JPH09270383A - 基板搬送装置及び基板搬送方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】基板搬送装置及び基板搬送方法において、搬送
手段を挿入し得る余裕が無い場合においても基板を搬送
及び交換し得、また搬送手段が基板ステージの駆動を阻
害することを防止する。 【解決手段】基板待機位置４及び基板ステージ５の位置
を両端とする回転移動手段を設け、駆動手段によつて回
転移動手段の中心位置を軸として水平面内で回転駆動さ
せると共に上下方向へ移動させ、さらに開閉動作して基
板ステージ上の吸着保持手段が配された位置以外のペリ
クル枠外の位置で基板２１を下面から吸着保持する一対
の基板保持手段を回転移動手段の両端に設ける。基板保
持手段を閉動作させて基板待機位置４及び基板ステージ
５に配された基板２１を保持させ、駆動手段によつて搬
送してそれぞれの基板位置を入れ換える。入れ換え後は
基板保持手段を開動作させて基板を放し、基板ステージ
の駆動を妨げない位置に基板保持手段を退避させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は基板搬送装置及び基
板搬送方法に関し、例えば半導体素子又は液晶表示素子
を製造する際に使用される露光装置のレチクルローダ系
に適用して好適なものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、レチクル（以下、これを基板と呼
ぶ）又はフオトマスクでなるパターンをフオトレジスト
が塗布されたウエハ又はガラスプレート上に露光する露
光装置においては、例えば一枚のウエハ上の異なる領域
にそれぞれ異なるパターンを露光する場合がある。この
ような場合、露光装置の基板ステージ上に配する基板を
順次交換しながらそれぞれの基板を用いた露光がなされ
る。このような露光装置では、全露光時間を短時間で完
了させるためにレチクルローダ系と呼ばれる搬送系を用
いて各基板の交換を効率的に行つている。

【０００３】図３において、１は全体として露光装置内
に設けられた基板搬送装置を示し、基板保管部２から取
り出した基板（図示せず）を異物検査装置３、基板待機
位置４及び基板ステージ５に順次搬送する。基板保管部
２は複数の基板ケース６でなり、各基板ケース６内にそ
れぞれ基板を収めている。各基板ケース６内に収められ
ている基板はアーム７によつて取り出される。アーム７
は、取り出した基板をキヤリア８に受け渡す。キヤリア
８は受け渡される基板の位置決めをした後に、この基板
を上面から真空吸着により保持して基板待機位置４に至
る経路上に設置された異物検査装置３に搬送する。また
基板ケース６の個数を減らすことにより、基板保管部２
の下部に小型の異物検査装置９を設ける場合もある。こ
の場合、各基板は基板ケース６と異物検査装置９との間
の経路をアーム７のみで搬送する。異物検査装置３又は
９は、搬送されてきた基板上にゴミ等の異物が付着して
いないかを検査する。検査により異物の付着が認められ
た基板は、基板ケース６に戻される。また異物の付着が
認められなかつた基板は、キヤリア８に受け渡されて搬
送され、搬送アーム１０に受け渡される。搬送アーム１
０は、キヤリア８から渡された基板を基板待機位置４に
搬送する。

【０００４】ここで、図４に示すように、搬送対象の基
板の下面にはゴミ転写防止のために枠１１（以下、これ
をペリクル枠１１と呼ぶ）が設けられており、このペリ
クル枠１１内に形成されているパターンを被覆するよう
にペリクル膜と呼ばれる被膜が形成されている。このた
め、搬送アーム１０の先端に設けられた基板保持部１２
はペリクル枠１１に比してやや大きい横幅を有するコの
字形状に形成されており、ペリクル枠１１及びペリクル
膜に接触しないようになつている。このような基板保持
部１２を有する搬送アーム１０は、キヤリア８から渡さ
れた基板の下面に、ペリクル枠１１及びペリクル膜に接
触しないように基板保持部１２を当接させて支持すると
共に、基板保持部１２に複数設けられた吸着部１３によ
り基板を真空吸着して保持する。

【０００５】搬送アーム１０により基板待機位置４に搬
送された基板は、基板ステージ５に先に配されている基
板による露光が完了するまでの所定時間、その位置で待
機状態に置かれる。露光が完了したら、搬送アーム１０
は再度動きだして基板を基板ステージ５に搬送する。こ
の際、先の露光のために使用された基板との交換がなさ
れるが、先に使用した基板を基板ケース６に搬送して戻
し、その後新たな基板を基板ケース６から取り出して基
板ステージ５まで搬送する手法では交換が煩雑であり、
交換に要する時間も少なくない。このため、この基板搬
送装置１では搬送アーム１０を、基板ステージ５への新
たな基板の搬入用及び先の基板の搬出用として二組設け
ており、それぞれ並行して基板を搬送することにより搬
送時間を短縮するようにしている。まず、基板ステージ
５で先の基板による露光がなされている間に、基板搬入
用のアーム１０が基板ケース６から新たな基板を取り出
して基板待機位置４まで搬送しておく。先の基板による
露光が完了したら、基板搬出用のアーム１０がこれを基
板ステージ５から取り出す。これに続いて基板搬入用の
アーム１０が基板待機位置４で待機状態にあつた新たな
基板を、基板ステージ５に直ちに受け渡す。搬出された
基板は、アーム１０からキヤリア８及びアーム７に順次
受け渡されて基板ケース６に戻される。

【０００６】基板ステージ５は基板の横幅方向の側辺に
沿つた位置に吸着部１４を複数有しており、この吸着部
１４でアーム１０によつて搬送され受け渡される基板の
下面を吸着保持する。ここで基板保持部１２が基板上の
ペリクル枠１１に比してやや大きい横幅を有するコの字
形状でなり、ペリクル枠１１に接触しないように基板を
吸着保持することは先に述べた通りである。これに加え
て、このような状態で基板を基板ステージ５に受け渡す
ため、基板保持部１２は基板ステージ５の吸着部１４の
内側より狭い横幅でなつている。すなわち基板保持部１
２は基板ステージ５の吸着部１４の内側より狭くかつ基
板上のペリクル枠１１より広い横幅でなり、基板ステー
ジ５への基板受け渡しの際には吸着部１４と基板上のペ
リクル枠１１との間に位置するようになつている（図
４）。こうして基板を受け渡された基板ステージ５は、
検出器１５による光学的な検出により基板の位置を読み
取る。読み取られた位置情報に応じて、駆動装置１６は
基板ステージ５を水平面内及び上下方向に駆動して基板
位置を補正する。かくして基板搬送装置１は、露光処理
するために用いられる基板を効率的に搬送及び交換する
ことができる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところでかかる構成の
基板搬送装置１においては、搬送対象の基板の下面に基
板ステージ５の吸着部１４と基板上のペリクル枠１１と
の間に基板保持部１２が入るための所定長さでなる余裕
が必要であつた（図４）。基板上の露光領域が十分狭い
場合は、この点について特に問題は無い。ところが半導
体の製造上においては、回路規模に応じてその露光領域
を拡大する必要が生じる場合がある。この際、露光領域
はペリクル枠１１が基板ステージ５の吸着部１４に接触
しない広さまでならば拡大することが可能である。しか
しこうした場合、吸着部１４とぺリクル枠１１との間に
基板保持部１２が入るための余裕が無くなつてしまい、
アーム１０による基板ステージ５への基板の搬送ができ
なくなるという問題がある。

【０００８】この問題を回避するために、以下のような
保持方式により基板を保持して搬送する手法が考えられ
る。まず、基板上面から真空吸着等によつて吸着保持す
る手法が考えられるが、この手法では万一基板の保持が
外れた場合、落下により基板に傷を付けてしまうという
問題がある。また基板の側面を両端から挟んで搬送する
という手法が考えられるが、この手法の場合、挟み込む
際及び基板ステージ５に受け渡す際に基板位置のズレを
生じさせてしまい、位置決めされた基板の位置状態を維
持して搬送することが困難であるという問題がある。

【０００９】さらに図５に示すように、吸着部１４及び
ぺリクル枠１１に対応する中央部分を削除した枠形状の
四隅をそれぞれ中心方向に突出させた形状でなる基板保
持部１２によつて四隅の部分で基板を保持することによ
り、吸着部１４とぺリクル枠１１との間に基板保持部１
２が入るための余裕が無い状態でも下面から基板を保持
して搬送する手法が考えられるが、この手法の場合、基
板保持部１２が基板ステージ５の駆動を妨げてしまうと
いう問題がある。すなわち、基板ステージ５は基板の位
置を補正するために、アーム１０から受け渡された基板
を保持した状態で水平面内及び上下方向に駆動するよう
になつている。また露光装置がステツプ・アンド・スキ
ヤン方式を用いている場合、基板ステージ５は基板を保
持した状態で露光中に水平面内で駆動する。このため、
アーム１０の先端に設けられている基板保持部１２は、
基板を基板ステージ５に搬送して受け渡した後、基板ス
テージ５の駆動を妨げないように基板ステージ５及びそ
の近傍から退避する必要がある。しかるに、上述した形
状でなる基板保持部１２では、基板を基板ステージ５に
受け渡した後、退避することができずに基板ステージ５
の駆動を妨げることになつてしまう。

【００１０】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、基板ステージ上の吸着保持手段と基板上のペリクル
枠との間に搬送手段を挿入し得る余裕が無い場合におい
ても基板を搬送及び交換し得、また搬送手段が基板ステ
ージの駆動を阻害することを防止し得る基板搬送装置及
び基板搬送方法を提案しようとするものである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め本発明においては、基板待機位置（４）及び基板ステ
ージ（５）の位置を両端とする直線上に回転移動手段
（２７）を設けると共に、回転移動手段（２７）の中心
位置に鉛直方向に設けられた軸を中心軸として回転移動
手段（２７）を水平面内で回転駆動させると共に上下方
向へ移動させる駆動手段（２８及び２９）を設け、さら
に基板（２１）の水平面に沿つて開閉動作して基板待機
位置（４）及び基板ステージ（５）に配された基板（２
１）を基板ステージ（５）上の吸着保持手段（１４）が
配された位置以外のペリクル枠（１１）外の位置でそれ
ぞれ下面から吸着保持する一対の基板保持手段（３０）
を回転移動手段（２７）の長手方向の両端にそれぞれ設
ける。

【００１２】回転移動手段（２７）の両端に設けられた
基板保持手段（３０）を閉動作させることによつて基板
待機位置（４）及び基板ステージ（５）に配された基板
（２１）をペリクル枠（１１）外でかつ基板ステージ
（５）上の吸着部（１４）に接触しない位置で保持さ
せ、駆動手段（２８及び２９）によつて回転移動手段
（２７）を回転駆動してそれぞれの基板位置を入れ換え
る。入れ換え後は基板保持手段（３０）を開動作させて
基板（２１）を放し、基板ステージ（５）の駆動を妨げ
ない位置に基板保持手段（２７）を退避させる。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下図面について、本発明の一実
施例を詳述する。

【００１４】図３との対応部分に同一符号を付して示す
図１において、２０は全体として基板搬送装置を示し、
投影露光装置のレチクルローダ系に用いられるものであ
る。基板搬送装置２０は、基板保管部２内の基板ケース
６から取り出した基板を異物検査装置３及び基板待機位
置４を順次介して基板ステージ５に搬送して、先の露光
で使用された基板と交換する。また、先の基板は基板ケ
ース６に搬送して収納する。

【００１５】基板搬送装置２０は、基板保管部２内に複
数設けられている基板ケース６から基板２１を多軸アー
ム２２によつて取り出す。ここで多軸アーム２２は、前
後方向への移動、上下方向への移動及び水平面内での回
転移動が可能な多軸系の駆動部を有する機構でなる。ま
た多軸アーム２２は吸着部（図示せず）を有しており、
取り出した基板２１を真空吸着して保持しながら、上方
位置に待機している位置決め機構部２３に搬送する。位
置決め機構部２３は、空圧で作動するピンにより搬送さ
れた基板の側部端面を押圧して位置決めする。この際、
基板２１を保持している多軸アーム２２は、位置決め機
構部２３が基板２１の位置決めをしている間だけ基板２
１の真空吸着を一時解除する。多軸アーム２２は、位置
決めが完了すると再度基板２１を真空吸着して保持しな
がら、異物検査装置３に搬送する。

【００１６】異物検査装置３は、基板保管部２に対して
９０°の向きに配置されており、多軸アーム２２によつ
て搬送された基板２１を受け渡される。すなわち、異物
検査装置３には基板２１を支持する支持部２４が設けら
れており、多軸アーム２２は基板２１を真空吸着を解除
して支持部２４に受け渡す。支持部２４は多軸アーム２
２と同様に吸着部（図示せず）を有しており、受け渡さ
れた基板２１を真空吸着して保持しながら下方に移動し
て装置内に搬入する。異物検査装置３内には基板２１を
保持しながら検査工程内を搬送する検査アーム２５が設
けられており、支持部２４は基板２１を検査アーム２５
に受け渡す。検査アーム２５は異物検査装置３内で水平
面内で直線移動して基板２１を検査工程に搬送して、基
板２１上及びペリクル枠１１内を被覆しているペリクル
膜上に異物が付着していないかを検査させる。検査が完
了すると、検査アーム２５は支持部２４に基板２１を受
け渡し、支持部２４は上方に移動して異物検査装置３外
で待機状態にある多軸アーム２２に基板２１を受け渡
す。

【００１７】多軸アーム２２は、支持部２４から受け渡
された基板２１を真空吸着して保持しながら、基板保管
部２に対向する向きで配置されている基板待機位置４に
搬送する。基板待機位置４の四方の角部には基板２１を
支持するためのピン２６がそれぞれ設けられており、多
軸アーム２２は真空吸着を解除した状態でピン２６上に
基板２１を載せて基板待機位置４に基板２１を受け渡
す。

【００１８】基板待機位置４及び基板ステージ５の上方
には、背面が対向してなる基板交換用アーム２７がそれ
ぞれ設けられている。また基板待機位置４及び基板ステ
ージ５の中間位置には、基板交換用アーム２７を水平面
内で回転駆動させる回転駆動部２８と、基板交換用アー
ム２７を上下方向に駆動させる上下駆動部２９が設けら
れている。基板交換用アーム２７は、基板待機位置４で
待機状態にある基板２１及び基板ステージ５に配置され
ている基板２１をそれぞれ保持する。基板交換用アーム
２７は、基板２１をそれぞれ保持した状態で回転駆動部
２８による回転移動及び上下駆動部２９による上下移動
により基板２１を搬送して、それぞれの基板位置を入れ
換える。このようにして、基板交換用アーム２７は先に
基板ステージ５に配置されている基板２１と、基板待機
位置４で待機状態にある基板２１とを交換するようにな
されている。なお、先に基板ステージ５に配置されてお
り、新たな基板と交換された基板２１は、多軸アーム２
２によつて基板待機位置４から回収されて基板保管部２
の基板ケース６に戻される。

【００１９】ここで図２に示すように、基板交換用アー
ム２７の先端は、それぞれ水平面内で開閉可能な構造で
なると共に真空吸着して基板２１を保持し得るようにな
つている。すなわち基板交換用アーム２７において、基
板保持部３０は左右一対でなり、それぞれ長さが異なる
Ｌ字形状でなる。また基板保持部３０には吸着部３１が
それぞれ設けられており、基板保持部３０内に形成され
ている空気穴（図示せず）を介して、基板ステージ５上
に設けられている吸着部１４（図４）とは異なる位置で
基板２１を保持し得るようになつている。

【００２０】さらに基板保持部３０はガイドレール形状
でなるキヤリア３２に嵌合されており、左右の基板保持
部３０を繋ぐバネ３３及び空気圧で作動するシリンダ３
４によつて開閉動作する。この際、基板保持部３０の開
閉時の位置はストツパ３５及び３６で位置決めされてい
る。具体的には、開状態の場合、基板２１の幅よりやや
広い位置で位置決めされ、また閉状態の場合、基板保持
部３０のＬ字形状でなる先端が基板２１のペリクル枠の
外側でかつ基板ステージ５の吸着部１４（図４）に接触
しない位置で位置決めされている。このような構造によ
り基板交換用アーム２７は、基板待機位置４に搬送され
てきた基板２１及び基板ステージ５に配置されている基
板２１を開状態にある基板保持部３０を閉じて保持しな
がら、互いの位置を入れ換えて基板待機位置４及び基板
ステージ５にそれぞれ受け渡す。

【００２１】また、基板ステージ５は、ステツプ・アン
ド・スキヤン方式で基板２１による露光を実行している
ため、露光中に基板２１を保持した状態で水平面内で駆
動するようになつている。このため基板交換用アーム２
７は、基板ステージ５に基板２１を受け渡した後、基板
保持部３０を開いて基板２１を放し、基板ステージ５の
駆動を妨げない位置に退避するようになつている。

【００２２】以上の構成において、基板交換用アーム２
７は待機時、基板待機位置４及び基板ステージ５の上方
に退避している。基板交換用アーム２７は、基板待機位
置４に新たな基板２１が搬送されてきた場合、基板保持
部３０を開状態にして上下駆動部２９により下方に移動
し、基板待機位置４及び基板ステージ５に配置された基
板２１の下まで下がる。基板交換用アーム２７は、基板
２１の下の位置まで下がつたら基板保持部３０を閉じた
状態で上下駆動部２９により上方に移動する。基板交換
用アーム２７は、こうして基板ステージ５に配置されて
いる基板２１及びピン２６に載せられている基板２１を
持ち上げて真空吸着することにより保持する。この際、
基板保持部３０の開閉時の位置はストツパ３５及び３６
により、開状態の場合、基板２１の幅よりやや広い位置
で位置決めされ、また閉状態の場合、基板保持部３０の
Ｌ字形状でなる先端が基板２１のペリクル枠１１の外側
でかつ基板ステージ５の吸着部１４（図４）に接触しな
い位置で位置決めされている。

【００２３】基板交換用アーム２７は、こうして基板２
１を保持した状態で回転駆動部２８による１８０°の回
転移動により、基板待機位置４に配された基板２１及び
基板ステージ５上に配置されていた基板２１の位置を互
いに入れ換える。基板交換用アーム２７は、この後、真
空吸着を解除して下方に移動して基板２１をそれぞれ基
板待機位置４のピン２６及び基板ステージ５上に載せ
る。また、基板交換用アーム２７は基板２１を基板待機
位置４及び基板ステージ５に受け渡した後、基板保持部
３０を開いて上方に移動して再び待機状態に戻る。

【００２４】基板交換用アーム２７は、このように開閉
動作する基板保持部３０によつて基板待機位置４及び基
板ステージ５に配された基板２１をペリクル枠１１及び
基板ステージ５上の吸着部１４に接触しない位置で保持
する。このため、露光領域が広いためにペリクル枠１１
と基板ステージ５との間に基板保持部３０を挿入する余
裕が無い場合でも、基板２１を保持して搬送することが
できる。また基板交換用アーム２７は基板ステージ５に
基板２１を搬送した後、基板保持部３０を開動作させて
基板２１を放し、上方に移動する。これにより、ステツ
プ・アンド・スキヤン方式によつて基板ステージ５が基
板２１を保持した状態で水平面内で駆動する場合でも、
基板ステージ５が駆動する妨げにならない位置に退避す
ることができる。さらに、基板交換用アーム２７は、基
板保持部３０に設けられた吸着部３１によつて基板２１
を真空吸着して保持するようにしているため、基板２１
を安全にかつ位置ズレを生じさせずに搬送することがで
きる。

【００２５】また、多軸アーム２２は前後移動により基
板ケース６から取り出した基板２１を真空吸着して保持
した後、水平面内で９０°回転して上方に移動する。上
方に配置されている位置決め機構部２３により基板２１
の位置決めが完了したら、下方に移動する。多軸アーム
２２はこの後、そのまま前方に移動して支持部２４に進
入する。真空吸着を解除して下方に移動し、基板２１を
支持部２４に受け渡した後は後方に後退して待機する。
検査完了後、支持部２４から基板２１を受け取つた多軸
アーム２２は、基板２１を真空吸着した状態で再び９０
°回転して基板待機位置４に基板２１を搬送する。多軸
アーム２２は、ピン２６の上方に進入して真空吸着を解
除した後、下方に移動して基板２１をピン２６上に載せ
る。こうしてピン２６に基板２１を載せることにより基
板待機位置４に基板２１を受け渡した多軸アーム２２
は、そのまま後退する。

【００２６】さらに多軸アーム２２は、基板交換用アー
ム２７によつて基板ステージ５から基板待機位置４に搬
送された基板２１を、前方に移動して基板待機位置４に
進入した後、上方に移動してピン２６から受け取る。多
軸アーム２２は受け取つた基板２１を真空吸着して保持
した後、１８０°回転して基板保管部２に向き直り、そ
のまま前方に進入して基板ケース６に基板２１を収め
る。基板２１を収めた後は真空吸着を解除して後退す
る。

【００２７】多軸アーム２２は、このように上下方向へ
の移動、前後方向への移動及び水平面内での回転移動を
可能にする多軸駆動系により構成されている。このた
め、基板保管部２、異物検査装置３及び基板待機位置４
間を全て多軸アーム２１によつて基板２１を搬送するこ
とにより、基板２１の受け渡し回数を少なくすることが
でき、かくするにつき、基板２１の搬送時間を短縮する
ことができる。

【００２８】ちなみに、基板搬送装置２０は、異物検査
装置３を基板保管部２と異なる位置に配置しているた
め、小型の異物検査装置９（図３）を基板保管部２の下
部に設けた場合のように基板ケース６を減らすことな
く、従来に比して多くの基板ケース６を基板保管部２に
収納することができる。

【００２９】以上の構成によれば、基板待機位置４及び
基板ステージ５の位置を両端とする直線上に基板交換用
アーム２７を設けると共に、基板交換用アーム２７の中
心位置に鉛直方向に設けられた軸を中心軸として基板交
換用アーム２７を水平面内で回転駆動させ又上下方向へ
移動させる回転駆動部２８及び上下移動部２９を設け、
さらに基板２１の水平面に沿つて開閉動作する一対の基
板保持部３０を基板交換用アーム２７の長手方向の両端
にそれぞれ設ける。

【００３０】このような基板保持部３０を閉動作させる
ことによつて基板待機位置４及び基板ステージ５に配さ
れた基板２１をペリクル枠１１及び基板ステージ５の吸
着部１４に接触しない位置で保持させ、回転駆動部２８
及び上下移動部２９によつて基板交換用アーム２７を回
転駆動してそれぞれの基板位置を入れ換え、また入れ換
え後は基板保持部３０を開動作させて基板２１を放し、
基板ステージ５の駆動を妨げない位置に基板交換用アー
ム２７を退避させる。これにより、基板ステージ５と基
板２１上のペリクル枠１１との間に基板保持部３０を挿
入し得る余裕が無い場合においても、基板２１を保持し
て搬送及び交換し得ると共に基板ステージ５を駆動させ
る際の妨げとなることを防止し得る。

【００３１】また多軸アーム２２は、上下方向への移
動、前後方向への移動及び水平面内での回転移動を可能
にする多軸駆動系により構成されているため、基板保管
部２、異物検査装置３及び基板待機位置４間を全て多軸
アーム２２で基板２１を搬送することにより、基板２１
の受け渡し回数を少なくすることができる。

【００３２】かくして、基板ステージ５上の吸着部１４
と基板上２１のペリクル枠１１との間に基板保持部３０
を挿入し得る余裕が無い場合においても基板２１を搬送
及び交換し得、また基板交換用アーム２７が基板ステー
ジ５の駆動を阻害することを防止でき、さらに基板２１
の搬送時間を短縮し得る基板搬送装置２０及び基板搬送
方法を実現することができる。

【００３３】なお上述の実施例においては、多軸アーム
２２によつて基板保管部２から取り出した基板２１を支
持部２４及び検査アーム２５を順次介して異物検査装置
３に受け渡す場合について述べたが、本発明はこれに限
らず、支持部２４を省略して多軸アーム２２から検査ア
ーム２５に直接基板２１を受け渡すようにしてもよい。
また異物検査装置３の仕様に適合する直進性、再現性、
剛性及び制御性を備えているならば、多軸アーム２２か
ら直接異物検査装置３内に基板２１を搬入させるように
して、支持部２４及び検査アーム２５を省略してもよ
い。

【００３４】また上述の実施例においては、基板交換用
アーム２７の先端に設けられた基板保持部３０をバネ３
３及びシリンダ３４によつて開閉駆動させる場合につい
て述べたが、本発明はこれに限らず、例えばモータ及び
ギアの組み合わせによつて駆動させるようにしてもよ
い。

【００３５】また上述の実施例においては、基板２１を
３点で吸着保持する（図２）場合について述べたが、本
発明はこれに限らず、要はペリクル枠やステージ５に干
渉しない位置であれば、例えば前後方向に開閉するよう
な基板保持部を設けても良い。

【００３６】さらに上述の実施例においては、基板待機
位置４及び基板ステージ５を両端として回転駆動する基
板交換用アーム２７の先端にそれぞれ基板保持部３０を
設けた場合について述べたが、本発明はこれに限らず、
従来のような直線移動により基板待機位置４を経て基板
ステージ５に基板２１を搬送する基板ロード用アーム１
０（図３）に開閉動作する基板保持部３０を設けてもよ
い。

【００３７】

【発明の効果】上述のように本発明によれば、基板待機
位置及び基板ステージの位置を両端とする直線上に回転
移動手段を設けると共に、回転移動手段の中心位置に鉛
直方向に設けられた軸を中心軸として回転移動手段を水
平面内で回転駆動させると共に上下方向へ移動させる駆
動手段を設け、さらに基板の水平面に沿つて開閉動作し
て基板待機位置及び基板ステージに配された基板を基板
ステージ上の吸着保持手段が配された位置以外のペリク
ル枠外の位置でそれぞれ下面から吸着保持する一対の基
板保持手段を回転移動手段の長手方向の両端にそれぞれ
設けて、回転移動手段の両端に設けられた基板保持手段
を閉動作させることによつて基板待機位置及び基板ステ
ージに配された基板をペリクル枠外でかつ基板ステージ
上の吸着保持手段に接触しない位置で保持させ、駆動手
段によつて回転移動手段を回転駆動してそれぞれの基板
位置を入れ換え、また入れ換え後は基板保持手段を開動
作させて基板を放し、基板ステージの駆動を妨げない位
置に基板保持手段を退避させる。これにより、基板ステ
ージ上の吸着保持手段と基板上のペリクル枠との間に搬
送手段を挿入し得る余裕が無い場合においても基板を搬
送及び交換し得、また搬送手段が基板ステージの駆動を
阻害することを防止し得る基板搬送装置及び基板搬送方
法を実現することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例による基板搬送装置の構成を
示す斜視図である。

【図２】基板交換用アームの構造を示す平面図である。

【図３】従来の基板搬送装置の構成を示す斜視図であ
る。

【図４】従来の基板ロード用アーム、基板及び基板ステ
ージの位置関係を示す平面図である。

【図５】露光範囲が広い場合の基板ロード用アーム、基
板及び基板ステージの位置関係を示す平面図である。

【符号の説明】

１、２０……基板搬送装置、２……基板保管部、３、９
……異物検査装置、４……基板待機位置、５……基板ス
テージ、６……基板ケース、７、１０……アーム、８…
…キヤリア、１１……ぺリクル枠、１２……基板保持
部、１３、１４……吸着部、１５……検出器、１６……
駆動装置、２１……基板、２２……多軸アーム、２３…
…位置決め機構部、２４……支持部、２５……検査アー
ム、２６……ピン、２７……基板交換用アーム、２８…
…回転駆動部、２９……上下駆動部、３０……基板保持
部、３１……吸着部、３２……キヤリア、３３……バ
ネ、３４……シリンダ、３５、３６……ストツパ。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】搬送対象の基板を基板待機位置から基板ス
   テージに搬送する基板搬送装置において、 前記基板待機位置及び前記基板ステージの位置を両端と
   する直線上に設けられた回転移動手段と、 前記回転移動手段の中心位置に鉛直方向に設けられた軸
   を中心軸として前記回転移動手段を水平面内で回転駆動
   すると共に、上下方向へ移動させる駆動手段と、 前記回転移動手段の長手方向の両端にそれぞれ設けら
   れ、前記基板の水平面に沿つて開閉動作して前記基板待
   機位置及び前記基板ステージに配された前記基板を前記
   基板ステージ上の吸着保持手段が配された位置以外の前
   記基板上のペリクル枠外の位置でそれぞれ下面から吸着
   保持する一対の基板保持手段とを具えることを特徴とす
   る基板搬送装置。
2. 【請求項２】前記基板を収納して保管する基板保管部と
   は異なる平面上の位置に配され、前記基板上の異物の有
   無を検査する異物検査手段と、 鉛直方向への上下移動及び前記鉛直方向に直交する水平
   方向への前後移動及び水平面内での回転を行い得る多軸
   駆動系を有する搬送手段とを具え、 前記搬送手段によつて、前記基板保管部から取り出した
   前記基板を前記異物検査手段に搬送すると共に前記異物
   検査手段による検査が完了した前記基板を前記基板待機
   位置に搬送することを特徴とする請求項１に記載の基板
   搬送装置。
3. 【請求項３】前記搬送手段は、 前記基板の下面に当接する位置に吸着部を有し、該吸着
   部により前記基板を真空吸着して保持することを特徴と
   する請求項２に記載の基板搬送装置。
4. 【請求項４】搬送対象の基板を基板待機位置から基板ス
   テージに搬送する基板搬送方法において、 前記基板待機位置及び前記基板ステージの位置に配され
   た前記基板を、前記基板ステージ上の吸着保持手段が配
   された位置以外の前記基板上のペリクル枠外の位置でそ
   れぞれ下面から吸着保持し、 前記基板待機位置及び前記基板ステージ間の中心を回転
   軸として水平面内で回転移動させることにより、前記基
   板待機位置に配された前記基板を前記基板ステージに搬
   送すると共に前記基板ステージに配された前記基板を前
   記基板待機位置に搬送することを特徴とする基板搬送方
   法。