JPH07192984A - 薄板固定装置 - Google Patents
薄板固定装置Info
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- JPH07192984A JPH07192984A JP33299693A JP33299693A JPH07192984A JP H07192984 A JPH07192984 A JP H07192984A JP 33299693 A JP33299693 A JP 33299693A JP 33299693 A JP33299693 A JP 33299693A JP H07192984 A JPH07192984 A JP H07192984A
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- photomask
- thin plate
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- fixing device
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Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明はフォトマスクの平面精度を低下させる
ことなく固定でき、かつ、フォトマスクの平面方向と直
交する方向に高精度な定位性を持たせ、装置の処理性能
力を向上させる固定装置を提供することを目的とする。 【構成】本発明はフレ−ム１１と、このフレ−ム１１に
設けられフォトマスク１２を支持する高さ基準片１４
と、前記フレ−ム１１に一端部が取り付けられ前記フォ
トマスク１２の平面方向には高剛性で、平面方向と直交
する方向には低剛性な板ばね１７と、この板ばね１７の
他端部に取り付けられ、前記フォトマスク１２を固定す
る吸着ポケット１６とを具備してなる。
ことなく固定でき、かつ、フォトマスクの平面方向と直
交する方向に高精度な定位性を持たせ、装置の処理性能
力を向上させる固定装置を提供することを目的とする。 【構成】本発明はフレ−ム１１と、このフレ−ム１１に
設けられフォトマスク１２を支持する高さ基準片１４
と、前記フレ−ム１１に一端部が取り付けられ前記フォ
トマスク１２の平面方向には高剛性で、平面方向と直交
する方向には低剛性な板ばね１７と、この板ばね１７の
他端部に取り付けられ、前記フォトマスク１２を固定す
る吸着ポケット１６とを具備してなる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、たとえば、半導体装置
の製造装置において、フォトマスクの様な平面度の精度
が高い薄板形状物を固定する固定装置に関する。
の製造装置において、フォトマスクの様な平面度の精度
が高い薄板形状物を固定する固定装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】この種の固定装置としては、図３，図４
に示すようなものが知られている。
に示すようなものが知られている。
【０００３】すなわち、図中１はフレームで、このフレ
ーム１の下面部には複数個（４個）の固定吸着部２…が
取り付けられている。前記固定吸着部２…の上面部は高
精度な平面度、たとえば、１μｍ以下に加工されてい
る。上記固定吸着部２…は図示しない真空配管を介して
真空源に接続され、フォトマスク３を吸引吸着するよう
になっている。
ーム１の下面部には複数個（４個）の固定吸着部２…が
取り付けられている。前記固定吸着部２…の上面部は高
精度な平面度、たとえば、１μｍ以下に加工されてい
る。上記固定吸着部２…は図示しない真空配管を介して
真空源に接続され、フォトマスク３を吸引吸着するよう
になっている。
【０００４】上記フォトマスク３は、平面度が１μｍ以
下程度に加工されている。
下程度に加工されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来に
おいては、上記固定吸着部２…とフォトマスク３とが同
じ平面度（１μｍ）を有するため、固定吸着部２…上に
フォトマスク３を固定すると、フォトマスク３の平面度
はそれ自身の有する平面度より悪くなってしまうことが
多い。
おいては、上記固定吸着部２…とフォトマスク３とが同
じ平面度（１μｍ）を有するため、固定吸着部２…上に
フォトマスク３を固定すると、フォトマスク３の平面度
はそれ自身の有する平面度より悪くなってしまうことが
多い。
【０００６】また、上記固定吸着部２…が平面度１μｍ
であっても傾きがあると、フォトマスク３を固定した
際、フォトマスク３に曲げモーメントが発生し、更にフ
ォトマスク３の平面度が悪化する。
であっても傾きがあると、フォトマスク３を固定した
際、フォトマスク３に曲げモーメントが発生し、更にフ
ォトマスク３の平面度が悪化する。
【０００７】さらに、最近の傾向としてフォトマスク３
の厚さが厚くなる傾向にあり、フォトマスク３自身の平
面度をそのまま保持した方が良い。
の厚さが厚くなる傾向にあり、フォトマスク３自身の平
面度をそのまま保持した方が良い。
【０００８】また、マスク欠陥検査装置の場合、フレー
ム１を図示しないＸＹθステージに固定し、フォトマス
ク３の欠陥検査をするが、ステージの固定力でフレーム
１が歪まされると、フォトマスク３の平面度も低下され
る。
ム１を図示しないＸＹθステージに固定し、フォトマス
ク３の欠陥検査をするが、ステージの固定力でフレーム
１が歪まされると、フォトマスク３の平面度も低下され
る。
【０００９】そこで、本発明は薄板形状物の平面精度を
低下させることなく固定でき、かつ、薄板形状物の平面
方向と直交する方向には高精度な定位性を持たせ、装置
の処理性能力を向上させる薄板形状物の固定装置を提供
することを目的とする。
低下させることなく固定でき、かつ、薄板形状物の平面
方向と直交する方向には高精度な定位性を持たせ、装置
の処理性能力を向上させる薄板形状物の固定装置を提供
することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するため、フレ−ムと、このフレ−ムに一端部が取り付
けられ前記薄板形状物の平面方向に高剛性で、平面方向
と直交する方向に低剛性な取付部材と、この取付部材の
他端部に取り付けられ、前記薄板形状物を固定する固定
部材とを具備してなる。
するため、フレ−ムと、このフレ−ムに一端部が取り付
けられ前記薄板形状物の平面方向に高剛性で、平面方向
と直交する方向に低剛性な取付部材と、この取付部材の
他端部に取り付けられ、前記薄板形状物を固定する固定
部材とを具備してなる。
【００１１】また、フレ−ムは薄板形状物の平面方向と
直交する方向を位置決めするための少なくとも３点の基
準部材を備えることが好ましい。
直交する方向を位置決めするための少なくとも３点の基
準部材を備えることが好ましい。
【００１２】
【作用】薄板形状物の固定時に、固定部材の取付部材は
薄板形状物の平面方向には位置を固定するが、薄板形状
物の平面方向と直交する方向には、低剛性であるため、
容易に変形し、薄板形状物に対しその平面方向と直交す
る方向に外力を付与することがない。これにより、薄板
形状物の固定時における平面度を高精度に維持する。
薄板形状物の平面方向には位置を固定するが、薄板形状
物の平面方向と直交する方向には、低剛性であるため、
容易に変形し、薄板形状物に対しその平面方向と直交す
る方向に外力を付与することがない。これにより、薄板
形状物の固定時における平面度を高精度に維持する。
【００１３】
【実施例】以下、本発明を図１および図２に示す一実施
例を参照して説明する。
例を参照して説明する。
【００１４】図１，図２はマスク欠陥検査装置のマスク
ホルダを示すもので、図中１１はフレームである。前記
フレ−ム１１の下面部には複数個（４個）の可動吸着部
１３…および複数個（３個）の支持手段としての高さ基
準片１４が取り付けられている。
ホルダを示すもので、図中１１はフレームである。前記
フレ−ム１１の下面部には複数個（４個）の可動吸着部
１３…および複数個（３個）の支持手段としての高さ基
準片１４が取り付けられている。
【００１５】前記可動吸着部１３…および高さ基準片１
４…上に薄板形状物としてのフォトマスク１２が載置さ
れ、その高さ方向および、平面方向の位置決めがなされ
るようになっている。
４…上に薄板形状物としてのフォトマスク１２が載置さ
れ、その高さ方向および、平面方向の位置決めがなされ
るようになっている。
【００１６】上記可動吸着部１３は取付部材としての板
ばね１７を有し、この板ばね１７の一端部は固定ねじ２
１…によって上記フレ−ム１１の下面部に固定され、他
端部には固定部材としての吸着ポケット１６が固定ねじ
２２…により固定されている。
ばね１７を有し、この板ばね１７の一端部は固定ねじ２
１…によって上記フレ−ム１１の下面部に固定され、他
端部には固定部材としての吸着ポケット１６が固定ねじ
２２…により固定されている。
【００１７】上記高さ基準片１４…はその一端部が上記
フレ−ム１１の下面部に固定され、他端部に上記フォト
マスク１２を支持する基準部としての基準ピン１９を備
えている。
フレ−ム１１の下面部に固定され、他端部に上記フォト
マスク１２を支持する基準部としての基準ピン１９を備
えている。
【００１８】上記した可動吸着部１３…および高さ基準
片１４…上に支持固定されるフォトマスク１２はその平
面方向には位置が固定されるが、平面方向と直交する方
向すなわち、高さ方向には低剛性な板ばね１７で支持さ
れているため、平面度を悪化させる様な外力が与えられ
ることがない。
片１４…上に支持固定されるフォトマスク１２はその平
面方向には位置が固定されるが、平面方向と直交する方
向すなわち、高さ方向には低剛性な板ばね１７で支持さ
れているため、平面度を悪化させる様な外力が与えられ
ることがない。
【００１９】従って、基準ピン１９の３点で支持され
て、かつ水平面方向には高剛性に固定されることにな
り、フォトマスク１２自身の平面度を悪化させることな
く、固定できる。
て、かつ水平面方向には高剛性に固定されることにな
り、フォトマスク１２自身の平面度を悪化させることな
く、固定できる。
【００２０】また、上記吸着ポケット１６には図示しな
い真空源が接続されており、真空源の動作により上記フ
ォトマスク１２は真空チャックされるようになってい
る。
い真空源が接続されており、真空源の動作により上記フ
ォトマスク１２は真空チャックされるようになってい
る。
【００２１】なお、上記一実施例では、フォトマスク１
２を真空チャックによりクランプしたが、これに限られ
ることなく、フォトマスク１２を機械的にクランプして
も良い。
２を真空チャックによりクランプしたが、これに限られ
ることなく、フォトマスク１２を機械的にクランプして
も良い。
【００２２】また、マスク欠陥検査装置においては、図
示しないＸＹθステージにフレーム１１を固定するが、
その際、ステージでの固定力でフレーム１１の平面度が
悪化させられても、フォトマスク１２は高さ方向に低剛
性な可動吸着部１３で固定されているためフォトマスク
２の平面度は悪化しない。
示しないＸＹθステージにフレーム１１を固定するが、
その際、ステージでの固定力でフレーム１１の平面度が
悪化させられても、フォトマスク１２は高さ方向に低剛
性な可動吸着部１３で固定されているためフォトマスク
２の平面度は悪化しない。
【００２３】さらに、前述した実施例では、３つの基準
ピン１９を設けてフォトマスク１２の高さ方向の位置を
定めるようにした例を示したが、フォトマスク１２の剛
性との兼ね合いで（フォトマスク１２を実質的に変形さ
せることなく）、低剛性な板ばね１７…が比較的わずか
なたわみでフォトマスク１２の重量を支えるような剛性
であるように設定すれば、基準ピン１９のような基準は
省略することができる。ただし、この場合、傾きを生じ
ることはあるが、平面度は確保されている。
ピン１９を設けてフォトマスク１２の高さ方向の位置を
定めるようにした例を示したが、フォトマスク１２の剛
性との兼ね合いで（フォトマスク１２を実質的に変形さ
せることなく）、低剛性な板ばね１７…が比較的わずか
なたわみでフォトマスク１２の重量を支えるような剛性
であるように設定すれば、基準ピン１９のような基準は
省略することができる。ただし、この場合、傾きを生じ
ることはあるが、平面度は確保されている。
【００２４】また、上記実施例では、装置例としてマス
ク欠陥検査装置、固定機構として真空チャックを用いた
が、これに限られることはなく、機械式固定方法とすれ
ば、電子ビーム描画装置にも適用できる。
ク欠陥検査装置、固定機構として真空チャックを用いた
が、これに限られることはなく、機械式固定方法とすれ
ば、電子ビーム描画装置にも適用できる。
【００２５】
【発明の効果】本発明は以上説明したように、高精度に
平面加工された薄板形状物をその平面度を低下させるこ
となく、その平面と同一方向に拘束して高精度で安定し
て保持でき、処理能率を向上することができる。
平面加工された薄板形状物をその平面度を低下させるこ
となく、その平面と同一方向に拘束して高精度で安定し
て保持でき、処理能率を向上することができる。
【００２６】また、薄板形状物の平面度を維持できるた
め、脱着を繰り返しても再現性を良好に維持できるとい
う効果を奏する。
め、脱着を繰り返しても再現性を良好に維持できるとい
う効果を奏する。
【図１】本発明の一実施例である薄板形状物の固定装置
を示す平面図。
を示す平面図。
【図２】図１の薄板形状物の固定装置を示す断面図。
【図３】従来の薄板形状物の固定装置を示す平面図。
【図４】図３の薄板形状物の固定装置を示す断面図。
１１…フレーム、１２…フォトマスク（薄板形状物）、
１３…可動吸着部、１４…高さ基準片（支持手段）、１
６…吸着ポケット（固定部材）、１７…板ばね（取付部
材）、１９…基準ピン（基準部材）。
１３…可動吸着部、１４…高さ基準片（支持手段）、１
６…吸着ポケット（固定部材）、１７…板ばね（取付部
材）、１９…基準ピン（基準部材）。
Claims (2)
- 【請求項１】 フレ−ムと、 このフレ−ムに一端部が取り付けられ前記薄板形状物の
平面方向に高剛性で、平面方向と直交する方向に低剛性
な取付部材と、 この取付部材の他端部に取り付けられ、前記薄板形状物
を固定する固定部材と、 を具備してなることを特徴と
する薄板固定装置。 - 【請求項２】前記フレ−ムは薄板形状物の平面方向と直
交する方向を位置決めするための少なくとも３点の基準
部材を備えてなることを特徴とする請求項１記載の薄板
固定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33299693A JP3349572B2 (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 薄板固定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33299693A JP3349572B2 (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 薄板固定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07192984A true JPH07192984A (ja) | 1995-07-28 |
| JP3349572B2 JP3349572B2 (ja) | 2002-11-25 |
Family
ID=18261133
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33299693A Expired - Fee Related JP3349572B2 (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 薄板固定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3349572B2 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1152583A (ja) * | 1997-08-08 | 1999-02-26 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | プロキシミティ露光装置 |
| JP2001196303A (ja) * | 1999-12-03 | 2001-07-19 | Asm Lithography Bv | リトグラフ投影装置 |
| JP2002148781A (ja) * | 2000-11-13 | 2002-05-22 | Dainippon Printing Co Ltd | 描画状態表示装置とフォトマスク描画装置 |
| WO2002054462A1 (fr) * | 2000-12-28 | 2002-07-11 | Nikon Corporation | Dispositif a etages, dispositif d'exposition, procede de reglage d'un systeme de detection de position multipoint |
| JP2002198307A (ja) * | 2000-10-17 | 2002-07-12 | Nikon Corp | リソグラフィシステムの保持用チャック |
| JP2006352115A (ja) * | 2005-06-08 | 2006-12-28 | Asml Netherlands Bv | ステージ装置、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
| JP2007178819A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Ushio Inc | 支持機構及び支持機構を使ったマスクステージ |
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| WO2017038788A1 (ja) * | 2015-09-01 | 2017-03-09 | 株式会社ニコン | 物体保持装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、物体の保持方法、及び露光方法 |
-
1993
- 1993-12-27 JP JP33299693A patent/JP3349572B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| US9851643B2 (en) | 2012-03-27 | 2017-12-26 | Kla-Tencor Corporation | Apparatus and methods for reticle handling in an EUV reticle inspection tool |
| WO2017038788A1 (ja) * | 2015-09-01 | 2017-03-09 | 株式会社ニコン | 物体保持装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、物体の保持方法、及び露光方法 |
| CN108351597A (zh) * | 2015-09-01 | 2018-07-31 | 株式会社尼康 | 物体保持装置、曝光装置、平板显示器的制造方法、器件制造方法、物体的保持方法以及曝光方法 |
| TWI713576B (zh) * | 2015-09-01 | 2020-12-21 | 日商尼康股份有限公司 | 光罩保持裝置、曝光裝置、平板顯示器之製造方法、元件製造方法、光罩保持方法、及曝光方法 |
| CN112859396A (zh) * | 2015-09-01 | 2021-05-28 | 株式会社尼康 | 物体保持装置 |
| TWI779402B (zh) * | 2015-09-01 | 2022-10-01 | 日商尼康股份有限公司 | 光罩保持裝置、曝光裝置、光罩保持方法及曝光方法 |
| CN112859396B (zh) * | 2015-09-01 | 2024-01-05 | 株式会社尼康 | 光罩保持装置、曝光装置、光罩保持方法、曝光方法 |
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|---|---|
| JP3349572B2 (ja) | 2002-11-25 |
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