JPH07114233B2 - 基板の位置決め装置 - Google Patents
基板の位置決め装置Info
- Publication number
- JPH07114233B2 JPH07114233B2 JP10529792A JP10529792A JPH07114233B2 JP H07114233 B2 JPH07114233 B2 JP H07114233B2 JP 10529792 A JP10529792 A JP 10529792A JP 10529792 A JP10529792 A JP 10529792A JP H07114233 B2 JPH07114233 B2 JP H07114233B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- positioning
- contact
- substrates
- face
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Jigs For Machine Tools (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体素子製造用のフ
ォトマスクまたはレチクルなどの矩形状の基板、あるい
は半導体ウエハなどの円形状の基板の位置決め装置に関
するものである。
ォトマスクまたはレチクルなどの矩形状の基板、あるい
は半導体ウエハなどの円形状の基板の位置決め装置に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、半導体素子の多種多様化に連れ
て、フォトマスク又はレチクル（以下、基板という）の
種類も増加している。基板は搬送過程において一度位置
決め（プリアライメント）する必要がある。これは、工
程の自動化に際し、基板外径に対する位置決め用マーク
がずれると、ウエハ上に露光されたパターンも基板外径
に対し位置がずれることとなり、位置決め用マークの検
索時間もしくは工程時間にも影響を及ぼすからである。
従って、基板は再現性良く位置決めされる必要がある。
て、フォトマスク又はレチクル（以下、基板という）の
種類も増加している。基板は搬送過程において一度位置
決め（プリアライメント）する必要がある。これは、工
程の自動化に際し、基板外径に対する位置決め用マーク
がずれると、ウエハ上に露光されたパターンも基板外径
に対し位置がずれることとなり、位置決め用マークの検
索時間もしくは工程時間にも影響を及ぼすからである。
従って、基板は再現性良く位置決めされる必要がある。
【０００３】このため、基板を扱う多くの装置には、基
板の端面と当接する複数の位置決めピン（ローラ）を持
ったプリアライメント機構が組み込まれ、基板を位置決
めピンに機械的に押し当てることで事前の位置決めを行
なっている。
板の端面と当接する複数の位置決めピン（ローラ）を持
ったプリアライメント機構が組み込まれ、基板を位置決
めピンに機械的に押し当てることで事前の位置決めを行
なっている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところが従来の位置決
め装置は同一サイズの基板にしか対応できず、異なるサ
イズの基板に対しては、そのローラピンの付け替え作業
に伴いチャンバー内に塵埃を持ち込む可能性があるなど
の不都合があった。尚、ここでいうチャンバーとは、そ
の種の位置決め装置が組み込まれた露光装置や検査装置
を正常な環境で収納するものを言う。
め装置は同一サイズの基板にしか対応できず、異なるサ
イズの基板に対しては、そのローラピンの付け替え作業
に伴いチャンバー内に塵埃を持ち込む可能性があるなど
の不都合があった。尚、ここでいうチャンバーとは、そ
の種の位置決め装置が組み込まれた露光装置や検査装置
を正常な環境で収納するものを言う。
【０００５】本発明は、複数種類のサイズの基板の各々
について、位置決め用のローラピンなどを付け替えるこ
ともなく、どのようなサイズの基板に対しても安定な位
置決めができる装置を提供することを目的としている。
について、位置決め用のローラピンなどを付け替えるこ
ともなく、どのようなサイズの基板に対しても安定な位
置決めができる装置を提供することを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、外形形状が相
似で互いにサイズの異なる少なくとも２枚の基板の夫々
の中心をほぼ同一位置にプリアライメントする位置決め
装置であり、２枚の基板のうち小さなサイズの第１基板
の端面と対向して配置される第１の位置決め部材（１
１）（１３）と、この少なくとも２枚の基板のうち大き
なサイズの第２基板の端面と対向して配置される第２の
位置決め部材（１３）（１５）とを組にする支持部材
（２）〜（５）と、第１基板の端面と当接する第１の当
接部材（１１）（１３）と、前記第２基板の端面と当接
する第２の当接部材（１３）（１５）とを組にする可動
部材（６）（７）とを備えた装置に関するものである。
似で互いにサイズの異なる少なくとも２枚の基板の夫々
の中心をほぼ同一位置にプリアライメントする位置決め
装置であり、２枚の基板のうち小さなサイズの第１基板
の端面と対向して配置される第１の位置決め部材（１
１）（１３）と、この少なくとも２枚の基板のうち大き
なサイズの第２基板の端面と対向して配置される第２の
位置決め部材（１３）（１５）とを組にする支持部材
（２）〜（５）と、第１基板の端面と当接する第１の当
接部材（１１）（１３）と、前記第２基板の端面と当接
する第２の当接部材（１３）（１５）とを組にする可動
部材（６）（７）とを備えた装置に関するものである。
【０００７】そして本発明では、前記第１の位置決め部
材と前記第２の位置決め部材とを前記基板の面と垂直方
向に所定量だけ高さ位置を異ならせるように一体に支持
する複数の支持部材(2) 〜(5) と、前記第１の当接部材
と前記第２の当接部材とを、前記所定量だけ高さ位置を
異ならせるように一体に支持すると共に、前記基板の面
と平行な面内で所定の軸(28)を中心として回転させると
共に、前記第２の当接部材が前記第２基板の端面に当接
する時の回転角度が前記第１の当接部材が前記第１基板
の端面に当接する時の回転角度よりも大きくなるように
前記第１の当接部材と前記第２の当接部材とが配置され
る少なくとも１つの可動部材(6) (7) と、前記基板の端
面を前記位置決め部材へ当接させるように、前記可動部
材の回転角度に応じて大きくなる押圧力で前記当接部材
を前記基板の端面方向へ押圧するための付勢力を前記可
動部材に与える付勢部材(29)とを備えてある。
材と前記第２の位置決め部材とを前記基板の面と垂直方
向に所定量だけ高さ位置を異ならせるように一体に支持
する複数の支持部材(2) 〜(5) と、前記第１の当接部材
と前記第２の当接部材とを、前記所定量だけ高さ位置を
異ならせるように一体に支持すると共に、前記基板の面
と平行な面内で所定の軸(28)を中心として回転させると
共に、前記第２の当接部材が前記第２基板の端面に当接
する時の回転角度が前記第１の当接部材が前記第１基板
の端面に当接する時の回転角度よりも大きくなるように
前記第１の当接部材と前記第２の当接部材とが配置され
る少なくとも１つの可動部材(6) (7) と、前記基板の端
面を前記位置決め部材へ当接させるように、前記可動部
材の回転角度に応じて大きくなる押圧力で前記当接部材
を前記基板の端面方向へ押圧するための付勢力を前記可
動部材に与える付勢部材(29)とを備えてある。
【０００８】本発明においては、サイズの異なる複数の
基板（１０）（１２）の端面にそれぞれ当接される複数
部材が高さ位置を異ならせて設けられる可動部材（６）
（７）を、前記基板（１０）（１２）の端面と平行な面
内で所定の軸を中心として回転させる回転体とし、サイ
ズの異なる基板に対して、その基板の大きさ、即ち質量
に応した大きさの押圧力を発生させるこどができる。通
常、大きなサイズの基板は質量も大きいので、大きな押
圧力で基板を基準と成る位置決めピン（ローラ）の方へ
押圧する必要があるが、本発明による位置決め装置の構
成によれば、簡単な構造で基板サイズの大小に適した押
圧力が得られる。
基板（１０）（１２）の端面にそれぞれ当接される複数
部材が高さ位置を異ならせて設けられる可動部材（６）
（７）を、前記基板（１０）（１２）の端面と平行な面
内で所定の軸を中心として回転させる回転体とし、サイ
ズの異なる基板に対して、その基板の大きさ、即ち質量
に応した大きさの押圧力を発生させるこどができる。通
常、大きなサイズの基板は質量も大きいので、大きな押
圧力で基板を基準と成る位置決めピン（ローラ）の方へ
押圧する必要があるが、本発明による位置決め装置の構
成によれば、簡単な構造で基板サイズの大小に適した押
圧力が得られる。
【０００９】
【実施例】以下、図に示す実施例について説明する。図
１は本発明の実施例の概略斜視図である。また、この実
施例では５，６，７インチの３種類のサイズの相似形基
板に適用する場合を例にとって示してある。
１は本発明の実施例の概略斜視図である。また、この実
施例では５，６，７インチの３種類のサイズの相似形基
板に適用する場合を例にとって示してある。
【００１０】図１において、10は最小サイズで示される
基板である。基板10は上下動可能な保持部材１によって
ほぼ水平に保持される。他のサイズの基板も同様に保持
されるが、この保持機構については後述する。
基板である。基板10は上下動可能な保持部材１によって
ほぼ水平に保持される。他のサイズの基板も同様に保持
されるが、この保持機構については後述する。
【００１１】保持部材１の板幅はその上に最小サイズの
基板10を載置したとき基板10が両側に充分大きくはみ出
すような大きさに形成されている。
基板10を載置したとき基板10が両側に充分大きくはみ出
すような大きさに形成されている。
【００１２】図示しない基台上において、適当数の移動
台２〜７が全サイズの基板を包囲するように配置され、
基板の対応の辺に対して進退または回転可能に構成され
ている。すなわち、移動台（支持部材）２，３は、図示
しないガイドに沿って保持部材１の板幅方向（矢印Ａ方
向）に進退可能であり、各々の移動台２，３の下面に突
設されたピン２１と基台上に突設されたピン２２との間
に引張ばね２３を張設して各移動台２，３に基板の対応
辺に向かう力を付与している。また、各移動台２，３に
は開放用のエアシリンダ２４がロッド２５を介して連結
されている。
台２〜７が全サイズの基板を包囲するように配置され、
基板の対応の辺に対して進退または回転可能に構成され
ている。すなわち、移動台（支持部材）２，３は、図示
しないガイドに沿って保持部材１の板幅方向（矢印Ａ方
向）に進退可能であり、各々の移動台２，３の下面に突
設されたピン２１と基台上に突設されたピン２２との間
に引張ばね２３を張設して各移動台２，３に基板の対応
辺に向かう力を付与している。また、各移動台２，３に
は開放用のエアシリンダ２４がロッド２５を介して連結
されている。
【００１３】次に、保持部材１の先端側に配置される移
動台（支持部材）４，５は連結板８にて一体に連結さ
れ、保持部材１の長手方向（矢印Ｂ方向）に進退可能で
ある。連結板８の下方には移動台２，３の場合と同様の
方式によって引張ばね（図示せず）及び間放用のエアシ
リンダ２６がロッド２７を介して連結される。
動台（支持部材）４，５は連結板８にて一体に連結さ
れ、保持部材１の長手方向（矢印Ｂ方向）に進退可能で
ある。連結板８の下方には移動台２，３の場合と同様の
方式によって引張ばね（図示せず）及び間放用のエアシ
リンダ２６がロッド２７を介して連結される。
【００１４】移動台４，５の反対側に配置される移動台
（可動部材）６，７は枢軸２８を中心として矢印Ｃ方向
に回転可能であり、枢軸２８と基台間に介装された捩り
ばね２９により常に基板の対向変位向かう力が付与され
ている。また枢軸２８には水平方向にピン３０が突設さ
れ、ピン３０には開放用のエアシリング３１のロッド３
２が連結されている。この回転方式による移動台６，７
の構成は省スペース化を考慮したものである。
（可動部材）６，７は枢軸２８を中心として矢印Ｃ方向
に回転可能であり、枢軸２８と基台間に介装された捩り
ばね２９により常に基板の対向変位向かう力が付与され
ている。また枢軸２８には水平方向にピン３０が突設さ
れ、ピン３０には開放用のエアシリング３１のロッド３
２が連結されている。この回転方式による移動台６，７
の構成は省スペース化を考慮したものである。
【００１５】以上の移動台２〜７上には、さらに図２を
も参照して、最小サイズの基板10に対応する位置決め部
材11と、中間サイズの基板12に対応する位置決め部材13
と、最大サイズの基板14に対応する位置決め部材15とが
基板サイズの小から大にかけて順次上方へ所定量ずつ高
さ位置を異にし、かつ基板サイズに合わせて水平方向に
離して階段状に設けられている。
も参照して、最小サイズの基板10に対応する位置決め部
材11と、中間サイズの基板12に対応する位置決め部材13
と、最大サイズの基板14に対応する位置決め部材15とが
基板サイズの小から大にかけて順次上方へ所定量ずつ高
さ位置を異にし、かつ基板サイズに合わせて水平方向に
離して階段状に設けられている。
【００１６】各位置決め部材11，13，15は例えばローラ
ピンから構成され、図３に示すように、ある一つの移動
台上に偏心軸33を介して本体34が枢支され、本体34の上
面中心に立設した軸35にベアリング36を介して基板の端
面に当接するローラ37を軸支してなるものである。
ピンから構成され、図３に示すように、ある一つの移動
台上に偏心軸33を介して本体34が枢支され、本体34の上
面中心に立設した軸35にベアリング36を介して基板の端
面に当接するローラ37を軸支してなるものである。
【００１７】38は本体３４の偏心軸33の止めねじで、ロ
ーラ37の水平方向の位置を微調整後セットするものであ
る。ローラ37の水平方向の位置は軸35と偏心軸33との間
の相対偏心量のために本体34を偏心軸33のまわりに回動
することにより微小変位可能である。
ーラ37の水平方向の位置を微調整後セットするものであ
る。ローラ37の水平方向の位置は軸35と偏心軸33との間
の相対偏心量のために本体34を偏心軸33のまわりに回動
することにより微小変位可能である。
【００１８】各位置決め部材11，13，15の垂直方向の位
置（高さ位置）調整は、本体34の長さを変えることによ
ってローラ37の軸支位置を順次高くしていけばよい。な
お、移動台６，７に設けるローラピンは必ずしも偏心し
たものである必要はない。
置（高さ位置）調整は、本体34の長さを変えることによ
ってローラ37の軸支位置を順次高くしていけばよい。な
お、移動台６，７に設けるローラピンは必ずしも偏心し
たものである必要はない。
【００１９】図４は、上述した回転方式の移動台６，７
上に設置した位置決め部材11，13，15と各サイズの基板
10，12，14との枢軸28に対する位置関係を示す図であ
る。枢軸28は位置決め部材11，13，15の対応基板に対す
る押圧力が夫々の基板サイズに応じた荷重となるような
位置に設置されている。
上に設置した位置決め部材11，13，15と各サイズの基板
10，12，14との枢軸28に対する位置関係を示す図であ
る。枢軸28は位置決め部材11，13，15の対応基板に対す
る押圧力が夫々の基板サイズに応じた荷重となるような
位置に設置されている。
【００２０】いま、枢軸28の中心より位置決め部材11，
13，15の各中心までの距離をＬi(i=1,2,3)、対応の基板
10，12，14に対応する押圧力をＦi(i=1,2,3)、そしてＬ
i とＦi とのなす角をθi(i=1,2,3)とすれば、 Ｆi ＝ (Ｔ／Ｌi)・cos[(π/2)-θi] (i=1,2,3) （ただし、Ｔは捻りばね29のトルクで一定） となる。
13，15の各中心までの距離をＬi(i=1,2,3)、対応の基板
10，12，14に対応する押圧力をＦi(i=1,2,3)、そしてＬ
i とＦi とのなす角をθi(i=1,2,3)とすれば、 Ｆi ＝ (Ｔ／Ｌi)・cos[(π/2)-θi] (i=1,2,3) （ただし、Ｔは捻りばね29のトルクで一定） となる。
【００２１】ここで、Ｆ1,Ｆ2,Ｆ3 をそれぞれの基板の
質量に応じた力に近似させてＬi およびθi を決定し、
枢軸28の中心位置を決定するものである。すなわち、小
サイズの基板10の場合にはＦ1 は小さく、大サイズの基
板14の場合にはＦ3 は大きくなる。
質量に応じた力に近似させてＬi およびθi を決定し、
枢軸28の中心位置を決定するものである。すなわち、小
サイズの基板10の場合にはＦ1 は小さく、大サイズの基
板14の場合にはＦ3 は大きくなる。
【００２２】なお、移動台２，４，５上の位置決め部材
11，13，15側を位置決めのための基準とするために、移
動台２及び連結板８に対するストッパ（図示せず）を基
台上に設けることもできる。また、移動台２側の引張ば
ね23を移動台３側の引張ばね23よりも強力にし、移動台
４，５側の引張ばね（図示せず）の力を移動台６，７側
の捩りばね29の力よりも強く設計することによって、結
果的に基準側の位置決め部材11，13，15は他側の位置決
め部材よりも大きな荷重で対応の基板を押圧することが
できる。このため基準側の位置決め部材11，13，15は位
置決めストッパにより正しい位置に停止した後も、他側
の位置決め部材の力の影響を受けて基準位置より変位す
ることがなくなる。
11，13，15側を位置決めのための基準とするために、移
動台２及び連結板８に対するストッパ（図示せず）を基
台上に設けることもできる。また、移動台２側の引張ば
ね23を移動台３側の引張ばね23よりも強力にし、移動台
４，５側の引張ばね（図示せず）の力を移動台６，７側
の捩りばね29の力よりも強く設計することによって、結
果的に基準側の位置決め部材11，13，15は他側の位置決
め部材よりも大きな荷重で対応の基板を押圧することが
できる。このため基準側の位置決め部材11，13，15は位
置決めストッパにより正しい位置に停止した後も、他側
の位置決め部材の力の影響を受けて基準位置より変位す
ることがなくなる。
【００２３】図５は保持部材１の基板10，12，14の保持
機構を示す斜視図であり、最小サイズの基板10の載置面
1a，中間サイズの基板12の載置面1b及び最大サイズの基
板14の載置面1cが水平に階段状に設けられている。そし
て各載置面1a，1b，1cにはそれぞれの基板を吸着するた
めの吸引口40a,40b,40c が設けられ、それぞれ図示しな
いホースを介して真空発生装置に連結されている。
機構を示す斜視図であり、最小サイズの基板10の載置面
1a，中間サイズの基板12の載置面1b及び最大サイズの基
板14の載置面1cが水平に階段状に設けられている。そし
て各載置面1a，1b，1cにはそれぞれの基板を吸着するた
めの吸引口40a,40b,40c が設けられ、それぞれ図示しな
いホースを介して真空発生装置に連結されている。
【００２４】この実施例の作用を説明すれば、保持部材
１は、所定の受入位置でわずかに上昇することによっ
て、所要の基板を対応の載置面にほぼ水平に吸着し保持
することができる。すなわち、最小サイズの基板10は載
置面1a上に、中間サイズの基板12は載置面1b上に、最大
サイズの基板14は載置面1c上に保持される。
１は、所定の受入位置でわずかに上昇することによっ
て、所要の基板を対応の載置面にほぼ水平に吸着し保持
することができる。すなわち、最小サイズの基板10は載
置面1a上に、中間サイズの基板12は載置面1b上に、最大
サイズの基板14は載置面1c上に保持される。
【００２５】次に、保持部材１上に保持された基板を保
持部材１に対し位置決めするには、例えば最小サイズの
基板１０について説明すると、基板１０を保持部材１に
より本実施例装置上に搬入してそのまま所定の位置まで
下降させる。この基板１０の下降動作に先立って本実施
例装置のすべての移動台２〜７を基板１０及び保持部材
１との干渉を避けるべく開放用のエアシリンダ２４，２
６，３１によって外側に開放させておくことはもちろん
である。
持部材１に対し位置決めするには、例えば最小サイズの
基板１０について説明すると、基板１０を保持部材１に
より本実施例装置上に搬入してそのまま所定の位置まで
下降させる。この基板１０の下降動作に先立って本実施
例装置のすべての移動台２〜７を基板１０及び保持部材
１との干渉を避けるべく開放用のエアシリンダ２４，２
６，３１によって外側に開放させておくことはもちろん
である。
【００２６】次いで、保持部材１の真空吸着を解除して
基準側の移動台２，４，５をそれぞれのばね力によって
基板10に向かって移動させ、それらの移動台上に設けら
れている位置決め部材11を基板10の対応の辺の端部に当
接させる。その後、対向側の移動台３，６，７を上記と
同様にばねの力によって移動させ、それらの移動台上に
設けられている位置決め部材11を基板10の対応の辺に当
接させる。
基準側の移動台２，４，５をそれぞれのばね力によって
基板10に向かって移動させ、それらの移動台上に設けら
れている位置決め部材11を基板10の対応の辺の端部に当
接させる。その後、対向側の移動台３，６，７を上記と
同様にばねの力によって移動させ、それらの移動台上に
設けられている位置決め部材11を基板10の対応の辺に当
接させる。
【００２７】基板10に対する位置決め部材11の押圧力は
引張ばね23および捻りばね29のばね力を設定することに
よって定まるので、かくして基板10は保持部材１に保持
された状態でその保持部材１に対し外形を位置決めされ
る。その後、保持部材１の真空吸着を行なって基板10を
吸着させてから、各移動台２〜７をもとの位置に退避さ
せる。退避の順序は移動台３，６，７が先で移動台２，
４，５が後である。
引張ばね23および捻りばね29のばね力を設定することに
よって定まるので、かくして基板10は保持部材１に保持
された状態でその保持部材１に対し外形を位置決めされ
る。その後、保持部材１の真空吸着を行なって基板10を
吸着させてから、各移動台２〜７をもとの位置に退避さ
せる。退避の順序は移動台３，６，７が先で移動台２，
４，５が後である。
【００２８】中間サイズの基板12あるいは最大サイズの
基板14の位置決めの場合も、それぞれの位置決め部材1
3，15がそれよりも小さいサイズの基板に対して所定量
だけ上方に高くなった第２の高さ位置を有するので、上
記の場合と同様に位置決めを行なうことができる。
基板14の位置決めの場合も、それぞれの位置決め部材1
3，15がそれよりも小さいサイズの基板に対して所定量
だけ上方に高くなった第２の高さ位置を有するので、上
記の場合と同様に位置決めを行なうことができる。
【００２９】以上のように、基板のサイズに合わせて複
数の位置決め部材11，13，15を設けることによって移動
台２〜７の移動ストロークがわずかになると共に、異な
るサイズの基板であっても、常にその中心は装置の定位
置に位置決めされる。
数の位置決め部材11，13，15を設けることによって移動
台２〜７の移動ストロークがわずかになると共に、異な
るサイズの基板であっても、常にその中心は装置の定位
置に位置決めされる。
【００３０】次に、図６は本実施例装置を搬送工程に組
み込んだ場合のシステム全体を示すものであり、同図に
おいて、保持部材１を上下動させるためのエレベーショ
ン機構41は上部に保持部材１を旋回させるための回転駆
動部42を備えている。回転駆動部42はスライダー43を支
持しており、このスライダー43はアーム方式に形成され
た保持部材１を水平方向に進退させる。回転駆動部42の
周囲には、ロード側のマスクカセット44と、アンロード
側のマスクカセット45と、露光装置及び検査装置側のマ
スクホルダ46と、図１に示した実施例装置を取りつけた
プリアライメント装置（基台）47とが配置されている。
マスクカセット44および45には複数枚の基板Ｍを保持部
材１の厚さ分以上の間隔を空けて段積み状態で装填可能
である。またマスクホルダ46はＸＹ移動ステージを含ん
でいる。
み込んだ場合のシステム全体を示すものであり、同図に
おいて、保持部材１を上下動させるためのエレベーショ
ン機構41は上部に保持部材１を旋回させるための回転駆
動部42を備えている。回転駆動部42はスライダー43を支
持しており、このスライダー43はアーム方式に形成され
た保持部材１を水平方向に進退させる。回転駆動部42の
周囲には、ロード側のマスクカセット44と、アンロード
側のマスクカセット45と、露光装置及び検査装置側のマ
スクホルダ46と、図１に示した実施例装置を取りつけた
プリアライメント装置（基台）47とが配置されている。
マスクカセット44および45には複数枚の基板Ｍを保持部
材１の厚さ分以上の間隔を空けて段積み状態で装填可能
である。またマスクホルダ46はＸＹ移動ステージを含ん
でいる。
【００３１】図６のシステムによる搬送シーケンスを説
明すると次のとおりである。なお、図６において保持部
材１の載置部中心の軌跡を矢印で示す。
明すると次のとおりである。なお、図６において保持部
材１の載置部中心の軌跡を矢印で示す。
【００３２】先ず、保持部材１が点Ｐ0 にあるときか
ら、回転駆動部42によって保持部材１を反時計方向に回
転させ、点Ｐ1 にて位置決めした後、スライダー43によ
って点Ｐ1 から保持部材１を伸ばし、基板Ｍの下方に進
入させる。次いで保持部材１を上方にわずかに持ち上げ
て真空吸着してから点Ｐ2 まで後退させる。その後、点
Ｐ2 から点Ｐ3 まで保持部材１を時計方向に回転し、そ
のまま真っ直ぐにプリアライメント装置47まで降下さ
せ、基板Ｍのサイズに応じた高さ位置で保持部材１の真
空吸着を解除して、前述のように基板Ｍの位置決め（プ
リアライメント）を行なう。
ら、回転駆動部42によって保持部材１を反時計方向に回
転させ、点Ｐ1 にて位置決めした後、スライダー43によ
って点Ｐ1 から保持部材１を伸ばし、基板Ｍの下方に進
入させる。次いで保持部材１を上方にわずかに持ち上げ
て真空吸着してから点Ｐ2 まで後退させる。その後、点
Ｐ2 から点Ｐ3 まで保持部材１を時計方向に回転し、そ
のまま真っ直ぐにプリアライメント装置47まで降下さ
せ、基板Ｍのサイズに応じた高さ位置で保持部材１の真
空吸着を解除して、前述のように基板Ｍの位置決め（プ
リアライメント）を行なう。
【００３３】位置決め完了後、再度、真空吸着を行ない
つつ保持部材１を点Ｐ4 まで上昇させてからスライダー
43によって腕を伸ばし、マスクホルダ46の上方で停止さ
せてからわずかに降下させることによって基板Ｍをマス
クホルダ46に受け渡す。このときは保持部材１の真空吸
着を解除しておく。
つつ保持部材１を点Ｐ4 まで上昇させてからスライダー
43によって腕を伸ばし、マスクホルダ46の上方で停止さ
せてからわずかに降下させることによって基板Ｍをマス
クホルダ46に受け渡す。このときは保持部材１の真空吸
着を解除しておく。
【００３４】また、基板Ｍのアンロードは次のように行
なう。すなわち、点Ｐ0 からマスクホルダ46の下方に保
持部材１を進入させ、保持部材１をわずかに上昇させた
後、点Ｐ4 の位置で上昇させ、点Ｐ5 に位置決めする。
その後、保持部材１を時計方向に回転させ、点Ｐ6 で保
持部材１を伸ばし、基板Ｍをマスクカセット45内の所定
のスロット位置に挿入し、保持部材１を少し下げてか
ら、点Ｐ7 まで引っ込める。このとき、基板Ｍはマスク
カセット45内の段部（スロット）に載せられる。その
後、保持部材１を点Ｐ7 から反時計方向に点Ｐ0 まで回
転し、もとの位置に復帰させる。
なう。すなわち、点Ｐ0 からマスクホルダ46の下方に保
持部材１を進入させ、保持部材１をわずかに上昇させた
後、点Ｐ4 の位置で上昇させ、点Ｐ5 に位置決めする。
その後、保持部材１を時計方向に回転させ、点Ｐ6 で保
持部材１を伸ばし、基板Ｍをマスクカセット45内の所定
のスロット位置に挿入し、保持部材１を少し下げてか
ら、点Ｐ7 まで引っ込める。このとき、基板Ｍはマスク
カセット45内の段部（スロット）に載せられる。その
後、保持部材１を点Ｐ7 から反時計方向に点Ｐ0 まで回
転し、もとの位置に復帰させる。
【００３５】以上に述べた実施例では、移動台２〜７と
位置決め部材11，13，15とが基板に対して下側に配置さ
れるような構成としたが、図１に示したプリアライメン
ト装置の天地を逆にして、これらが基板の上側に配置さ
れるような構成としてもよいことは述べるまでもない。
その場合、サイズが一番小さい基板は、最も上昇した位
置で位置決め部材11と当接して位置決めされ、サイズの
大きい基板は小さい木場にょりも所定量だけ降下した位
置で位置決め部材13または15と当接して位置決めされ
る。また本発明はマスクやレチクルのような矩形基板の
位置決めの他に、半導体ウエハ等のような円形基板の位
置決めに対しても適用でき、全く同様の効果を得ること
ができる。
位置決め部材11，13，15とが基板に対して下側に配置さ
れるような構成としたが、図１に示したプリアライメン
ト装置の天地を逆にして、これらが基板の上側に配置さ
れるような構成としてもよいことは述べるまでもない。
その場合、サイズが一番小さい基板は、最も上昇した位
置で位置決め部材11と当接して位置決めされ、サイズの
大きい基板は小さい木場にょりも所定量だけ降下した位
置で位置決め部材13または15と当接して位置決めされ
る。また本発明はマスクやレチクルのような矩形基板の
位置決めの他に、半導体ウエハ等のような円形基板の位
置決めに対しても適用でき、全く同様の効果を得ること
ができる。
【００３６】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、異なる
サイズの基板を択一的にプリアライメントする際、基板
の大きさ（質量）に適合した押圧力を発生するように可
動部材の一部を付勢手段を備えた回転体としたので、小
さな基板から大きな基板まで、確実に安定したプリアラ
イメントが達成される。更に、構造がコンパクトに成る
といった利点もある。
サイズの基板を択一的にプリアライメントする際、基板
の大きさ（質量）に適合した押圧力を発生するように可
動部材の一部を付勢手段を備えた回転体としたので、小
さな基板から大きな基板まで、確実に安定したプリアラ
イメントが達成される。更に、構造がコンパクトに成る
といった利点もある。
【図１】本発明の一実施例による位置決め装置の概略的
な構成を示す概略の斜視図である。
な構成を示す概略の斜視図である。
【図２】図１中のＩＩ−ＩＩ線矢視断面図である。
【図３】各位置決め部材（ローラピン）の構造を示す断
面図である。
面図である。
【図４】回転方式の移動体上のローラピン配置と各サイ
ズの基板の位置関係の説明図である。
ズの基板の位置関係の説明図である。
【図５】保持部材の保持機構の構造を示す斜視図であ
る。
る。
【図６】搬送系を含めたシステム全体の概略的な構成を
示す斜視図である。
示す斜視図である。
１０，１２，１４：レチクル（基板）、２，３，４，
５：直動式の移動台（支持部材）、６，７：回動式の移
動台（可動部材）、１１，１３，１５：ローラピン、２
８：回動軸、２９：捩りばね。
５：直動式の移動台（支持部材）、６，７：回動式の移
動台（可動部材）、１１，１３，１５：ローラピン、２
８：回動軸、２９：捩りばね。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０５Ｄ 15/00 Ｈ０１Ｌ 21/027 (72)発明者 西方 昭雄 東京都品川区西大井１丁目６番３号 日本 光学工業株式会社 大井製作所内 (72)発明者 松本 康久 東京都品川区西大井１丁目６番３号 日本 光学工業株式会社 大井製作所内
Claims (1)
- 【請求項１】 外形形状が相似で互いにサイズの異なる
少なくとも２枚の基板の夫々の中心をほぼ同一位置にプ
リアライメントする位置決め装置において、 前記少なくとも２枚の基板のうち小さなサイズの第１基
板の端面と対向して配置される第１の位置決め部材(11)
(13)と、前記少なくとも２枚の基板のうち大きなサイズ
の第２基板の端面と対向して配置される第２の位置決め
部材(13)(15)とを組にし、且つ前記第１の位置決め部材
と前記第２の位置決め部材とを前記基板の面と垂直方向
に所定量だけ高さ位置を異ならせるように一体に支持す
る複数の支持部材(2) 〜(5) と； 前記第１基板の端面と当接する第１の当接部材(11)(13)
と、前記第２基板の端面と当接する第２の当接部材(13)
(15)とを組にし、且つ前記第１の当接部材と前記第２の
当接部材とを、前記所定量だけ高さ位置を異ならせるよ
うに一体に支持すると共に、前記基板の面と平行な面内
で所定の軸(28)を中心として回転させると共に、前記第
２の当接部材が前記第２基板の端面に当接する時の回転
角度が前記第１の当接部材が前記第１基板の端面に当接
する時の回転角度よりも大きくなるように前記第１の当
接部材と前記第２の当接部材とが配置される少なくとも
１つの可動部材(6)(7)と； 前記基板の端面を前記位置決め部材へ当接させるよう
に、前記可動部材の回転角度に応じて大きくなる押圧力
で前記当接部材を前記基板の端面方向へ押圧するための
付勢力を前記可動部材に与える付勢部材(29)とを備えた
ことを特徴とする基板の位置決め装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10529792A JPH07114233B2 (ja) | 1992-04-01 | 1992-04-01 | 基板の位置決め装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10529792A JPH07114233B2 (ja) | 1992-04-01 | 1992-04-01 | 基板の位置決め装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60068538A Division JPH079925B2 (ja) | 1985-04-02 | 1985-04-02 | 基板の位置決め装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05182891A JPH05182891A (ja) | 1993-07-23 |
| JPH07114233B2 true JPH07114233B2 (ja) | 1995-12-06 |
Family
ID=14403763
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10529792A Expired - Lifetime JPH07114233B2 (ja) | 1992-04-01 | 1992-04-01 | 基板の位置決め装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07114233B2 (ja) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5479722A (en) * | 1994-08-24 | 1996-01-02 | Excellon Automation Co. | Movable registration pin mechanism |
| WO1996042108A1 (fr) * | 1995-06-08 | 1996-12-27 | Kokusai Electric Co., Ltd. | Dispositif de transport de substrat |
| KR100706381B1 (ko) * | 1999-06-03 | 2007-04-10 | 동경 엘렉트론 주식회사 | 기판반송장치 |
| CN1333453C (zh) * | 2003-02-20 | 2007-08-22 | 应用材料有限公司 | 相对于支撑台定位基片的方法与设备 |
| US7207766B2 (en) * | 2003-10-20 | 2007-04-24 | Applied Materials, Inc. | Load lock chamber for large area substrate processing system |
| JP2004328014A (ja) * | 2004-08-10 | 2004-11-18 | Nikon Corp | 投影露光装置、及び該投影露光装置を用いたパターン形成方法 |
| JP4858070B2 (ja) * | 2006-10-16 | 2012-01-18 | 株式会社安川電機 | ウェハのアライナー装置およびそれを備えたウェハ搬送システム、半導体製造装置 |
| JP4726814B2 (ja) * | 2007-01-16 | 2011-07-20 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 基板の位置決め装置及び位置決め方法 |
| KR100942066B1 (ko) * | 2008-04-30 | 2010-02-11 | 주식회사 테라세미콘 | 홀더 스테이지 |
| WO2013171782A1 (ja) * | 2012-05-14 | 2013-11-21 | 平田機工株式会社 | 位置決め装置、処理装置、処理システム及び位置決め方法 |
| KR101578332B1 (ko) * | 2012-07-26 | 2015-12-16 | 센주긴조쿠고교 가부시키가이샤 | 반도체 웨이퍼 반송 지그 |
| JP6735155B2 (ja) | 2016-05-31 | 2020-08-05 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置 |
| KR102301191B1 (ko) * | 2019-10-15 | 2021-09-10 | (주)에스티아이 | 기판처리장치 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59202645A (ja) * | 1983-04-30 | 1984-11-16 | Nichiden Mach Ltd | チツプオリエンタ− |
-
1992
- 1992-04-01 JP JP10529792A patent/JPH07114233B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59202645A (ja) * | 1983-04-30 | 1984-11-16 | Nichiden Mach Ltd | チツプオリエンタ− |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05182891A (ja) | 1993-07-23 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |