JPH04172348A - 検査データの出力方法 - Google Patents
検査データの出力方法Info
- Publication number
- JPH04172348A JPH04172348A JP2299480A JP29948090A JPH04172348A JP H04172348 A JPH04172348 A JP H04172348A JP 2299480 A JP2299480 A JP 2299480A JP 29948090 A JP29948090 A JP 29948090A JP H04172348 A JPH04172348 A JP H04172348A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- data
- inspection
- errors
- exposure
- mask
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000007689 inspection Methods 0.000 title claims abstract description 56
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 17
- 238000013461 design Methods 0.000 claims description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 8
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 230000001934 delay Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000004513 sizing Methods 0.000 description 1
- 238000012795 verification Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の概要]
電子デバイスの検査データの出力方法に関し。
検査データ及び露光データに含まれる誤りあ早期発見を
目的とし。
目的とし。
電子デバイスのマスクパターンを規定する画像情報を有
する設計データからデータ変換を介して得られ、前記画
像情報に従って製作されたマスクのパターンを検査する
ための検査データの内容を出力する方法において。
する設計データからデータ変換を介して得られ、前記画
像情報に従って製作されたマスクのパターンを検査する
ための検査データの内容を出力する方法において。
検査データに含まれるマスク内の領域を、相互に同じパ
ターン形状から成るブロック毎に区分し、該ブロック区
分の構成を視覚的に表示する配置情報を出力するように
構成する。
ターン形状から成るブロック毎に区分し、該ブロック区
分の構成を視覚的に表示する配置情報を出力するように
構成する。
[産業上の利用分野]
本発明は、検査データの出力方法に関し、特に、この検
査データの出力方法は、電子デバイスのマスクパターン
等に関する露光データ並びに該露光データから得られる
マスク等の検査に使用される検査装置用データの双方に
含まれるデータの誤りの早期発見に有用である。
査データの出力方法は、電子デバイスのマスクパターン
等に関する露光データ並びに該露光データから得られる
マスク等の検査に使用される検査装置用データの双方に
含まれるデータの誤りの早期発見に有用である。
半導体集積回路等の電子デバイスの製作に当たっては、
ウェハー上へのパターン描画のためにマスクが使用され
る。マスク上のパターンは、近年の電子デバイスの多様
化、微細化及び高集積化に伴い、益々その形状が多様化
すると共に複雑化している。
ウェハー上へのパターン描画のためにマスクが使用され
る。マスク上のパターンは、近年の電子デバイスの多様
化、微細化及び高集積化に伴い、益々その形状が多様化
すると共に複雑化している。
一般に、設計データとして得られた電子デバイスの各階
層毎のマスクデータは、細分化した各領域に区分され、
この区分された各領域においてパターン形状を記述する
のに適した表現形式にフォーマット変換され、レチクル
(原版マスク)製作のための露光データ(IX光装置用
データ)が得られる。
層毎のマスクデータは、細分化した各領域に区分され、
この区分された各領域においてパターン形状を記述する
のに適した表現形式にフォーマット変換され、レチクル
(原版マスク)製作のための露光データ(IX光装置用
データ)が得られる。
[従来技術]
図4に従来のデータ変換のフロー図を示す。同図には、
露光データD42と、この露光データから得られるレチ
クルのパターン形状を検査するための検査装置用データ
D43とが、マスクデータとして成る設計データD41
からデータ変換プログラム541を介して得られる様子
が示されている。得られた露光データD42及び検査装
置用データD43は、夫々含まれるデータ内容がパラメ
ータとして紙出力される。出力された双方のパラメータ
出力に従って、実際にレチクルに描かれる配線幅等のパ
ターン形状が、該パラメータと設計リストとの照合によ
って決定され、またパラメータ自体の整合性のチエツク
を介して若干の修正が双方のデータD42. D43
に加えられ、これら決定及び修正を介して最終的な露光
データD42及び検査装置用データD43が完成される
。
露光データD42と、この露光データから得られるレチ
クルのパターン形状を検査するための検査装置用データ
D43とが、マスクデータとして成る設計データD41
からデータ変換プログラム541を介して得られる様子
が示されている。得られた露光データD42及び検査装
置用データD43は、夫々含まれるデータ内容がパラメ
ータとして紙出力される。出力された双方のパラメータ
出力に従って、実際にレチクルに描かれる配線幅等のパ
ターン形状が、該パラメータと設計リストとの照合によ
って決定され、またパラメータ自体の整合性のチエツク
を介して若干の修正が双方のデータD42. D43
に加えられ、これら決定及び修正を介して最終的な露光
データD42及び検査装置用データD43が完成される
。
設計データ(Dl)から露光データ(D2)及び検査装
置用データ(D3)に変換するためのプログラムを作成
する際には、露光データD42及び検査装置用データD
43に1例えばパラメータ数値の入力ミス等に起因して
誤りが発生することがある。
置用データ(D3)に変換するためのプログラムを作成
する際には、露光データD42及び検査装置用データD
43に1例えばパラメータ数値の入力ミス等に起因して
誤りが発生することがある。
[発明が解決しようとする課題]
前記の如く、近年の電子デバイスの多様化を受けてマス
クパターンは多種多様であり、同じパターン形状がマス
ク領域内で繰り返し形成されるものから、大きな一つの
パターンが全領域に亘って形成されるものまで種々のも
のがあり、データ作成の容易性を考慮してマスクデータ
の記述形式も各電子デバイスによって夫々異なることが
多い。また、同じパターン形状が繰り返し形成されるマ
スクにおいても画像情報の記述様式として。
クパターンは多種多様であり、同じパターン形状がマス
ク領域内で繰り返し形成されるものから、大きな一つの
パターンが全領域に亘って形成されるものまで種々のも
のがあり、データ作成の容易性を考慮してマスクデータ
の記述形式も各電子デバイスによって夫々異なることが
多い。また、同じパターン形状が繰り返し形成されるマ
スクにおいても画像情報の記述様式として。
マスクデータが、各ブロック毎に形成されるパターン形
状の画像データを一つのブロック内に有し、その画像デ
ータの有するパターン形状が領域上のどのブロックに配
置されるものであるかをデータ内部に記述する様式と、
それとは別に、パターン形状の画像データを一つのブロ
ック内に有するのみで、その画像データを実際のレチク
ル製作の際に繰り返し使用する様式、更には各ブロック
内に夫々同じ画像データを記述する様式等。
状の画像データを一つのブロック内に有し、その画像デ
ータの有するパターン形状が領域上のどのブロックに配
置されるものであるかをデータ内部に記述する様式と、
それとは別に、パターン形状の画像データを一つのブロ
ック内に有するのみで、その画像データを実際のレチク
ル製作の際に繰り返し使用する様式、更には各ブロック
内に夫々同じ画像データを記述する様式等。
種々の異なる記述様式が採られる。従って、検査装置用
データから出力されたパラメータの整合性チエツクを行
う場合に、検査装置用データ内において実際の画像デー
タの存在ブロックの不明なことが多く、またブロックの
構成自体がデータ内部に記述されているか否かが判別で
きず、このためパラメータチエツクが迅速に行われず、
またチエツク内容がきわめて限定されるという問題があ
った。また出力される検査装置用データのパラメータ出
力は、数値データであるので、整合性をチエツクするこ
と自体がきわめて困難であるとい′う問題もあった。
データから出力されたパラメータの整合性チエツクを行
う場合に、検査装置用データ内において実際の画像デー
タの存在ブロックの不明なことが多く、またブロックの
構成自体がデータ内部に記述されているか否かが判別で
きず、このためパラメータチエツクが迅速に行われず、
またチエツク内容がきわめて限定されるという問題があ
った。また出力される検査装置用データのパラメータ出
力は、数値データであるので、整合性をチエツクするこ
と自体がきわめて困難であるとい′う問題もあった。
上記理由のため、従来においては露光データ及び検査装
置用データ自体に誤りが存在するかどうかのパラメータ
チエツクについては往々にして行なわれず、検査装置用
データは、実際に出来上ったレチクルの画像から光学装
置及び光電変換装置を介して読取った画像データとこの
検査装置用データとを照合することにのみ使用されてい
た。
置用データ自体に誤りが存在するかどうかのパラメータ
チエツクについては往々にして行なわれず、検査装置用
データは、実際に出来上ったレチクルの画像から光学装
置及び光電変換装置を介して読取った画像データとこの
検査装置用データとを照合することにのみ使用されてい
た。
従って露光及び検査装置用データ上における誤りの存在
は、レチクル製作後においてのみ2判明することとなっ
ていた。
は、レチクル製作後においてのみ2判明することとなっ
ていた。
露光データに誤りが存在する場合には、この誤りに起因
し、現実に製作されたレチクルに欠陥が存在してレチク
ルを再度製作する必要が生ずる事態も生じ、レチクルの
製作費用及び製作時間、並びに検査に要する時間につい
て大きな無駄が生じていた。
し、現実に製作されたレチクルに欠陥が存在してレチク
ルを再度製作する必要が生ずる事態も生じ、レチクルの
製作費用及び製作時間、並びに検査に要する時間につい
て大きな無駄が生じていた。
本発明の目的は、上記問題に鑑み、露光データ及び検査
装置用データの誤りの存在の有無に関する早期発見を可
能とし、存在するデータの誤りが早期に訂正できるため
、製作されたレチクルに欠陥が生じ難い、電子デバイス
の検査データの出力方法を提供することに存する。
装置用データの誤りの存在の有無に関する早期発見を可
能とし、存在するデータの誤りが早期に訂正できるため
、製作されたレチクルに欠陥が生じ難い、電子デバイス
の検査データの出力方法を提供することに存する。
[課題を解決するための手段]
図1は本発明の原理図である。
上記目的を達成するため1本発明では、電子デバイスの
マスクパターンを規定する画像情報を有する設計データ
(Dl)からデータ変換を介して得られ、前記画像情報
に従って製作されたマスクのパターンを検査するための
検査データ(D2)の内容を出力する検査データ、の出
力方法において。
マスクパターンを規定する画像情報を有する設計データ
(Dl)からデータ変換を介して得られ、前記画像情報
に従って製作されたマスクのパターンを検査するための
検査データ(D2)の内容を出力する検査データ、の出
力方法において。
検査データ(D2)に含まれるマスク内の領域を、相互
に同じパターン形状から成るブロック毎に区分し、該ブ
ロック区分の構成を視覚的に表示する配置情報を出力す
るように構成する。
に同じパターン形状から成るブロック毎に区分し、該ブ
ロック区分の構成を視覚的に表示する配置情報を出力す
るように構成する。
[作用]
露光データ及び検査装置用データにおける誤りの発生は
、変換ソフトであるデータ変換プログラムにおけるパラ
メータの入力ミスに起因することが殆どであるため、検
査データに含まれるマスク内の領域をブロック毎に区分
し、このブロック区分の構成を視覚的に表示する配置情
報を出力することで、パラメータの入力ミスに起因する
多くの誤りが発見でき、露光データ或いは検査装置用デ
ータに存在するパターン形状の抜けや配置ミス等のデー
タの誤りの早期発見が可能となる。
、変換ソフトであるデータ変換プログラムにおけるパラ
メータの入力ミスに起因することが殆どであるため、検
査データに含まれるマスク内の領域をブロック毎に区分
し、このブロック区分の構成を視覚的に表示する配置情
報を出力することで、パラメータの入力ミスに起因する
多くの誤りが発見でき、露光データ或いは検査装置用デ
ータに存在するパターン形状の抜けや配置ミス等のデー
タの誤りの早期発見が可能となる。
[実施例コ
図面に基づいて本発明を更に説明する。
図2は本発明の一実施例に係る検査データの出力方法で
ある。同図において2図示しない自動製図装置を介して
得られた設計データを成すマスクデータDllは、フォ
ーマット変換プログラムSllを介して多数のレチクル
データD12に変換される。このフォーマット変換では
、マスクデータは、マスク上の全体領域が各小領域毎に
細分化され且つその細分化された領域において画像デー
タを記述するのに適した表現形式に変換される。このフ
ォーマット変換によってレチクルデータD12が得られ
、得られたレチクルデータDL2は、引続き、露光装置
用データ変換プログラム512を介して露光装置用デー
タD13に、検査装置用データ変換プログラム51gを
介して検査装置用データD14に、夫々変換される。露
光装置用データD13及び検査装置用データD14の双
方は、夫々異なる後工程のために、異なる領域サイズ毎
に区分され、夫々の領域サイズに適合した表現形式とし
て記述されている。
ある。同図において2図示しない自動製図装置を介して
得られた設計データを成すマスクデータDllは、フォ
ーマット変換プログラムSllを介して多数のレチクル
データD12に変換される。このフォーマット変換では
、マスクデータは、マスク上の全体領域が各小領域毎に
細分化され且つその細分化された領域において画像デー
タを記述するのに適した表現形式に変換される。このフ
ォーマット変換によってレチクルデータD12が得られ
、得られたレチクルデータDL2は、引続き、露光装置
用データ変換プログラム512を介して露光装置用デー
タD13に、検査装置用データ変換プログラム51gを
介して検査装置用データD14に、夫々変換される。露
光装置用データD13及び検査装置用データD14の双
方は、夫々異なる後工程のために、異なる領域サイズ毎
に区分され、夫々の領域サイズに適合した表現形式とし
て記述されている。
露光装置用データ変換プログラムS12及び検査装置用
データ変換プログラムS13は夫々9例えば電子デバイ
スのチップサイズの選定、相互に同じパターン形状から
成るブロック区分の構成、各マスクの階層構造情報、パ
ターン形状を全体的に縮小するりダクシジン或いは一部
のパターン形状を縮小するマイナスシフト等のサイジン
グ処理等のパラメータの数値に関する情報を含んでいる
。双方のデータ変換プログラム512.513に共通の
各パラメータは、入力時において相互に同じ数値データ
として同時に与えられるので、万一パラメータの数値に
ついてプログラム上に入力ミスが生ずれば、双方のプロ
グラムに同じ入力ミスが含まれることになる。
データ変換プログラムS13は夫々9例えば電子デバイ
スのチップサイズの選定、相互に同じパターン形状から
成るブロック区分の構成、各マスクの階層構造情報、パ
ターン形状を全体的に縮小するりダクシジン或いは一部
のパターン形状を縮小するマイナスシフト等のサイジン
グ処理等のパラメータの数値に関する情報を含んでいる
。双方のデータ変換プログラム512.513に共通の
各パラメータは、入力時において相互に同じ数値データ
として同時に与えられるので、万一パラメータの数値に
ついてプログラム上に入力ミスが生ずれば、双方のプロ
グラムに同じ入力ミスが含まれることになる。
露光装置用データD13から露光データパラメータ出力
Lllが紙出力され、パラメータ数値自体のチエツクが
行われると共にこのパラメータ出力Lllに従って設計
上予め定められている数値入力1例えばパターン寸法の
入力が行われ、レチクル製作上実際に必要な露光装置用
データが最終的に完成される。一方、検査装置用データ
D14からは、検査データパラメータ出力L12及び検
査データ配置情報出力L13として1紙出力或いはデイ
スプレィ上の画像出力が行われる。
Lllが紙出力され、パラメータ数値自体のチエツクが
行われると共にこのパラメータ出力Lllに従って設計
上予め定められている数値入力1例えばパターン寸法の
入力が行われ、レチクル製作上実際に必要な露光装置用
データが最終的に完成される。一方、検査装置用データ
D14からは、検査データパラメータ出力L12及び検
査データ配置情報出力L13として1紙出力或いはデイ
スプレィ上の画像出力が行われる。
配置情報出力L13は1例えば図3(a)又は(b)に
示した図形情報として出力される。この検査装置用デー
タに含まれる画像情報は、繰返しパターン形状に関する
情報を有し、2X2又は3×2のブロック構成から成り
、各ブロック毎に同じパターン形状としである。同図(
a)において。
示した図形情報として出力される。この検査装置用デー
タに含まれる画像情報は、繰返しパターン形状に関する
情報を有し、2X2又は3×2のブロック構成から成り
、各ブロック毎に同じパターン形状としである。同図(
a)において。
この配置情報は、Al〜A4の区分によって検査装置用
データに含まれるレチクル領域のブロック区分構成が2
×2のブロック区分構成であることを、AI内の斜線に
よってパターンの形状・配置に関する画像データがA1
ブロック内に存在していることを、夫々示している。ま
た、同図(b)の配置情報では、同様に、レチクル領域
内をA1〜A6に区分することによってブロック区分構
成が3×2のブロック区分構成であることを、A4内の
丸印の存在によって画像データがA4のブロック内に存
在することを、夫々表示している。このように画像デー
タが特定のブロック内に存在する旨の表示は、視覚的に
確認できるものであればいかなる表示であってもよい。
データに含まれるレチクル領域のブロック区分構成が2
×2のブロック区分構成であることを、AI内の斜線に
よってパターンの形状・配置に関する画像データがA1
ブロック内に存在していることを、夫々示している。ま
た、同図(b)の配置情報では、同様に、レチクル領域
内をA1〜A6に区分することによってブロック区分構
成が3×2のブロック区分構成であることを、A4内の
丸印の存在によって画像データがA4のブロック内に存
在することを、夫々表示している。このように画像デー
タが特定のブロック内に存在する旨の表示は、視覚的に
確認できるものであればいかなる表示であってもよい。
更に、パターン形状が全く緑返しパターンを存しない場
合には、全体が一つのブロックとして表示されると共に
該−つのブロックに画像データが存在する旨が表示され
る。
合には、全体が一つのブロックとして表示されると共に
該−つのブロックに画像データが存在する旨が表示され
る。
検査装置用データの配置情報出力L13は、設計から別
に送付された設計資料と照合されて、検査装置用データ
D14の良好な旨或いは誤りの存在する旨が確認される
。検査装置用データD14が良好な旨が確認されると、
その結果として同じパラメータ入力に関して、露光装置
用データの良好なことが確認でき、その後行われるレチ
クル製作に支障のないことが確認できる。従来は、検査
装置用データD43は、単に露光処理を介して得られた
レチクル画像のパターン検証のためにのみ使用されてい
たため、データ変換プログラムS41においてプログラ
ムのパラメータに数値入力ミスが存在すると、製作され
たレチクルが無駄になっていた。しかし1本実施例の場
合、このようなパラメータの数値入力ミスについては発
見される確率が充分に高く、レチクルの無駄及び工程の
遅れを排除できる。
に送付された設計資料と照合されて、検査装置用データ
D14の良好な旨或いは誤りの存在する旨が確認される
。検査装置用データD14が良好な旨が確認されると、
その結果として同じパラメータ入力に関して、露光装置
用データの良好なことが確認でき、その後行われるレチ
クル製作に支障のないことが確認できる。従来は、検査
装置用データD43は、単に露光処理を介して得られた
レチクル画像のパターン検証のためにのみ使用されてい
たため、データ変換プログラムS41においてプログラ
ムのパラメータに数値入力ミスが存在すると、製作され
たレチクルが無駄になっていた。しかし1本実施例の場
合、このようなパラメータの数値入力ミスについては発
見される確率が充分に高く、レチクルの無駄及び工程の
遅れを排除できる。
また、配置情報出力を見ることにより、検査データに含
まれる画像データの存在領域及び繰り返しに関する情報
を得ているため、その後必要なパラメータの数値入力に
おいてもこの情報を利用することができ、誤人力の虞れ
が減少するためきわめて有利である。
まれる画像データの存在領域及び繰り返しに関する情報
を得ているため、その後必要なパラメータの数値入力に
おいてもこの情報を利用することができ、誤人力の虞れ
が減少するためきわめて有利である。
上記実施例の説明では、検査装置用データの内容を配置
情報出力とする例を示したが9本発明における検査デー
タの配置情報出力は、中に検査装置用データの配置情報
出力に限定されるものではなく1例えば露光装置用デー
タ自体を検査データとして使用することができ、この場
合には露光装置用データの内容を配置情報として出力す
ることも本発明の検査データの出力方法に含まれる。
情報出力とする例を示したが9本発明における検査デー
タの配置情報出力は、中に検査装置用データの配置情報
出力に限定されるものではなく1例えば露光装置用デー
タ自体を検査データとして使用することができ、この場
合には露光装置用データの内容を配置情報として出力す
ることも本発明の検査データの出力方法に含まれる。
[発明の効果]
以上説明したように1本発明によると、検査データに含
まれるマスクの領域について視覚的な配置情報を出力す
ることで、検査データに含まれる誤りを容易に且つ早期
に発見することができるので、検査データと同じパラメ
ータ入力に起因する誤りを含む露光データについて、マ
スクパターンの作成前にこのデータの誤りを発見するこ
とができるため、マスクパターンの再製作に起因する無
駄の発生や工程の遅れを防止することが可能になった。
まれるマスクの領域について視覚的な配置情報を出力す
ることで、検査データに含まれる誤りを容易に且つ早期
に発見することができるので、検査データと同じパラメ
ータ入力に起因する誤りを含む露光データについて、マ
スクパターンの作成前にこのデータの誤りを発見するこ
とができるため、マスクパターンの再製作に起因する無
駄の発生や工程の遅れを防止することが可能になった。
図1は本発明の原理図1図2は実施例のフロー図2図3
(a) 、 (b)は夫々配置情報の例1図4は従来
のフロー図である。 図1において、DIは設計データ、D2は検査データ、
Llはパラメータ出力、L2は配置情報出力、Slはデ
ータ変換プログラムである。 図1 図2 (a) (
b)配MI報の$1 図3 図4
(a) 、 (b)は夫々配置情報の例1図4は従来
のフロー図である。 図1において、DIは設計データ、D2は検査データ、
Llはパラメータ出力、L2は配置情報出力、Slはデ
ータ変換プログラムである。 図1 図2 (a) (
b)配MI報の$1 図3 図4
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)電子デバイスのマスクパターンを規定する画像情報
を有する設計データ(D_1)からデータ変換を介して
得られ、前記画像情報に従って製作されたマスクのパタ
ーンを検査するための検査データ(D_2)の内容を出
力する方法において、検査データ(D_2)に含まれる
マスク内の領域を、相互に同じパターン形状から成るブ
ロック毎に区分し、該ブロック区分の構成を視覚的に表
示する配置情報を出力することを特徴とする検査データ
の出力方法。 2)前記配置情報が、各ブロックの内画像情報のデータ
が存在するブロックを視覚的に表示することを特徴とす
る請求項1記載の検査データの出力方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29948090A JP2580870B2 (ja) | 1990-11-05 | 1990-11-05 | 検査データの出力方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29948090A JP2580870B2 (ja) | 1990-11-05 | 1990-11-05 | 検査データの出力方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04172348A true JPH04172348A (ja) | 1992-06-19 |
JP2580870B2 JP2580870B2 (ja) | 1997-02-12 |
Family
ID=17873120
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29948090A Expired - Lifetime JP2580870B2 (ja) | 1990-11-05 | 1990-11-05 | 検査データの出力方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2580870B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006058406A (ja) * | 2004-08-18 | 2006-03-02 | Nec Corp | レチクルの製造システム及び製造方法 |
-
1990
- 1990-11-05 JP JP29948090A patent/JP2580870B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006058406A (ja) * | 2004-08-18 | 2006-03-02 | Nec Corp | レチクルの製造システム及び製造方法 |
JP4635513B2 (ja) * | 2004-08-18 | 2011-02-23 | 日本電気株式会社 | レチクルの製造システム及び製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2580870B2 (ja) | 1997-02-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7617474B2 (en) | System and method for providing defect printability analysis of photolithographic masks with job-based automation | |
JP4216592B2 (ja) | 集積回路の特性を測定するプロセスと装置 | |
US20040015808A1 (en) | System and method for providing defect printability analysis of photolithographic masks with job-based automation | |
JP2002532760A (ja) | レチクルを製造および検査するためのメカニズム | |
JPH0691003B2 (ja) | レチクル/マスクの検査方法とその検査装置 | |
JP2004530143A (ja) | 走査電子顕微鏡におけるプロセス効果および画像化効果をモデリングする装置および方法 | |
KR20170047101A (ko) | Opc 이용한 마스크 제조방법 및 반도체 소자 제조방법 | |
TW201131409A (en) | Method, system and program product for interactive checking for double pattern lithography violations | |
JPH0434434A (ja) | パターン欠陥検査方法とその装置 | |
US8782572B1 (en) | Method of optical proximity correction | |
TWI395070B (zh) | Exposure pattern data checking device, method and computer readable memory medium | |
WO2006062542A2 (en) | System and method for automatically generating a tooling specification using a logical operations utility that can be used to generate a photomask order | |
JPH021107A (ja) | マスク又はレチクル用パターン自動検証装置 | |
US4774461A (en) | System for inspecting exposure pattern data of semiconductor integrated circuit device | |
JPH07261372A (ja) | パターン検証方法および検証装置 | |
US7974457B2 (en) | Method and program for correcting and testing mask pattern for optical proximity effect | |
JPH04172348A (ja) | 検査データの出力方法 | |
US8300918B2 (en) | Defect inspection apparatus, defect inspection program, recording medium storing defect inspection program, figure drawing apparatus and figure drawing system | |
CN107221507B (zh) | 一种自适应定义缺陷扫描方程式扫描区域的方法 | |
JP2003149784A (ja) | パターンデータ検証装置、パターンデータ検証方法、プログラム及び記録媒体 | |
US6598185B1 (en) | Pattern data inspection method and storage medium | |
US9904757B2 (en) | Test patterns for determining sizing and spacing of sub-resolution assist features (SRAFs) | |
US7139997B1 (en) | Method and system for checking operation of a mask generation algorithm | |
CN112099310B (zh) | 光强阈值的获取方法以及辅助图形显影情况的检测方法 | |
JP2007085995A (ja) | インデックス情報作成装置、試料検査装置、レビュー装置、インデックス情報作成方法及びプログラム |