JP3708984B2 - 被処理材の固定装置 - Google Patents
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Description
【産業上の利用分野】
本発明は、電子ビーム描画装置、マスク検査装置等の半導体製造関連装置の被処理材の固定装置に係り、詳しくは、マスクガラス等の薄板平面形状物の被処理材を移動ステージ上に固定する被処理材の固定装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、電子ビーム描画装置、又はマスク検査装置等において、大型のマスクガラスを処理する場合の固定装置として、例えば特開昭63−140532号公報に示されるものが知られている。
【0003】
この従来の固定装置は、図10、図11に示すような構成となっている。因みに、図10は平面図、図11は右側面図である。
すなわち、被処理材であるマスクガラスaをマスクホルダbの平面度の良いホルダ基板c上に載置した後、このマスクガラスaを、複数の押付子d…を配設した一対のクランプバーe,eを有するクランプ機構f,fで基板c側に押付けることにより固定する。
【0004】
そして、このマスクガラスaを保持したマスクホルダbを、移動ステージg上に搬送して位置決め固定するようになっている。
このホルダ基板cにマスクガラスaを固定する固定方式は、マスクガラスaのサイズが大小さまざまなことに対応することが可能であるが、ホルダ基板cを使用し固定するため下記のような問題点があった。
【0005】
すなわち、
(1) ホルダ基板cの平面度加工精度が良く出来ない。また製作費用が高価。(その理由は、ホルダ基板cを軽くした導電性材質で作る必要があることから加工精度を高めることが難しくなる。)
(2) 一定レベルの平面度で加工できても複数のホルダ基板cを使用する場合、マスクホルダb毎の差ができて描画後の精度にバラつきが出る。
(3) マスクガラスaとホルダ基板cは全面接触するため、ホルダ基板c上に載ったゴミにより平面度を悪くする。
等の問題があった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
上記のように、従来の被処理材の固定装置にあっては、ホルダ基板の平面の加工精度が十分に確保できないことや、連続的な処理を行うために複数のホルダ基板を使用するが、ホルダ基板毎に平面度が異なり、マスクガラスの載置後の平面度に数10μm程度のバラつきが出ること、また、ゴミの影響により描画精度を劣化させるといった問題があった。
【0007】
本発明は、上記事情に基づきなされたもので、製作費用が高価で、しかも処理精度に影響を与えるホルダ基板を用いることなく被処理材を移動ステージに固定でき、安価で、しかも、被処理材に対する処理精度の向上を可能とした被処理材の固定装置を提供しようとするものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記課題を解決するための第1の手段として、薄板平面形状物の被処理材を移動ステージ上に固定する被処理材の固定装置であって、前記被処理材の下面を支承する複数の受け部材を有し、前記被処理材を水平状態かつ下面が部分的に露出する状態に保持する被処理材ホルダと、前記移動ステージ上に設けられ前記被処理材ホルダを水平状態に支持すると共に上下動可能なホルダガイド手段と、このホルダガイド手段を下降させることにより前記被処理材を保持した被処理材ホルダを下降させるガイド移動手段と、前記移動ステージ上に設けられ、前記ガイド移動手段によるホルダガイド手段の下降動作に伴って下降する被処理材ホルダに保持された前記被処理材の下面を複数の位置決め部材で受け、前記被処理材を水平に支持する被処理材支持手段とを具備してなる構成としたものである。
【0009】
また、第2の手段として、第1の手段において、さらに、被処理材ホルダが、被処理材押え部材を備え、被処理材ホルダが下降したとき被処理材支持手段により支持された被処理材の上面を押さえクランプする構成としたものである。
【0010】
また、第3の手段として、第1の手段において、さらに、被処理材ホルダの複数の受け部材が、被処理材の大きさに応じて配設位置が変更可能な回転体からなる構成としたものである。
【0011】
また、第4の手段として、薄板平面形状物の被処理材をXY方向に移動可能な移動ステージ上に固定する被処理材の固定装置であって、前記被処理材の下面を支承する複数の受け部材、及び、該受け部材上に載置された前記被処理材の一端面部の位置を規制するための位置決め部材、及び、該位置決め部材に前記一端面が当接するように前記被処理材の他端面側を押圧する被処理材押圧機構を有し、前記被処理材を水平状態かつ下面が部分的に露出する状態に保持する被処理材ホルダと、前記移動ステージ上に設けられ前記被処理材ホルダを水平状態に支持すると共に上下動可能なホルダガイド機構と、このホルダガイド機構を下降させることにより前記被処理材を保持した被処理材ホルダを下降させるガイド移動機構と、前記移動ステージ上に設けられ前記ガイド移動機構によるホルダガイド機構の下降動作に伴って下降する被処理材ホルダに保持された前記被処理材の下面を複数の位置決め部材で受け、前記被処理材を水平に支持する被処理材支持機構と、前記移動ステージ上に設けられ、前記被処理材支持機構により支持されて前記被処理材押圧機構により他端面側が押圧された前記被処理材の一端面部の位置を規制する位置決め部材とを具備してなる構成としたものである。
【0012】
【作用】
本発明の上記第1の手段の被処理材の固定装置によれば、被処理材ホルダが、移動ステージ上で下降することで、この被処理材ホルダに保持されている被処理材が、移動ステージ上に配設された複数の位置決め部材に直接載置され、位置決めされる。このように、移動ステージ上に被処理材を載置するための位置決め部材を設けることにより、基準面の製作精度は向上するし、従来のホルダ毎のバラつきは考慮しなくて良くなる。また、移動ステージ上の基準面は全面でなく接触面1カ所毎は小さく、全体でも非常に小さくするためゴミの載る確率はほとんど無視できる。これにより、移動ステージ上での被処理材の平面度は、移動ステージ上に配設された複数の位置決め部材により常に一定となり、また、平面度自体も数μmのオーダまで可能となり、描画等の処理精度が向上し、被処理材間でのバラつきも非常に小さくなる。
【0013】
また、第2の手段の被処理材の固定装置によれば、第1の手段の作用に加えて、被処理材ホルダが、被処理材押え部材を備え、被処理材ホルダが下降したとき被処理材支持手段により支持された被処理材の上面を押さえクランプする構成としたから、被処理材の反りや捩じれを矯正でき、被処理材に対する処理精度のより向上が可能となる。
【0014】
また、第3の手段の被処理材の固定装置によれば、第1の手段の作用に加えて、被処理材ホルダの複数の受け部材が、被処理材の大きさに応じて配設位置が変更可能な回転体からなる構成としたから、種々の大きさの被処理材に対応できるとともに被処理材の搬入及び搬出及び位置決め等の移動動作が容易となる。
【0015】
また、第4の手段の被処理材の固定装置によれば、被処理材ホルダが、移動ステージ上で下降することで、この被処理材ホルダに保持されている被処理材が、移動ステージ上に配設された複数の位置決め部材に直接載置され、位置決めされる。このように、移動ステージ上に被処理材を載置するための位置決め部材を設けることにより、基準面の製作精度は向上するし、従来のホルダ毎のバラつきは考慮しなくて良くなる。また、移動ステージ上の基準面は全面でなく接触面1カ所毎は小さく、全体でも非常に小さくするためゴミの載る確率はほとんど無視できる。これにより、移動ステージ上での被処理材の平面度は、移動ステージ上に配設された複数の位置決め部材により常に一定となり、 また、平面度自体も数μmのオーダまで可能となり、描画等の処理精度が向上し、被処理材間でのバラつきも非常に小さくなる。
【0016】
さらに、被処理材ホルダが、受け部材上に載置された被処理材の一端面部の位置を規制するための位置決め部材、及び、該位置決め部材に前記一端面が当接するように前記被処理材の他端面側を押圧する被処理材押圧機構を有し、被処理材ホルダが、移動ステージ上で下降することで、この被処理材ホルダに保持されている被処理材が位置決め部材から外れて被処理材押圧機構の押圧力により移動ステージ上に設けられた位置決め部材で被処理材の一端面部の位置が規制される。このように、被処理材は、移動ステージ上の基準面に載置されると同時に移動ステージ上に設けられた位置決め部材でホルダガイド機構に沿う方向(Y方向)の位置決めがなされ、ホルダ毎のバラつきは考慮しなくてすみ、少なくともY方向の位置決めが安定して行える。
【0017】
【実施例】
以下、本発明の一実施例を図1ないし図9を参照して説明する。
図1は、本発明を適用した電子ビーム描画装置の全体図を示すもので、図中1はベースプレートで有り、このベースプレート1は、床面上に防振装置2を介して設置されている。ベースプレート1上には定盤3が載置され、さらに、この定盤3上には描画室4が形成されている。
【0018】
描画室4内には、移動ステージとしてのXYステージ5が設置され、その上方には電子ビーム光学鏡筒6が設けられている。
さらに、前記ベースプレート1上には、フレーム7が載設された状態となっていると共に、このフレーム7上には被処理材であるマスクガラス8を保持する被処理材ホルダとしてのマスクガラスホルダ(以後、単にホルダという)9を搬送する第1の搬送装置10と第2の搬送装置11とが載設されている。
【0019】
第2の搬送装置11は、フレーム7上に形成されたロードロックチャンバ12内に収納された状態となっている。
また、ロードロックチャンバ12には、第1の搬送装置10と対向する位置に第1のゲ−トバルブ13が設けられ、また、描画室4とロードロックチャンバ12との間に第2のゲ−トバルブ14が設けられている。
【0020】
また、第1の搬送装置10は、被処理材セット部としてのマスクガラスセット部15を兼用している。
しかして、マスクガラス8は、大気中でホルダ9にセットされる。第1の搬送装置10からホルダ9にセットされたマスクガラス8は、第1のゲートバルブ13を経てロードロックチャンバ12内の第2の搬送装置11に移載され、さらに、第2のゲートバルブ14を経て描画室4のXYステージ5上に載置される。
【0021】
そして、このXYステージ5によりマスクガラス8をXY方向に移動させながら、電子ビーム光学鏡筒6からマスクガラス8に電子ビームを照射して描画することになる。
【0022】
また、ホルダ9にセットされたマスクガラス8は、後述する被処理材の固定装置としてのマスクガラス固定装置18によりXYステージ5上に固定されるようになっている。
【0023】
マスクガラス固定装置18は、図2ないし図6に示すように、被処理材ホルダとしての前記ホルダ9側に配設された機構と、前記移動ステージとしてのXYステージ5の上面部を構成する台座5A側に配設された機構とで構成される。
【0024】
すなわち、前記ホルダ9は、図2に示すように、四角い枠構造のホルダ本体20を有し、このホルダ本体20には、支持用プレート22A,22B,22C,22D,22Eが架設されている。
【0025】
前記支持用プレート22A,22B,22Cには、T溝24がそれぞれ形成されており、ベアリングブロック26…がスライド移動可能に取り付けられている。これらベアリングブロック26…には、受け部材である回転体としてのベアリング28がそれぞれ取付けられており、これら複数のベアリング28…により、薄板平面形状物の被処理材である前記マスクガラス8A、8B(これらを総称する場合は8とする)を水平状態かつ下面が部分的に露出する状態に保持するようになっている。
【0026】
また、前記支持用プレート22A上には、マスクガラス8のXY方向の位置を規制するための位置決め部材としての基準ピン30A,30B,30C,30Dが配設されている。前記基準ピン30A,30Bは、マスクガラス8のX方向の位置決めを、また、基準ピン30C,30Dは、マスクガラス8のY方向の位置決めを行うものである。以下、マスクガラス8の搬入方向に沿う方向をY方向、それと直交する方向をX方向とする。
【0027】
ホルダ9の基準ピン30A、30Bは、マスクガラス8のサイズにより位置を変え、いずれか一方のみとする。また、ベアリング28…の位置もマスクガラス8のサイズに応じてX方向に移動して固定する。また、支持用プレート22B,22C,22Dは、ホルダ本体20に対してねじ止めされており、マスクガラス8のサイズに応じてY方向の適当なピッチ位置に移動し固定できる。
【0028】
支持用プレート22Dには、前記マスクガラス8のY方向一端面8aをY方向の位置決め基準ピン30C,30Dに当接するようにマスクガラス8の他端面側8bを押圧する被処理材押圧機構としての押付け機構32,32が配設されている。
【0029】
しかして、ホルダ9により搬送されるマスクガラス8は、そのY方向に沿う両端縁部下面をベアリング28…で支えられると共に、X方向を基準ピン30A又は30Bに、また、搬入方向であるY方向を2本の基準ピン30C、30に突当した状態で位置決めされる。
【0030】
また、マスクガラス8は、押付け機構32,32により位置決め基準ピン30C,30D側に押圧されることでY方向の移動が規制され、また、ホルダ9の少なくとも4隅のベアリングブロック26…に取付けられた後述する被処理材押え部材としてのZクランパ34…(図6参照)によりクランプされ、マスクガラス8の反りや捩れが矯正されるようになっている。
【0031】
一方、XYステージ5の上面部を構成する台座5Aは、図3に示すように、矩形板状を呈し、その上面のY方向の一側縁、及び、X方向の一側縁に沿う状態に位置測定用のレーザミラー36が搭載されている。
【0032】
また、XYステージ5の上面部を構成する台座5Aには、Y方向に沿う両側縁部に沿って、ホルダ9を水平状態に支持するホルダガイド機構38A,38Bが配設されている。これらホルダガイド機構38A,38Bには、複数のガイドローラ40…が配置されており、ホルダ9がY方向に移動し易くなっている。
【0033】
また、これらホルダガイド機構38A,38Bは、後述するガイド移動機構42(図8及び図9参照)により上下動可能となっており、これらホルダガイド機構38A,38Bを下降させることによりマスクガラス8を保持したホルダ9を下降させるようになっている。
【0034】
また、台座5A上には、複数の位置決め部材としてのZ基準ピン44…がXY両方向に一定ピッチで固定されており、被処理材支持機構である被処理材支持機構としてのマスクガラス支持機構46を構成している。前記Z基準ピン44…の上端面により形成されるZ基準面の平面度は、高さを揃えたZ基準ピン44…を平面度良く加工された台座5A上に固定しているので比較的単純に平面度の良いZ基準面を作ることができる。微調整等行なえば数μmの平面度も可能である。
【0035】
そして、ガイド移動機構42によるホルダガイド機構38A,38Bの下降動作に伴って下降するホルダ9に保持されたマスクガラス8の下面をZ基準ピン44…で受け、マスクガラス8を水平に支持するようになっている。
【0036】
さらに、台座5A上には、Y方向についても一対のベアリング48,48を備えた位置決めストッパ50,50が設けられ、ホルダ9の反搬入方向(図2及び図8中右方向)下面に突設された突部9A(図8、図9参照)を嵌入することによりホルダ9の位置決めがなされるようになっている。
【0037】
一方、台座5A上のホルダ9の搬入方向(図3中左方向)、すなわち、レーザミラー36のX方向に沿う部分の内側近傍には、前記Z基準ピン44…により支持されて前記押付け機構32,32により他端面部8b側が押圧されたマスクガラス8の一端面部8aの位置を規制する位置決め部材としての2本の基準体52A、52Bが設けられていると共に、マスクガラス8のサイズに対応するため搬入方向に若干の位置をずらして、さらに、2本の基準体52C、52Dが設けられている。
【0038】
そして、ホルダ9がXYステージ5の台座5A上に後述するようにセットされた時、マスクガラス8の一端面部8aが、ホルダ9の基準ピン30C、30Dから外れて、台座5A上の最端位置の基準体52Aと残りの3本中の1本52B(52C又は52D)の2本に接触した状態となってマスクガラス8のY方向の位置決め基準がなされるようになっている。
【0039】
この時、マスクガラス8は、ホルダ9に配設された押付機構32,32で他端面部8bが押圧された状態となっている。
押付機構32は、図4に拡大して示すような構成となっている。
【0040】
すなわち、54はホルダ9の支持用プレート22D上に固定された押圧部材であり、この押圧部材54は自由端部に前記マスクガラス8の他端面部8bに当接する回転自在なボール56を備えたバネ要素を有するアーム部54Aを有する。
【0041】
押圧部材54は、回転ピン58を回転中心とし円弧状長孔60の範囲で回動可能となっており、固定ねじ62を締めることで所定の位置に固定できるようになっている。
【0042】
また、押圧部材54には、前記ボール56を保持するボール保持部54Bの裏面側に先端部が対向するように押付ピン64と、ねじからなる固定ストッパ66が並び設けられている。押付ピン64は、盲蓋68により一端面が支持された圧縮コイルばね70により、先端がボール保持部54Bの裏面を押圧するように常時突出した状態となっている。また、固定ストッパ66は、押圧部材54に形成されたねじ孔72に螺合されており、その先端突出量が自由に調整できるようになっている。
【0043】
しかして、マスクガラス8をロード、すなわち、ホルダ9にセットする時には押圧部材54を回転ピン58を回転中心としてY方向(矢印A方向)に逃がし、ロード後、マスクガラス8の他端面部8bにボール56を押し当ててこの状態で固定ねじ62により押圧部材54を固定する。ボール56を他端面部8bに押し当てる際には予め固定ストッパ66を突出した形とし、固定ねじ62で固定した後、固定ストッパ66を引込める。これにより、マスクガラス8の他端面部8に圧縮コイルばね70で付勢されたボール56のみを当接させることにより常に一定の押付力を確保している。
【0044】
また、XYステージ5の上部を構成する台座5A上の基準体52A〜52Dは、図5に示すように、その上方にそれぞれベアリング74が回転自在に取り付けられており、このベアリング74の周面位置は、基準体52A〜52Dのマスク接触面から10μm程度引っ込んだ状態、すなわち、寸法Gが10μm程度となる殆ど同一面となる状態となっている。
【0045】
また、マスクガラス8の反りや捩れが大きい場合には、Z方向に矯正する必要が生じるため、ホルダ9の少なくとも4隅のベアリングブロック26…にZクランパ34…を設けるが、そのZクランパ34は図6に示すような構成となっている。
【0046】
Zクランパ34は、一端部をU字状に曲成した板バネ部材76からなるもので、U字状一端部をベアリングブロック26に固定して直線状の他端側にバネ要素を持たせたもので、ホルダ9上にマスクガラス8がセットされた状態では、マスクガラス8とZクランパ34との間に隙間G1 を保っている。この隙間G1 は、XYステージ5の台座5A上に搬入されてマスクガラス8のY基準への位置決めがされる時に移動動作に支障がないようにする役目を持たせている。
【0047】
そして、後述するようにホルダガイド機構38A,38Bの下降に伴ってホルダ9が下降することにより、マスクガラス8がXYステージ5の台座5A上に配設されたZ基準ピン44…に載置され、高さ位置が規制されるようになっている。さらに、ホルダ9が下降することで、このホルダ9と一体的なベアリングブロック26…に取付けられたZクランパ34…がマスクガラス8の上面に接触しクランプするようになっている。
【0048】
つぎに、図7ないし図9を加えてXYステージ5の台座5A上へのマスクガラス8の固定動作について説明する。
大気中においてマスクガラス8がセットされたホルダ9が、図1に示すロードロックチャンバ12を経て描画室4に搬入され、XYステージ5の台座5A上にセットされる。
【0049】
図7、図8、図9は、XYステージ5の台座5A上にホルダ9が位置決めされた状態を示す。
マスクガラス8は、ホルダ9の基準ピン30C、30Dに押付機構32,32で押付け位置決めされた状態で台座5A上に搬入され、ガイド機構38A、38Bにより支承された状態となる。
【0050】
これらガイド機構38A、38Bは、ガイド移動機構42により、上下移動可能であり、図8、図9に示す上昇位置がロードロックチャンバ12から搬入されたホルダ9をガイドする位置となっている。
【0051】
ガイド移動機構42は、台座5Aを上下動可能に貫通し、その上端部がガイド機構38A、38Bに連結された支持脚80,80と、これら支持脚80,80を連結する連結アーム82と、この連結アーム82が貫通する長孔84を中途部に有し、一端を支軸86を介して回動可能に支持されたレバー88を有する。
【0052】
そして、レバー88の他端部をソレノイド等の図示しない作動機構を介して下方(矢印C方向)に押下げることにより、ガイド機構38A、38Bを下方に移動させるようになっている。
【0053】
ホルダ9がXYステージ5の台座5A上の定位置まで搬送されると、ガイド機構38A、38Bが下降し始める。これにより、ホルダ9に保持されたマスクガラス8の一端面部8aが台座5A上に配設された基準体52Aと52B、52C又は52Dの上端部のベアリング74,74の周面に接触し、マスクガラス8は、ホルダ9の押付機構32,32の押付け力に抗してホルダ9の基準ピン30C、30Dから離れるように移動する。
【0054】
さらに、下がり切る少し前の状態で台座5A上に配設された基準体52Aと52B、52C又は52Dとに接触した状態となる。
この時点では、マスクガラス8はホルダ9のベアリング28…上に載っている状態でありY方向には移動し易い状況となっている。さらに、ホルダガイド機構38A,38Bが下がるとマスクガラス8は台座5A上のZ基準ピン44…の上端面で支承されベアリング28…から離れた状態となる。
【0055】
また、ホルダ9は、台座5上に載置されY方向についても、ストッパ50,50を構成するそれぞれ2つのベアリング48,48の間にホルダ9の突部9Aが嵌入することで位置決めされる。
【0056】
本発明は、上記したように、ホルダ9が、移動ステージとしてのXYステージ5上で下降することで、この被処理材ホルダとしてのホルダ9に保持されているマスクガラス8が、XYステージ5の上部を構成する台座5A上に配設された複数の位置決め部材としてのZ基準ピン44…に直接載置され、位置決めされる。
【0057】
このように、XYステージ5上に被処理材であるマスクガラス8を載置するためのZ基準ピン44…を設けることにより、基準面の製作精度は向上するし、従来のホルダ毎のバラつきは考慮しなくて良くなる。また、移動ステージ上の基準面は全面でなく接触面1カ所毎は小さく、全体でも非常に小さくするためゴミの載る確率はほとんど無視できる。これにより、XYステージ5上でのマスクガラス8の平面度は、XYステージ5上に配設された複数のZ基準ピン44…により常に一定となり、また、平面度自体も数μmのオーダまで可能となり、描画等の処理精度が向上し、マスクガラス8間でのバラつきも非常に小さくなる。
【0058】
また、ホルダ9が、被処理材押え部材としてのZクランパ34…を備え、ホルダ9が下降したとき被処理材支持手段としてのマスクガラス支持機構46により支持されたマスクガラス8の上面を押さえクランプする構成としたから、マスクガラス8の反りや捩じれを矯正でき、マスクガラス8に対する処理精度のより向上が可能となる。
【0059】
また、ホルダ9の複数の受け部材として、マスクガラス8の大きさに応じて配設位置が変更可能な回転体(ベアリング)28からなる構成としたから、種々の大きさのマスクガラス8に対応できるとともにマスクガラス8の搬入及び搬出及び位置決め等のXY方向の移動動作が容易となる。
【0060】
さらに、ホルダ9が、受け部材であるベアリング28上に載置されたマスクガラス8の一端面部の位置を規制するための位置決め部材としての基準ピン30C,30D、及び、該基準ピン30C,30Dに前記一端面が当接するように前記マスクガラス8の他端面側を押圧する被処理材押圧機構としての押付け機構32,32を有し、ホルダ9が、XYステージ5上で下降することで、このホルダ9に保持されているマスクガラス8が基準ピン30C,30Dから外れて押付け機構32,32の押圧力によりXYステージ5の上部を構成する台座5A上に設けられた位置決め部材としての2本の基準体52A、52Bでマスクガラス8の一端面部8aの位置が規制される。このように、マスクガラス8は、XYステージ5上の基準面、すなわち、Z基準ピン44…の上端面に載置されると同時にXYステージ5上に設けられた基準体52A、52BでY方向の位置決めがなされ、ホルダ9…毎のバラつきは考慮しなくてすみ、少なくともY方向の位置決めが安定して行えるものである。
【0061】
なお、上記一実施例において電子ビーム描画装置のXYステージにマスクガラスを固定する場合について説明したが、これに限るものでなく、例えばマスク検査装置等の半導体製造関連装置に適用しても良く、要は、薄板平面形状物の被処理材を移動ステージ上に固定するものであればどの様なものに適用してもよいことは勿論である。
その他、本発明は上記一実施例に限らず、本発明の要旨を変えない範囲で種々変形実施可能なことは勿論である。
【0062】
【発明の効果】
以上、説明したように、本発明によればつぎのような効果を奏する。
請求項1記載の被処理材の固定装置によれば、被処理材ホルダが、移動ステージ上で下降することで、この被処理材ホルダに保持されている被処理材が、移動ステージ上に配設された複数の位置決め部材に直接載置され、位置決めされる。このように、移動ステージ上に被処理材を載置するための位置決め部材を設けることにより、基準面の製作精度は向上するし、従来のホルダ毎のバラつきは考慮しなくて良くなる。また、移動ステージ上の基準面は全面でなく接触面1カ所毎は小さく、全体でも非常に小さくするためゴミの載る確率はほとんど無視できる。これにより、移動ステージ上での被処理材の平面度は、移動ステージ上に配設された複数の位置決め部材により常に一定となり、また、平面度自体も数μmのオーダまで可能となり、描画等の処理精度が向上し、被処理材間でのバラつきも非常に小さくなる。
【0063】
また、請求項2記載の被処理材の固定装置によれば、請求項1記載の効果に加えて、被処理材ホルダが、被処理材押え部材を備え、被処理材ホルダが下降したとき被処理材支持手段により支持された被処理材の上面を押さえクランプする構成としたから、被処理材の反りや捩じれを矯正でき、被処理材に対する処理精度のより向上が可能となる。
【0064】
また、請求項3記載の被処理材の固定装置によれば、請求項1記載の効果に加えて、被処理材ホルダの複数の受け部材が、被処理材の大きさに応じて配設位置が変更可能な回転体からなる構成としたから、種々の大きさの被処理材に対応できるとともに被処理材の搬入及び搬出及び位置決め等のXY方向の移動動作が容易となる。
【0065】
また、請求項4記載の被処理材の固定装置によれば、被処理材ホルダが、移動ステージ上で下降することで、この被処理材ホルダに保持されている被処理材が、移動ステージ上に配設された複数の位置決め部材に直接載置され、位置決めされる。このように、移動ステージ上に被処理材を載置するための位置決め部材を設けることにより、基準面の製作精度は向上するし、従来のホルダ毎のバラつきは考慮しなくて良くなる。また、移動ステージ上の基準面は全面でなく接触面1カ所毎は小さく、全体でも非常に小さくするためゴミの載る確率はほとんど無視できる。これにより、移動ステージ上での被処理材の平面度は、移動ステージ上に配設された複数の位置決め部材により常に一定となり、 また、平面度自体も数μmのオーダまで可能となり、描画等の処理精度が向上し、被処理材間でのバラつきも非常に小さくなる。
【0066】
さらに、被処理材ホルダが、受け部材上に載置された被処理材の一端面部の位置を規制するための位置決め部材、及び、該位置決め部材に前記一端面が当接するように前記被処理材の他端面側を押圧する被処理材押圧機構を有し、被処理材ホルダが、移動ステージ上で下降することで、この被処理材ホルダに保持されている被処理材が位置決め部材から外れて被処理材押圧機構の押圧力により移動ステージ上に設けられた位置決め部材で被処理材の一端面部の位置が規制される。このように、被処理材は、移動ステージ上の基準面に載置されると同時に移動ステージ上に設けられた位置決め部材でY方向の位置決めがなされ、ホルダ毎のバラつきは考慮しなくてすみ、少なくともY方向の位置決めが安定して行えるといった効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を適用した電子ビーム描画装置の全体を示す概略図。
【図2】本発明の一実施例に使用されるホルダの平面図。
【図3】図2に示すホルダがセットされる移動ステージ上の台座の平面図。
【図4】同実施例に付設される押付機構の拡大詳細図。
【図5】図2に示す台座上に設けられた基準体の部分拡大図。
【図6】同実施例に付設されるZクランプの部分拡大断面図。
【図7】台座上にホルダが位置決めされた状態を示す平面図。
【図8】図7のB−B線に沿う断面図。
【図9】図7の右側面図。
【図10】従来装置の平面図。
【図11】従来装置の側面図。
【符号の説明】
5…XYステージ(移動ステージ)、5A…台座、8(8A,8B)…マスクガラス(被処理材)、9…ホルダ(被処理材ホルダ)、18…マスクガラス固定装置(被処理材固定装置)、20…ホルダ本体、22A,22B,22C,22D,22E…支持用プレート、26…ベアリングブロック、28…ベアリング(受け部材)、30A,30B,30C,30D…基準ピン(位置決め部材)、32…押付け機構(被処理材押圧機構)、34…Zクランパ(被処理材押え部材)、38A,38B…ホルダガイド機構、40…ガイドローラ、42…ガイド移動機構、44…Z基準ピン(位置決め部材)、46…マスクガラス支持機構(マスクガラス支持手段)、48…ベアリング、50…位置決めストッパ、52A,52B,52C,52D…基準体(位置決め部材)。
Claims (4)
- 薄板平面形状物の被処理材を移動ステージ上に固定する被処理材の固定装置であって、
前記被処理材の下面を支承する複数の受け部材を有し、前記被処理材を水平状態かつ下面が部分的に露出する状態に保持する被処理材ホルダと、
前記移動ステージ上に設けられ前記被処理材ホルダを水平状態に支持すると共に上下動可能なホルダガイド手段と、
このホルダガイド手段を下降させることにより前記被処理材を保持した被処理材ホルダを下降させるガイド移動手段と、
前記移動ステージ上に設けられ、前記ガイド移動手段によるホルダガイド手段の下降動作に伴って下降する被処理材ホルダに保持された前記被処理材の下面を複数の位置決め部材で受け、前記被処理材を水平に支持する被処理材支持手段と、
を具備してなることを特徴とする被処理材の固定装置。 - 被処理材ホルダが、被処理材押え部材を備え、被処理材ホルダが下降したとき被処理材支持手段により支持された被処理材の上面を押さえクランプする構成としたことを特徴とする請求項1記載の被処理材の固定装置。
- 被処理材ホルダの複数の受け部材が、被処理材の大きさに応じて配設位置が変更可能な回転体からなることを特徴とする請求項1記載の被処理材の固定装置。
- 薄板平面形状物の被処理材をXY方向に移動可能な移動ステージ上に固定する被処理材の固定装置であって、
前記被処理材の下面を支承する複数の受け部材、及び、該受け部材上に載置された前記被処理材の一端面部の位置を規制するための位置決め部材、及び、該位置決め部材に前記一端面が当接するように前記被処理材の他端面側を押圧する被処理材押圧機構を有し、前記被処理材を水平状態かつ下面が部分的に露出する状態に保持する被処理材ホルダと、
前記移動ステージ上に設けられ前記被処理材ホルダを水平状態に支持すると共に上下動可能なホルダガイド機構と、
このホルダガイド機構を下降させることにより前記被処理材を保持した被処理材ホルダを下降させるガイド移動機構と、
前記移動ステージ上に設けられ前記ガイド移動機構によるホルダガイド機構の下降動作に伴って下降する被処理材ホルダに保持された前記被処理材の下面を複数の位置決め部材で受け、前記被処理材を水平に支持する被処理材支持機構と、
前記移動ステージ上に設けられ、前記被処理材支持機構により支持されて前記被処理材押圧機構により他端面側が押圧された前記被処理材の一端面部の位置を規制する位置決め部材と、
を具備してなることを特徴とする被処理材の固定装置。
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