JP3493725B2 - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
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- JP3493725B2 JP3493725B2 JP10951594A JP10951594A JP3493725B2 JP 3493725 B2 JP3493725 B2 JP 3493725B2 JP 10951594 A JP10951594 A JP 10951594A JP 10951594 A JP10951594 A JP 10951594A JP 3493725 B2 JP3493725 B2 JP 3493725B2
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/70741—Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Library & Information Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばガラス基板等を
搬送するための基板搬送装置に関し、特に例えば半導体
素子又は液晶表示素子等を製造する際に使用される露光
装置のレチクルローダ系等に適用して好適なものであ
る。
搬送するための基板搬送装置に関し、特に例えば半導体
素子又は液晶表示素子等を製造する際に使用される露光
装置のレチクルローダ系等に適用して好適なものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】レチクル（又はフォトマスク等）のパタ
ーンをフォトレジストが塗布されたウエハ（又はガラス
プレート等）上に露光する露光装置において、例えば特
定用途向けＩＣ（Application-specific IC:ＡＳＩＣ）
を製造する場合には、１枚のウエハ上の異なるショット
領域に複数種類のレチクルのパターンを切り換えて露光
する必要がある。このように複数種類のレチクルのパタ
ーンを順次切り換えて露光するには、異なるレチクルを
効率的に切り換えて露光装置のレチクルステージ上にロ
ードし、且つそのレチクルステージからアンロードする
レチクルローダ系が必要となる。
ーンをフォトレジストが塗布されたウエハ（又はガラス
プレート等）上に露光する露光装置において、例えば特
定用途向けＩＣ（Application-specific IC:ＡＳＩＣ）
を製造する場合には、１枚のウエハ上の異なるショット
領域に複数種類のレチクルのパターンを切り換えて露光
する必要がある。このように複数種類のレチクルのパタ
ーンを順次切り換えて露光するには、異なるレチクルを
効率的に切り換えて露光装置のレチクルステージ上にロ
ードし、且つそのレチクルステージからアンロードする
レチクルローダ系が必要となる。
【０００３】図６は、本出願人が既に提案した効率的に
レチクルのロード及びアンロードを行うレチクルローダ
系を示し、この図６において、レチクルステージ２５上
のレチクル（不図示）が不図示の照明光学系からの露光
光により照明され、その露光光のもとでレチクルのパタ
ーンが投影光学系ＰＬを介してウエハステージ２６上の
ウエハＷの所定のショット領域に露光される。この場
合、投影光学系ＰＬの光軸に平行にＺ軸を取り、Ｚ軸に
垂直な平面の直交座標系をＸ軸、及びＹ軸とする。ま
た、その露光装置で露光対象とされる多数のレチクル
は、初期状態ではレチクルライブラリー４中の各レチク
ルケース５中に収納されている。
レチクルのロード及びアンロードを行うレチクルローダ
系を示し、この図６において、レチクルステージ２５上
のレチクル（不図示）が不図示の照明光学系からの露光
光により照明され、その露光光のもとでレチクルのパタ
ーンが投影光学系ＰＬを介してウエハステージ２６上の
ウエハＷの所定のショット領域に露光される。この場
合、投影光学系ＰＬの光軸に平行にＺ軸を取り、Ｚ軸に
垂直な平面の直交座標系をＸ軸、及びＹ軸とする。ま
た、その露光装置で露光対象とされる多数のレチクル
は、初期状態ではレチクルライブラリー４中の各レチク
ルケース５中に収納されている。
【０００４】そして、実際に所定のＡＳＩＣのパターン
をウエハＷ上に露光する際には、露光対象のレチクルが
第１搬送系５１、第２搬送系６１、及び第３搬送系５５
を介してレチクルステージ２５上にロードされ、露光が
終わってアンロードされたウエハは順次第３搬送系５５
を介して一時保管棚１３内に収納される。より詳細に説
明すると、第１搬送系５１は、Ｚ軸に平行なガイド５２
と、ガイド５２に沿ってスライドするＺ軸スライダ５３
と、Ｚ軸スライダ５３に沿ってＹ方向に移動してレチク
ルライブラリー４とレチクルＲＡの受渡しを行うアーム
５４とより構成されている。
をウエハＷ上に露光する際には、露光対象のレチクルが
第１搬送系５１、第２搬送系６１、及び第３搬送系５５
を介してレチクルステージ２５上にロードされ、露光が
終わってアンロードされたウエハは順次第３搬送系５５
を介して一時保管棚１３内に収納される。より詳細に説
明すると、第１搬送系５１は、Ｚ軸に平行なガイド５２
と、ガイド５２に沿ってスライドするＺ軸スライダ５３
と、Ｚ軸スライダ５３に沿ってＹ方向に移動してレチク
ルライブラリー４とレチクルＲＡの受渡しを行うアーム
５４とより構成されている。
【０００５】また、第２搬送系６１は、Ｘ軸に平行なガ
イド６２と、ガイド６２に沿って摺動すると共に、アー
ム５４とレチクルの受渡しを行うスライダ６３とより構
成されている。そして、第３搬送系５５は、Ｚ軸に平行
なガイド５６と、ガイド５６に沿ってＺ方向に移動でき
ると共に、Ｙ方向に伸びた２つの平行なガイド５７及び
５８と、これらガイド５７及び５８に沿ってＹ方向に移
動するアンロードアーム５９及びロードアーム６０とよ
り構成されている。この場合、スライダ６３とのレチク
ルの受渡しはアンロードアーム５９及びロードアーム６
０を介して行われ、ロードアーム６０がレチクルをレチ
クルステージ２５上にロードし、レチクルステージ２５
からのレチクルのアンロードはアンロードアーム５９に
より行われる。また、ロードアーム５９及びアンロード
アーム６０がそれぞれ一時保管棚１３とレチクルステー
ジ２５との間のレチクルの受渡しを行う。
イド６２と、ガイド６２に沿って摺動すると共に、アー
ム５４とレチクルの受渡しを行うスライダ６３とより構
成されている。そして、第３搬送系５５は、Ｚ軸に平行
なガイド５６と、ガイド５６に沿ってＺ方向に移動でき
ると共に、Ｙ方向に伸びた２つの平行なガイド５７及び
５８と、これらガイド５７及び５８に沿ってＹ方向に移
動するアンロードアーム５９及びロードアーム６０とよ
り構成されている。この場合、スライダ６３とのレチク
ルの受渡しはアンロードアーム５９及びロードアーム６
０を介して行われ、ロードアーム６０がレチクルをレチ
クルステージ２５上にロードし、レチクルステージ２５
からのレチクルのアンロードはアンロードアーム５９に
より行われる。また、ロードアーム５９及びアンロード
アーム６０がそれぞれ一時保管棚１３とレチクルステー
ジ２５との間のレチクルの受渡しを行う。
【０００６】そして、一時保管棚１３内にはレチクルラ
イブラリー４中のレチクルの内で、ＡＳＩＣのパターン
を露光する際に使用される複数枚のレチクルが保管さ
れ、そのＡＳＩＣ用のパターンを１ロットのウエハ上に
露光する際には、レチクルステージ２５と一時保管棚１
３との間でレチクルの受渡しが行われる。具体的に、一
時保管棚１３とレチクルステージ２５との間でレチクル
を交換する工程は以下のようなものであった。
イブラリー４中のレチクルの内で、ＡＳＩＣのパターン
を露光する際に使用される複数枚のレチクルが保管さ
れ、そのＡＳＩＣ用のパターンを１ロットのウエハ上に
露光する際には、レチクルステージ２５と一時保管棚１
３との間でレチクルの受渡しが行われる。具体的に、一
時保管棚１３とレチクルステージ２５との間でレチクル
を交換する工程は以下のようなものであった。
【０００７】アンロードアーム５９で露光終了後のレ
チクルをレチクルステージ２５よりアンロードする。 ロードアーム６０で次に露光するレチクルをレチクル
ステージ２５にロードする。 露光中にアンロードしたレチクルを一時保管棚１３に
返却する。 その次に露光するレチクルを一時保管棚１３より取り
出して待機位置へ搬送する。
チクルをレチクルステージ２５よりアンロードする。 ロードアーム６０で次に露光するレチクルをレチクル
ステージ２５にロードする。 露光中にアンロードしたレチクルを一時保管棚１３に
返却する。 その次に露光するレチクルを一時保管棚１３より取り
出して待機位置へ搬送する。
【０００８】このような工程の繰り返しにより、種々の
レチクルが順次レチクルステージ２５上に設置されてい
た。この場合、一時保管棚１３はレチクルライブラリー
４に比べてレチクルステージ２５に近いため、一時保管
棚１３が無い場合に比べて高速にレチクルの交換が行わ
れていた。また、レチクルのプリアライメントを行う際
には、レチクルステージ２５上のアライメント顕微鏡６
５を介してレチクルの位置ずれ量が計測され、この位置
ずれ量を打ち消すように駆動装置６４を介してレチクル
ステージ２５の位置が調整されていた。
レチクルが順次レチクルステージ２５上に設置されてい
た。この場合、一時保管棚１３はレチクルライブラリー
４に比べてレチクルステージ２５に近いため、一時保管
棚１３が無い場合に比べて高速にレチクルの交換が行わ
れていた。また、レチクルのプリアライメントを行う際
には、レチクルステージ２５上のアライメント顕微鏡６
５を介してレチクルの位置ずれ量が計測され、この位置
ずれ量を打ち消すように駆動装置６４を介してレチクル
ステージ２５の位置が調整されていた。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】上記の如き従来の技術
においては、一時保管棚を利用して複数のレチクルの切
り換えが行われていた。しかしながら、一時保管棚１３
とレチクルステージ２５との間でのレチクルの受渡しが
ロードアーム５９及びアンロードアーム６０により行わ
れ、交換時のレチクルの搬送距離が長いため、レチクル
の交換時間がまだ長いという不都合があった。
においては、一時保管棚を利用して複数のレチクルの切
り換えが行われていた。しかしながら、一時保管棚１３
とレチクルステージ２５との間でのレチクルの受渡しが
ロードアーム５９及びアンロードアーム６０により行わ
れ、交換時のレチクルの搬送距離が長いため、レチクル
の交換時間がまだ長いという不都合があった。
【００１０】 本発明は斯かる点に鑑み、搬送対象とす
る基板（レチクル等）の搬送経路を更に短縮し、基板の
交換を高速に行うことができる露光装置を提供すること
を目的とする。
る基板（レチクル等）の搬送経路を更に短縮し、基板の
交換を高速に行うことができる露光装置を提供すること
を目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明による露光装置
は、チャンバ内に設置され、パターンが形成されたマス
クをマスクステージ（２５）上へロードすると共に、前
記マスクステージ（２５）からアンロードする搬送装置
を備え、前記マスクステージ（２５）に保持されたマス
クのパターンを基板（Ｗ）上に露光する露光装置であっ
て、前記搬送装置は、前記チャンバの天板に固定される
支持部（１９）と、前記支持部（１９）の下側に取り付
けられる上下動軸（２０）と、前記上下動軸（２０）を
中心として回転可能に固定された回転部材（２１，２
２）と、前記回転部材（２１，２２）の一端と他端とに
取り付けられ、それぞれが前記回転部材（２１，２２）
の回転周方向に対する接線方向に開閉可能な一対のアー
ム部（２３Ａ，２３Ｂ，２４Ａ，２４Ｂ）を備え、前記
一対のアーム部（２３Ａ，２３Ｂ，２４Ａ，２４Ｂ）
が、閉成時には前記マスクを下から支持可能であり、開
成時には前記マスクが前記一対のアーム部（２３Ａ，２
３Ｂ，２４Ａ，２４Ｂ）の間を通過可能な間隔まで開成
する開閉部とを備え、前記開閉部に保持されたマスクを
直接、前記マスクステージ（２５）上へロードすると共
に、前記マスクステージ上のマスクを前記開閉部にアン
ロードし、前記開閉部は、前記マスクが前記マスクステ
ージへロードされた後に、前記マスクが一対のアーム部
（２３Ａ，２３Ｂ，２４Ａ，２４Ｂ）の間を通過可能な
間隔まで開成し、前記上下動軸（２０）が、前記一対の
アーム部（２３Ａ，２３Ｂ，２４Ａ，２４Ｂ）が開成し
た後に、前記回転部材（２１，２２）を前記マスクステ
ージ（２５）よりも高い位置へ上昇させるものである。
この場合、前記開閉部の一対のアーム部（２３Ａ，２３
Ｂ，２４Ａ，２４Ｂ）のそれぞれが、前記マスクを支持
する際に前記マスクを前記アーム部に対して吸着保持す
るための吸着部（４１Ａ，４１Ｂ，４１Ｃ，４２Ａ，４
２Ｂ，４２Ｃ）を有することが望ましい。次に、本明細
書の実施例に記載された第１のマスク搬送装置は、例え
ば図１に示すように、マスクをマスクステージ（２５）
上に設置すると共に、マスクをマスクステージ（２５）
から搬出する装置において、マスクを一時的に保管する
と共に、マスクステージ（２５）の表面に交差する方向
（Ｚ方向）に移動自在に支持された一時保管部（１３）
と、マスクを吸着保持する保持部（２３Ａ，２３Ｂ）
と、この保持部を回転させると共にマスクステージ（２
５）の表面に交差する方向に移動させる回転上下部（２
０，２１）とを有する回転アーム部（１８）と、を有
し、一時保管部（１３）が、防塵手段を備えたマスクを
保持可能な間隔で配列された複数のマスク保持部（３３
1 ，…，３３N ）を有し、回転アーム部（１８）を介し
て一時保管部（１３）とマスクステージ（２５）との間
でマスクの受渡しを行うものである。
は、チャンバ内に設置され、パターンが形成されたマス
クをマスクステージ（２５）上へロードすると共に、前
記マスクステージ（２５）からアンロードする搬送装置
を備え、前記マスクステージ（２５）に保持されたマス
クのパターンを基板（Ｗ）上に露光する露光装置であっ
て、前記搬送装置は、前記チャンバの天板に固定される
支持部（１９）と、前記支持部（１９）の下側に取り付
けられる上下動軸（２０）と、前記上下動軸（２０）を
中心として回転可能に固定された回転部材（２１，２
２）と、前記回転部材（２１，２２）の一端と他端とに
取り付けられ、それぞれが前記回転部材（２１，２２）
の回転周方向に対する接線方向に開閉可能な一対のアー
ム部（２３Ａ，２３Ｂ，２４Ａ，２４Ｂ）を備え、前記
一対のアーム部（２３Ａ，２３Ｂ，２４Ａ，２４Ｂ）
が、閉成時には前記マスクを下から支持可能であり、開
成時には前記マスクが前記一対のアーム部（２３Ａ，２
３Ｂ，２４Ａ，２４Ｂ）の間を通過可能な間隔まで開成
する開閉部とを備え、前記開閉部に保持されたマスクを
直接、前記マスクステージ（２５）上へロードすると共
に、前記マスクステージ上のマスクを前記開閉部にアン
ロードし、前記開閉部は、前記マスクが前記マスクステ
ージへロードされた後に、前記マスクが一対のアーム部
（２３Ａ，２３Ｂ，２４Ａ，２４Ｂ）の間を通過可能な
間隔まで開成し、前記上下動軸（２０）が、前記一対の
アーム部（２３Ａ，２３Ｂ，２４Ａ，２４Ｂ）が開成し
た後に、前記回転部材（２１，２２）を前記マスクステ
ージ（２５）よりも高い位置へ上昇させるものである。
この場合、前記開閉部の一対のアーム部（２３Ａ，２３
Ｂ，２４Ａ，２４Ｂ）のそれぞれが、前記マスクを支持
する際に前記マスクを前記アーム部に対して吸着保持す
るための吸着部（４１Ａ，４１Ｂ，４１Ｃ，４２Ａ，４
２Ｂ，４２Ｃ）を有することが望ましい。次に、本明細
書の実施例に記載された第１のマスク搬送装置は、例え
ば図１に示すように、マスクをマスクステージ（２５）
上に設置すると共に、マスクをマスクステージ（２５）
から搬出する装置において、マスクを一時的に保管する
と共に、マスクステージ（２５）の表面に交差する方向
（Ｚ方向）に移動自在に支持された一時保管部（１３）
と、マスクを吸着保持する保持部（２３Ａ，２３Ｂ）
と、この保持部を回転させると共にマスクステージ（２
５）の表面に交差する方向に移動させる回転上下部（２
０，２１）とを有する回転アーム部（１８）と、を有
し、一時保管部（１３）が、防塵手段を備えたマスクを
保持可能な間隔で配列された複数のマスク保持部（３３
1 ，…，３３N ）を有し、回転アーム部（１８）を介し
て一時保管部（１３）とマスクステージ（２５）との間
でマスクの受渡しを行うものである。
【００１２】 この場合、回転アーム部（１８）にマス
クを保持する保持部を２個（２３Ａ，２３Ｂ，２４Ａ，
２４Ｂ）設け、これら２個の保持部がそれぞれ保持対象
のマスクに沿って開閉する１対の吸着部を有することが
望ましい。更に、マスクステージ（２５）がステップ・
アンド・スキャン方式の露光装置に設けられて水平面内
で駆動可能なマスクステージである場合には、回転アー
ム部（１８）に設けられた保持部（２３Ａ，２３Ｂ，２
４Ａ，２４Ｂ）は、回転アーム部（１８）を回転又は上
昇させることによって退避させてもよい。また、一時保
管部（１３）内へ空気を噴出することによって、一時保
管部（１３）に保管中のマスクの周辺環境のクリーン度
を上げる空調手段を設けることも望ましい。また、本明
細書の実施例に記載された第２のマスク搬送装置は、例
えば図１に示すように、マスク保管部（４）に収納され
たマスクを、このマスクが処理されるマスクステージ
（２５）上に設置すると共に、処理後のマスクをマスク
ステージ（２５）からマスク保管部（４）に戻す装置に
おいて、マスク保管部（４）とマスクの受渡しを行うマ
スク搬送部（６）と、このマスク搬送部とマスクステー
ジ（２５）との間でマスクを一時的に保管すると共に、
マスクステージ（２５）の表面に交差する方向（Ｚ方
向）に移動自在に支持された一時保管部（１３）と、マ
スクを吸着保持する保持部（２３Ａ，２３Ｂ）と、この
保持部を回転させると共にマスクステージ（２５）の表
面に交差する方向に移動させる回転上下部（２０，２
１）とを有する回転アーム部（１８）と、を有し、一時
保管部（１３）が、防塵手段を備えたマスクを保持可能
な間隔で配列されたマスク保持部（３３1 ，…，３３
N ）を有し、回転アーム部（１８）を介して一時保管部
（１３）とマスクステージ（２５）との間でマスクの受
渡しを行うものである。
クを保持する保持部を２個（２３Ａ，２３Ｂ，２４Ａ，
２４Ｂ）設け、これら２個の保持部がそれぞれ保持対象
のマスクに沿って開閉する１対の吸着部を有することが
望ましい。更に、マスクステージ（２５）がステップ・
アンド・スキャン方式の露光装置に設けられて水平面内
で駆動可能なマスクステージである場合には、回転アー
ム部（１８）に設けられた保持部（２３Ａ，２３Ｂ，２
４Ａ，２４Ｂ）は、回転アーム部（１８）を回転又は上
昇させることによって退避させてもよい。また、一時保
管部（１３）内へ空気を噴出することによって、一時保
管部（１３）に保管中のマスクの周辺環境のクリーン度
を上げる空調手段を設けることも望ましい。また、本明
細書の実施例に記載された第２のマスク搬送装置は、例
えば図１に示すように、マスク保管部（４）に収納され
たマスクを、このマスクが処理されるマスクステージ
（２５）上に設置すると共に、処理後のマスクをマスク
ステージ（２５）からマスク保管部（４）に戻す装置に
おいて、マスク保管部（４）とマスクの受渡しを行うマ
スク搬送部（６）と、このマスク搬送部とマスクステー
ジ（２５）との間でマスクを一時的に保管すると共に、
マスクステージ（２５）の表面に交差する方向（Ｚ方
向）に移動自在に支持された一時保管部（１３）と、マ
スクを吸着保持する保持部（２３Ａ，２３Ｂ）と、この
保持部を回転させると共にマスクステージ（２５）の表
面に交差する方向に移動させる回転上下部（２０，２
１）とを有する回転アーム部（１８）と、を有し、一時
保管部（１３）が、防塵手段を備えたマスクを保持可能
な間隔で配列されたマスク保持部（３３1 ，…，３３
N ）を有し、回転アーム部（１８）を介して一時保管部
（１３）とマスクステージ（２５）との間でマスクの受
渡しを行うものである。
【００１３】この場合、マスク保管部（４）とマスク搬
送部（６）とを第１のベース（２）上に載置し、一時保
管部（１３）とマスクステージ（２５）とをその第１の
ベースとは異なる第２のベース（１）上に載置すると共
に、一時保管部（１３）にマスク搬送部（６）からマス
クを渡す際にこのマスクの位置決めを行うマスク位置決
め部（１２Ａ）を設けることが望ましい。
送部（６）とを第１のベース（２）上に載置し、一時保
管部（１３）とマスクステージ（２５）とをその第１の
ベースとは異なる第２のベース（１）上に載置すると共
に、一時保管部（１３）にマスク搬送部（６）からマス
クを渡す際にこのマスクの位置決めを行うマスク位置決
め部（１２Ａ）を設けることが望ましい。
【００１４】 更に、第１のベース（２）と第２のベー
ス（１）とのずれ量を検出する振動検出部（４４，４
５）を設け、この振動検出部により検出された位置ずれ
量が所定の許容値を超えたときにマスク搬送部（６）か
ら一時保管部（１３）へのマスクの移送を停止すること
が望ましい。また、振動検出部としては、磁気センサの
他、光学式などの変位検出器を使用しても良い。
ス（１）とのずれ量を検出する振動検出部（４４，４
５）を設け、この振動検出部により検出された位置ずれ
量が所定の許容値を超えたときにマスク搬送部（６）か
ら一時保管部（１３）へのマスクの移送を停止すること
が望ましい。また、振動検出部としては、磁気センサの
他、光学式などの変位検出器を使用しても良い。
【００１５】
【作用】本発明の露光装置によれば、マスクステージよ
りも上方に位置するチャンバの天板に固定した支持部
に、上下動軸を介して、マスクを支持可能な開閉部を備
えた回転部材を固定し、前記開閉部の一対のアーム部で
マスクを支持するに際して、前記一対のアーム部は開成
時にはその間をマスクが通過可能な間隔まで開成するた
め、前記一対のアーム部でマスクを下から支持し、かつ
マスクがマスクステージへロードされた後には、前記一
対のアーム部を開成して、前記回転部材を前記マスクス
テージよりも高い位置へ上昇させることが可能となる。
以下、本明細書の実施例に記載されたマスク搬送装置に
関して、マスクを基板として、保持部を基板保持部とし
て、更にマスク保持部を単に保持部として、作用の説明
を行う。第１の基板搬送装置によれば、一時保管部（１
３）と基板ステージ（２５）との間の基板の受け渡しが
回転アーム部（１８）により行われる。この場合、回転
アーム部（１８）の基板保持部（２３Ａ，２３Ｂ）の回
転、及び一時保管部（１３）の上下動により一時保管部
（１３）と基板ステージ（２５）との間で所望の基板の
交換が行われるため、基板の待機位置は一時保管部（１
３）の位置とほぼ同じである。また、回転により基板の
交換が行われるため、基板の移動経路は短く、基板の交
換速度はきわめて速い。
りも上方に位置するチャンバの天板に固定した支持部
に、上下動軸を介して、マスクを支持可能な開閉部を備
えた回転部材を固定し、前記開閉部の一対のアーム部で
マスクを支持するに際して、前記一対のアーム部は開成
時にはその間をマスクが通過可能な間隔まで開成するた
め、前記一対のアーム部でマスクを下から支持し、かつ
マスクがマスクステージへロードされた後には、前記一
対のアーム部を開成して、前記回転部材を前記マスクス
テージよりも高い位置へ上昇させることが可能となる。
以下、本明細書の実施例に記載されたマスク搬送装置に
関して、マスクを基板として、保持部を基板保持部とし
て、更にマスク保持部を単に保持部として、作用の説明
を行う。第１の基板搬送装置によれば、一時保管部（１
３）と基板ステージ（２５）との間の基板の受け渡しが
回転アーム部（１８）により行われる。この場合、回転
アーム部（１８）の基板保持部（２３Ａ，２３Ｂ）の回
転、及び一時保管部（１３）の上下動により一時保管部
（１３）と基板ステージ（２５）との間で所望の基板の
交換が行われるため、基板の待機位置は一時保管部（１
３）の位置とほぼ同じである。また、回転により基板の
交換が行われるため、基板の移動経路は短く、基板の交
換速度はきわめて速い。
【００１６】また、基板保持部を２個設け、２個の基板
保持部がそれぞれ１対の開閉自在な基板吸着部（２３
Ａ，２３Ｂ，２４Ａ，２４Ｂ）を有する場合、例えば一
方の１対の基板吸着部（２３Ａ，２３Ｂ）の内側で基板
が使用されているときに、他方の１対の基板吸着部（２
４Ａ，２４Ｂ）を開状態として、且つ一時保管部（１
３）が次の基板の取り出し位置に移動するだけで、次に
使用される基板を取り出す準備が終了する。従って、次
に使用する基板の準備時間が大幅に短縮される。この場
合、一時保管部（１３）に基板用の複数の保持部（３３
1 ，３３ 2 ，…３３ N ）を設けることによって、一時保
管部（１３）に複数の基板を同時に保持することが可能
となる。 また、基板ステージ（２５）がステップ・アン
ド・スキャン方式の露光装置に設けられて水平面内で駆
動可能なマスクステージである場合に、その回転アーム
部に設けられた基板保持部が、その回転アーム部の回転
又は上昇によって退避するときには、その基板保持部を
そのマスクステージの駆動の妨げとならない位置へ退避
させることができる。 また、一時保管部（１３）内へ空
気を噴出することによって、一時保管部（１３）に保管
中の基板の周辺環境のクリーン度を上げる空調手段を設
けることによって、一時保管部（１３）に保管中の基板
の周辺環境のクリーン度を上げることができる。
保持部がそれぞれ１対の開閉自在な基板吸着部（２３
Ａ，２３Ｂ，２４Ａ，２４Ｂ）を有する場合、例えば一
方の１対の基板吸着部（２３Ａ，２３Ｂ）の内側で基板
が使用されているときに、他方の１対の基板吸着部（２
４Ａ，２４Ｂ）を開状態として、且つ一時保管部（１
３）が次の基板の取り出し位置に移動するだけで、次に
使用される基板を取り出す準備が終了する。従って、次
に使用する基板の準備時間が大幅に短縮される。この場
合、一時保管部（１３）に基板用の複数の保持部（３３
1 ，３３ 2 ，…３３ N ）を設けることによって、一時保
管部（１３）に複数の基板を同時に保持することが可能
となる。 また、基板ステージ（２５）がステップ・アン
ド・スキャン方式の露光装置に設けられて水平面内で駆
動可能なマスクステージである場合に、その回転アーム
部に設けられた基板保持部が、その回転アーム部の回転
又は上昇によって退避するときには、その基板保持部を
そのマスクステージの駆動の妨げとならない位置へ退避
させることができる。 また、一時保管部（１３）内へ空
気を噴出することによって、一時保管部（１３）に保管
中の基板の周辺環境のクリーン度を上げる空調手段を設
けることによって、一時保管部（１３）に保管中の基板
の周辺環境のクリーン度を上げることができる。
【００１７】次に、本発明の第２の基板搬送装置によれ
ば、一時保管部（１３）と基板ステージ（２５）との間
の基板の受渡しが回転アーム部（１８）により行われる
ため、基板の移動経路は短く、且つ基板の移動速度が速
いため、基板の交換速度はきわめて速い。また、基板保
管部（４）と基板搬送部（６）とを第１のベース（２）
上に載置し、一時保管部（１３）と基板ステージ（２
５）とをその第１のベースとは異なる第２のベース
（１）上に載置すると共に、一時保管部（１３）に基板
搬送部（６）から基板を渡す際にこの基板の位置決めを
行う基板位置決め部（１２Ａ）を設けた場合には、基板
搬送部（６）側の振動が基板ステージ（２５）側に伝わ
らない。更に、基板位置決め部（１２Ａ）により基板の
位置決めが行われるため、基板ステージ（２５）上での
基板のプリアライメントを省略できる。
ば、一時保管部（１３）と基板ステージ（２５）との間
の基板の受渡しが回転アーム部（１８）により行われる
ため、基板の移動経路は短く、且つ基板の移動速度が速
いため、基板の交換速度はきわめて速い。また、基板保
管部（４）と基板搬送部（６）とを第１のベース（２）
上に載置し、一時保管部（１３）と基板ステージ（２
５）とをその第１のベースとは異なる第２のベース
（１）上に載置すると共に、一時保管部（１３）に基板
搬送部（６）から基板を渡す際にこの基板の位置決めを
行う基板位置決め部（１２Ａ）を設けた場合には、基板
搬送部（６）側の振動が基板ステージ（２５）側に伝わ
らない。更に、基板位置決め部（１２Ａ）により基板の
位置決めが行われるため、基板ステージ（２５）上での
基板のプリアライメントを省略できる。
【００１８】更に、第１のベース（２）と第２のベース
（１）とのずれ量を検出する振動検出部（４４，４５）
を設け、この振動検出部により検出された位置ずれ量が
所定の許容値を超えたときに基板搬送部（６）から一時
保管部（１３）への基板の移送を停止する場合には、基
板位置決め部（１２Ａ）で位置決めした位置からのずれ
量が少ない状態で基板が一時保管部（１３）側に移送さ
れるため、一時保管部（１３）側でのおおまかな位置決
めを省略できる。
（１）とのずれ量を検出する振動検出部（４４，４５）
を設け、この振動検出部により検出された位置ずれ量が
所定の許容値を超えたときに基板搬送部（６）から一時
保管部（１３）への基板の移送を停止する場合には、基
板位置決め部（１２Ａ）で位置決めした位置からのずれ
量が少ない状態で基板が一時保管部（１３）側に移送さ
れるため、一時保管部（１３）側でのおおまかな位置決
めを省略できる。
【００１９】
【実施例】以下、本発明の一実施例につき図面を参照し
て説明する。本実施例は投影露光装置のレチクルローダ
系に本発明を適用したものである。図１は本実施例の投
影露光装置を示し、この図１において、不図示の防振台
上に設置された第１のベース１上に第１のチャンバ（不
図示）が設置され、この第１のチャンバ内に投影露光装
置の露光部が設置されている。また、ベース１に隣接し
て第２のベース２が設置され、ベース２上に第２のチャ
ンバ（不図示）が設置され、この第２のチャンバ内にレ
チクルライブラリー４、及びレチクルローダ系の一部が
設置されている。そして、第１のチャンバ内と第２のチ
ャンバとは窓部３を介してレチクルの受渡しを行えるよ
うになっている。この図１においても、投影露光装置の
投影光学系ＰＬの光軸に平行にＺ軸を取り、Ｚ軸に垂直
な平面内上の直交座標系をＸ軸及びＹ軸とする。
て説明する。本実施例は投影露光装置のレチクルローダ
系に本発明を適用したものである。図１は本実施例の投
影露光装置を示し、この図１において、不図示の防振台
上に設置された第１のベース１上に第１のチャンバ（不
図示）が設置され、この第１のチャンバ内に投影露光装
置の露光部が設置されている。また、ベース１に隣接し
て第２のベース２が設置され、ベース２上に第２のチャ
ンバ（不図示）が設置され、この第２のチャンバ内にレ
チクルライブラリー４、及びレチクルローダ系の一部が
設置されている。そして、第１のチャンバ内と第２のチ
ャンバとは窓部３を介してレチクルの受渡しを行えるよ
うになっている。この図１においても、投影露光装置の
投影光学系ＰＬの光軸に平行にＺ軸を取り、Ｚ軸に垂直
な平面内上の直交座標系をＸ軸及びＹ軸とする。
【００２０】先ず、第２のベース２上には、レチクルラ
イブラリー４、及び多軸ロボットハンド６が設置され、
多軸ロボットハンド６は、ベース２上に設置された支持
部１１と、この支持部１１上にＺ方向に摺動自在に装着
されたＺ軸スライダ１０と、このＺ軸スライダ１０上に
回転自在に設置された回転台９と、この回転台９上に回
転軸から半径方向に伸縮自在に設置された伸縮部８と、
この伸縮部８の先端に固定されたコの字型のハンド部７
とより構成されている。ハンド部７上には３個の真空吸
着部が配置され、Ｚ軸スライダ１０でＺ方向の位置を調
整し、伸縮部８を介してハンド部７をレチクルライブラ
リー４に差し込むことにより、レチクルライブラリー４
中の所望のレチクルケース５との間でレチクルＲＡの受
渡しが行われる。
イブラリー４、及び多軸ロボットハンド６が設置され、
多軸ロボットハンド６は、ベース２上に設置された支持
部１１と、この支持部１１上にＺ方向に摺動自在に装着
されたＺ軸スライダ１０と、このＺ軸スライダ１０上に
回転自在に設置された回転台９と、この回転台９上に回
転軸から半径方向に伸縮自在に設置された伸縮部８と、
この伸縮部８の先端に固定されたコの字型のハンド部７
とより構成されている。ハンド部７上には３個の真空吸
着部が配置され、Ｚ軸スライダ１０でＺ方向の位置を調
整し、伸縮部８を介してハンド部７をレチクルライブラ
リー４に差し込むことにより、レチクルライブラリー４
中の所望のレチクルケース５との間でレチクルＲＡの受
渡しが行われる。
【００２１】また、そのハンド部７により窓部３を通し
て第１のチャンバと第２のチャンバとの間でレチクルの
受渡しを行う。更に、多軸ロボットハンド６上にはレチ
クルの位置決めの基準となる端面が形成された位置決め
板１２Ａが配置され、Ｚ軸スライダ１０を伸ばしてハン
ド部７上に吸着したレチクルＲＡを位置決め板１２Ａに
押し付けることにより、レチクルの大まかな位置決め
（プリアライメント）が行われる。
て第１のチャンバと第２のチャンバとの間でレチクルの
受渡しを行う。更に、多軸ロボットハンド６上にはレチ
クルの位置決めの基準となる端面が形成された位置決め
板１２Ａが配置され、Ｚ軸スライダ１０を伸ばしてハン
ド部７上に吸着したレチクルＲＡを位置決め板１２Ａに
押し付けることにより、レチクルの大まかな位置決め
（プリアライメント）が行われる。
【００２２】次に、第１のベース１上には、投影露光装
置のウエハステージ２６が設置され、ウエハステージ２
６上に露光対象のウエハＷが載置されている。このウエ
ハＷの各ショット領域に投影光学系ＰＬを介してレチク
ルステージ２５上のレチクルのパターンが露光される。
その投影露光装置と窓部３との間に、支持台１５が設置
され、支持台１５上にＺ方向に摺動自在のＺ軸スライダ
１４を介して一時保管棚（キャッシュ・ストレージ）１
３が設置されている。一時保管棚１３の上部が待機面１
６ａとなっており、待機面１６ａ上にレチクルを載置す
るための４本の基板支持ピン１７が植設されている。ま
た、一時保管棚１３の上方にもレチクルの位置決めを行
うための位置決め板１２Ｂが設置されている。そして、
一時保管棚１３と投影露光装置との間に回転アーム１８
が取り付けられている。
置のウエハステージ２６が設置され、ウエハステージ２
６上に露光対象のウエハＷが載置されている。このウエ
ハＷの各ショット領域に投影光学系ＰＬを介してレチク
ルステージ２５上のレチクルのパターンが露光される。
その投影露光装置と窓部３との間に、支持台１５が設置
され、支持台１５上にＺ方向に摺動自在のＺ軸スライダ
１４を介して一時保管棚（キャッシュ・ストレージ）１
３が設置されている。一時保管棚１３の上部が待機面１
６ａとなっており、待機面１６ａ上にレチクルを載置す
るための４本の基板支持ピン１７が植設されている。ま
た、一時保管棚１３の上方にもレチクルの位置決めを行
うための位置決め板１２Ｂが設置されている。そして、
一時保管棚１３と投影露光装置との間に回転アーム１８
が取り付けられている。
【００２３】回転アーム１８は、不図示の天板に固定さ
れた支持台１９と、この支持台１９の下面にＺ方向に摺
動自在に取り付けられたＺ軸スライダ２０と、このＺ軸
スライダ２０の先端に回転自在に取り付けられた回転部
２１と、この回転部２１の先端に固定されたアーム取り
付け板２２と、このアーム取り付け板２２の一端に取り
付けられた１対のアーム２３Ａ，２３Ｂ及びその他端に
取り付けられた１対のアーム２４Ａ，２４Ｂとより構成
されている。この場合、アーム２３Ａ，２３Ｂはアーム
取り付け板２２に開閉自在に取り付けられ、アーム２４
Ａ，２４Ｂもアーム取り付け板２２に開閉自在に取り付
けられている。図３（ａ）に示すように、アーム２３Ａ
及び２４Ａ上にそれぞれ真空吸着孔４１Ａ及び４２Ａが
形成され、アーム２３Ｂ及び２４Ｂ上にそれぞれ真空吸
着孔４１Ｂ，４１Ｃ及び４２Ｂ，４２Ｃが形成されてい
る。それらアーム２３Ａ，２３Ｂ及び２４Ａ，２４Ｂ上
にそれぞれレチクルが吸着保持されるようになってい
る。
れた支持台１９と、この支持台１９の下面にＺ方向に摺
動自在に取り付けられたＺ軸スライダ２０と、このＺ軸
スライダ２０の先端に回転自在に取り付けられた回転部
２１と、この回転部２１の先端に固定されたアーム取り
付け板２２と、このアーム取り付け板２２の一端に取り
付けられた１対のアーム２３Ａ，２３Ｂ及びその他端に
取り付けられた１対のアーム２４Ａ，２４Ｂとより構成
されている。この場合、アーム２３Ａ，２３Ｂはアーム
取り付け板２２に開閉自在に取り付けられ、アーム２４
Ａ，２４Ｂもアーム取り付け板２２に開閉自在に取り付
けられている。図３（ａ）に示すように、アーム２３Ａ
及び２４Ａ上にそれぞれ真空吸着孔４１Ａ及び４２Ａが
形成され、アーム２３Ｂ及び２４Ｂ上にそれぞれ真空吸
着孔４１Ｂ，４１Ｃ及び４２Ｂ，４２Ｃが形成されてい
る。それらアーム２３Ａ，２３Ｂ及び２４Ａ，２４Ｂ上
にそれぞれレチクルが吸着保持されるようになってい
る。
【００２４】図１に戻り、本実施例では、第１のベース
１上には発磁体４４が設置され、第２のベース２上には
その発磁体４４に対向するように磁気センサ４５が設置
されている。その磁気センサ４５により、第１のベース
１と第２のベース２との間の相対変位が検出される。こ
の相対変位が所定の許容値を超えたときに、多軸ロボッ
トハンド６から回転アーム１８へのレチクルの移送を停
止するシーケンスを使用することもある。なお、磁気セ
ンサ４５の代わりに、光学式等の変位検出器を使用して
もよい。
１上には発磁体４４が設置され、第２のベース２上には
その発磁体４４に対向するように磁気センサ４５が設置
されている。その磁気センサ４５により、第１のベース
１と第２のベース２との間の相対変位が検出される。こ
の相対変位が所定の許容値を超えたときに、多軸ロボッ
トハンド６から回転アーム１８へのレチクルの移送を停
止するシーケンスを使用することもある。なお、磁気セ
ンサ４５の代わりに、光学式等の変位検出器を使用して
もよい。
【００２５】次に、一時保管棚１３の構造について図２
を参照して説明する。図２（ｂ）は一時保管棚１３の側
面図であり、図２（ａ）は図２（ｂ）のＡＡ線に沿う断
面図であり、図２（ａ）及び（ｂ）において、一時保管
棚１３は、断面がコの字型のフレーム１６内にＮ個（Ｎ
は例えば８）のレチクル保持部３３1 ，３３2 ，…，３
３N が設置され、且つフレーム１６の背面にクリーンフ
ィルタ板３１が固定され、クリーンフィルタ板３１の背
面に配管継手３２が接続されたものである。そのフレー
ム１６の側板には多数の空気孔が形成され、不図示の空
調装置からの空気が、配管継手３２、及びクリーンフィ
ルタ板３１を介してフレーム１６の側面からレチクル保
持部３３1 ，…，３３N 側に吹き出されている。これに
より、保管中のレチクルの周囲環境のクリーン度を更に
上げることができる。
を参照して説明する。図２（ｂ）は一時保管棚１３の側
面図であり、図２（ａ）は図２（ｂ）のＡＡ線に沿う断
面図であり、図２（ａ）及び（ｂ）において、一時保管
棚１３は、断面がコの字型のフレーム１６内にＮ個（Ｎ
は例えば８）のレチクル保持部３３1 ，３３2 ，…，３
３N が設置され、且つフレーム１６の背面にクリーンフ
ィルタ板３１が固定され、クリーンフィルタ板３１の背
面に配管継手３２が接続されたものである。そのフレー
ム１６の側板には多数の空気孔が形成され、不図示の空
調装置からの空気が、配管継手３２、及びクリーンフィ
ルタ板３１を介してフレーム１６の側面からレチクル保
持部３３1 ，…，３３N 側に吹き出されている。これに
より、保管中のレチクルの周囲環境のクリーン度を更に
上げることができる。
【００２６】また、図２（ａ）に示すように、レチクル
保持部３３1 はフレーム１６に取り付けられた横軸３７
1 の両端に、真空吸着孔３６Ａが設けられた保持部３４
1 、及び真空吸着孔３６Ｂ，３６Ｃが設けられた保持部
３５1 を固定したものである。保持部３４1 と保持部３
５1 との間隔は、その上に載置されるレチクルの幅より
狭く設定されている。且つ、レチクルにはレチクル上の
パターンに対する防塵用の薄膜（ペリクル）が所定のフ
レーム（ペリクルフレーム）を介して張設されているこ
とがあるため、保持部３４1 と保持部３５1 との間隔
は、その上に載置されるレチクルＲ１のペリクルフレー
ム４３1 より広く設定されている。更に、真空吸着孔３
６Ａ，３６Ｂ，３６Ｃは横軸３７1 に取り付けれた配管
３８1 に接続されている。他のレチクル保持部３３2 ，
…，３３N も同様に構成されている。
保持部３３1 はフレーム１６に取り付けられた横軸３７
1 の両端に、真空吸着孔３６Ａが設けられた保持部３４
1 、及び真空吸着孔３６Ｂ，３６Ｃが設けられた保持部
３５1 を固定したものである。保持部３４1 と保持部３
５1 との間隔は、その上に載置されるレチクルの幅より
狭く設定されている。且つ、レチクルにはレチクル上の
パターンに対する防塵用の薄膜（ペリクル）が所定のフ
レーム（ペリクルフレーム）を介して張設されているこ
とがあるため、保持部３４1 と保持部３５1 との間隔
は、その上に載置されるレチクルＲ１のペリクルフレー
ム４３1 より広く設定されている。更に、真空吸着孔３
６Ａ，３６Ｂ，３６Ｃは横軸３７1 に取り付けれた配管
３８1 に接続されている。他のレチクル保持部３３2 ，
…，３３N も同様に構成されている。
【００２７】また、図２（ｂ）に示すように、レチクル
保持部３３1 ，…，３３N の各配管３８1 ，…，３８N
が真空源３９に接続され、真空源３９のオン／オフによ
り、レチクル保持部３３1 ，…，３３N 上でそれぞれレ
チクルＲ１〜ＲＮの吸着保持及び吸着解除ができるよう
になっている。本例の各レチクルＲ１〜ＲＮにはそれぞ
れペリクルフレーム４３1 〜４３N が取り付けられてい
る。次に、本実施例のレチクルローダ系により、レチク
ルライブラリー４から一時保管棚１３を介してレチクル
ステージ２５へレチクルを載置する場合の動作の一例に
つき説明する。先ず多軸ロボットハンド６のハンド部７
でレチクルライブラリー４内の所定のレチクルケース５
内のレチクルＲＡを取り出した後、Ｚ軸スライダ１０を
上昇させて、位置決め板１２ＡにてレチクルＲＡを端面
基準でプリアライメントする。その後、窓部３を介し
て、多軸ロボットハンド６により待機面１６ａ上にレチ
クルＲＡを運ぶ。
保持部３３1 ，…，３３N の各配管３８1 ，…，３８N
が真空源３９に接続され、真空源３９のオン／オフによ
り、レチクル保持部３３1 ，…，３３N 上でそれぞれレ
チクルＲ１〜ＲＮの吸着保持及び吸着解除ができるよう
になっている。本例の各レチクルＲ１〜ＲＮにはそれぞ
れペリクルフレーム４３1 〜４３N が取り付けられてい
る。次に、本実施例のレチクルローダ系により、レチク
ルライブラリー４から一時保管棚１３を介してレチクル
ステージ２５へレチクルを載置する場合の動作の一例に
つき説明する。先ず多軸ロボットハンド６のハンド部７
でレチクルライブラリー４内の所定のレチクルケース５
内のレチクルＲＡを取り出した後、Ｚ軸スライダ１０を
上昇させて、位置決め板１２ＡにてレチクルＲＡを端面
基準でプリアライメントする。その後、窓部３を介し
て、多軸ロボットハンド６により待機面１６ａ上にレチ
クルＲＡを運ぶ。
【００２８】その待機面１６ａ上にはレチクル上のペリ
クルフレームに干渉しない位置に４本の基板支持ピン１
７があり、ハンド部７はそれら基板支持ピン１７上にレ
チクルを載置する。基板支持ピン１７の上端とレチクル
ステージ２５の上面とはほぼ同じ高さに設定されてい
る。この時点で、回転アーム１８の待機面１６ａ側のア
ーム２３Ａ，２３Ｂは基板支持ピン１７上のレチクルの
下に位置しており、それらアームの先端を閉じた後、Ｚ
軸スライダ２０を上昇させて、レチクルを基板支持ピン
１７から持ち上げる。その後、回転部２１を駆動してア
ーム取り付け板２２を１８０°回転し、再びＺ軸スライ
ダ２０を下降させる。
クルフレームに干渉しない位置に４本の基板支持ピン１
７があり、ハンド部７はそれら基板支持ピン１７上にレ
チクルを載置する。基板支持ピン１７の上端とレチクル
ステージ２５の上面とはほぼ同じ高さに設定されてい
る。この時点で、回転アーム１８の待機面１６ａ側のア
ーム２３Ａ，２３Ｂは基板支持ピン１７上のレチクルの
下に位置しており、それらアームの先端を閉じた後、Ｚ
軸スライダ２０を上昇させて、レチクルを基板支持ピン
１７から持ち上げる。その後、回転部２１を駆動してア
ーム取り付け板２２を１８０°回転し、再びＺ軸スライ
ダ２０を下降させる。
【００２９】基板支持ピン１７とレチクルステージ２５
のレチクル保持面とは同じ高さに位置しているため、こ
の時点でレチクルはレチクルステージ２５上に載置され
たことになる。そして、アーム２３Ａ，２３Ｂの先端を
開き、不図示の高精度の位置計測装置（レチクルアライ
メント顕微鏡等）でレチクルステージ２５上でのレチク
ルの位置を測定し、レチクルステージ２５の位置を補正
した後、そのレチクルのパターンを投影光学系ＰＬを介
してウエハＷ上に露光する。かりに、本実施例の投影露
光装置が、ステップ・アンド・スキャン方式であり、レ
チクルステージ２５が露光中に水平面内でＸ方向または
Ｙ方向に駆動されるような場合は、アーム２３Ａ，２３
Ｂの先端を開いた後、Ｚ軸スライダ２０を上昇させてレ
チクルより高い位置にアーム２３Ａ，２３Ｂを退避させ
ればよい。また、アーム取り付け板２２をＺ方向に少し
上昇させた後、９０°回転させてレチクルステージ２５
よりアーム２３Ａ，２３Ｂを退避させてもよい。このと
き回転部２１を中心として、アーム取り付け板２２のア
ーム２３Ａ，２３Ｂ側部分だけを９０°回転させるよう
にしてもよい。
のレチクル保持面とは同じ高さに位置しているため、こ
の時点でレチクルはレチクルステージ２５上に載置され
たことになる。そして、アーム２３Ａ，２３Ｂの先端を
開き、不図示の高精度の位置計測装置（レチクルアライ
メント顕微鏡等）でレチクルステージ２５上でのレチク
ルの位置を測定し、レチクルステージ２５の位置を補正
した後、そのレチクルのパターンを投影光学系ＰＬを介
してウエハＷ上に露光する。かりに、本実施例の投影露
光装置が、ステップ・アンド・スキャン方式であり、レ
チクルステージ２５が露光中に水平面内でＸ方向または
Ｙ方向に駆動されるような場合は、アーム２３Ａ，２３
Ｂの先端を開いた後、Ｚ軸スライダ２０を上昇させてレ
チクルより高い位置にアーム２３Ａ，２３Ｂを退避させ
ればよい。また、アーム取り付け板２２をＺ方向に少し
上昇させた後、９０°回転させてレチクルステージ２５
よりアーム２３Ａ，２３Ｂを退避させてもよい。このと
き回転部２１を中心として、アーム取り付け板２２のア
ーム２３Ａ，２３Ｂ側部分だけを９０°回転させるよう
にしてもよい。
【００３０】また、本実施例では、多軸ロボットハンド
６の支持台１１、及び一時保管棚１３用の支持台１５は
それぞれ別のベース２及びベース１上に設置されてい
る。そのため、ベース１とベース２との間で相互に所定
の許容値を超える位置ずれが生じると、多軸ロボットハ
ンド６側で位置決め板１２Ａを用いてレチクルのプリア
ライメントを行っても、多軸ロボットハンド６から一時
保管棚１３の待機面１６ａ上にレチクルを載置する際に
位置ずれが生ずる恐れがある。そこで、このような場合
には、多軸ロボットハンド６から一時保管棚１３上の基
板支持ピン１７上にレチクルを載置した後、Ｚ軸スライ
ダ１４を上昇させ、そのレチクルの側面を位置決め板１
２Ｂ内の基準面に接触させて、端面基準によりそのレチ
クルのプリアライメントを行うようにするとよい。これ
により、レチクルステージ２５でのプリアライメント工
程を省略することができる。
６の支持台１１、及び一時保管棚１３用の支持台１５は
それぞれ別のベース２及びベース１上に設置されてい
る。そのため、ベース１とベース２との間で相互に所定
の許容値を超える位置ずれが生じると、多軸ロボットハ
ンド６側で位置決め板１２Ａを用いてレチクルのプリア
ライメントを行っても、多軸ロボットハンド６から一時
保管棚１３の待機面１６ａ上にレチクルを載置する際に
位置ずれが生ずる恐れがある。そこで、このような場合
には、多軸ロボットハンド６から一時保管棚１３上の基
板支持ピン１７上にレチクルを載置した後、Ｚ軸スライ
ダ１４を上昇させ、そのレチクルの側面を位置決め板１
２Ｂ内の基準面に接触させて、端面基準によりそのレチ
クルのプリアライメントを行うようにするとよい。これ
により、レチクルステージ２５でのプリアライメント工
程を省略することができる。
【００３１】また、既に説明したように、磁気センサ４
５により検出したベース１とベース２との位置ずれ量が
所定の許容値を超えているときには、多軸ロボットハン
ド６から一時保管棚１３上へのレチクルの移送を停止す
るシーケンスを採用する場合、一時保管棚１３上の位置
決め板１２Ｂを除去することができる。
５により検出したベース１とベース２との位置ずれ量が
所定の許容値を超えているときには、多軸ロボットハン
ド６から一時保管棚１３上へのレチクルの移送を停止す
るシーケンスを採用する場合、一時保管棚１３上の位置
決め板１２Ｂを除去することができる。
【００３２】次に、レチクルステージ２５上のレチクル
の露光が終了した後、そのレチクルの交換を行う際の動
作につき場合分けして説明する。 （Ａ）一時保管棚１３上の基板支持ピン１７上のレチク
ルと交換する場合 これは、基板支持ピン１７上に載置されているレチクル
とレチクルステージ２５上のレチクルとを交換する場合
である。
の露光が終了した後、そのレチクルの交換を行う際の動
作につき場合分けして説明する。 （Ａ）一時保管棚１３上の基板支持ピン１７上のレチク
ルと交換する場合 これは、基板支持ピン１７上に載置されているレチクル
とレチクルステージ２５上のレチクルとを交換する場合
である。
【００３３】このとき、その基板支持ピン１７上のレチ
クルは、レチクルライブラリー４から多軸ロボットハン
ド６により取り出され、位置決め板１２Ａを用いてプリ
アライメントが行われた後、多軸ロボットハンド６によ
り設置されたものである。基板支持ピン１７上のレチク
ルは、レチクルステージ２５上のレチクルの露光終了ま
で待機している。
クルは、レチクルライブラリー４から多軸ロボットハン
ド６により取り出され、位置決め板１２Ａを用いてプリ
アライメントが行われた後、多軸ロボットハンド６によ
り設置されたものである。基板支持ピン１７上のレチク
ルは、レチクルステージ２５上のレチクルの露光終了ま
で待機している。
【００３４】次に、レチクルを用いた露光が終了する
と、対応するレチクルの下面側でそれぞれ回転アーム１
８のアーム２３Ａ，２３Ｂ及び２４Ａ，２４Ｂが閉じ
る。その後、レチクルステージ２５によるレチクルの真
空吸着を解除した状態で、回転アーム１８のＺ軸スライ
ダ２０をＺ方向に僅かに上昇させて、アーム２３Ａ，２
３Ｂ、及びアーム２４Ａ，２４Ｂで対応するレチクルを
Ｚ方向に持ち上げる。
と、対応するレチクルの下面側でそれぞれ回転アーム１
８のアーム２３Ａ，２３Ｂ及び２４Ａ，２４Ｂが閉じ
る。その後、レチクルステージ２５によるレチクルの真
空吸着を解除した状態で、回転アーム１８のＺ軸スライ
ダ２０をＺ方向に僅かに上昇させて、アーム２３Ａ，２
３Ｂ、及びアーム２４Ａ，２４Ｂで対応するレチクルを
Ｚ方向に持ち上げる。
【００３５】そして、レチクルを真空吸着した状態で、
回転部２１を１８０°回転させた後、真空吸着を解除し
て、Ｚ軸スライダ２０を下降させる。この動作により、
レチクルステージ２５上のレチクルと基板支持ピン１７
上のレチクルとの交換が終了する。その後、アーム２３
Ａ，２３Ｂ及び２４Ａ，２４Ｂが開き、必要に応じてＺ
軸スライダ２０によりそれらアームは所定の位置に退避
する。一方、待機面１６ａ上にアンロードされたレチク
ルは、もう使用されない場合には、ロード時と逆の経路
を辿って多軸ロボットハンド６を介してレチクルライブ
ラリー４に戻される。しかしながら、例えばＡＳＩＣ用
のパターンを露光するような場合で、そのアンロードさ
れたレチクルが繰り返し使用されるようなときには、次
のようにそのレチクルは一時保管棚１３内に収納され
る。
回転部２１を１８０°回転させた後、真空吸着を解除し
て、Ｚ軸スライダ２０を下降させる。この動作により、
レチクルステージ２５上のレチクルと基板支持ピン１７
上のレチクルとの交換が終了する。その後、アーム２３
Ａ，２３Ｂ及び２４Ａ，２４Ｂが開き、必要に応じてＺ
軸スライダ２０によりそれらアームは所定の位置に退避
する。一方、待機面１６ａ上にアンロードされたレチク
ルは、もう使用されない場合には、ロード時と逆の経路
を辿って多軸ロボットハンド６を介してレチクルライブ
ラリー４に戻される。しかしながら、例えばＡＳＩＣ用
のパターンを露光するような場合で、そのアンロードさ
れたレチクルが繰り返し使用されるようなときには、次
のようにそのレチクルは一時保管棚１３内に収納され
る。
【００３６】（Ｂ）一時保管棚１３へのレチクルの収納
準備 図２（ｂ）に示すように、一時保管棚１３ではスペース
の許す限り、Ｎ枚（Ｎは２以上の整数）のレチクルを収
納できるが、ここでは仮にＮを８とし（収納枚数が最大
で８枚）、収納されるレチクルをレチクルＲ１〜ＲＮと
する。この場合、図１に戻り、レチクルステージ２５上
で第１のレチクル（これを「Ｒ１」とする）が露光さ
れ、その間に待機面１６ａ上の基板支持ピン１７上に次
に露光される第２のレチクル（これを「Ｒ２」とする）
が待機しているものとする。
準備 図２（ｂ）に示すように、一時保管棚１３ではスペース
の許す限り、Ｎ枚（Ｎは２以上の整数）のレチクルを収
納できるが、ここでは仮にＮを８とし（収納枚数が最大
で８枚）、収納されるレチクルをレチクルＲ１〜ＲＮと
する。この場合、図１に戻り、レチクルステージ２５上
で第１のレチクル（これを「Ｒ１」とする）が露光さ
れ、その間に待機面１６ａ上の基板支持ピン１７上に次
に露光される第２のレチクル（これを「Ｒ２」とする）
が待機しているものとする。
【００３７】この場合、レチクルＲ１の露光が終了する
と、回転アーム１８のアーム２３Ａ，２３Ｂ及び２４
Ａ，２４Ｂが閉じて、それぞれレチクルＲ１及びＲ２の
下面に入る。その後、Ｚ軸スライダ２０を上昇させてレ
チクルＲ１及びＲ２を持ち上げた状態で、回転部２１を
介してアーム取り付け板２２を９０°回転させる。その
後、一時保管棚１３内の１番目のレチクル保持部３３1
（図２（ｂ）参照）のレチクル載置面がレチクルステー
ジ２５と同じ高さになるように、Ｚ軸スライダ１４を上
昇させる。その後、更に回転部２１を介してアーム取り
付け板２２を９０°回転させてから、Ｚ軸スライダ２０
を下降させる。これにより、レチクルＲ２はレチクルス
テージ２５上に載置され、レチクルＲ１は１番目のレチ
クル保持部３３1 の基板吸着面上に載置される。その
後、回転アーム１８のアーム２３Ａ，２３Ｂ及び２４
Ａ，２４Ｂを開く。
と、回転アーム１８のアーム２３Ａ，２３Ｂ及び２４
Ａ，２４Ｂが閉じて、それぞれレチクルＲ１及びＲ２の
下面に入る。その後、Ｚ軸スライダ２０を上昇させてレ
チクルＲ１及びＲ２を持ち上げた状態で、回転部２１を
介してアーム取り付け板２２を９０°回転させる。その
後、一時保管棚１３内の１番目のレチクル保持部３３1
（図２（ｂ）参照）のレチクル載置面がレチクルステー
ジ２５と同じ高さになるように、Ｚ軸スライダ１４を上
昇させる。その後、更に回転部２１を介してアーム取り
付け板２２を９０°回転させてから、Ｚ軸スライダ２０
を下降させる。これにより、レチクルＲ２はレチクルス
テージ２５上に載置され、レチクルＲ１は１番目のレチ
クル保持部３３1 の基板吸着面上に載置される。その
後、回転アーム１８のアーム２３Ａ，２３Ｂ及び２４
Ａ，２４Ｂを開く。
【００３８】そして、レチクルＲ２の露光中に、開かれ
たアーム２３Ａ，２３Ｂの間で一時保管棚１３を下降さ
せて、基板支持ピン１７の高さをレチクルステージ２５
と同じ高さに戻す。その後、多軸ロボットハンド６がレ
チクルライブラリー４から次に露光される第３のレチク
ルを取り出し、この第３のレチクルを位置決め板１２Ａ
によりプリアライメントした後、待機面１６ａ上の基板
支持ピン１７上に載置する。このようにして、図２
（ｂ）に示すように、一時保管棚１３の一連のレチクル
保持部３３1 〜３３N-1 にそれぞれレチクルＲ１〜ＲN-
1(今の場合はレチクルＲ１〜Ｒ７）が収納される。この
場合、最後のレチクルＲＮ（今の場合はレチクルＲ８）
は、図１のレチクルステージ２５上で露光されている。
たアーム２３Ａ，２３Ｂの間で一時保管棚１３を下降さ
せて、基板支持ピン１７の高さをレチクルステージ２５
と同じ高さに戻す。その後、多軸ロボットハンド６がレ
チクルライブラリー４から次に露光される第３のレチク
ルを取り出し、この第３のレチクルを位置決め板１２Ａ
によりプリアライメントした後、待機面１６ａ上の基板
支持ピン１７上に載置する。このようにして、図２
（ｂ）に示すように、一時保管棚１３の一連のレチクル
保持部３３1 〜３３N-1 にそれぞれレチクルＲ１〜ＲN-
1(今の場合はレチクルＲ１〜Ｒ７）が収納される。この
場合、最後のレチクルＲＮ（今の場合はレチクルＲ８）
は、図１のレチクルステージ２５上で露光されている。
【００３９】（Ｃ）一時保管棚１３を介したレチクルの
交換 その後、図２（ｂ）の一時保管棚１３内、及びレチクル
ステージ２５上のレチクルＲ１〜ＲＮを用いて２巡目の
露光を行う際には、レチクルは次のように一時保管棚１
３とレチクルステージ２５との間で交換される。この場
合、レチクルステージ２５上で露光されているレチクル
をレチクルＲＢとする。即ち、レチクルＲＢは、レチク
ルＲ１〜レチクルＲＮの内の或るレチクルである。
交換 その後、図２（ｂ）の一時保管棚１３内、及びレチクル
ステージ２５上のレチクルＲ１〜ＲＮを用いて２巡目の
露光を行う際には、レチクルは次のように一時保管棚１
３とレチクルステージ２５との間で交換される。この場
合、レチクルステージ２５上で露光されているレチクル
をレチクルＲＢとする。即ち、レチクルＲＢは、レチク
ルＲ１〜レチクルＲＮの内の或るレチクルである。
【００４０】図３（ｂ）はレチクルステージ２５上に露
光中のレチクルＲＢが載置され、且つ一時保管棚１３内
のレチクル保持部３３1 内に次に露光されるレチクルＲ
１が収納されている状態の側面図、図３（ａ）は図３
（ｂ）のＡＡ線に沿う断面図である。この状態でレチク
ルＲ１はレチクルＲＢの露光終了まで待機している。こ
の際に、回転アーム１８の一方のアーム２３Ａ，２３Ｂ
はレチクルＲ１の側面下方に開いた状態で待機し、他方
のアーム２４Ａ，２４ＢはレチクルＲＢの側面下方に開
いた状態で待機している。
光中のレチクルＲＢが載置され、且つ一時保管棚１３内
のレチクル保持部３３1 内に次に露光されるレチクルＲ
１が収納されている状態の側面図、図３（ａ）は図３
（ｂ）のＡＡ線に沿う断面図である。この状態でレチク
ルＲ１はレチクルＲＢの露光終了まで待機している。こ
の際に、回転アーム１８の一方のアーム２３Ａ，２３Ｂ
はレチクルＲ１の側面下方に開いた状態で待機し、他方
のアーム２４Ａ，２４ＢはレチクルＲＢの側面下方に開
いた状態で待機している。
【００４１】次に、レチクルＲＢを用いた露光が終了す
ると、図４（ａ）及び（ｂ）に示すように、レチクルＲ
Ｂの下面側でアーム２４Ａ，２４Ｂが閉じ、レチクルＲ
１の下面側でアーム２３Ａ，２３Ｂが閉じる。但し、レ
チクルＲＢ及びＲ１の下面（パターン形成面）にはそれ
ぞれペリクルフレーム４３B 及び４３1 が取り付けられ
ているため、各アームはそれらペリクルフレームには触
れない位置まで閉じている。その後、レチクルＲＢに対
するレチクルステージ２５による真空吸着、及びレチク
ルＲ１に対するレチクル保持部３３1 による真空吸着を
解除した状態で、回転アーム１８のＺ軸スライダ２０
（図１参照）をＺ方向に僅かに上昇させて、アーム２３
Ａ，２３ＢによりレチクルＲ１をＺ方向に持ち上げるの
と並行して、アーム２４Ａ，２４ＢでレチクルＲＢをＺ
方向に持ち上げる。
ると、図４（ａ）及び（ｂ）に示すように、レチクルＲ
Ｂの下面側でアーム２４Ａ，２４Ｂが閉じ、レチクルＲ
１の下面側でアーム２３Ａ，２３Ｂが閉じる。但し、レ
チクルＲＢ及びＲ１の下面（パターン形成面）にはそれ
ぞれペリクルフレーム４３B 及び４３1 が取り付けられ
ているため、各アームはそれらペリクルフレームには触
れない位置まで閉じている。その後、レチクルＲＢに対
するレチクルステージ２５による真空吸着、及びレチク
ルＲ１に対するレチクル保持部３３1 による真空吸着を
解除した状態で、回転アーム１８のＺ軸スライダ２０
（図１参照）をＺ方向に僅かに上昇させて、アーム２３
Ａ，２３ＢによりレチクルＲ１をＺ方向に持ち上げるの
と並行して、アーム２４Ａ，２４ＢでレチクルＲＢをＺ
方向に持ち上げる。
【００４２】そして、図５（ａ）及び（ｂ）に示すよう
に、回転アーム１８のアーム取り付け板２２に取り付け
られたアーム２３Ａ，２３Ｂ上にレチクルＲ１を吸着保
持し、アーム２４Ａ，２４Ｂ上にレチクルＲＢを吸着保
持した状態で、回転部２１を１８０°回転させた後、真
空吸着を解除して、Ｚ軸スライダ２０を下降させる。こ
れにより、それまでの露光で使用されたレチクルＲＢが
一時保管棚１３内のレチクル保持部３３1 内に収納さ
れ、これからの露光で使用されるレチクルＲ１がレチク
ルステージ２５上に載置される。
に、回転アーム１８のアーム取り付け板２２に取り付け
られたアーム２３Ａ，２３Ｂ上にレチクルＲ１を吸着保
持し、アーム２４Ａ，２４Ｂ上にレチクルＲＢを吸着保
持した状態で、回転部２１を１８０°回転させた後、真
空吸着を解除して、Ｚ軸スライダ２０を下降させる。こ
れにより、それまでの露光で使用されたレチクルＲＢが
一時保管棚１３内のレチクル保持部３３1 内に収納さ
れ、これからの露光で使用されるレチクルＲ１がレチク
ルステージ２５上に載置される。
【００４３】このように回転アーム１８を用いてレチク
ルの交換を行う場合には、レチクルの移動経路はほぼ最
短距離に近いため、レチクルステージ２５と一時保管棚
１３内の任意のレチクル保持部３３1 〜３３N との間で
効率的にレチクルを交換できる。但し、図５の例では一
時保管棚１３内の所定のレチクル保持部でレチクルＲＢ
とレチクルＲ１とが交換されてしまう。それに対して、
一時保管棚１３内の各レチクル保持部３３1 〜３３N に
対してそれぞれ１：１で決まったレチクルを収納するに
は、図５（ａ）の状態から回転アーム１８の回転部２１
を９０°回転させた後、図５（ｂ）においてＺ軸スライ
ダ１４を上下させて一時保管棚１３の高さをレチクルＲ
Ｂが収納される位置に設定する。その後、回転部２１を
更に９０°回転させてレチクルを交換した後、アーム２
３Ａ，２３Ｂ及び２４Ａ，２４Ｂを開けばよい。
ルの交換を行う場合には、レチクルの移動経路はほぼ最
短距離に近いため、レチクルステージ２５と一時保管棚
１３内の任意のレチクル保持部３３1 〜３３N との間で
効率的にレチクルを交換できる。但し、図５の例では一
時保管棚１３内の所定のレチクル保持部でレチクルＲＢ
とレチクルＲ１とが交換されてしまう。それに対して、
一時保管棚１３内の各レチクル保持部３３1 〜３３N に
対してそれぞれ１：１で決まったレチクルを収納するに
は、図５（ａ）の状態から回転アーム１８の回転部２１
を９０°回転させた後、図５（ｂ）においてＺ軸スライ
ダ１４を上下させて一時保管棚１３の高さをレチクルＲ
Ｂが収納される位置に設定する。その後、回転部２１を
更に９０°回転させてレチクルを交換した後、アーム２
３Ａ，２３Ｂ及び２４Ａ，２４Ｂを開けばよい。
【００４４】なお、本発明は上述実施例に限定されず、
本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り得る
ことは勿論である。
本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り得る
ことは勿論である。
【００４５】
【発明の効果】本発明の露光装置によれば、マスクステ
ージよりも上方に位置するチャンバの天板に固定した支
持部に、上下動軸を介して、マスクを支持可能な開閉部
を備えた回転部材を固定し、前記開閉部の一対のアーム
部でマスクを支持するに際して、前記一対のアーム部は
開成時にはその間をマスクが通過可能な間隔まで開成す
るため、前記一対のアーム部でマスクを下から支持し、
かつマスクがマスクステージへロードされた後には、前
記一対のアーム部を開成して、前記回転部材を前記マス
クステージよりも高い位置へ上昇させることが可能とな
る。例えば開閉部の一対のアーム部が単にマスクを吸着
保持するための吸着部を備えているとしても、吸着機構
に事故が発生して吸着機能が停止した場合、保持されて
いたマスクは落下して損傷する恐れがある。このような
事態を防止するため、マスクは下から保持することが理
想的である。しかしながら、マスクステージ上にマスク
がロードされた後には、回転部材がマスクステージの動
作の障害にならない位置へ待避しなければならない。通
常、露光装置においては、マスクステージより下側に回
転部材が待避するための充分なスペースを確保すること
が困難であり、回転部材はマスクステージより上方へ待
避することが理想的である。ところが、回転部材が上方
へ待避するためには、マスクを下から保持している状況
が妨げとなる。本発明の露光装置によれば、マスクがマ
スクステージへロードされた後には、開閉部の一対のア
ーム部が、その間をマスクが通過可能な間隔まで開成す
るため、一対のアーム部にマスクの側部を通過させなが
ら回転部材をマスクステージよりも上方へ待避すること
が可能となる。以下、本明細書の実施例に記載されたマ
スク搬送装置の効果につき、マスクを基板として、保持
部を基板保持部として、更にマスク保持部を単に保持部
として説明する。第１の基板搬送装置によれば、基板ス
テージと一時保管部との間での基板（レチクル等）の受
渡しが回転アーム部の回転により行われ、且つその一時
保管部中の基板の位置は一時保管部の上下動により調整
される。従って、基板の待機位置がほぼ一時保管部と同
じ位置になり、基板の搬送経路が短縮されているため、
基板の交換を高速に行うことができる利点がある。
ージよりも上方に位置するチャンバの天板に固定した支
持部に、上下動軸を介して、マスクを支持可能な開閉部
を備えた回転部材を固定し、前記開閉部の一対のアーム
部でマスクを支持するに際して、前記一対のアーム部は
開成時にはその間をマスクが通過可能な間隔まで開成す
るため、前記一対のアーム部でマスクを下から支持し、
かつマスクがマスクステージへロードされた後には、前
記一対のアーム部を開成して、前記回転部材を前記マス
クステージよりも高い位置へ上昇させることが可能とな
る。例えば開閉部の一対のアーム部が単にマスクを吸着
保持するための吸着部を備えているとしても、吸着機構
に事故が発生して吸着機能が停止した場合、保持されて
いたマスクは落下して損傷する恐れがある。このような
事態を防止するため、マスクは下から保持することが理
想的である。しかしながら、マスクステージ上にマスク
がロードされた後には、回転部材がマスクステージの動
作の障害にならない位置へ待避しなければならない。通
常、露光装置においては、マスクステージより下側に回
転部材が待避するための充分なスペースを確保すること
が困難であり、回転部材はマスクステージより上方へ待
避することが理想的である。ところが、回転部材が上方
へ待避するためには、マスクを下から保持している状況
が妨げとなる。本発明の露光装置によれば、マスクがマ
スクステージへロードされた後には、開閉部の一対のア
ーム部が、その間をマスクが通過可能な間隔まで開成す
るため、一対のアーム部にマスクの側部を通過させなが
ら回転部材をマスクステージよりも上方へ待避すること
が可能となる。以下、本明細書の実施例に記載されたマ
スク搬送装置の効果につき、マスクを基板として、保持
部を基板保持部として、更にマスク保持部を単に保持部
として説明する。第１の基板搬送装置によれば、基板ス
テージと一時保管部との間での基板（レチクル等）の受
渡しが回転アーム部の回転により行われ、且つその一時
保管部中の基板の位置は一時保管部の上下動により調整
される。従って、基板の待機位置がほぼ一時保管部と同
じ位置になり、基板の搬送経路が短縮されているため、
基板の交換を高速に行うことができる利点がある。
【００４６】また、回転アーム部に基板に沿って開閉自
在の２対の基板吸着部を設けた場合には、例えば基板が
基板ステージ上で使用されている場合には、その一方の
基板吸着部を開いて回転アーム部を退避させ、その基板
ステージ上の基板を交換するときには、その基板吸着部
を閉じるだけでよいため、基板交換の準備時間及び基板
の交換時間が大幅に短縮される。また、一時保管部が基
板用の複数の保持部を有することによって、複数の基板
を用いる場合の交換準備時間及び交換時間が大幅に短縮
される。 また、基板ステージがステップ・アンド・スキ
ャン方式の露光装置に設けられて水平面内で駆動可能な
マスクステージである場合に、基板保持部を回転アーム
部の回転又は上昇によって退避させることにより、その
基板保持部はそのマスクステージの駆動の妨げとならな
い。 また、一時保管部内へ空気を噴出することによっ
て、その一時保管部に保管中の基板の周辺環境のクリー
ン度を上げる空調手段を設けることによって、一時保管
部に保管中の基板の周辺環境のクリーン度を上げること
ができる。
在の２対の基板吸着部を設けた場合には、例えば基板が
基板ステージ上で使用されている場合には、その一方の
基板吸着部を開いて回転アーム部を退避させ、その基板
ステージ上の基板を交換するときには、その基板吸着部
を閉じるだけでよいため、基板交換の準備時間及び基板
の交換時間が大幅に短縮される。また、一時保管部が基
板用の複数の保持部を有することによって、複数の基板
を用いる場合の交換準備時間及び交換時間が大幅に短縮
される。 また、基板ステージがステップ・アンド・スキ
ャン方式の露光装置に設けられて水平面内で駆動可能な
マスクステージである場合に、基板保持部を回転アーム
部の回転又は上昇によって退避させることにより、その
基板保持部はそのマスクステージの駆動の妨げとならな
い。 また、一時保管部内へ空気を噴出することによっ
て、その一時保管部に保管中の基板の周辺環境のクリー
ン度を上げる空調手段を設けることによって、一時保管
部に保管中の基板の周辺環境のクリーン度を上げること
ができる。
【００４７】次に、本発明の第２の基板搬送装置におい
ては、基板保管部から取り出された基板を一時保管部に
収め、この一時保管部と基板ステージとの間で基板の交
換が行われる。この際に、基板ステージと一時保管部と
の間での基板の受渡しが回転アーム部の回転により行わ
れ、且つその一時保管部中の基板の位置は一時保管部の
上下動により調整される。従って、基板の搬送経路が短
縮され、基板の交換を高速に行うことができる利点があ
る。
ては、基板保管部から取り出された基板を一時保管部に
収め、この一時保管部と基板ステージとの間で基板の交
換が行われる。この際に、基板ステージと一時保管部と
の間での基板の受渡しが回転アーム部の回転により行わ
れ、且つその一時保管部中の基板の位置は一時保管部の
上下動により調整される。従って、基板の搬送経路が短
縮され、基板の交換を高速に行うことができる利点があ
る。
【００４８】また、基板保管部と基板搬送部とを第１の
ベース上に載置し、一時保管部と基板ステージとをその
第１のベースとは異なる第２のベース上に載置すると共
に、その一時保管部にその基板搬送部から基板を渡す際
にこの基板の位置決めを行う基板位置決め部を設けた場
合には、基板搬送部の振動が基板ステージ部に伝わりに
くくなり、基板の位置決め処理等が高精度に行われる。
更に、その基板位置決め部により、基板ステージに載置
する前に基板の大まかな位置決めを行うことができる。
ベース上に載置し、一時保管部と基板ステージとをその
第１のベースとは異なる第２のベース上に載置すると共
に、その一時保管部にその基板搬送部から基板を渡す際
にこの基板の位置決めを行う基板位置決め部を設けた場
合には、基板搬送部の振動が基板ステージ部に伝わりに
くくなり、基板の位置決め処理等が高精度に行われる。
更に、その基板位置決め部により、基板ステージに載置
する前に基板の大まかな位置決めを行うことができる。
【００４９】また、それら第１のベースと第２のベース
とのずれ量を検出する位置ずれ量検出部を設け、この位
置ずれ量検出部により検出された位置ずれ量が所定の許
容値を超えたときにその基板搬送部からその一時保管部
への基板の移送を停止する場合には、大まかな位置決め
（プリアライメント）を行った基板が一時保管部側に渡
される際には、位置ずれ量が少ない状態で渡される。従
って、一時保管部側ではプリアライメント工程を省くこ
とができ、基板の交換速度が更に改善される。
とのずれ量を検出する位置ずれ量検出部を設け、この位
置ずれ量検出部により検出された位置ずれ量が所定の許
容値を超えたときにその基板搬送部からその一時保管部
への基板の移送を停止する場合には、大まかな位置決め
（プリアライメント）を行った基板が一時保管部側に渡
される際には、位置ずれ量が少ない状態で渡される。従
って、一時保管部側ではプリアライメント工程を省くこ
とができ、基板の交換速度が更に改善される。
【図１】本発明の基板搬送装置の一実施例が適用された
投影露光装置の要部を示す斜視図である。
投影露光装置の要部を示す斜視図である。
【図２】（ａ）は図２（ｂ）のＡＡ線に沿う断面図、
（ｂ）は図１中の一時保管棚１３を示す側面図である。
（ｂ）は図１中の一時保管棚１３を示す側面図である。
【図３】（ａ）は図３（ｂ）のＡＡ線に沿う断面図、
（ｂ）は図１中で回転アーム１８のアームを開いた状態
を示す要部の側面図である。
（ｂ）は図１中で回転アーム１８のアームを開いた状態
を示す要部の側面図である。
【図４】（ａ）は図４（ｂ）のＡＡ線に沿う断面図、
（ｂ）は図１中で回転アーム１８のアームを閉じた状態
を示す要部の側面図である。
（ｂ）は図１中で回転アーム１８のアームを閉じた状態
を示す要部の側面図である。
【図５】（ａ）は図５（ｂ）のＡＡ線に沿う断面図、
（ｂ）は図１中で回転アーム１８のアームを閉じて上昇
させた状態を示す要部の側面図である。
（ｂ）は図１中で回転アーム１８のアームを閉じて上昇
させた状態を示す要部の側面図である。
【図６】本出願人の先願に係る基板搬送装置を示す要部
の斜視図である。
の斜視図である。
１，２ ベース
３ 窓部
４ レチクルライブラリー
５ レチクルケース
６ 多軸ロボットハンド
１２Ａ，１２Ｂ 位置決め板
１３ 一時保管棚
１４ Ｚ軸スライダ
１７ 基板支持ピン
１８ 回転アーム
２０ Ｚ軸スライダ
２１ 回転部
２２ アーム取り付け板
２３Ａ，２３Ｂ、２４Ａ，２４Ｂ アーム
２５ レチクルステージ
Ｒ１〜ＲＮ レチクル
ＰＬ 投影光学系
Ｗ ウエハ
３３1 〜３３N レチクル保持部
３９ 真空源
フロントページの続き
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
H01L 21/68
B65G 49/06
H01L 21/027
Claims (2)
- 【請求項１】 チャンバ内に設置され、パターンが形成
されたマスクをマスクステージ上にロードすると共に前
記マスクステージからアンロードする搬送装置を備え、
前記マスクステージに保持されたマスクのパターンを基
板上に露光する露光装置であって、 前記搬送装置は、 前記チャンバの天板に固定される支持部と、 前記支持部の下側に取り付けられる上下動軸と、 前記上下動軸を中心として回転可能に固定された回転部
材と、 前記回転部材の一端と他端とに取り付けられ、それぞれ
が前記回転部材の回転周方向に対する接線方向に開閉可
能な一対のアーム部を備え、前記一対のアーム部が、閉
成時には前記マスクを下から支持可能であり、開成時に
は前記マスクが前記一対のアーム部の間を通過可能な間
隔まで開成する開閉部とを備え、 前記開閉部に保持されたマスクを直接、前記マスクステ
ージ上へロードして、前記マスクステージ上のマスクを
前記開閉部にアンロードすると共に、 前記開閉部は、前記マスクが前記マスクステージへロー
ドされた後に、前記マスクが前記一対のアーム部の間を
通過可能な間隔まで開成し、 前記上下動軸が、前記一対のアーム部が開成した後に、
前記回転部材を前記マスクステージよりも高い位置へ上
昇させることを特徴とする露光装置。 - 【請求項２】 前記開閉部の一対のアーム部のそれぞれ
が、前記マスクを支持する際に前記マスクを前記アーム
部に対して吸着保持するための吸着部を有することを特
徴とする請求項１に記載の露光装置。
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|---|---|---|---|
| JP10951594A JP3493725B2 (ja) | 1994-05-24 | 1994-05-24 | 露光装置 |
| US09/120,733 US6473157B2 (en) | 1992-02-07 | 1998-07-23 | Method of manufacturing exposure apparatus and method for exposing a pattern on a mask onto a substrate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10951594A JP3493725B2 (ja) | 1994-05-24 | 1994-05-24 | 露光装置 |
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|---|---|
| JPH07321179A JPH07321179A (ja) | 1995-12-08 |
| JP3493725B2 true JP3493725B2 (ja) | 2004-02-03 |
Family
ID=14512226
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10951594A Expired - Fee Related JP3493725B2 (ja) | 1992-02-07 | 1994-05-24 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3493725B2 (ja) |
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-
1994
- 1994-05-24 JP JP10951594A patent/JP3493725B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
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