、引き続きステージ(20)方向へのアーム(32)の移動によって、マスク(1)をステージ(20)の爪台(23)上へ載置する(図4(c))。
このように、一旦、ハンドユニット(40)を第一定位置(D)に戻すことによって、第二定位置(E)までの180度旋回の半径が小さくなり、基板収納方向制御装置のスペースが小さなものとなる。
ハンドユニット(40)を第一定位置(D)に戻す(図4(b))。次に、支柱(31)の回転によって、ハンドユニット(40)はマスク(1)を把持したまま、図1(a)における動線上を水平に第二定位置(E)(図1(a)における(E))まで180度旋回し、引き続きステージ(20)方向へのアーム(32)の移動によって、マスク(1)をステージ(20)の爪台(23)上へ載置する(図4(c))。
このように、一旦、ハンドユニット(40)を第一定位置(D)に戻すことによって、第二定位置(E)までの180度旋回の半径が小さくなり、基板収納方向制御装置のスペースが小さなものとなる。
次に、ハンドユニット(40)は第二定位置(E)、すなわち、ロボットハンド(43)は、ステージ(20)の方向を向き、アーム(32)は、略中央部が支柱(31)のZ軸上にある位置まで移動する。この間、支柱(21)が180度回転しステージ(20)の爪台(23)上のマスク(1)の方向を180度変更する。再び、ハンドユニット(40)はステージ(20)へ移動してマスク(1)を把持し、往路の経路を逆に移動し、第一定位置(D)を経由してSMIF−Podの本体(12)上へマスク(1)を載置する。
載置部(A)では、蓋部開閉機構によりSMIF−Podの蓋部(13)が降下し、SMIF−Podの本体(12)が閉じられ、収納方向が180度変更されたマスク(1)がSMIF−Pod(11)内に密封される。
尚、ハンドユニット(40)は第二定位置(E)まで移動した待機をせずに、マスク(1)の180度回転の終了をステージ(20)の上方で待機してもよい。
尚、ハンドユニット(40)は第二定位置(E)まで移動した待機をせずに、マスク(1)の180度回転の終了をステージ(20)の上方で待機してもよい。
図5は、マスクの表裏を反転させ、且つ収納方向を180度変更する動作の一例の説明図である。図5は、前記図4(b)に示す、第一定位置(D)から第二定位置(E)に至るハンドユニット(40)の180度旋回中の平面図である。
ハンドユニット(40)の180度旋回中に、反転機構(33)が作動し、マスク(1)を把持したハンドユニット(40)にアームに軸を回転軸とした180度回転を与え、マスク(1)の表裏を反転させる。この反転以降の動作は、図4(c)以降と同一である。
尚、この際の表裏反転は、SMIF−Podの本体(12)の上方、第一定位置(D)、第二定位置(E)、或いはステージ(20)の上方のいずれであっても可能である。
尚、この際の表裏反転は、SMIF−Podの本体(12)の上方、第一定位置(D)、第二定位置(E)、或いはステージ(20)の上方のいずれであっても可能である。
基板収納方向制御装置の操作は、シーケンサによって行われる。予め、マスクの収納方向の180度変更の有無の設定、マスクの表裏反転の有無の設定、及び自動操作/手動操作の設定を行うことにより、所望する作業の自動操作、或いはプッシュボタンによる手動操作を行う。
上記のように、本発明による基板収納方向制御装置は、SMIF−PodからSMIF−Podへのマスクの収納方向、及び表裏を人手を介することなく変更することができ、これにより、作業者の人為的要因による異物の付着を防止することができる。
また、本発明は、マスク収納容器がオープンカセットであることをを特徴としている。マスク収納容器としては標準機械的インターフェイスSMIFシステムに適合しない、従来型の収納容器、すなわち、オープンカセットにおいても適用できるものである。
載置部(A)を構成する載置台(10)に設けられた固定具、蓋部開閉機構、及び円筒座標型ロボット部(C)などの調整を行うことによって、容易にオープンカセットにおいても適用される。
載置部(A)を構成する載置台(10)に設けられた固定具、蓋部開閉機構、及び円筒座標型ロボット部(C)などの調整を行うことによって、容易にオープンカセットにおいても適用される。
また、請求項3に係わる発明は、基板収納方向制御装置が、密閉された空間内に配置されており、空気が該空間上部からファンフィルタユニット(FFU)及びケミカルフィルタを通じて流入され、下部の排出口から排出され、空間内の圧力が外部に対しプラス圧であることを特徴としている。
局所クリーン化技術の利点は、例えば、SMIF−Podとミニエンバイロンメント室を全装置に対し導入すれば、例えば、クラス1程度のSMIF−Pod内と装置内に対し、クリーンルームの清浄度を意図的に、例えば、クラス1000程度にグレードダウンすることができることにある。
局所クリーン化技術の利点は、例えば、SMIF−Podとミニエンバイロンメント室を全装置に対し導入すれば、例えば、クラス1程度のSMIF−Pod内と装置内に対し、クリーンルームの清浄度を意図的に、例えば、クラス1000程度にグレードダウンすることができることにある。
すなわち、請求項3に係わる発明は、清浄度をグレードダウンした環境においても、SMIF−Pod内のマスクの収納方向の180度変更、又は/及びマスクの表裏反転を可能としたものである。
また、フォトマスクの製造工程は、基板上に感光剤を塗布する工程、感光剤上に露光する工程、現像工程、エッチング工程、感光剤を剥離する工程など、複数の工程で構成されている。このため、製造工程で使用する薬品の微量な成分が浮遊する環境でブランク及びマスクを処理し、一時保管することが通常である。
このような環境でブランク及びマスクを保管する場合、環境中に浮遊する種々な薬品の成分に汚染されるといった問題がある。
このような環境でブランク及びマスクを保管する場合、環境中に浮遊する種々な薬品の成分に汚染されるといった問題がある。
前記薬品の成分、例えば、アンモニア、アミン類などの塩基性物質、または、NOX 、SOX 、有機酸などの酸性物質が、例えば、化学増幅型感光剤が塗布された基板に付着して内部に浸透し、パターン寸法の変化や、感光剤に変化を引き起しマスクを不良品としてしまうといった問題が発生することがある。
図6は、本発明に係わるケミカルフィルタが付設されたファンフィルタユニット(FFU)(50)の一例を示す断面図である。ファンフィルタユニット(FFU)(50)の下方の隔壁(60)が密閉された空間を形成する。図6においては、隔壁(60)の上部の部分のみが示されている。この空間内、ファンフィルタユニット(FFU)の下方に基板収納方向制御装置が配置されている(図示せず)。
図1(a)に示す基板収納方向制御装置の全体が、この空間内に配置されるが、図6は、基板収納方向制御装置の全体が配置された際の、図1(a)の左側からの断面図である。
図1(a)に示す基板収納方向制御装置の全体が、この空間内に配置されるが、図6は、基板収納方向制御装置の全体が配置された際の、図1(a)の左側からの断面図である。
ファンフィルタユニット(FFU)(50)は、例えば、清浄度クラス1000程度のクリーンルーム内に設置される。一例として示すファンフィルタユニット(FFU)(50)のファンフィルタユニット本体(51)は、その断面内を図6の左方からの空気が通過できるような構造になっており、クリーンルーム内の空気(52)が送風機(53)によって吸い込まれ、プレフィルタ(54)を通過した空気が導かれている。
ファンフィルタユニット(FFU)(50)の下部には空気フィルタ(55)及びケミカルフィルタ(56)が備え付けられている。空気フィルタ(55)及びケミカルフィルタ(56)を通過し、吹き出し開口面(57)から吹き出される清浄な空気(58)は、浮遊粉塵や各種ガスが捕捉され、例えば、クラス1程度の清浄度の層流となっている。
ファンフィルタユニット(FFU)(50)の吹き出し開口面(57)から吹き出される清浄な空気(58)は、下方にある基板収納方向制御装置に向け一様に吹き出されている。
ファンフィルタユニット(FFU)(50)の吹き出し開口面(57)から吹き出される清浄な空気(58)は、下方にある基板収納方向制御装置に向け一様に吹き出されている。
空気フィルタ(55)としては、非常に細かいガラス繊維に少量のバインダを加えた紙状の濾材を、濾材面積を広げるために密に折りたたみ、その間にセパレータを入れた構造のフィルタで、粉塵捕集効率が、0.1μmの粉塵に対して99.9997%以上のHE
PAフィルタ(High Efficiency Particulate Air Filter)が用いられる。
PAフィルタ(High Efficiency Particulate Air Filter)が用いられる。
ケミカルフィルタ(56)は、物理吸着、化学吸着、イオン交換反応などの方法で空気中のガスを取り除く作用があり、取り除くガスの種類に応じて選定する。物理吸着は、粒状及び破砕状活性炭、或いは繊維状活性炭による捕集、化学吸着は、中和反応、酸化・還元反応による除去、イオン交換反応は、イオン交換繊維による反応除去であり、上記試薬をハニカム構造の繊維材層内に封入し用いられる。
請求項4に係わる発明は、製造工程を管理する際に必要な情報をSMIF−Podに付設したRFIDタグに書き込み、読み出すものである。例えば、基板収納方向制御装置に載置されるSMIF−Podに付設したRFIDタグには、既に前工程における種々な情報が書き込まれており、基板収納方向制御装置ではマスクの収納方向、表裏の設定項目、装置機番などが書き込まれ、以後の製造装置及び検査装置においては、必要に応じ各々の情報を読み出し、書き込みを行う。すなわち、製造工程における進行管理、品質管理、事故管理などを効果的に行うものである。
1・・・マスク
10・・・載置台
11・・・SMIF−Pod
12・・・SMIF−Podの本体
13・・・SMIF−Podの蓋体
14・・・支持台
15、23・・・爪台
20・・・ステージ
21、31・・・支柱
22・・・取り付け台
30・・・基底部
32・・・アーム
33・・・反転機構
40・・・ハンドユニット
42・・・エアチャック
43・・・ロボットハンド
44・・・爪
50・・・ケミカルフィルタが付設されたファンフィルタユニット(FFU)
51・・・ファンフィルタユニット本体
52・・・クリーンルーム内の空気
53・・・送風機
54・・・プレフィルタ
55・・・空気フィルタ
56・・・ケミカルフィルタ
57・・・開口面
58・・・吹き出される清浄な空気
60・・・隔壁
A・・・載置部
B・・・回転ステージ部
C・・・円筒座標型ロボット部
D・・・第一定位置
E・・・第二定位置
10・・・載置台
11・・・SMIF−Pod
12・・・SMIF−Podの本体
13・・・SMIF−Podの蓋体
14・・・支持台
15、23・・・爪台
20・・・ステージ
21、31・・・支柱
22・・・取り付け台
30・・・基底部
32・・・アーム
33・・・反転機構
40・・・ハンドユニット
42・・・エアチャック
43・・・ロボットハンド
44・・・爪
50・・・ケミカルフィルタが付設されたファンフィルタユニット(FFU)
51・・・ファンフィルタユニット本体
52・・・クリーンルーム内の空気
53・・・送風機
54・・・プレフィルタ
55・・・空気フィルタ
56・・・ケミカルフィルタ
57・・・開口面
58・・・吹き出される清浄な空気
60・・・隔壁
A・・・載置部
B・・・回転ステージ部
C・・・円筒座標型ロボット部
D・・・第一定位置
E・・・第二定位置
Claims (4)
- SMIF−Podに収納されたマスクの収納方向、及び表裏を変更する基板収納方向制御装置において、
1)a)マスクが収納されたSMIF−Podを載置する載置台及び支持台、
b)該SMIF−Podの固定具、
c)エアチャック、グリップ、爪、支柱からなり、SMIF−Podの蓋部 を把持し昇降する蓋部開閉機構、で構成される載置部(A)、
2)a)ロボットハンドで把持されたマスクを載置するステージ及び爪台、
b)該ステージの中心のZ軸を回転軸とし、ステージを180度回転させる ことが可能な支柱、
c)該支柱の取り付け台、で構成される回転ステージ部(B)、
3)a)基底部、
b)そのZ軸を回転軸とした回転が可能で、Z軸方向へ昇降が可能な支柱、
c)該支柱の上部に設けられた、水平に直動が可能なアーム、
d)該アームの端部に設けられた、マスクを把持した状態でアームの軸を回転軸として180度回転しマスクを表裏反転させる反転機構、及びアームの軸に平行で水平な一対のロボットハンドを有するハンドユニット、で構成されるマスクの搬送手段としての円筒座標型ロボット部(C)、を具備し、上記載置部(A)、回転ステージ部(B)、円筒座標型ロボット部(C)は、載置部(A)、円筒座標型ロボット部(C)、回転ステージ部(B)の順にX軸方向に配置され、前記SMIF−Podに収納されたマスクの収納方向を180度変更、及び表裏反転することが可能であることを特徴とする基板収納方向制御装置。 - 前記SMIF−Podが、オープンカセットであることを特徴とする請求項1記載の基板収納方向制御装置。
- 前記基板収納方向制御装置は、密閉された空間内に配置されており、空気が該空間上部からファンフィルタユニット(FFU)及びケミカルフィルタを通じて流入され、下部の排出口から排出され、該空間内の圧力が外部に対しプラス圧であることを特徴とする請求項1、又は請求項2記載の基板収納方向制御装置。
- 前記載置部(A)は、RFIDタグ(Radio Frequency−Identification:無線タグ)の書き込み/読み取り装置を具備し、SMIF−PodにはRFIDタグが付設されていることを特徴とする請求項1、請求項2、又は請求項3記載の基板収納方向制御装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004027932A JP2005221618A (ja) | 2004-02-04 | 2004-02-04 | 基板収納方向制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2004027932A JP2005221618A (ja) | 2004-02-04 | 2004-02-04 | 基板収納方向制御装置 |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2005221618A true JP2005221618A (ja) | 2005-08-18 |
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ID=34997320
Family Applications (1)
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JP2004027932A Withdrawn JP2005221618A (ja) | 2004-02-04 | 2004-02-04 | 基板収納方向制御装置 |
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JP (1) | JP2005221618A (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
2004
- 2004-02-04 JP JP2004027932A patent/JP2005221618A/ja not_active Withdrawn
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