JP6034112B2 - 支援装置、描画システム、および、支援方法 - Google Patents
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Description
また、パターンデータ内の1以上の位置と、当該1以上の位置のそれぞれの評価結果を含んだ位置リストが表示部に表示される。したがって、オペレータは、位置リストに含まれる1以上の位置のそれぞれにおいて、パターンデータが設計データと許容範囲内で一致しているか否かを一目で把握することができる。
実施の形態に係る描画システム100について、図1を参照しながら説明する。図1は、描画システム100の全体構成を示す図である。
設計データ作成装置1は、基板Wに描画するべき図形(具体的には、例えば、回路などのパターン)を記述したデータを、例えばCAD(Computer Aided Design)を用いて作成・編集する装置であり、基板Wに描画するべき図形を記述したベクター形式のデータ(具体的には、例えば、CADデータ)を出力する。CADデータは、例えば、ストリームフォーマット(例えば、GDSII)と呼ばれるセル階層を有するデータフォーマットで表現されており、各セル階層には、少なくとも1以上の図形に関する情報(例えば、図形の位置および形状に関する情報であり、具体的には、図形の頂点位置座標等)やセル参照情報などが保有されている。設計データ作成装置1から出力されたデータを、以下「設計データ7」ともいう。
RIP装置2は、設計データ作成装置1から設計データ7を取得し、当該取得した設計データ7をRIP処理して出力する。RIP処理とは、具体的には、ベクター形式のデータをラスター形式のデータに変換する処理である。設計データ7をRIP処理して得られるラスター形式のデータ(以下、「パターンデータ8」ともいう)では、図2に模式的に示されるように、設計データ7に含まれる各図形(以下「元図形」ともいう)71が、複数の線分(ラン80)によって表現された図形(以下「変換図形」ともいう)81に変換される。つまり、設計データ7に含まれる各元図形71は、パターンデータ8においては、第1の方向に沿って1以上の画素が配列されてなるランが、第1の方向と直交する第2の方向に沿って1個以上配列されることによって、表現される(所謂、「ランレングスデータ」)。以下の説明においては、第1の方向、すなわち、ランの延在方向を、Y方向とする。また、第2の方向、すなわち、ランの配列方向を、X方向とする。RIP装置2は、設計データ7をRIP処理することによって得られたラスター形式のデータを、必要に応じてランレングス符号化処理した上で、描画装置4に出力する。
支援装置3は、描画装置4に提供されるパターンデータ8の確認を支援する装置である。すなわち、オペレータは、RIP装置2が設計データ7をRIP処理するのに先立って、当該RIP処理で意図に沿うパターンデータ8が得られることを確認する作業を行い、必要に応じてRIPパラメータの変更を行うところ、支援装置3は、オペレータのこの確認作業を支援する。支援装置3の構成については、後に具体的に説明する。
描画装置4は、感光材料が形成された基板Wにパターンを露光(描画)する装置である。具体的には、描画装置4は、設計データ7をRIP処理したパターンデータ8(すなわち、基板Wに描画するべき図形を、画素位置ごとの露光の有無で表現したデータであるパターンデータ8)をRIP装置2から取得して、当該パターンデータ8に応じて光に変調を施して描画光を生成し、この描画光を感光材料が形成された基板Wに向けて照射しながら、基板上の感光材料を走査して、基板Wにパターンを描画する。
描画システム100にて実行される処理の流れについて、引き続き図1を参照しながら説明する。
<3−1.ハードウェア構成>
支援装置3のハードウェア構成について、図3を参照しながら説明する。
支援装置3は、上述したとおり、オペレータが、設計データ7をRIP処理して得られるパターンデータ8が意図に沿うものであるかを確認する作業を、支援する。支援装置3にて実現される機能構成について、図4を参照しながら説明する。図4は、支援装置3が備える機能構成を示すブロック図である。図示される各部は、例えば、プログラムPrに記述された手順に従ってCPU301が演算処理を行うことにより実現される。
リスト生成部30は、位置リスト6を生成する。位置リスト6は、パターンデータ8内の1以上の位置が登録されたリストである。すなわち、位置リスト6においては、パターンデータ8内の1つの位置が1個のレコードと対応付けられており、各レコードには、パターンデータ8内の位置を特定する情報(座標情報)が少なくとも含まれる。
第1生成部31について、図4に加え、図5を参照しながら説明する。図5は、確認支援画面5(具体的には、「Manual」と表示されたタブ540が選択された状態の確認支援画面5であり、以下「第1支援画面51」とも示す)の構成例を示す図である。第1支援画面51は、寸法評価リスト61を表示する表示画面として機能するとともに、寸法評価リスト61の生成に関する各種の入力をオペレータから受け付ける入力画面としても機能する。
位置受付部311は、寸法評価リスト61に含めるべき位置の指定を受け付けて、寸法評価リスト61に登録する。ここでは、オペレータは、第1支援画面51を介して直接に位置の指定を入力することによって、あるいは、別途作成されているデータ(寸法評価リスト61に登録すべき位置を登録したデータ)を読み込む旨を指示入力することによって、寸法評価リスト61に含めるべき位置を指定することができるようになっている。
評価部312は、寸法評価リスト61に登録されている1以上の位置のそれぞれを評価して、各位置の評価情報を取得する。評価部312が、各位置の評価を行う態様について、図2を参照しながら具体的に説明する。
評価情報登録部313は、寸法評価リスト61に登録されたパターンデータ8内の1以上の位置のそれぞれを評価部312が評価することにより得られた評価情報を、寸法評価リスト61に登録する。ただし、ここでは、評価情報登録部313は、X軸に沿う第1のX線分X1と、Y軸に沿う第1のY線分Y1とを比較して、短い線分を与えている方向を、登録対象とし、登録対象とされた方向についての評価情報だけを、評価部312に登録する。パターンデータ8の確認において重要となるのは、多くの場合、変換図形81の短尺方向の幅(すなわち、パターンの短尺方向の寸法)であるところ、この構成によると、当該短尺方向の幅を効率的に確認することができる。もっとも、評価部312は、X方向についての評価情報と、Y方向についての評価情報との両方を、寸法評価リスト61に登録する構成であってもよい。
第1生成部31が寸法評価リスト61を生成する処理の流れについて、図11を参照しながら説明する。図11は、当該処理の流れを示す図である。
第2生成部32について、図4に加え、図6〜図8を参照しながら説明する。図6〜図8の各図は、確認支援画面5(具体的には、「Minimum Run」と表示されたタブ540が選択された状態の確認支援画面5であり、以下「第2支援画面52」とも示す)の構成例を示す図である。第2支援画面52は、極小ランリスト62を表示する表示画面として機能するとともに、極小ランリスト62の生成に関する各種の入力をオペレータから受け付ける入力画面としても機能する。
領域受付部321は、極小ランの検索の対象とするべきパターンデータ8内の領域(ここでは、矩形領域)の指定を受け付ける。ここでは、オペレータは、第2支援画面52を介して位置の指定を入力することによって、極小ランの検索の対象とするべき領域を指定することができるようになっている。
極小ラン抽出部322は、領域受付部321が受け付けたパターンデータ8内の領域(以下「指定領域」ともいう)内に存在する極小ランを抽出する。
グループ化処理部323は、極小ラン抽出部322が抽出した極小ランを、グループ化する。すなわち、グループ化処理部323は、抽出された各極小ランのうち、離間距離(例えば、ランの中点間の離間距離)が定められた値R1以下の極小ラン同士をまとめてグループ化する。そして1つのグループにまとめられた複数の極小ランを代表する1個の位置(代表位置)を取得する。この代表位置として、具体的には、例えば、1つのグループにまとめられた複数の極小ランを囲むことができる最小の矩形領域の中心の位置、また例えば、当該複数の極小ランの座標位置を平均した位置、などを採用することができる。
抽出情報登録部324は、極小ラン抽出部322が抽出した各極小ランの位置(極小ランがグループ化されている場合は、1つのグループにまとめられている複数の極小ランを代表する1個の位置)を、極小ランリスト62に登録する。
第2生成部32が極小ランリスト62を生成する処理の流れについて、図4および図6〜図8に加え、図12を参照しながら説明する。図12は、当該処理の流れを示す図である。
第3生成部33について、図4に加え、図9を参照しながら説明する。図9は、確認支援画面5(具体的には、「Sliver」と表示されたタブ540が選択された状態の確認支援画面5であり、以下「第3支援画面53」とも示す)の構成例を示す図である。第3支援画面53は、幅狭図形リスト63を表示する表示画面として機能するとともに、幅狭図形リスト63の生成に関する各種の入力をオペレータから受け付ける入力画面としても機能する。
領域受付部331は、幅狭図形の検索の対象とするべきパターンデータ8内の領域(ここでは、矩形領域)の指定を受け付ける。ここでは、オペレータは、第3支援画面53を介して位置の指定を入力することによって、幅狭図形の検索の対象とするべき領域を指定することができるようになっている。
幅狭図形抽出部332は、領域受付部331が受け付けたパターンデータ8内の領域(以下「指定領域」ともいう)内に存在する幅狭図形を抽出する。
グループ化処理部333は、幅狭図形抽出部332が抽出した幅狭図形を、グループ化する。すなわち、グループ化処理部333は、抽出された各幅狭図形のうち、離間距離(例えば、幅狭図形の中心間の離間距離)が定められた値R2以下の幅狭図形同士をまとめてグループ化する。そして1つのグループにまとめられた複数の幅狭図形を代表する1個の位置(代表位置)を取得する。この代表位置として、具体的には、例えば、1つのグループにまとめられた複数の幅狭図形を囲むことができる最小の矩形領域の中心の位置、また例えば、当該複数の幅狭図形の座標位置を平均した位置、などを採用することができる。
抽出情報登録部334は、幅狭図形抽出部332が抽出した各幅狭図形の位置(幅狭図形がグループ化されている場合は、1つのグループにまとめられている複数の幅狭図形を代表する1個の位置)を、幅狭図形リスト63に登録する。
第3生成部33が幅狭図形リスト63を生成する処理の流れについて、図4および図9に加え、図13を参照しながら説明する。図13は、当該処理の流れを示す図である。
第4生成部34について、図4に加え、図10を参照しながら説明する。図10は、確認支援画面5(具体的には、「Alignment」と表示されたタブ540が選択された状態の確認支援画面5であり、以下「第4支援画面54」とも示す)の構成例を示す図である。第4支援画面54は、マークリスト64を表示する表示画面として機能する。
マーク位置登録部341は、設計データ7に含まれるアライメントマークALの位置を、マークリスト64に登録する。具体的には、マーク位置登録部341は、オペレータが「Alignment」と表示されたタブ540を選択して第4支援画面54を表示させると、記憶装置304などに記憶された定められたデータを読み込んで、当該データに登録されている設計データ7内のアライメントマークALの各位置を寸法評価リスト61に登録する。すなわち、マーク位置登録部341は、当該データに登録されている1以上の位置の個数と同数個のレコードをマークリスト64に作成し、当該登録されている各位置の座標を、各レコードの「X」「Y」の各項目に登録する。したがって、オペレータは、例えば、設計データ7の作成時に、設計データ7内のアライメントマークALの位置をリストアップしたデータを作成して、これを記憶装置304に記憶させておけば、当該アライメントマークALの位置をマークリスト64に直ちに登録することができる。
再び図4を参照する。リスト表示制御部35は、表示部307を制御して、確認支援画面5のリスト表示領域510に、リスト生成部30によって生成された位置リスト6を、表示させる。ただし、上述したとおり、リスト表示領域510にどの種類の位置リスト6が表示されるかは、選択されるタブによって変わってくる。すなわち、リスト表示制御部35は、「Manual」と表示されたタブ540が選択された状態の第1支援画面51のリスト表示領域510には、寸法評価リスト61を表示させる(図5)。また、リスト表示制御部35は、「Minimum Run」と表示されたタブ540が選択された状態の第2支援画面52のリスト表示領域510には、極小ランリスト62を表示させる(図7、図8)。また、リスト表示制御部35は、「Sliver」と表示されたタブ540が選択された状態の第3支援画面53のリスト表示領域510には、幅狭図形リスト63を表示させる(図9)。また、リスト表示制御部35は、「Alighment」と表示されたタブ540が選択された状態の第4支援画面54のリスト表示領域510には、マークリスト64を表示させる(図10)。
選択受付部36は、リスト表示領域510を介して、ここに表示されている位置リスト6に登録されている1以上の位置のいずれかを選択する選択操作をオペレータから受け付ける。つまり、リスト表示領域510は、当該選択操作をオペレータから受け付ける受付画面領域としても機能する。
領域表示制御部37は、表示部307を制御して、確認支援画面5のパターンデータ表示領域520に、選択受付部36がオペレータから受け付けた位置(選択位置)と対応するパターンデータ8の部分領域と、当該部分領域と対応する設計データ7の部分領域とを重ねて、表示させる。ただし、領域表示制御部37の制御下で表示されるパターンデータ表示領域520においては、その幾何学中心Cに、選択位置が表示される。したがって、パターンデータ表示領域520が矩形領域である場合、選択位置に対応するパターンデータ8の部分領域とは、選択位置を中心とする矩形領域となる。
支援装置3にて実行される処理の流れについて、図14を参照しながら説明する。図14は、当該処理の流れを示す図である。
上記の実施の形態によると、パターンデータ8内の1以上の位置が登録されている位置リスト6が表示部307に表示されるとともに、位置リスト6に登録された位置のうち、オペレータが選択した位置と対応するパターンデータ8の部分領域が表示部307に表示される。この構成によると、オペレータは、位置リスト6を見ながら任意の位置を選択するだけで、パターンデータ8における当該選択した位置と対応する部分領域の状態を確認することができる。したがって、オペレータは、パターンデータ8の確認作業をスムーズに行うことができる。
上記の実施の形態において、領域表示制御部37は、パターンデータ表示領域520内に、選択位置に対応するパターンデータ8の部分領域と重ねて、当該部分領域と対応する設計データ7の部分領域を表示させる構成としたが、当該部分領域と対応する設計データ7の部分領域は必ずしも表示させる必要はなく、図15のパターンデータ表示領域520aに示されるように、パターンデータ8の部分領域のみを表示する構成としてもよい。
1 設計データ作成装置
2 RIP装置
3 支援装置
307 表示部
4 描画装置
7 設計データ
8 パターンデータ
30 リスト生成部
31 第1生成部
311 位置受付部
312 評価部
313 評価情報登録部
32 第2生成部
321 領域受付部
322 極小ラン抽出部
323 グループ化処理部
324 抽出情報登録部
33 第3生成部
331 領域受付部
332 幅狭図形抽出部
333 グループ化処理部
334 抽出情報登録部
34 第4生成部
341 マーク位置登録部
35 リスト表示制御部
36 選択受付部
37 領域表示制御部
6 位置リスト
61 寸法評価リスト
62 極小ランリスト
63 幅狭図形リスト
64 マークリスト
5 確認支援画面
510 リスト表示領域
520 パターンデータ表示領域
W 基板
Claims (17)
- ベクトル形式の設計データをRIP処理して得られるラスター形式のパターンデータを用いて前記パターンデータに表現されたパターンを基板に描画する描画装置に提供される前記パターンデータの確認を支援する装置であって、
パターンデータ内の1以上の位置を登録した位置リストを生成する位置リスト生成部と、
前記位置リストを、表示部に表示させるリスト表示制御部と、
前記位置リストに登録されている前記1以上の位置のいずれかの選択を受け付ける選択受付部と、
前記選択受付部が受け付けた位置と対応する前記パターンデータの部分領域を、前記表示部に表示させる領域表示制御部と、
を備え、
前記位置リスト生成部が、
前記位置リストに登録するべき1以上の位置の指定を受け付ける位置受付部と、
前記位置受付部が受け付けた1以上の位置のそれぞれにおいて、前記パターンデータと前記設計データとを比較して、両データの相違が許容値範囲内である場合に、当該位置に対して肯定的評価を与える評価部と、
前記位置リストに、前記位置受付部が受け付けた前記1以上の位置と対応づけて、前記1以上の位置のそれぞれについて前記評価部が与えた評価情報を登録する登録部と、
を備える、支援装置。 - 請求項1に記載の支援装置であって、
前記パターンデータにおいて、第1の方向に沿う線分が前記第1の方向と直交する第2の方向に沿って1個以上配列されることによって表現された図形を変換図形と呼ぶとして、
前記評価部が、
前記パターンデータにおける評価対象の位置を通り、両端が前記変換図形のエッジと一致する第1の線分の長さと、前記設計データにおける前記評価対象の位置と対応する位置を通り、前記第1の線分と平行な方向に延在して、両端が前記設計データに含まれる図形のエッジと一致する第2の線分の長さと、の差分を算出して、前記差分が許容範囲内である場合に、当該評価対象の位置に対して肯定的評価を与える、
支援装置。 - 請求項1または2に記載の支援装置であって、
前記位置リスト生成部が、
前記パターンデータ内の領域の指定を受け付ける領域受付部と、
前記領域受付部が受け付けた領域内に存在する、定められた特徴を有する特徴部分を抽出する抽出部と、
前記位置リストに、前記抽出部が抽出した前記特徴部分の位置を登録する登録部と、
を備える、支援装置。 - 請求項3に記載の支援装置であって、
前記位置リスト生成部が、
前記抽出部が抽出した前記特徴部分のうち、離間距離が定められた値以下のもの同士をまとめてグループ化するグループ化部、
を備え、
前記登録部が、
前記グループ化部によって複数の特徴部分が1つのグループにまとめられた場合に、当該複数の特徴部分を代表する1個の位置を、前記位置リストに登録する、
支援装置。 - 請求項3または4に記載の支援装置であって、
前記パターンデータにおいて、前記設計データに含まれる図形が、第1の方向に沿う線分が前記第1の方向と直交する第2の方向に沿って1個以上配列されることによって表現されており、
前記抽出部が、
前記線分が、その長さが定められた値に満たないために生成されなかった部分を、前記特徴部分として抽出する、
支援装置。 - 請求項3または4に記載の支援装置であって、
前記パターンデータにおいて、第1の方向に沿う線分が前記第1の方向と直交する第2の方向に沿って1個以上配列されることによって表現された図形を変換図形と呼ぶとして、
前記抽出部が、
前記第2の方向に沿う長さが定められた許容値よりも小さい変換図形を、前記特徴部分として抽出する、
支援装置。 - 請求項1から6のいずれかに記載の支援装置であって、
前記パターンデータの前記部分領域が表示される表示領域の幾何学中心に、前記選択受付部が受け付けた位置が表示される、
支援装置。 - 請求項1から7のいずれかに記載の支援装置であって、
前記領域表示制御部が、
前記パターンデータの前記部分領域と重ねて、当該部分領域と対応する前記設計データの部分領域を表示させる、
支援装置。 - ベクトル形式の設計データをRIP処理して得られるラスター形式のパターンデータを用いて、前記パターンデータに表現されたパターンを基板に描画する描画装置と、
請求項1から請求項8のいずれかに記載の支援装置と、
を備える、描画システム。 - ベクトル形式の設計データをRIP処理して得られるラスター形式のパターンデータを用いて前記パターンデータに表現されたパターンを基板に描画する描画装置に提供される前記パターンデータの確認を支援する方法であって、
a)パターンデータ内の1以上の位置を登録した位置リストを生成する工程と、
b)前記位置リストを、表示部に表示させる工程と、
c)前記位置リストに登録されている前記1以上の位置のいずれかの選択を受け付ける工程と、
d)前記c)工程で受け付けられた位置と対応する前記パターンデータの部分領域を、前記表示部に表示させる工程と、
を備え、
前記a)工程が、
a1)前記位置リストに登録するべき1以上の位置の指定を受け付ける工程と、
a2)前記a1)工程で受け付けられた1以上の位置のそれぞれにおいて、前記パターンデータと前記設計データとを比較して、両データの相違が許容値範囲内である場合に、当該位置に対して肯定的評価を与える工程と、
a3)前記位置リストに、前記a1)工程で受け付けられた前記1以上の位置と対応づけて、前記1以上の位置のそれぞれについて前記a2)工程で与えられた評価情報を登録する工程と、
を備える、支援方法。 - 請求項10に記載の支援方法であって、
前記パターンデータにおいて、第1の方向に沿う線分が前記第1の方向と直交する第2の方向に沿って1個以上配列されることによって表現された図形を変換図形と呼ぶとして、
前記a2)工程において、
前記パターンデータにおける評価対象の位置を通り、両端が前記変換図形のエッジと一致する第1の線分の長さと、前記設計データにおける前記評価対象の位置と対応する位置を通り、前記第1の線分と平行な方向に延在して、両端が前記設計データに含まれる図形のエッジと一致する第2の線分の長さと、の差分を算出して、前記差分が許容範囲内である場合に、当該評価対象の位置に対して肯定的評価を与える、
支援方法。 - 請求項10または11に記載の支援方法であって、
前記a)工程が、
a4)前記パターンデータ内の領域の指定を受け付ける工程と、
a5)前記a4)工程で受け付けられた領域内に存在する、定められた特徴を有する特徴部分を抽出する工程と、
a6)前記位置リストに、前記a5)工程で抽出された前記特徴部分の位置を登録する工程と、
を備える、支援方法。 - 請求項12に記載の支援方法であって、
前記a)工程が、
a7)前記a5)工程で抽出された前記特徴部分のうち、離間距離が定められた値以下のもの同士をまとめてグループ化する工程、
を備え、
前記a6)工程において、
前記a7)工程において複数の特徴部分が1つのグループにまとめられた場合に、当該複数の特徴部分を代表する1個の位置を、前記位置リストに登録する、
支援方法。 - 請求項12または13に記載の支援方法であって、
前記パターンデータにおいて、前記設計データに含まれる図形が、第1の方向に沿う線分が前記第1の方向と直交する第2の方向に沿って1個以上配列されることによって表現されており、
前記a5)工程において、
前記線分が、その長さが定められた値に満たないために生成されなかった部分を、前記特徴部分として抽出する、
支援方法。 - 請求項12または13に記載の支援方法であって、
前記パターンデータにおいて、第1の方向に沿う線分が前記第1の方向と直交する第2の方向に沿って1個以上配列されることによって表現された図形を変換図形と呼ぶとして、
前記a5)工程において、
前記第2の方向に沿う長さが定められた許容値よりも小さい変換図形を、前記特徴部分として抽出する、
支援方法。 - 請求項10から15のいずれかに記載の支援方法であって、
前記d)工程において、
前記パターンデータの前記部分領域が表示される表示領域の幾何学中心に、前記c)工程で受け付けられた位置が表示される、
支援方法。 - 請求項10から16のいずれかに記載の支援方法であって、
前記d)工程において、
前記パターンデータの前記部分領域と重ねて、当該部分領域と対応する前記設計データの部分領域が表示される、
支援方法。
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