TWI395070B - Exposure pattern data checking device, method and computer readable memory medium - Google Patents

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TWI395070B
TWI395070B TW097108442A TW97108442A TWI395070B TW I395070 B TWI395070 B TW I395070B TW 097108442 A TW097108442 A TW 097108442A TW 97108442 A TW97108442 A TW 97108442A TW I395070 B TWI395070 B TW I395070B
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Yasaka Satoru
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Dainippon Screen Mfg
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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/70605—Workpiece metrology
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Description

曝光圖案資料檢查裝置、方法及電腦可讀取之記憶媒體
本發明關於一種曝光圖案資料檢查裝置、方法及程式，特別關於一種用以檢查在曝光裝置之印刷基板之直描步驟所使用之曝光圖案資料的曝光圖案資料檢查裝置、方法及程式。
在習知印刷基板之製造步驟中一般使用之方式(以下稱遮罩方式)是藉使欲形成在基板上之佈線圖案一旦曝光在薄膜而作成遮罩之後，利用使用有該遮罩之曝光處理，而在基板上描繪圖案，但是近年來所使用之方式是不作成遮罩，根據表示圖案之光柵資料(以下稱曝光圖案資料)，利用雷射在基板上直接描繪圖案(以下稱直描方式)。
在利用遮罩方式製造印刷基板之情況時，在根據以CAD (Computer Aided Design)系統或CAM (Computer Aided Manufacturing)系統作成之設計資料而作成遮罩之後，經由檢查該遮罩，可以用來提高印刷基板之可靠度。
另外，存在有之手法(例如，參照日本專利第3401442號公報)是不檢查實際作成之遮罩，而是檢查為產生遮罩而使用之光罩資料，用來提高遮罩之可靠度。在日本專利案第3401442號公報所揭示之光罩資料驗証系統中，由CAD系統產生之CAD資料和光罩資料在分別被切換成光柵資料後，將該等之光柵資料就每一個像素進行比較，用來驗証光罩資料。利用此種方式，可以防止浪費地產生具有 缺陷之遮罩。
然而，在利用直描方式製造印刷基板之情況時，如遮罩方式，無法經由檢查遮罩或光罩資料用來提高印刷基板之可靠度。因此，在以直描方式製造印刷基板之情況時，需要檢查經直接方式之曝光步驟(直描步驟)實際製造之印刷基板，或將上述曝光圖案資料顯示在顯示器之畫面，目視檢查曝光圖案資料之正當性。
但是，在檢查實際製造之印刷基板之方法中，當發現在印刷基板有缺陷之情況時，有該印刷基板之製造所需要之時間和成本之浪費的問題。另外，在目視檢查曝光圖案資料之方法中，因為曝光圖案資料為高解析度，所以會有檢查作業需要很多時間之問題，和漏看缺陷之問題。
因此，本發明之目的是提供曝光圖案資料檢查裝置、方法及程式，在利用直描方式製造印刷基板之情況時，可以以比先前技術短之時間正確地檢查直描步驟所使用之曝光圖案資料。
為著達成上述目的，本發明採用以下之構造。另外，括弧內之元件符號和圖號表示與圖式之對應關係之一實例，不用來對本發明之範圍作任何限定。
本發明之曝光圖案資料檢查裝置(30)是用來檢查在曝光裝置(40)之印刷基板之直描步驟中所使用之圖案曝光資料之裝置；其具備有資料輸入手段(32)、比較檢查手段(34)、和檢查結果輸出手段(38)。資料輸入手段用來輸入 曝光圖案資料和成為該曝光圖案資料之基本的設計資料。比較檢查手段藉由將曝光圖案資料和設計資料進行比較，來進行曝光圖案資料之檢查(圖3)。檢查結果輸出手段用來輸出經比較檢查手段之檢查結果。而在由資料輸入手段輸入之設計資料中包含有屬性資訊，用來表示該設計資料所示圖案之各個部份屬性。比較檢查手段根據設計資料所含之屬性資訊，將曝光圖案資料所示圖案之各個部份依照與該部份之屬性對應的檢查基準(表1)進行檢查。
另外，比較檢查手段亦可根據屬性資訊，變化曝光圖案資料所示之圖案和設計資料所示之圖案之偏移容許量(表1)。
另外，比較檢查手段亦可在曝光圖案資料所示之圖案之某一部份對於設計資料所示之圖案之對應部份較粗或較細時，根據屬性資訊判定該部份是否視為缺陷(表2)。
另外，比較檢查手段亦可根據屬性資訊，判定曝光圖案資料所示圖案之各個部份是否為焊墊部份，是否為線部份，是否為外框部份，是否為厚塗部份之至少任一者(表1)。
另外，亦可以使設計資料成為向量形式資料，使曝光圖案資料成為光柵形式之資料。
本發明之曝光圖案資料檢查方法(圖7)，係用來檢查在曝光裝置(40)之印刷基板之直描步驟中所使用之圖案曝光資料；其具備有資料輸入步驟(S10、S12)，比較檢查步驟(S14~S22)，和檢查結果輸出步驟(S24)。在資料輸入步 驟，輸入曝光圖案資料和成為該曝光圖案資料之基本的設計資料。在比較檢查步驟，藉由將曝光圖案資料和設計資料進行比較，用來進行曝光圖案資料之檢查(圖3)。在檢查結果輸出步驟，輸出比較檢查步驟之檢查結果。在資料輸入步驟中輸入之設計資料包含有屬性資訊，用來表示該設計資料所示圖案之各個部份屬性。在比較檢查步驟中，根據設計資料所含之屬性資訊，將曝光圖案資料所示圖案之各個部份依照與該部份之屬性對應的檢查基準(表1)進行檢查。
本發明之電腦可讀取之記憶媒體，係用來檢查在曝光裝置(40)之印刷基板之直描步驟中所使用之曝光圖案資料的程式，其儲存有曝光圖案資料檢查程式用來在電腦實行資料輸入步驟(S10、S12)，比較檢查步驟(S14~S22)，和檢查結果輸出步驟(S24)。
依照本發明，將曝光圖案資料和成為該曝光圖案資料之基本的設計資料進行比較，用來進行曝光圖案資料之檢查。因此，因為可以在實際製造印刷基板之前進行檢查，所以可以防止多餘地製造具有缺陷之印刷基板。另外，因為不需要目視檢查曝光圖案資料，所以可以縮短檢查時間，亦可防止缺陷之漏看。更進一步，因為依照與曝光圖案資料所示圖案之各個部份之屬性對應的檢查基準進行檢查，所以可依照與圖案之各個部份之屬性對應的最佳檢查基準進行檢查。
本發明之該等和其他之目的，特徵，態樣和效果對照附 圖由以下之詳細說明可以更加明白。
以下參照圖式用來說明本發明之實施形態。
圖1是方塊圖，其表示包含本發明一實施形態之曝光圖案資料檢查裝置30的印刷基板製造系統之整體構造。印刷基板製造系統除了曝光圖案資料檢查裝置30外，尚具備有CAD系統10，影像處理裝置20和曝光裝置40。CAD系統10，影像處理裝置20和曝光圖案資料檢查裝置30具代表性地由安裝有與各個功能對應之應用軟體的通用電腦來實現。
CAD系統10是用來產生印刷基板之設計資料(以下稱為CAD資料)之系統。CAD系統10為習知者，所以在此處省略詳細之說明。CAD資料是向量形式之資料，用來表示印刷基板之佈線圖案或孔洞之形狀等。在CAD系統10中作成之CAD資料經由網路線路或記錄媒體而發送到影像處理裝置20。
影像處理裝置20由在CAD系統10作成之CAD資料，作成在曝光裝置之印刷基板之直描步驟可使用之光柵形式之曝光圖案資料。此時，依照需要亦同時進行校正處理。該校正處理之一實例是考慮在曝光步驟後進行的蝕刻步驟之蝕刻速度不均，使在CAD系統10作成之圖案一部份預先變粗或變細之處理。另外，亦可以將影像處理裝置20之資料切換功能或圖案校正功能組入到CAD系統10或曝光裝置40。
曝光圖案資料檢查裝置30參照在CAD系統10作成之CAD資料，檢查在影像處理裝置20作成之曝光圖案資料。曝光圖案資料檢查裝置30之詳細部份於後面說明。當在曝光圖案資料檢查裝置30中發現有曝光圖案資料缺陷之情況時，使用者操作影像處理裝置20，適當地修正曝光圖案資料。另外，當缺陷之原因是在曝光圖案資料基本之CAD資料情況時，使用者操作CAD系統10，適當地修正CAD資料。
曝光裝置40根據經曝光圖案資料檢查裝置30確認到沒有缺陷存在後之曝光圖案資料，進行直描方式之曝光處理。直描方式之曝光處理之進行，例如，根據曝光圖案資料來控制DMD(數位微鏡裝置)，使光照射在與曝光圖案資料所示之圖案對應之基板上之區域。此種直描方式之曝光裝置40為習知者，所以此處將曝光裝置40之構造或動作之詳細說明進行省略。
其次說明曝光圖案資料檢查裝置30之構造。
圖2是功能方塊圖，其表示曝光圖案資料檢查裝置30之內部構造。曝光圖案資料檢查裝置30具備有資料輸入部32，比較檢查部34，檢查基準表36和檢查結果輸出部38。
資料輸入部32經由網路線路，通信電纜或可搬型記憶媒體等，輸入由曝光圖案資料檢查裝置30作成之曝光圖案資料(檢查對象之曝光圖案資料)和成為該曝光圖案資料之基本的CAD資料。
比較檢查部34將由資料輸入部32輸入之曝光圖案資料(光柵形式)所示之圖案，和CAD資料(向量形式)所示之圖案進行比較，檢查曝光圖案資料所示之圖案是否有缺陷。此時，比較檢查部34依照檢查基準表36所規定之檢查基準，檢查曝光圖案資料。檢查基準表36之詳細部份於後面說明。
檢查結果輸出部38輸出在比較檢查部34進行之檢查結果(表示缺陷處之座標或影像等)。檢查結果之內容例如可是表示缺陷位置之座標，亦可是表示缺陷位置之影像。表示缺陷位置之影像例如可為曝光圖案資料之缺陷位置周邊之放大影像，亦可為在曝光圖案資料之缺陷位置周邊之放大影像重疊顯示CAD資料所示之圖案之輪廓線者。另外，檢查結果之輸出對象例如可為連接到曝光圖案資料檢查裝置30之顯示器畫面，亦可為CAD系統10或影像處理裝置20等之電腦系統。
其次說明曝光圖案資料檢查裝置30之比較檢查部34之動作。
圖3表示成為檢查對象之曝光圖案資料和作為該曝光圖案資料之基本的CAD資料所示之圖案之輪廓。在本實施形態中曝光圖案資料為光柵形式之影像資料。依照曝光裝置40之方式不同，有曝光圖案資料為非壓縮之影像資料之情況，亦有為以執行長度編碼法等而壓縮之影像資料之情況。曝光裝置40根據該2進制影像資料在基板描繪圖案。更具體而言，曝光裝置40在與2進制影像資料之ON 像素對應之基板上之區域照射光，在與OFF像素對應之區域不照射光。
比較檢查部34將成為檢查對象之曝光圖案資料所示之圖案，和成為該曝光圖案資料之基本之CAD資料所示之圖案進行比較。此時之比較方法可以考慮數種方法。以下分別說明典型之比較方法之「中心比較」，「完全包括比較」，「重要比較」之3種之比較方法。但是，亦可以使用與該3種之比較方法不同之比較方法。
首先，參照圖4用來說明「中心比較」。中心比較之方法是藉判斷曝光圖案資料之各個像素之中心是否位於CAD資料所示圖案之輪廓之內部，而將曝光圖案資料所示之圖案和CAD資料所示之圖案進行比較。曝光圖案資料之像素B-3(B行之第3列之像素)為OFF像素，但是其中心因為位於CAD資料所示圖案之輪廓之內部，所以在中心比較中像素B-3本來應為ON像素。因此，該像素B-3被判定為從CAD資料所示之圖案偏移之像素(偏移像素)。另外，像素D-7為ON像素，其中心因為位於輪廓之外部，所以本來應為OFF像素。因此，像素D-7亦被判定為偏移像素。同樣地，像素G-4亦被判定為偏移像素。亦即，在中心比較中，中心位於輪廓之內部之OFF像素和中心位於輪廓之外部之ON像素，被判定為偏移像素。在欲驗証曝光圖案資料所示之圖案是否與CAD資料所示之圖案大致相同大小時，中心比較較為有用。
其次，參照圖5說明「完全包括比較」。完全包括比較 之方法是判斷曝光圖案資料之各個像素之4個角之全部是否位於CAD資料所示之圖案輪廓之內側，用來使曝光圖案資料所示圖案和CAD資料所示圖案進行比較。曝光圖案資料之像素B-4為ON像素，但是因為其4個角中只有2個位於輪廓之內側，所以在完全包括比較中像素B-4本來應為OFF像素。因此，該像素B-4被判定為偏移像素。另外，像素C-6為ON像素，但是因為其4個角中只有3個位於輪廓之內側，所以本來應為OFF像素。因此，該像素C-6亦被判定為偏移像素。同樣地，像素B-5、像素C-2、像素D-2、像素D-7、像素E-2、像素F-3、像素F-6、像素G-4亦被判定為偏移像素。亦即，在完全包括比較中，全部之角位於輪廓內部之OFF像素，和至少1個角位於輪廓之外部之ON像素，被判定為偏移像素。在驗証曝光圖案資料所示之圖案是否扭出CAD資料所示之圖案時，完全包括比較較為有用。
其次，參照圖6說明「重要比較」。重要比較之方法是藉判斷曝光圖案資料之各個像素之4個角之至少1個是否位於CAD資料所示之圖案輪廓之內側，用來將曝光圖案資料所示之圖案和CAD資料所示之圖案進行比較。曝光圖案資料之像素B-2為OFF像素，但是因為其4個角中之1個位於輪廓內側，所以在重要比較中像素B-2本來應為ON像素。因此，該像素B-2被判定為偏移像素。另外，像素B-3為OFF像素，但是因為其4個角中2個位於輪廓之內側，所以本來應為ON像素。因此，像素B-3亦被判 定為偏移像素。同樣地，像素B-6、像素C-7、像素E-7、像素F-2、像素F-7、像素G-3、像素G-5、像素G-6亦被判定為偏移像素。亦即，在重要比較中，至少1個角位於輪廓內部之OFF像素，全部角位於輪廓之外部之ON像素，係被判定為偏移像素。在欲驗証曝光圖案資料所示之圖案是否完全涵蓋CAD資料所示之圖案時，重要比較較為有用。
另外，上述3個比較方法中之哪一個比較方法最適當，由於依照欲製造之印刷基板之種類或使用者之喜好而變，所以最好使用者可以經由鍵盤等輸入裝置，自由指定在比較檢查部34使用哪一種比較方法來進行比較檢查。其實現可以經由在曝光圖案資料檢查裝置30更設置切換手段，其依照使用者經由輸入裝置輸入之指示，切換比較檢查部34之比較方法。
另外，在CAD資料所示之圖案和曝光圖案資料所示之圖案之間，產生偏移之主要原因可列舉將向量形式之CAD資料切換成為光柵形式之曝光圖案資料時之量子化誤差和切換誤差，或在影像處理裝置20進行上述之圖案校正處理(變粗/變細處理)。
另外，比較檢查部34亦可以在進行上述比較時，依照需要將CAD資料或曝光圖案資料之任一者或雙方形式切換成為其他形式，再進行比較。例如，亦可將CAD資料從向量形式之資料切換成為位元映像資料或執行長度編碼法資料或變化點資料(表示成使2進制之影像資料「0」→ 「1」或「1」→「0」變化之點座標之列表之資料)。
比較檢查部34以上述方式檢測偏移像素之後，依照檢查基準表36判斷該偏移像素是否為缺陷像素。但是，表1之檢查基準表36只不過是一實例。
在曝光圖案資料之檢查時，最好就構成曝光圖案之每一個零件變化檢查基準。例如，對於信號線(參照圖8)，因為對印刷基板之品質之影響較大，所以對線寬或接近之圖案間之間隔等要嚴格地檢查。對於焊墊部(參照圖8)，要檢查面積是否充分。對於地線部(參照圖8)，因為對印刷基板之品質不會有很大之影響，所以稍微之歪斜、粗、細均可忽視。對於餘隙孔洞(鑽孔)(參照圖9)，要檢查是否位於正確之位置。在檢查基準表36就構成曝光圖案之每一個零件規定不同之檢查基準。比較檢查部34可由CAD資料所含之屬性資訊(零件屬性資訊)，判斷曝光圖案資料之各點相當於哪一個零件。CAD資料所含之屬性資訊，例如，包含有信號線，焊墊部，地線部，餘隙孔洞(鑽孔) 等(參照圖8、圖9)。
比較檢查部34在檢測偏移像素時，首先，根據CAD資料所含之屬性資訊判斷該偏移像素是否為圖案之焊墊部份之偏移像素，或線部份之偏移像素，或外框部份之偏移像素，或厚塗部份之偏移像素，或其他部份之偏移像素。更進一步，比較檢查部34計算該偏移像素之偏移量(表示對CAD資料所示之圖案之偏移程度的值)。偏移量之計算方法可考慮各種之方法。其一實例是算出從偏移像素之中心到CAD資料所示圖案之輪廓線之距離作為偏移量。然後比較檢查部34參照檢查基準表36判斷該偏移像素是否為缺陷像素。在表1之檢查基準表36，對於焊墊部份或線部份，當圖案有偏移時成為重大之缺陷之可能性變高，因此要求高精確度，所以偏移量即使為1個像素亦視為缺陷像素。另外，對於外框部份或厚部份，在圖案即使有稍微之偏移成為重大之缺陷之可能性較低，所以在偏移量未滿5個像素之情況時不視為缺陷像素，只有偏移量在5個像素以上之情況才視為缺陷像素。另外，對於其他之部份，只有偏移量在3個像素以上之情況才視為缺陷像素。
另外，亦可設有多個之檢查基準表，讓使用者可視需要切換比較檢查部34所參照之檢查基準表來構成曝光圖案資料檢查裝置30。
其次，參照圖7之流程圖，說明曝光圖案資料檢查裝置30之動作。
首先，資料輸入部32輸入曝光圖案資料(S10)，更輸入CAD資料(S12)。
其次，比較檢查部34進行使曝光圖案資料所示圖案和CAD資料所示圖案之對位和標度配合(S14)。
然後，比較檢查部34利用上述比較處理檢測偏移像素(S16)，根據CAD資料所含之屬性資訊，判斷檢測到之偏移像素是圖案之哪個部份(或零件)(S18)，檢測該偏移像素之偏移量(S20)。然後，比較檢查部34依照檢查基準表36，判定該偏移像素是否為缺陷像素(S22)。
當結束比較檢查部34之檢查時，檢查結果輸出部38輸出表示檢測到缺陷像素之位置的座標資料或影像資料作為檢查結果(S24)。例如，比較檢查部34亦可將作為表示檢查結果之影像資料如圖4影像顯示在顯示器。
使用者檢視由檢查結果輸出部38輸出之檢查結果，可視需要修正CAD資料或曝光圖案資料。另外，替代使用者手動修正CAD資料或曝光圖案資料之方式，亦可以在曝光圖案資料檢查裝置30設置修正手段，來自動修正(變粗處理或變細處理等)曝光圖案資料以使偏移像素之偏移量在容許量以下。
如上所述，依照本實施形態，根據CAD資料所含之屬性資訊，判斷偏移像素對應到圖案之哪一個部份(或零件)，依照與該部份(或零件)對應之檢查基準，判斷偏移像素是否為缺陷像素。利用此種方式，當與依照同一檢查基準比較檢查圖案整體之情況比較時，可以具有各種之優點。 例如，在依照同一檢查基準比較檢查圖案整體之情況時，對於對印刷基板之品質不會有很大影響之外框部份或厚塗部份之稍微偏移，亦對使用者提示為缺陷，所以其結果是使用者確認檢查結果之時間會多餘地增加，看漏對品質具有重大影響之缺陷之可能性亦會增加。
另外，在本實施形態中，利用CAD資料所含之屬性資訊，判斷偏移像素為圖案之哪一個部份(或零件)，但是判斷偏移像素為圖案之哪一個部份(或零件)之其他方法，亦可以考慮對曝光圖案資料進行影像辨識處理之方法。但是，在進行影像辨識處理之情況時，因為會有處理時間變長或辨識錯誤產生等之問題，所以利用CAD資料所含之屬性資訊的方法比較有效。當然，不只是利用CAD資料所含之屬性資訊，亦可更進行除此之外之影像辨識處理。
另外，在本實施形態中是使用如表1所示之檢查基準表36來判定偏移像素是否為缺陷像素，但是本發明並不限定於此。例如，除了如表1所示之檢查基準外，亦可以依照如表2所示之追加檢查基準，來判定偏移像素是否為缺陷像素。表2所示追加之檢查基準為考慮到在曝光步驟後進行之蝕刻步驟之蝕刻速度不均的檢查基準。例如，在對於線之前端部份，因為蝕刻步驟之蝕刻速度比較快，容易變成過度蝕刻，所以即使曝光圖案資料所示圖案比CAD資料所示圖案粗，亦大多不會有問題。亦有寧可預測過度蝕刻，在影像處理裝置20中校正曝光圖案資料以使線之前端部份變粗。因此，在表2所示追加之檢查基準中，對於 線之前端部份之偏移像素，當曝光圖案資料所示圖案比CAD資料所示圖案粗之情況時，則不視為缺陷像素。利用此種方式，當在影像處理裝置20進行過正確之校正處理(對線之前端部份進行粗化處理)之情況時，該部份不視作缺陷，當在影像處理裝置20進行過錯誤之校正處理(對線之前端部份的細化處理)之情況時，該部份視為缺陷，將其通知給使用者。
同樣地，在表2所示追加之檢查基準，對於圖案之凸角部份，因為蝕刻步驟之蝕刻速度較快，容易變成過度蝕刻，所以在曝光圖案資料所示之圖案比CAD資料所示之圖案粗之情況時則不視為缺陷像素(但是，越超過容許量越粗之情況時亦可以視為缺陷像素)。另外，對於圖案之凹角部份，因為蝕刻步驟之蝕刻速度比較慢，容易變成蝕刻不足，所以在曝光圖案資料所示之圖案比CAD資料所示之圖案細之情況時，則不視為缺陷像素。最好參照CAD資料所含之屬性資訊用來判斷偏移像素為線之前端部之像素，或為凸角部份之像素，或為凹角部份之像素，但是亦可以利用影像辨識處理進行判斷。
另外，在以狹窄之間隔排列多個線之部份中，不只是各線之寬度是否充分，線間之空間部份之寬度是否充分亦會大幅地影響印刷基板之品質。因此，在比較檢查部34亦可以進行曝光圖案資料中之線間隔是否可以充分確保之檢測。在曝光圖案資料中最好根據CAD資料之屬性資訊判斷哪一個部份為線間之部份，但是亦可以利用影像辨識處理來判斷。
另外，在CAD資料和曝光圖案資料亦可包含有用以表示在鑽孔步驟所利用之鑽孔之位置和大小的圖案，但是對於此種鑽孔之圖案，亦可以在本實施形態之比較檢查部34中進行檢查。亦即，在檢查基準表36預先設定與鑽孔之部份對應之檢查基準，而可以依與鑽孔之開孔用之鑽孔餘裕精確度對應的檢查基準來進行鑽孔之檢查。可以根據CAD資料所含之屬性資訊判斷檢查對象之圖案哪一個部份為鑽孔。
另外，比較檢查部34之功能可以只以硬體實現，亦可以利用通用之電腦和軟體(曝光圖案資料檢查程式)之組合來實現。在後者之情況時，曝光圖案資料檢查程式可以經由電腦可讀取之記錄媒體，供給到曝光圖案資料檢查裝置30，亦可以經由通信線路，供給到曝光圖案資料檢查裝置30。或者，亦可以將曝光圖案資料檢查程式預先儲存在曝光圖案資料檢查裝置30之內部之非揮發性記憶裝置。
另外，本發明並不只限於將CAD資料和曝光圖案資料進 行比較之情況，亦可以適用在將包含屬性資訊之其他任意形式之設計資料(例如CAM資料)和曝光圖案資料進行比較之情況。
以上雖已詳細說明本發明，但是上述之說明在所有特點只不過是本發明之實例，不是用來限定其範圍者。當然，亦可在不脫離本發明之範圍下進行各種改良或變化。
10‧‧‧CAD系統
20‧‧‧影像處理裝置
30‧‧‧曝光圖案資料檢查裝置
32‧‧‧資料輸入部
34‧‧‧比較檢查部
36‧‧‧檢查基準表
38‧‧‧檢查結果輸出部
40‧‧‧曝光裝置
圖1為方塊圖，用來表示印刷基板製造系統之整體構造。
圖2為功能方塊圖，用來表示曝光圖案資料檢查裝置之內部構造。
圖3表示檢查對象之曝光圖案資料，和CAD資料所示之圖案輪廓。
圖4表示中心比較。
圖5表示完全包括比較。
圖6表示重要比較。
圖7為流程圖，用來表示曝光圖案資料檢查裝置之動作。
圖8表示曝光圖案資料所示圖案之一實例。
圖9表示曝光圖案資料所示圖案之另一實例。
30‧‧‧曝光圖案資料檢查裝置
32‧‧‧資料輸入部
34‧‧‧比較檢查部
36‧‧‧檢查基準表
38‧‧‧檢查結果輸出部

Claims (6)

  1. 一種曝光圖案資料檢查裝置，用來檢查在曝光裝置之印刷基板之直描步驟中所使用之圖案曝光資料；其特徵在於，該曝光圖案資料檢查裝置係具備有：資料輸入單元，用來輸入上述曝光圖案資料和成為該曝光圖案資料之基本的設計資料；比較檢查單元，藉由將上述曝光圖案資料和上述設計資料進行比較，來進行上述曝光圖案資料之檢查；和檢查結果輸出單元，用來輸出經上述之比較檢查單元之檢查結果；而在由上述資料輸入單元輸入之上述設計資料中包含有屬性資訊，用來表示該設計資料所示圖案之各個部份屬性，上述比較檢查單元根據上述設計資料所含之屬性資訊，將上述曝光圖案資料所示圖案之各個部份依照與該部份之屬性對應的檢查基準進行檢查，上述比較檢查單元根據上述屬性資訊，判定上述曝光圖案資料所示圖案之各個部份是否為焊墊部份，是否為線部份，是否為外框部份，是否為厚塗部份之至少任一者。
  2. 如申請專利範圍第1項之曝光圖案資料檢查裝置，其中，上述比較檢查單元根據上述屬性資訊，變化上述曝光圖案資料所示之圖案和上述設計資料所示之圖案之偏移容 許量。
  3. 如申請專利範圍第1項之曝光圖案資料檢查裝置，其中，上述比較檢查單元在上述曝光圖案資料所示之圖案之某一部份對於上述設計資料所示之圖案之對應部份較粗或較細時，根據上述屬性資訊判定該部份是否視為缺陷。
  4. 如申請專利範圍第1項之曝光圖案資料檢查裝置，其中，上述設計資料為向量形式資料，上述曝光圖案資料為光柵形式之資料。
  5. 一種曝光圖案資料檢查方法，係用來檢查在曝光裝置之印刷基板之直描步驟中所使用之圖案曝光資料；其特徵在於，該曝光圖案資料檢查方法具備有：資料輸入步驟，用來輸入上述曝光圖案資料和成為該曝光圖案資料之基本的設計資料；比較檢查步驟，藉由將上述曝光圖案資料和上述設計資料進行比較，用來進行上述曝光圖案資料之檢查；和檢查結果輸出步驟，用來輸出上述比較檢查步驟之檢查結果；而在上述資料輸入步驟中輸入之上述設計資料包含有屬性資訊，用來表示該設計資料所示圖案之各個部份之屬性，在上述比較檢查步驟中根據上述設計資料所含之屬性 資訊，將上述曝光圖案資料所示圖案之各個部份依照與該部份之屬性對應之檢查基準進行檢查，在上述比較檢查步驟中根據上述屬性資訊，判定上述曝光圖案資料所示圖案之各個部份是否為焊墊部份，是否為線部份，是否為外框部份，是否為厚塗部份之至少任一者。
  6. 一種電腦可讀取之記憶媒體，儲存有曝光圖案資料檢查程式，用來檢查在曝光裝置之印刷基板之直描步驟中所使用之曝光圖案資料；其特徵在於，該曝光圖案資料檢查程式在電腦實行：資料輸入步驟，用來輸入上述曝光圖案資料和成為該曝光圖案資料之基本的設計資料；比較檢查步驟，藉由將上述曝光圖案資料和上述設計資料進行比較，來進行上述曝光圖案資料之檢查；和檢查結果輸出步驟，用來輸出經上述比較檢查步驟之檢查結果；而於在上述資料輸入步驟中輸入之上述設計資料包含有屬性資訊，用來表示該設計資料所示圖案之各個部份屬性，在上述比較檢查步驟中根據上述設計資料所含之屬性資訊，將上述曝光圖案資料所示圖案之各個部份依照與該部份之屬性對應的檢查基準進行檢查，在上述比較檢查步驟中根據上述屬性資訊，判定上述曝光圖案資料所示圖案之各個部份是否為焊墊部份，是否為線部份，是否為外框部份，是否為厚塗部份之至少任一者。
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