JP4429518B2 - 描画状態表示装置とフォトマスク描画装置 - Google Patents
描画状態表示装置とフォトマスク描画装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4429518B2 JP4429518B2 JP2000344932A JP2000344932A JP4429518B2 JP 4429518 B2 JP4429518 B2 JP 4429518B2 JP 2000344932 A JP2000344932 A JP 2000344932A JP 2000344932 A JP2000344932 A JP 2000344932A JP 4429518 B2 JP4429518 B2 JP 4429518B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- information
- photomask
- mask holder
- display device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Images
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子線照射描画装置からなるフォトマスクパタン描画装置における、描画の際の、マスクホルダと、描画する文字およびまたは描画パタンの描画領域との重なりの有無を確認するための表示装置と、それを備えた電子線照射描画装置からなるフォトマスク描画装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、電子機器の高機能化と軽薄短小の傾向から、ＡＳＩＣに代表される種々のＬＳｌには、ますます高集積化、高機能化が求められるようになってきた。
上記ＡＳＩＣ等のＬＳＩは、機能、論理設計、回路設計、レイアウト設計等を経て、フォトマスクパタン作製用の図形データ（パタンデータとも言う）を作製し、これを用いてフォトマスクを作製した後、フォトマスクのパタンをウエハ上に縮小投影露光等により転写して、半導体素子作製のプロセスを行うという数々の工程を経て作製されるものである。
【０００３】
フォトマスクは、一般には、上記図形データ（パタンデータ）を用い、電子ビーム描画露光装置（電子線照射描画装置とも言う）あるいはエキシマ波長等のフォト描画露光装置を用いて、フォトマスク用基板（フォトマスクブランクスとも言う）の遮光膜上に配設された感光性レジストに露光描画を行い、現像、エッチング工程等を経て、作製される。
即ち、ガラス基板の一面に遮光性の金属薄膜を設けたフォトマスク用基板の金属薄膜上に塗布、乾燥された感光性のレジスト上に、露光装置により電離放射線を所定の領域のみに照射して潜像を形成し、感光性のレジストを現像して、電離放射線の照射領域に対応した、所望の形状のレジストパタン得た後、更に、レジストパタンを耐エッチングレジストとして、金属薄膜をレジストパタン形状に加工して、所望の金属薄膜パタンを有するフォトマスクを得る。
尚、フォトマスクのパタンをウエハ上に縮小投影露光して、その絵柄を転写する場合は、フォトマスクをレチクルマスクとも言う。
また、描画露光装置のことを描画装置あるいは露光装置とも言う。
【０００４】
上記のように、フォトマスクパタン作製用の図形データ（パタンデータとも言う）は、ＣＡＤによる機能、論理設計、回路設計、レイアウト設計等を経て、作製されるため、図形データに対応する部分の良否は、ＣＡＤにより図形データを用い検査することができ、その品質を保証できる。
しかし、図形データのみの検査では、描画時に付与される描画時刻やマスクを固定する為のマスクホルダなどの影響を含めた検査ができないため、これらの影響を含めた描画における品質保証ができず、問題となっていた。
例えば、図形データにより描画されたパタン（絵柄とも言う）がマスクホルダ位置と重なり、正常なフォトマスクが作成されていないことがあり、これが、後工程のフォトマスク検査で検出されていた。
描画露光装置により、使用する、マスクフォルダのサイズや文字（フォント）のサイズが異なり、描画露光装置の機種を代えた際に、同じ配置、配列でも、重なりが発生することがあった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上記のように、電子線照射描画装置からなるフォトマスクパタン描画装置においては、描画の際、描画時に付与される描画時刻やマスクを固定する為のマスクホルダなどの影響を含めた描画における品質保証ができず、問題となっていた。
本発明は、これに対応するもので、描画の際、描画時に付与される描画時刻やマスクを固定する為のマスクホルダなどの影響を含めた描画における品質保証ができる描画状態表示装置、および該描画状態表示装置を備えた電子線照射描画装置からなるフォトマスク描画装置を提供しようとするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明の描画状態表示装置は、電子線照射描画装置からなるフォトマスクパタン描画装置における、描画の際の、マスクホルダと、描画する文字およびまたは描画パタンの描画領域との重なりの有無を確認するための、表示装置であって、描画時に使用するマスク用基板を固定するマスクホルダのつめ部を含む形状情報と、描画時に付与される文字情報とを、描画機に対応してデータベース化しておく、描画機基本情報データベースと、描画パタンのパタンデ一タ情報およびパタン配置情報を読み込み、描画パタンの描画領域データを得る描画領域データ作成手段と、描画領域データ作成手段により得られた描画領域データから描画領域を表示し、且つ、併せて、描画機基本情報データベース化手段により得られた情報から、マスクホルダ、描画文字を、表示する表示手段とを備えていることを特徴とするものである。
即ち、本発明の描画状態表示装置は、描画機固有の、マスクを固定する為のマスクホルダ情報と、通常、描画データとして用意することのない描画機内部で発生させる文字情報とを、データベースとしてあらかじめ用意しておき、描画データを配置、配列して、その描画領域を表示する際、データベースの情報を検索し、マスクホルダ、描画文字を表示させるものである。
【０００７】
本発明のフォトマスク描画装置は、電子線照射描画装置であって、上記本発明の描画状態表示装置を備えていることを特徴とするものである。
【０００８】
【作用】
本発明の描画状態表示装置は、上記のような構成にすることによって、描画の際、描画時に付与される描画時刻やマスクを固定する為のマスクホルダなどの影響を含めた描画における品質保証ができる描画状態表示装置の提供を可能としている。
詳しくは、マスクホルダと、描画する文字およびまたは描画パタンの描画領域との重なりの有無を、表示する表示装置の提供を可能としている。
具体的には、電子線照射描画装置からなるフォトマスクパタン描画装置における、描画の際の、マスクホルダと、描画する文字およびまたは描画パタンの描画領域との重なりの有無を確認するための、表示装置であって、描画時に使用するマスク用基板を固定するマスクホルダのつめ部を含む形状情報と、描画時に付与される文字情報とを、描画機に対応してデータベース化しておく、描画機基本情報データベースと、描画パタンのパタンデ一タ情報およびパタン配置情報を読み込み、描画パタンの描画領域データを得る描画領域データ作成手段と、描画領域データ作成手段により得られた描画領域データから描画領域を表示し、且つ、併せて、描画機基本情報データベース化手段により得られた情報から、マスクホルダ、描画文字を、表示する表示手段とを備えていることにより、これを達成している。
これにより、所定の描画機で描画しても不具合（重なり発生）が発生しないかを事前に調べることができるものとしている。
【０００９】
本発明のフォトマスク描画装置は、上記のような本発明の描画状態表示装置を備えることによって、フォトマスク歩留まりの向上が期待できる。
【００１０】
【発明の実施の形態】
本発明の描画状態表示装置の実施の形態例を挙げ、図に基づいて説明する。
図１は本発明の描画状態表示装置の実施の形態の１例の概略構成図で、図２は表示部の表示状態の１例を示した図である。
図１、図２中、１１０は描画機基本情報データベース、１２０は描画領域データ作成手段、１２１は描画パタンのパタンデータ情報、１２２はパタン配置情報、１３０は表示手段、２１０は表示領域、２２０は描画領域像、２３０はマスクホルダ像、２３５はつめ像、２４０は描画文字像である。
【００１１】
先ず、本発明の描画状態表示装置の実施の形態の１例を、図１に基づいて説明する。
本例は、フォトマスクパタンを描画露光する電子線照射描画装置における、描画の際の、マスクホルダと、描画する文字およびまたは描画パタンの描画領域との重なりの有無を確認するための、表示装置で、描画時に使用するマスク用基板を固定するマスクホルダの形状情報と、描画時に付与される文字情報とを、描画機に対応してデータベース化しておく、描画機基本情報データベース１１０と、描画パタンのパタンデ一タ情報およびパタン配置情報を読み込み、描画パタンの描画領域データを得る描画領域データ作成手段１２０と、描画領域データ作成手段により得られた描画領域データから描画領域を表示し、且つ、併せて、描画機基本情報データベース化手段により得られた情報から、マスクホルダ、描画文字を、表示する表示手段１３０とを備えている。
描画機基本情報データベース１１０には、予め、描画機に対応した、マスクホルダの形状情報と、描画時に付与される文字情報とが登録されデータベース化されている。
描画領域データ作成手段１２０は、描画パタンの描画領域をを表示手段により表示させるために、描画パタンのパタンデ一タ情報およびパタン配置情報を読み込み、描画パタンの描画領域データを得るものである。
表示手段１３０は、描画を行なう描画機（電子線照射描画装置）における、マスクホルダと、描画される文字との、相対位置関係が分かるように、これらを併せてＸ−Ｙ表示するものである。
尚、マスクホルダ位置、描画パタンの描画領域の、Ｘ−Ｙ座標は、一般に、描画を行なう描画機（電子線照射描画装置）固有のもので、これらの情報は、必要に応じ、描画機基本情報データベース１１０あるいは、他から与えられる。
【００１２】
表示手段１３０の表示状態は、例えば図２に示すように、描画領域像２２０、マスクホルダ像２３０、つめ像２３５、描画文字像２４０が併せて表示される。
これらの重なりの有無より、描画領域と、マスクホルダ、つめ、描画文字との重なりの有無が判断できる。
【００１３】
次に、図１に示す表示装置の動作フローの１例を、図１に基づき簡単に説明する。
尚、図１中、Ｓ１〜Ｓ４は各ステップを示す。
先ず、予め、描画装置で使用する文字形状と、マスクホルダ形状をマスクサイズ毎に測定しデータベースに登録して（Ｓ１）、描画基本機情報データベースを作成する。（Ｓ２）
一方、描画領域データ作成手段１２０にて、描画パタンのパタンデータ情報１２１、パタン配置情報１２２から描画領域データ１２３を作成しておく。（Ｓ３）
次に、描画領域データ１２３を表示する際、指定されたマスクサイズを元に描画機基本情報データベース１１０を検索し、登録されているマスクホルダ情報を取り出し、これを表示する一方、描画機基本情報データベース１１０でマスクタイトル等の文字情報を、文字コード検索し、指定された位置に同様に表示する（Ｓ４）。
尚、一般には、マスクサイズの指定、描画文字の位置指定は、パタン配置情報１２２と同時に与えれている。
【００１４】
【発明の効果】
本発明は、上記のように、描画の際、描画時に付与される描画時刻やマスクを固定する為のマスクホルダなどの影響を含めた描画における品質保証ができる描画状態表示装置、および該描画状態表示装置を備えたフォトマスク描画装置の提供を可能とした。
【図面の簡単な説明】
【図１】 発明の描画状態表示装置の実施の形態の１例の概略構成図である。
【図２】 表示部の表示状態の１例を示した図である。
【符号の説明】
１１０ 描画機基本情報データベース
１２０ 描画領域データ作成手段
１２１ 描画パタンのパタンデータ情報
１２２ パタン配置情報
１３０ 表示手段
２１０ 表示領域
２２０ 描画領域像
２３０ マスクホルダ像
２３５ つめ像
２４０ 描画文字像
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子線照射描画装置からなるフォトマスクパタン描画装置における、描画の際の、マスクホルダと、描画する文字およびまたは描画パタンの描画領域との重なりの有無を確認するための表示装置と、それを備えた電子線照射描画装置からなるフォトマスク描画装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、電子機器の高機能化と軽薄短小の傾向から、ＡＳＩＣに代表される種々のＬＳｌには、ますます高集積化、高機能化が求められるようになってきた。
上記ＡＳＩＣ等のＬＳＩは、機能、論理設計、回路設計、レイアウト設計等を経て、フォトマスクパタン作製用の図形データ（パタンデータとも言う）を作製し、これを用いてフォトマスクを作製した後、フォトマスクのパタンをウエハ上に縮小投影露光等により転写して、半導体素子作製のプロセスを行うという数々の工程を経て作製されるものである。
【０００３】
フォトマスクは、一般には、上記図形データ（パタンデータ）を用い、電子ビーム描画露光装置（電子線照射描画装置とも言う）あるいはエキシマ波長等のフォト描画露光装置を用いて、フォトマスク用基板（フォトマスクブランクスとも言う）の遮光膜上に配設された感光性レジストに露光描画を行い、現像、エッチング工程等を経て、作製される。
即ち、ガラス基板の一面に遮光性の金属薄膜を設けたフォトマスク用基板の金属薄膜上に塗布、乾燥された感光性のレジスト上に、露光装置により電離放射線を所定の領域のみに照射して潜像を形成し、感光性のレジストを現像して、電離放射線の照射領域に対応した、所望の形状のレジストパタン得た後、更に、レジストパタンを耐エッチングレジストとして、金属薄膜をレジストパタン形状に加工して、所望の金属薄膜パタンを有するフォトマスクを得る。
尚、フォトマスクのパタンをウエハ上に縮小投影露光して、その絵柄を転写する場合は、フォトマスクをレチクルマスクとも言う。
また、描画露光装置のことを描画装置あるいは露光装置とも言う。
【０００４】
上記のように、フォトマスクパタン作製用の図形データ（パタンデータとも言う）は、ＣＡＤによる機能、論理設計、回路設計、レイアウト設計等を経て、作製されるため、図形データに対応する部分の良否は、ＣＡＤにより図形データを用い検査することができ、その品質を保証できる。
しかし、図形データのみの検査では、描画時に付与される描画時刻やマスクを固定する為のマスクホルダなどの影響を含めた検査ができないため、これらの影響を含めた描画における品質保証ができず、問題となっていた。
例えば、図形データにより描画されたパタン（絵柄とも言う）がマスクホルダ位置と重なり、正常なフォトマスクが作成されていないことがあり、これが、後工程のフォトマスク検査で検出されていた。
描画露光装置により、使用する、マスクフォルダのサイズや文字（フォント）のサイズが異なり、描画露光装置の機種を代えた際に、同じ配置、配列でも、重なりが発生することがあった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上記のように、電子線照射描画装置からなるフォトマスクパタン描画装置においては、描画の際、描画時に付与される描画時刻やマスクを固定する為のマスクホルダなどの影響を含めた描画における品質保証ができず、問題となっていた。
本発明は、これに対応するもので、描画の際、描画時に付与される描画時刻やマスクを固定する為のマスクホルダなどの影響を含めた描画における品質保証ができる描画状態表示装置、および該描画状態表示装置を備えた電子線照射描画装置からなるフォトマスク描画装置を提供しようとするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明の描画状態表示装置は、電子線照射描画装置からなるフォトマスクパタン描画装置における、描画の際の、マスクホルダと、描画する文字およびまたは描画パタンの描画領域との重なりの有無を確認するための、表示装置であって、描画時に使用するマスク用基板を固定するマスクホルダのつめ部を含む形状情報と、描画時に付与される文字情報とを、描画機に対応してデータベース化しておく、描画機基本情報データベースと、描画パタンのパタンデ一タ情報およびパタン配置情報を読み込み、描画パタンの描画領域データを得る描画領域データ作成手段と、描画領域データ作成手段により得られた描画領域データから描画領域を表示し、且つ、併せて、描画機基本情報データベース化手段により得られた情報から、マスクホルダ、描画文字を、表示する表示手段とを備えていることを特徴とするものである。
即ち、本発明の描画状態表示装置は、描画機固有の、マスクを固定する為のマスクホルダ情報と、通常、描画データとして用意することのない描画機内部で発生させる文字情報とを、データベースとしてあらかじめ用意しておき、描画データを配置、配列して、その描画領域を表示する際、データベースの情報を検索し、マスクホルダ、描画文字を表示させるものである。
【０００７】
本発明のフォトマスク描画装置は、電子線照射描画装置であって、上記本発明の描画状態表示装置を備えていることを特徴とするものである。
【０００８】
【作用】
本発明の描画状態表示装置は、上記のような構成にすることによって、描画の際、描画時に付与される描画時刻やマスクを固定する為のマスクホルダなどの影響を含めた描画における品質保証ができる描画状態表示装置の提供を可能としている。
詳しくは、マスクホルダと、描画する文字およびまたは描画パタンの描画領域との重なりの有無を、表示する表示装置の提供を可能としている。
具体的には、電子線照射描画装置からなるフォトマスクパタン描画装置における、描画の際の、マスクホルダと、描画する文字およびまたは描画パタンの描画領域との重なりの有無を確認するための、表示装置であって、描画時に使用するマスク用基板を固定するマスクホルダのつめ部を含む形状情報と、描画時に付与される文字情報とを、描画機に対応してデータベース化しておく、描画機基本情報データベースと、描画パタンのパタンデ一タ情報およびパタン配置情報を読み込み、描画パタンの描画領域データを得る描画領域データ作成手段と、描画領域データ作成手段により得られた描画領域データから描画領域を表示し、且つ、併せて、描画機基本情報データベース化手段により得られた情報から、マスクホルダ、描画文字を、表示する表示手段とを備えていることにより、これを達成している。
これにより、所定の描画機で描画しても不具合（重なり発生）が発生しないかを事前に調べることができるものとしている。
【０００９】
本発明のフォトマスク描画装置は、上記のような本発明の描画状態表示装置を備えることによって、フォトマスク歩留まりの向上が期待できる。
【００１０】
【発明の実施の形態】
本発明の描画状態表示装置の実施の形態例を挙げ、図に基づいて説明する。
図１は本発明の描画状態表示装置の実施の形態の１例の概略構成図で、図２は表示部の表示状態の１例を示した図である。
図１、図２中、１１０は描画機基本情報データベース、１２０は描画領域データ作成手段、１２１は描画パタンのパタンデータ情報、１２２はパタン配置情報、１３０は表示手段、２１０は表示領域、２２０は描画領域像、２３０はマスクホルダ像、２３５はつめ像、２４０は描画文字像である。
【００１１】
先ず、本発明の描画状態表示装置の実施の形態の１例を、図１に基づいて説明する。
本例は、フォトマスクパタンを描画露光する電子線照射描画装置における、描画の際の、マスクホルダと、描画する文字およびまたは描画パタンの描画領域との重なりの有無を確認するための、表示装置で、描画時に使用するマスク用基板を固定するマスクホルダの形状情報と、描画時に付与される文字情報とを、描画機に対応してデータベース化しておく、描画機基本情報データベース１１０と、描画パタンのパタンデ一タ情報およびパタン配置情報を読み込み、描画パタンの描画領域データを得る描画領域データ作成手段１２０と、描画領域データ作成手段により得られた描画領域データから描画領域を表示し、且つ、併せて、描画機基本情報データベース化手段により得られた情報から、マスクホルダ、描画文字を、表示する表示手段１３０とを備えている。
描画機基本情報データベース１１０には、予め、描画機に対応した、マスクホルダの形状情報と、描画時に付与される文字情報とが登録されデータベース化されている。
描画領域データ作成手段１２０は、描画パタンの描画領域をを表示手段により表示させるために、描画パタンのパタンデ一タ情報およびパタン配置情報を読み込み、描画パタンの描画領域データを得るものである。
表示手段１３０は、描画を行なう描画機（電子線照射描画装置）における、マスクホルダと、描画される文字との、相対位置関係が分かるように、これらを併せてＸ−Ｙ表示するものである。
尚、マスクホルダ位置、描画パタンの描画領域の、Ｘ−Ｙ座標は、一般に、描画を行なう描画機（電子線照射描画装置）固有のもので、これらの情報は、必要に応じ、描画機基本情報データベース１１０あるいは、他から与えられる。
【００１２】
表示手段１３０の表示状態は、例えば図２に示すように、描画領域像２２０、マスクホルダ像２３０、つめ像２３５、描画文字像２４０が併せて表示される。
これらの重なりの有無より、描画領域と、マスクホルダ、つめ、描画文字との重なりの有無が判断できる。
【００１３】
次に、図１に示す表示装置の動作フローの１例を、図１に基づき簡単に説明する。
尚、図１中、Ｓ１〜Ｓ４は各ステップを示す。
先ず、予め、描画装置で使用する文字形状と、マスクホルダ形状をマスクサイズ毎に測定しデータベースに登録して（Ｓ１）、描画基本機情報データベースを作成する。（Ｓ２）
一方、描画領域データ作成手段１２０にて、描画パタンのパタンデータ情報１２１、パタン配置情報１２２から描画領域データ１２３を作成しておく。（Ｓ３）
次に、描画領域データ１２３を表示する際、指定されたマスクサイズを元に描画機基本情報データベース１１０を検索し、登録されているマスクホルダ情報を取り出し、これを表示する一方、描画機基本情報データベース１１０でマスクタイトル等の文字情報を、文字コード検索し、指定された位置に同様に表示する（Ｓ４）。
尚、一般には、マスクサイズの指定、描画文字の位置指定は、パタン配置情報１２２と同時に与えれている。
【００１４】
【発明の効果】
本発明は、上記のように、描画の際、描画時に付与される描画時刻やマスクを固定する為のマスクホルダなどの影響を含めた描画における品質保証ができる描画状態表示装置、および該描画状態表示装置を備えたフォトマスク描画装置の提供を可能とした。
【図面の簡単な説明】
【図１】 発明の描画状態表示装置の実施の形態の１例の概略構成図である。
【図２】 表示部の表示状態の１例を示した図である。
【符号の説明】
１１０ 描画機基本情報データベース
１２０ 描画領域データ作成手段
１２１ 描画パタンのパタンデータ情報
１２２ パタン配置情報
１３０ 表示手段
２１０ 表示領域
２２０ 描画領域像
２３０ マスクホルダ像
２３５ つめ像
２４０ 描画文字像
Claims (2)
- 電子線照射描画装置からなるフォトマスクパタン描画装置における、描画の際の、マスクホルダと、描画する文字およびまたは描画パタンの描画領域との重なりの有無を確認するための、表示装置であって、描画時に使用するマスク用基板を固定するマスクホルダのつめ部を含む形状情報と、描画時に付与される文字情報とを、描画機に対応してデータベース化しておく、描画機基本情報データベースと、描画パタンのパタンデ一タ情報およびパタン配置情報を読み込み、描画パタンの描画領域データを得る描画領域データ作成手段と、描画領域データ作成手段により得られた描画領域データから描画領域を表示し、且つ、併せて、描画機基本情報データベース化手段により得られた情報から、マスクホルダ、描画文字を、表示する表示手段とを備えていることを特徴とする描画状態表示装置。
- 電子線照射描画装置であって、請求項１に記載の描画状態表示装置を備えていることを特徴とするフォトマスク描画装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000344932A JP4429518B2 (ja) | 2000-11-13 | 2000-11-13 | 描画状態表示装置とフォトマスク描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000344932A JP4429518B2 (ja) | 2000-11-13 | 2000-11-13 | 描画状態表示装置とフォトマスク描画装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002148781A JP2002148781A (ja) | 2002-05-22 |
| JP4429518B2 true JP4429518B2 (ja) | 2010-03-10 |
Family
ID=18819053
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000344932A Expired - Lifetime JP4429518B2 (ja) | 2000-11-13 | 2000-11-13 | 描画状態表示装置とフォトマスク描画装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4429518B2 (ja) |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62139330A (ja) * | 1985-12-13 | 1987-06-23 | Toshiba Mach Co Ltd | 被処理材の固定方法および装置 |
| JPH0722112B2 (ja) * | 1987-07-30 | 1995-03-08 | キヤノン株式会社 | マスクホルダ並びにそれを用いたマスクの搬送方法 |
| JPH05224401A (ja) * | 1992-02-12 | 1993-09-03 | Nec Corp | フォトマスク用ホルダー |
| JPH06103335A (ja) * | 1992-09-24 | 1994-04-15 | Fujitsu Ltd | データ分割ファイルの合成検証方法 |
| JP3349572B2 (ja) * | 1993-12-27 | 2002-11-25 | 東芝機械株式会社 | 薄板固定装置 |
| JP3296528B2 (ja) * | 1994-12-09 | 2002-07-02 | キヤノン株式会社 | 半導体露光装置およびデバイス製造方法 |
| JPH08241841A (ja) * | 1995-03-03 | 1996-09-17 | Hitachi Ltd | パターンイオンビーム投射方法およびその装置 |
| JP3524295B2 (ja) * | 1996-09-24 | 2004-05-10 | キヤノン株式会社 | 走査型露光装置およびデバイス製造方法 |
| JPH1138593A (ja) * | 1997-07-18 | 1999-02-12 | Dainippon Printing Co Ltd | 描画用ジョブの作成装置 |
-
2000
- 2000-11-13 JP JP2000344932A patent/JP4429518B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2002148781A (ja) | 2002-05-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4736206B2 (ja) | フォトマスクパタン欠陥検査方法および微細図形パタンの検出方法 | |
| TWI382282B (zh) | 實施用於圖案分解特徵的以模型為基礎的光學近似校正（ｏｐｃ）之方法與裝置 | |
| US7970198B2 (en) | Method for performing pattern decomposition based on feature pitch | |
| TWI334962B (en) | A method, program product and apparatus for performing double exposure lithography | |
| JP3328323B2 (ja) | 位相シフトマスクの製造方法および半導体集積回路装置の製造方法 | |
| JP2001356466A (ja) | ハイブリッド位相シフト・マスク | |
| US7865865B2 (en) | Method, program product and apparatus for performing decomposition of a pattern for use in a DPT process | |
| US7469057B2 (en) | System and method for inspecting errors on a wafer | |
| CN106469235A (zh) | 集成电路方法以及集成电路设计系统 | |
| US7617476B2 (en) | Method for performing pattern pitch-split decomposition utilizing anchoring features | |
| US7930654B2 (en) | System and method of correcting errors in SEM-measurements | |
| US7745067B2 (en) | Method for performing place-and-route of contacts and vias in technologies with forbidden pitch requirements | |
| KR20120108957A (ko) | 노광용 마스크, 그 제조 방법 및 반도체 장치의 제조 방법 | |
| JP4429518B2 (ja) | 描画状態表示装置とフォトマスク描画装置 | |
| JPH11133585A (ja) | 露光用マスク及びその製造方法 | |
| US6560767B2 (en) | Process for making photomask pattern data and photomask | |
| US7858269B2 (en) | Structure and method for sub-resolution dummy clear shapes for improved gate dimensional control | |
| US7892703B2 (en) | CPL mask and a method and program product for generating the same | |
| JP2004047687A (ja) | 露光方法 | |
| JP2002278041A (ja) | フォトマスクデータのｏｐｃ補正処理の検証方法 | |
| JP3592098B2 (ja) | マスクパターン作成方法および装置 | |
| JPH07153676A (ja) | 半導体装置の回路パターン設計方法及び直接描画装置 | |
| JP2005121788A (ja) | 欠陥検査用マスク及び欠陥検査用マスクの製造方法 | |
| JPH05275310A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JPH023489B2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070531 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090930 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091125 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20091215 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20091216 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121225 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4429518 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121225 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131225 Year of fee payment: 4 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |