JP2002148781A - 描画状態表示装置とフォトマスク描画装置 - Google Patents
描画状態表示装置とフォトマスク描画装置Info
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- JP2002148781A JP2002148781A JP2000344932A JP2000344932A JP2002148781A JP 2002148781 A JP2002148781 A JP 2002148781A JP 2000344932 A JP2000344932 A JP 2000344932A JP 2000344932 A JP2000344932 A JP 2000344932A JP 2002148781 A JP2002148781 A JP 2002148781A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 描画の際、描画時に付与される描画時刻やマ
スクを固定する為のマスクホルダなどの影響を含めた描
画における品質保証ができる描画状態表示装置、および
該描画状態表示装置を備えたフォトマスク描画装置を提
供する。 【解決手段】 フォトマスクパタン描画装置における、
描画の際の、マスクホルダと、描画する文字およびまた
は描画パタンの描画領域との重なりの有無を確認するた
めの、表示装置であって、描画時に使用するマスク用基
板を固定するマスクホルダの形状情報と、描画時に付与
される文字情報とを、描画機に対応してデータベース化
しておく、描画機基本情報データベースと、描画パタン
のパターンデ一タ情報およびパターン配置情報を読み込
み、描画パタンの描画領域データを得る描画領域データ
作成手段と、描画領域データ作成手段により得られた描
画領域データから描画領域を表示し、且つ、併せて、描
画機基本情報データベース化手段により得られた情報か
ら、マスクホルダ、描画文字を、表示する表示手段とを
備えている。
スクを固定する為のマスクホルダなどの影響を含めた描
画における品質保証ができる描画状態表示装置、および
該描画状態表示装置を備えたフォトマスク描画装置を提
供する。 【解決手段】 フォトマスクパタン描画装置における、
描画の際の、マスクホルダと、描画する文字およびまた
は描画パタンの描画領域との重なりの有無を確認するた
めの、表示装置であって、描画時に使用するマスク用基
板を固定するマスクホルダの形状情報と、描画時に付与
される文字情報とを、描画機に対応してデータベース化
しておく、描画機基本情報データベースと、描画パタン
のパターンデ一タ情報およびパターン配置情報を読み込
み、描画パタンの描画領域データを得る描画領域データ
作成手段と、描画領域データ作成手段により得られた描
画領域データから描画領域を表示し、且つ、併せて、描
画機基本情報データベース化手段により得られた情報か
ら、マスクホルダ、描画文字を、表示する表示手段とを
備えている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、フォトマスクパタ
ン描画装置における、描画の際の、マスクホルダと、描
画する文字およびまたは描画パタンの描画領域との重な
りの有無を確認するための表示装置と、それを備えたフ
ォトマスク描画装置に関する。
ン描画装置における、描画の際の、マスクホルダと、描
画する文字およびまたは描画パタンの描画領域との重な
りの有無を確認するための表示装置と、それを備えたフ
ォトマスク描画装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、電子機器の高機能化と軽薄短小の
傾向から、ＡＳＩＣに代表される種々のＬＳｌには、ま
すます高集積化、高機能化が求められるようになってき
た。上記ＡＳＩＣ等のＬＳＩは、機能、論理設計、回路
設計、レイアウト設計等を経て、フォトマスクパタン作
製用の図形データ（パタンデータとも言う）を作製し、
これを用いてフォトマスクを作製した後、フォトマスク
のパタンをウエハ上に縮小投影露光等により転写して、
半導体素子作製のプロセスを行うという数々の工程を経
て作製されるものである。
傾向から、ＡＳＩＣに代表される種々のＬＳｌには、ま
すます高集積化、高機能化が求められるようになってき
た。上記ＡＳＩＣ等のＬＳＩは、機能、論理設計、回路
設計、レイアウト設計等を経て、フォトマスクパタン作
製用の図形データ（パタンデータとも言う）を作製し、
これを用いてフォトマスクを作製した後、フォトマスク
のパタンをウエハ上に縮小投影露光等により転写して、
半導体素子作製のプロセスを行うという数々の工程を経
て作製されるものである。
【０００３】フォトマスクは、一般には、上記図形デー
タ（パタンデータ）を用い、電子ビーム描画露光装置
（電子線照射描画装置とも言う）あるいはエキシマ波長
等のフォト描画露光装置を用いて、フォトマスク用基板
（フォトマスクブランクスとも言う）の遮光膜上に配設
された感光性レジストに露光描画を行い、現像、エッチ
ング工程等を経て、作製される。即ち、ガラス基板の一
面に遮光性の金属薄膜を設けたフォトマスク用基板の金
属薄膜上に塗布、乾燥された感光性のレジスト上に、露
光装置により電離放射線を所定の領域のみに照射して潜
像を形成し、感光性のレジストを現像して、電離放射線
の照射領域に対応した、所望の形状のレジストパターン
得た後、更に、レジストパターンを耐エッチングレジス
トとして、金属薄膜をレジストパターン形状に加工し
て、所望の金属薄膜パターンを有するフォトマスクを得
る。尚、フォトマスクのパタンをウエハ上に縮小投影露
光して、その絵柄を転写する場合は、フォトマスクをレ
チクルマスクとも言う。また、描画露光装置のことを描
画装置あるいは露光装置とも言う。
タ（パタンデータ）を用い、電子ビーム描画露光装置
（電子線照射描画装置とも言う）あるいはエキシマ波長
等のフォト描画露光装置を用いて、フォトマスク用基板
（フォトマスクブランクスとも言う）の遮光膜上に配設
された感光性レジストに露光描画を行い、現像、エッチ
ング工程等を経て、作製される。即ち、ガラス基板の一
面に遮光性の金属薄膜を設けたフォトマスク用基板の金
属薄膜上に塗布、乾燥された感光性のレジスト上に、露
光装置により電離放射線を所定の領域のみに照射して潜
像を形成し、感光性のレジストを現像して、電離放射線
の照射領域に対応した、所望の形状のレジストパターン
得た後、更に、レジストパターンを耐エッチングレジス
トとして、金属薄膜をレジストパターン形状に加工し
て、所望の金属薄膜パターンを有するフォトマスクを得
る。尚、フォトマスクのパタンをウエハ上に縮小投影露
光して、その絵柄を転写する場合は、フォトマスクをレ
チクルマスクとも言う。また、描画露光装置のことを描
画装置あるいは露光装置とも言う。
【０００４】上記のように、フォトマスクパタン作製用
の図形データ（パタンデータとも言う）は、ＣＡＤによ
る機能、論理設計、回路設計、レイアウト設計等を経
て、作製されるため、図形データに対応する部分の良否
は、ＣＡＤにより図形データを用い検査することがで
き、その品質を保証できる。しかし、図形データのみの
検査では、描画時に付与される描画時刻やマスクを固定
する為のマスクホルダなどの影響を含めた検査ができな
いため、これらの影響を含めた描画における品質保証が
できず、問題となっていた。例えば、図形データにより
描画されたパターン（絵柄とも言う）がマスクホルダ位
置と重なり、正常なフォトマスクが作成されていないこ
とがあり、これが、後工程のフォトマスク検査で検出さ
れていた。描画露光装置により、使用する、マスクフォ
ルダのサイズや文字（フォント）のサイズが異なり、描
画露光装置の機種を代えた際に、同じ配置、配列でも、
重なりが発生することがあった。
の図形データ（パタンデータとも言う）は、ＣＡＤによ
る機能、論理設計、回路設計、レイアウト設計等を経
て、作製されるため、図形データに対応する部分の良否
は、ＣＡＤにより図形データを用い検査することがで
き、その品質を保証できる。しかし、図形データのみの
検査では、描画時に付与される描画時刻やマスクを固定
する為のマスクホルダなどの影響を含めた検査ができな
いため、これらの影響を含めた描画における品質保証が
できず、問題となっていた。例えば、図形データにより
描画されたパターン（絵柄とも言う）がマスクホルダ位
置と重なり、正常なフォトマスクが作成されていないこ
とがあり、これが、後工程のフォトマスク検査で検出さ
れていた。描画露光装置により、使用する、マスクフォ
ルダのサイズや文字（フォント）のサイズが異なり、描
画露光装置の機種を代えた際に、同じ配置、配列でも、
重なりが発生することがあった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記のように、フォト
マスクパタン描画装置においては、描画の際、描画時に
付与される描画時刻やマスクを固定する為のマスクホル
ダなどの影響を含めた描画における品質保証ができず、
問題となっていた。本発明は、これに対応するもので、
描画の際、描画時に付与される描画時刻やマスクを固定
する為のマスクホルダなどの影響を含めた描画における
品質保証ができる描画状態表示装置、および該描画状態
表示装置を備えたフォトマスク描画装置を提供しようと
するものである。
マスクパタン描画装置においては、描画の際、描画時に
付与される描画時刻やマスクを固定する為のマスクホル
ダなどの影響を含めた描画における品質保証ができず、
問題となっていた。本発明は、これに対応するもので、
描画の際、描画時に付与される描画時刻やマスクを固定
する為のマスクホルダなどの影響を含めた描画における
品質保証ができる描画状態表示装置、および該描画状態
表示装置を備えたフォトマスク描画装置を提供しようと
するものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の描画状態表示装
置は、フォトマスクパタン描画装置における、描画の際
の、マスクホルダと、描画する文字およびまたは描画パ
タンの描画領域との重なりの有無を確認するための、表
示装置であって、描画時に使用するマスク用基板を固定
するマスクホルダの形状情報と、描画時に付与される文
字情報とを、描画機に対応してデータベース化してお
く、描画機基本情報データベースと、描画パタンのパタ
ーンデ一タ情報およびパターン配置情報を読み込み、描
画パタンの描画領域データを得る描画領域データ作成手
段と、描画領域データ作成手段により得られた描画領域
データから描画領域を表示し、且つ、併せて、描画機基
本情報データベース化手段により得られた情報から、マ
スクホルダ、描画文字を、表示する表示手段とを備えて
いることを特徴とするものである。即ち、本発明の描画
状態表示装置は、描画機固有の、マスクを固定する為の
マスクホルダ情報と、通常、描画データとして用意する
ことのない描画機内部で発生させる文字情報とを、デー
タベースとしてあらかじめ用意しておき、描画データを
配置、配列して、その描画領域を表示する際、データベ
ースの情報を検索し、マスクホルダ、描画文字を表示さ
せるものである。
置は、フォトマスクパタン描画装置における、描画の際
の、マスクホルダと、描画する文字およびまたは描画パ
タンの描画領域との重なりの有無を確認するための、表
示装置であって、描画時に使用するマスク用基板を固定
するマスクホルダの形状情報と、描画時に付与される文
字情報とを、描画機に対応してデータベース化してお
く、描画機基本情報データベースと、描画パタンのパタ
ーンデ一タ情報およびパターン配置情報を読み込み、描
画パタンの描画領域データを得る描画領域データ作成手
段と、描画領域データ作成手段により得られた描画領域
データから描画領域を表示し、且つ、併せて、描画機基
本情報データベース化手段により得られた情報から、マ
スクホルダ、描画文字を、表示する表示手段とを備えて
いることを特徴とするものである。即ち、本発明の描画
状態表示装置は、描画機固有の、マスクを固定する為の
マスクホルダ情報と、通常、描画データとして用意する
ことのない描画機内部で発生させる文字情報とを、デー
タベースとしてあらかじめ用意しておき、描画データを
配置、配列して、その描画領域を表示する際、データベ
ースの情報を検索し、マスクホルダ、描画文字を表示さ
せるものである。
【０００７】本発明のフォトマスク描画装置は、上記本
発明の描画状態表示装置を備えていることを特徴とする
ものである。そして、上記において、フォトマスク描画
装置が、電子線照射描画装置であることを特徴とするも
のである。
発明の描画状態表示装置を備えていることを特徴とする
ものである。そして、上記において、フォトマスク描画
装置が、電子線照射描画装置であることを特徴とするも
のである。
【０００８】
【作用】本発明の描画状態表示装置は、上記のような構
成にすることによって、描画の際、描画時に付与される
描画時刻やマスクを固定する為のマスクホルダなどの影
響を含めた描画における品質保証ができる描画状態表示
装置の提供を可能としている。詳しくは、マスクホルダ
と、描画する文字およびまたは描画パタンの描画領域と
の重なりの有無を、表示する表示装置の提供を可能とし
ている。具体的には、フォトマスクパタン描画装置にお
ける、描画の際の、マスクホルダと、描画する文字およ
びまたは描画パタンの描画領域との重なりの有無を確認
するための、表示装置であって、描画時に使用するマス
ク用基板を固定するマスクホルダの形状情報と、描画時
に付与される文字情報とを、描画機に対応してデータベ
ース化しておく、描画機基本情報データベースと、描画
パタンのパターンデ一タ情報およびパターン配置情報を
読み込み、描画パタンの描画領域データを得る描画領域
データ作成手段と、描画領域データ作成手段により得ら
れた描画領域データから描画領域を表示し、且つ、併せ
て、描画機基本情報データベース化手段により得られた
情報から、マスクホルダ、描画文字を、表示する表示手
段とを備えていることにより、これを達成している。
尚、フォトマスクパタン描画装置としては、電子線照射
描画装置（電子ビーム描画露光装置）あるいはエキシマ
波長等のフォト描画露光装置が挙げられる。これによ
り、所定の描画機で描画しても不具合（重なり発生）が
発生しないかを事前に調べることができるものとしてい
る。
成にすることによって、描画の際、描画時に付与される
描画時刻やマスクを固定する為のマスクホルダなどの影
響を含めた描画における品質保証ができる描画状態表示
装置の提供を可能としている。詳しくは、マスクホルダ
と、描画する文字およびまたは描画パタンの描画領域と
の重なりの有無を、表示する表示装置の提供を可能とし
ている。具体的には、フォトマスクパタン描画装置にお
ける、描画の際の、マスクホルダと、描画する文字およ
びまたは描画パタンの描画領域との重なりの有無を確認
するための、表示装置であって、描画時に使用するマス
ク用基板を固定するマスクホルダの形状情報と、描画時
に付与される文字情報とを、描画機に対応してデータベ
ース化しておく、描画機基本情報データベースと、描画
パタンのパターンデ一タ情報およびパターン配置情報を
読み込み、描画パタンの描画領域データを得る描画領域
データ作成手段と、描画領域データ作成手段により得ら
れた描画領域データから描画領域を表示し、且つ、併せ
て、描画機基本情報データベース化手段により得られた
情報から、マスクホルダ、描画文字を、表示する表示手
段とを備えていることにより、これを達成している。
尚、フォトマスクパタン描画装置としては、電子線照射
描画装置（電子ビーム描画露光装置）あるいはエキシマ
波長等のフォト描画露光装置が挙げられる。これによ
り、所定の描画機で描画しても不具合（重なり発生）が
発生しないかを事前に調べることができるものとしてい
る。
【０００９】本発明のフォトマスク描画装置は、上記の
ような本発明の描画状態表示装置を備えることによっ
て、フォトマスク歩留まりの向上が期待できる。
ような本発明の描画状態表示装置を備えることによっ
て、フォトマスク歩留まりの向上が期待できる。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明の描画状態表示装置の実施
の形態例を挙げ、図に基づいて説明する。図１は本発明
の描画状態表示装置の実施の形態の１例の概略構成図
で、図２は表示部の表示状態の１例を示した図である。
図１、図２中、１１０は描画機基本情報データベース、
１２０は描画領域データ作成手段、１２１は描画パタン
のパタンデータ情報、１２２はパタン配置情報、１３０
は表示手段、２１０は表示領域、２２０は描画領域像、
２３０はマスクホルダ像、２３５はつめ像、２４０は描
画文字像である。
の形態例を挙げ、図に基づいて説明する。図１は本発明
の描画状態表示装置の実施の形態の１例の概略構成図
で、図２は表示部の表示状態の１例を示した図である。
図１、図２中、１１０は描画機基本情報データベース、
１２０は描画領域データ作成手段、１２１は描画パタン
のパタンデータ情報、１２２はパタン配置情報、１３０
は表示手段、２１０は表示領域、２２０は描画領域像、
２３０はマスクホルダ像、２３５はつめ像、２４０は描
画文字像である。
【００１１】先ず、本発明の描画状態表示装置の実施の
形態の１例を、図１に基づいて説明する。本例は、フォ
トマスクパタンを描画露光する電子線照射描画装置にお
ける、描画の際の、マスクホルダと、描画する文字およ
びまたは描画パタンの描画領域との重なりの有無を確認
するための、表示装置で、描画時に使用するマスク用基
板を固定するマスクホルダの形状情報と、描画時に付与
される文字情報とを、描画機に対応してデータベース化
しておく、描画機基本情報データベース１１０と、描画
パタンのパターンデ一タ情報およびパターン配置情報を
読み込み、描画パタンの描画領域データを得る描画領域
データ作成手段１２０と、描画領域データ作成手段によ
り得られた描画領域データから描画領域を表示し、且
つ、併せて、描画機基本情報データベース化手段により
得られた情報から、マスクホルダ、描画文字を、表示す
る表示手段１３０とを備えている。描画機基本情報デー
タベース１１０には、予め、描画機に対応した、マスク
ホルダの形状情報と、描画時に付与される文字情報とが
登録されデータベース化されている。描画領域データ作
成手段１２０は、描画パタンの描画領域をを表示手段に
より表示させるために、描画パタンのパターンデ一タ情
報およびパターン配置情報を読み込み、描画パタンの描
画領域データを得るものである。表示手段１３０は、描
画を行なう描画機（電子線照射描画装置）における、マ
スクホルダと、描画される文字との、相対位置関係が分
かるように、これらを併せてＸ−Ｙ表示するものであ
る。尚、マスクホルダ位置、描画パタンの描画領域の、
Ｘ−Ｙ座標は、一般に、描画を行なう描画機（電子線照
射描画装置）固有のもので、これらの情報は、必要に応
じ、描画機基本情報データベース１１０あるいは、他か
ら与えられる。
形態の１例を、図１に基づいて説明する。本例は、フォ
トマスクパタンを描画露光する電子線照射描画装置にお
ける、描画の際の、マスクホルダと、描画する文字およ
びまたは描画パタンの描画領域との重なりの有無を確認
するための、表示装置で、描画時に使用するマスク用基
板を固定するマスクホルダの形状情報と、描画時に付与
される文字情報とを、描画機に対応してデータベース化
しておく、描画機基本情報データベース１１０と、描画
パタンのパターンデ一タ情報およびパターン配置情報を
読み込み、描画パタンの描画領域データを得る描画領域
データ作成手段１２０と、描画領域データ作成手段によ
り得られた描画領域データから描画領域を表示し、且
つ、併せて、描画機基本情報データベース化手段により
得られた情報から、マスクホルダ、描画文字を、表示す
る表示手段１３０とを備えている。描画機基本情報デー
タベース１１０には、予め、描画機に対応した、マスク
ホルダの形状情報と、描画時に付与される文字情報とが
登録されデータベース化されている。描画領域データ作
成手段１２０は、描画パタンの描画領域をを表示手段に
より表示させるために、描画パタンのパターンデ一タ情
報およびパターン配置情報を読み込み、描画パタンの描
画領域データを得るものである。表示手段１３０は、描
画を行なう描画機（電子線照射描画装置）における、マ
スクホルダと、描画される文字との、相対位置関係が分
かるように、これらを併せてＸ−Ｙ表示するものであ
る。尚、マスクホルダ位置、描画パタンの描画領域の、
Ｘ−Ｙ座標は、一般に、描画を行なう描画機（電子線照
射描画装置）固有のもので、これらの情報は、必要に応
じ、描画機基本情報データベース１１０あるいは、他か
ら与えられる。
【００１２】表示手段１３０の表示状態は、例えば図２
に示すように、描画領域像２２０、マスクホルダ像２３
０、つめ像２３５、描画文字像２４０が併せて表示され
る。これらの重なりの有無より、描画領域と、マスクホ
ルダ、つめ、描画文字との重なりの有無が判断できる。
に示すように、描画領域像２２０、マスクホルダ像２３
０、つめ像２３５、描画文字像２４０が併せて表示され
る。これらの重なりの有無より、描画領域と、マスクホ
ルダ、つめ、描画文字との重なりの有無が判断できる。
【００１３】次に、図１に示す表示装置の動作フローの
１例を、図１に基づき簡単に説明する。尚、図１中、Ｓ
１〜Ｓ４は各ステップを示す。先ず、予め、描画装置で
使用する文字形状と、マスクホルダ形状をマスクサイズ
毎に測定しデータベースに登録して（Ｓ１）、描画基本
機情報データベースを作成する。（Ｓ２） 一方、描画領域データ作成手段１２０にて、描画パタン
のパタンデータ情報１２１、パタン配置情報１２２から
描画領域データ１２３を作成しておく。（Ｓ３） 次に、描画領域データ１２３を表示する際、指定された
マスクサイズを元に描画機基本情報データベース１１０
を検索し、登録されているマスクホルダ情報を取り出
し、これを表示する一方、描画機基本情報データベース
１１０でマスクタイトル等の文字情報を、文字コード検
索し、指定された位置に同様に表示する（Ｓ４）。尚、
一般には、マスクサイズの指定、描画文字の位置指定
は、パタン配置情報１２２と同時に与えれている。
１例を、図１に基づき簡単に説明する。尚、図１中、Ｓ
１〜Ｓ４は各ステップを示す。先ず、予め、描画装置で
使用する文字形状と、マスクホルダ形状をマスクサイズ
毎に測定しデータベースに登録して（Ｓ１）、描画基本
機情報データベースを作成する。（Ｓ２） 一方、描画領域データ作成手段１２０にて、描画パタン
のパタンデータ情報１２１、パタン配置情報１２２から
描画領域データ１２３を作成しておく。（Ｓ３） 次に、描画領域データ１２３を表示する際、指定された
マスクサイズを元に描画機基本情報データベース１１０
を検索し、登録されているマスクホルダ情報を取り出
し、これを表示する一方、描画機基本情報データベース
１１０でマスクタイトル等の文字情報を、文字コード検
索し、指定された位置に同様に表示する（Ｓ４）。尚、
一般には、マスクサイズの指定、描画文字の位置指定
は、パタン配置情報１２２と同時に与えれている。
【００１４】
【発明の効果】本発明は、上記のように、描画の際、描
画時に付与される描画時刻やマスクを固定する為のマス
クホルダなどの影響を含めた描画における品質保証がで
きる描画状態表示装置、および該描画状態表示装置を備
えたフォトマスク描画装置の提供を可能とした。
画時に付与される描画時刻やマスクを固定する為のマス
クホルダなどの影響を含めた描画における品質保証がで
きる描画状態表示装置、および該描画状態表示装置を備
えたフォトマスク描画装置の提供を可能とした。
【図面の簡単な説明】
【図１】発明の描画状態表示装置の実施の形態の１例の
概略構成図
概略構成図
【図２】表示部の表示状態の１例を示した図
１１０ 描画機基本情報データベース １２０ 描画領域データ作成手段 １２１ 描画パタンのパタンデータ情報 １２２ パタン配置情報 １３０ 表示手段 ２１０ 表示領域 ２２０ 描画領域像 ２３０ マスクホルダ像 ２３５ つめ像 ２４０ 描画文字像
Claims (3)
- 【請求項１】 フォトマスクパタン描画装置における、
描画の際の、マスクホルダと、描画する文字およびまた
は描画パタンの描画領域との重なりの有無を確認するた
めの、表示装置であって、描画時に使用するマスク用基
板を固定するマスクホルダの形状情報と、描画時に付与
される文字情報とを、描画機に対応してデータベース化
しておく、描画機基本情報データベースと、描画パタン
のパターンデ一タ情報およびパターン配置情報を読み込
み、描画パタンの描画領域データを得る描画領域データ
作成手段と、描画領域データ作成手段により得られた描
画領域データから描画領域を表示し、且つ、併せて、描
画機基本情報データベース化手段により得られた情報か
ら、マスクホルダ、描画文字を、表示する表示手段とを
備えていることを特徴とする描画状態表示装置。 - 【請求項２】 請求項１に記載の描画状態表示装置を備
えていることを特徴とするフォトマスク描画装置。 - 【請求項３】 請求項１ないし２において、フォトマス
ク描画装置が、電子線照射描画装置であることを特徴と
するフォトマスク描画装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000344932A JP4429518B2 (ja) | 2000-11-13 | 2000-11-13 | 描画状態表示装置とフォトマスク描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000344932A JP4429518B2 (ja) | 2000-11-13 | 2000-11-13 | 描画状態表示装置とフォトマスク描画装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002148781A true JP2002148781A (ja) | 2002-05-22 |
| JP4429518B2 JP4429518B2 (ja) | 2010-03-10 |
Family
ID=18819053
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000344932A Expired - Lifetime JP4429518B2 (ja) | 2000-11-13 | 2000-11-13 | 描画状態表示装置とフォトマスク描画装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4429518B2 (ja) |
Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62139330A (ja) * | 1985-12-13 | 1987-06-23 | Toshiba Mach Co Ltd | 被処理材の固定方法および装置 |
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- 2000-11-13 JP JP2000344932A patent/JP4429518B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| JP4429518B2 (ja) | 2010-03-10 |
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