JPS62139330A - 被処理材の固定方法および装置 - Google Patents
被処理材の固定方法および装置Info
- Publication number
- JPS62139330A JPS62139330A JP60280453A JP28045385A JPS62139330A JP S62139330 A JPS62139330 A JP S62139330A JP 60280453 A JP60280453 A JP 60280453A JP 28045385 A JP28045385 A JP 28045385A JP S62139330 A JPS62139330 A JP S62139330A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flatness
- processed
- workpiece
- movable
- holder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明、はたとえば、マスク、レチクル、マスクブラン
ク等の被処理材を固定する固定方法および装置に関する
。
ク等の被処理材を固定する固定方法および装置に関する
。
半導体装置製造関連装置においては、マスク、レチクル
、マスクブランク等のガラス基板を保持してパターンな
どを描画したり、測定したり、転写したりするが、この
描画又は測定時などには前記ガラス基板を固定装置によ
って固定するようになっている。前記固定装置としては
たとえば第６図に示すようなものが知れられている。す
なわち、図中１は移動自在なステージＳ上に載置された
ホルダーで、このホルダー１の上面部にはガラス基板２
の収納凹部３が形成され、前記収納凹部３の上縁部には
複数個の固定基準片４・・・が配設されている。上記ガ
ラス基板２は上記収納凹部３内に配設された？！数個の
スプリング（図示しない）により上方に押圧されて上記
固定基準片４・・・に圧接されることにより保持固定さ
れている。
、マスクブランク等のガラス基板を保持してパターンな
どを描画したり、測定したり、転写したりするが、この
描画又は測定時などには前記ガラス基板を固定装置によ
って固定するようになっている。前記固定装置としては
たとえば第６図に示すようなものが知れられている。す
なわち、図中１は移動自在なステージＳ上に載置された
ホルダーで、このホルダー１の上面部にはガラス基板２
の収納凹部３が形成され、前記収納凹部３の上縁部には
複数個の固定基準片４・・・が配設されている。上記ガ
ラス基板２は上記収納凹部３内に配設された？！数個の
スプリング（図示しない）により上方に押圧されて上記
固定基準片４・・・に圧接されることにより保持固定さ
れている。
この固定装置においては、上記ガラス基板２を平面度良
く保持することが要求されている。たとえば、電子ビー
ム描画装置の場合にはサブミクロンオーダの描画になる
と、ガラス基板２に要求される平面度はミクロンオーダ
のものが要求される。
く保持することが要求されている。たとえば、電子ビー
ム描画装置の場合にはサブミクロンオーダの描画になる
と、ガラス基板２に要求される平面度はミクロンオーダ
のものが要求される。
もし、ガラス基板２の平面度が悪く、描画面に歪みが発
生するとこのガラス基板２の描画面の平面方向の歪みに
よって描画面が伸縮するため、描画時とガラス基板２を
マスクにして行なう転写時とで平面度が異なった場合、
結果的に描画パターン精度の低下と見ることができる。
生するとこのガラス基板２の描画面の平面方向の歪みに
よって描画面が伸縮するため、描画時とガラス基板２を
マスクにして行なう転写時とで平面度が異なった場合、
結果的に描画パターン精度の低下と見ることができる。
このため、従来においては、ガラス基板２の固定基準片
４・・・（４か所）の位置をほぼベッセル点又はエアリ
一点として自重による歪みを極力減らしたり、かつその
固定基準片４・・・の平面度もミクロンオーダに精度よ
く加工する必要があり、面倒なものとなっていた。また
、このミクロンオーダーの平面度を長期にわたって維持
するには十分な注意が必要で、保管が悪ければ変形し、
必要に応じて再加工等の必要があった。また、ガラス基
板２のセット時にも同様なミクロンオーダの平面度を出
すには注意深くガラス基板２をセットしなければならず
、手間取る欠点があった。
４・・・（４か所）の位置をほぼベッセル点又はエアリ
一点として自重による歪みを極力減らしたり、かつその
固定基準片４・・・の平面度もミクロンオーダに精度よ
く加工する必要があり、面倒なものとなっていた。また
、このミクロンオーダーの平面度を長期にわたって維持
するには十分な注意が必要で、保管が悪ければ変形し、
必要に応じて再加工等の必要があった。また、ガラス基
板２のセット時にも同様なミクロンオーダの平面度を出
すには注意深くガラス基板２をセットしなければならず
、手間取る欠点があった。
本発明は上記事情に着目してなされたもので、その目的
とするところは、被処理材を固定する固定基準片の平面
度を高精度にすることなく、また、保管状態の影響を受
けることなく、しかも被処理材のセット時に細心の注意
を払わなくて６も容易に被処理材の平面度を所望する精
度にできる被処理材の固定方法および装置を提供しよう
とするものである。
とするところは、被処理材を固定する固定基準片の平面
度を高精度にすることなく、また、保管状態の影響を受
けることなく、しかも被処理材のセット時に細心の注意
を払わなくて６も容易に被処理材の平面度を所望する精
度にできる被処理材の固定方法および装置を提供しよう
とするものである。
本発明は上記目的を達成するため、第１の発明はホルダ
ー又はステージ上の被処理材をセットし、この被処理材
を上記ホルダーの固定基準片および上下動自在な可ｖＪ
基準片に押圧保持し、この保持した被処理材の平面度を
測定してその測定結果に応じて上記可動基準片の高さ位
置を変化させることによって上記被処理材の平面度を調
整する方法であり、第２の発明は上面部に被処理材の収
納凹部を有したホルダー又はステージと、このホルダー
又はステージの収納凹部の上縁部に配設され上記被処理
材を押圧させて保持する複数個の固定基準片および上下
動自在な可動基準片と、上記収納凹部内に収納された被
処理材の平面度を測定する測定手段と、この測定手段に
よって測定された被処理材の平面度に応じて上記可動基
準片の高さ位置を調整する調整手段とを具備してなる装
置である。
ー又はステージ上の被処理材をセットし、この被処理材
を上記ホルダーの固定基準片および上下動自在な可ｖＪ
基準片に押圧保持し、この保持した被処理材の平面度を
測定してその測定結果に応じて上記可動基準片の高さ位
置を変化させることによって上記被処理材の平面度を調
整する方法であり、第２の発明は上面部に被処理材の収
納凹部を有したホルダー又はステージと、このホルダー
又はステージの収納凹部の上縁部に配設され上記被処理
材を押圧させて保持する複数個の固定基準片および上下
動自在な可動基準片と、上記収納凹部内に収納された被
処理材の平面度を測定する測定手段と、この測定手段に
よって測定された被処理材の平面度に応じて上記可動基
準片の高さ位置を調整する調整手段とを具備してなる装
置である。
以下、本発明を図面に示す一実施例を参照して説明する
。図中Ｓはステージで、このステージＳの上面部にはホ
ルダー１１が載置されている。前記ステージＳは図示し
ない駆動機構により矢印方向に移動されるようになって
いる。また、前記ホルダー１１の上面部には収納凹部１
２が形成され、この収納凹部１２内には被処理材として
°のガラス基板１３が収納されている。また、前記収納
凹部１２の上縁部には３個の固定基準片１４・・・と２
個の可動基準片１５．１５が配設されている。さらに、
前記収納凹部１２内には第２図に示すように複数個のス
プリング１６（−個のみ図示する）が配設され、これら
スプリング１６により押板１９を介して上記ガラス基板
１３が上方へ押圧されて上記固定基準片１４・・・およ
び可動基準片１５゜１５に圧接されてクランプされてい
る。上記可動基準片１５．１５は上下動自在に設けられ
ピエゾモータ２０によって上下駆動されるようになって
いる。前記ピエゾモータ２０は後述するガラス基板１３
の平面度の測定値に応じて供給電圧が変化されるように
なっている。また、上記ステージ１１の上方部には第３
図に示すように測定手段を構成する発光素子１７と受光
素子１８が配設され、前記受光素子１８には信号処理部
（図示しない）が接続されている。上記発光素子１７か
ら発光された光はガラス基板１３に照射されて反射し受
光素子１８に受光されるようになっている。
。図中Ｓはステージで、このステージＳの上面部にはホ
ルダー１１が載置されている。前記ステージＳは図示し
ない駆動機構により矢印方向に移動されるようになって
いる。また、前記ホルダー１１の上面部には収納凹部１
２が形成され、この収納凹部１２内には被処理材として
°のガラス基板１３が収納されている。また、前記収納
凹部１２の上縁部には３個の固定基準片１４・・・と２
個の可動基準片１５．１５が配設されている。さらに、
前記収納凹部１２内には第２図に示すように複数個のス
プリング１６（−個のみ図示する）が配設され、これら
スプリング１６により押板１９を介して上記ガラス基板
１３が上方へ押圧されて上記固定基準片１４・・・およ
び可動基準片１５゜１５に圧接されてクランプされてい
る。上記可動基準片１５．１５は上下動自在に設けられ
ピエゾモータ２０によって上下駆動されるようになって
いる。前記ピエゾモータ２０は後述するガラス基板１３
の平面度の測定値に応じて供給電圧が変化されるように
なっている。また、上記ステージ１１の上方部には第３
図に示すように測定手段を構成する発光素子１７と受光
素子１８が配設され、前記受光素子１８には信号処理部
（図示しない）が接続されている。上記発光素子１７か
ら発光された光はガラス基板１３に照射されて反射し受
光素子１８に受光されるようになっている。
次に、ホルダー１１に固定されたガラス基板１３の平面
度を調節する場合について説明する。
度を調節する場合について説明する。
まず、ステージＳを図示しない駆動機構により走行させ
るとともに、ステージＳ上方部の発光素子１７から光を
発光させて第３図に示すようにガラス基板１３上に走査
する。この走査される光の反射光は受光素子１８によっ
て受光され、このとき、ガラス基板１３が上下すると反
射光の受光素子１８に入る位置が変化し、その変化−が
信号処理部２３で処理され、ガラス基板１３の平面度が
たとえば第４図に示すように測定される。そして、この
測定値からステージＳの走行１１ｆＩγを補正したもの
がガラス基板１３の平面度すなわち歪みとなる。（なお
、ステージＳの走行精度γは事前に平面度の良い基準の
マスクなどにより測定しておけば良（、一般にこの種の
ステージではほぼ１−程度であり再現性もある。）この
測定された平面度に応じて図示しない制御回路によりピ
エゾモータ２０が駆動され、可動基準片１５．１５が上
下動されてその高さが調節される。この調節によりガラ
ス基板１３の平面度が調節されることになる。
るとともに、ステージＳ上方部の発光素子１７から光を
発光させて第３図に示すようにガラス基板１３上に走査
する。この走査される光の反射光は受光素子１８によっ
て受光され、このとき、ガラス基板１３が上下すると反
射光の受光素子１８に入る位置が変化し、その変化−が
信号処理部２３で処理され、ガラス基板１３の平面度が
たとえば第４図に示すように測定される。そして、この
測定値からステージＳの走行１１ｆＩγを補正したもの
がガラス基板１３の平面度すなわち歪みとなる。（なお
、ステージＳの走行精度γは事前に平面度の良い基準の
マスクなどにより測定しておけば良（、一般にこの種の
ステージではほぼ１−程度であり再現性もある。）この
測定された平面度に応じて図示しない制御回路によりピ
エゾモータ２０が駆動され、可動基準片１５．１５が上
下動されてその高さが調節される。この調節によりガラ
ス基板１３の平面度が調節されることになる。
なお、本発明は上記−実施例に限られるものではなく、
第５図に示すように、可動基準片１５゜１５の位置をオ
フラインで調節ねじ３１により調整するようにしても良
く、また、ガラス基板１３などの被処理材をホルダー１
１を用いずに、ステージＳに直接載置するものにも適用
し得る。
第５図に示すように、可動基準片１５゜１５の位置をオ
フラインで調節ねじ３１により調整するようにしても良
く、また、ガラス基板１３などの被処理材をホルダー１
１を用いずに、ステージＳに直接載置するものにも適用
し得る。
その他、本発明はその要旨の範囲内で種々変形実施可能
なことは勿論である。
なことは勿論である。
以上説明したように、本発明によれば、被処理材の平面
度に応じてその歪みを調整するから、従来のように、固
定基準片の平面度を高精度にする必要がなく、また、保
管状態の影響を受けることなく、しかも、被処理材のセ
ット時において細心の注意を払うこともなく容易に被処
理材の平面度を所望する精度にすることができるという
効果を秦するものである。
度に応じてその歪みを調整するから、従来のように、固
定基準片の平面度を高精度にする必要がなく、また、保
管状態の影響を受けることなく、しかも、被処理材のセ
ット時において細心の注意を払うこともなく容易に被処
理材の平面度を所望する精度にすることができるという
効果を秦するものである。
第１図乃至第４図は本発明の一実施例を示すもので、第
１図は固定装置を示す平面図、第２図はその一部を示す
断面図、第３図はガラス基板の平面度の測定方法を示す
説明図、第４図はその測定結果を示すグラフ図、第５図
は他の実施例を示す断面図、第６図は従来例を示す平面
図である。 １１・・・ホルダー、１２・・・収納凹部、１３・・・
ガラス基板（被処理材）、１４・・・固定基準片、１５
゜１５・・・可動基準片、１７・・・発光素子（測定手
段）、１８・・・受光素子（測定手段）、２０・・・ピ
エゾモータ（駆動手段）、３１・・・調整ねじ（駆動手
段）。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第１図 第２図 第３図 第４図 第５ 図 第６図 □、１Ｐ１・苓−６８ 特許庁長官 宇 賀 道 部 殿 １、事件の表示 特願昭６０−２８０４５３号 ２、発明の名称 被処理材の固定方法および装置 ３、を重圧をするーバ 事（ＩＰとの関係 特許出願人 （３４５）東芝機械株式会社 ４、代理人 ５、自発補正 べ ・ 明細書 、７ ７、補正の内容 （１１特許請求の範囲を別紙の通り訂正する。 （２）明細書筒５頁７行目から第６頁３行目に記載した
「本発明は〜装置である。」を「本発明は上記目的を達
成す石ため、第１の発明はホルダー又はステージ上にセ
ットされる被処理材を上記ホルダ又はステージに設けら
れた高さ方向の固定基準片および上下動自在な同じく高
さ方向の可動基準片によって保持し、この保持した被処
理材の平面度を測定してその測定結果に応じて上記可動
基準片の高さ位置を変化させることによって上記被処理
材の平面度を調整する方法であり、第２の発明は被処理
材の収納部を有するホルダー又はステージと、このホル
ダー又はステージの収納部の縁部に配設され上記被処理
材を保持する複数個の固定基準片および少なくとも１個
の上下動自在な可動基準片と、上記収納部内に収納され
た被処理材の平面度を測定する測定手段と、この測定手
段によって測定された被処理材の平面度に応じて上記可
動基準片の高さ位置を調整する調整手段とを具備してな
る装置であるっ」と訂正する７ ２、特許請求の範囲 （１） ホルダー又はステージ上にセットされる被処
理材を上記ホルダー又はステージに設けられた高さ方向
の固定基準片および上下動自在な高さ方向の可動基準片
によって保持し、この保持した被処理材の平面度を測定
してその測定結果に応じて上記可動基準片の高さ位置を
変化させることによシ上記被処理材の平面度を調整する
ことを特徴とする被処理材の固定方法。 （２）被処理材の収納部を有するホルダー又はステージ
と、このホルダー又はステージの収納部の縁部に配設さ
れ上記被処理材を保持する複数個の固定基準片および少
なくとも１個の上下動自在な可動基準片と、上記収納部
内に収納された被処理材の平面度を測定する測定手段と
、この測定手段によって測定された被処理材の平面度に
応じて上記可動基準片の高さ位置を調整する調整手段と
を具備したことを特徴とする被処理材の固定装置。 （３）測定手段は被処理材に光を走査しその反射光を受
光して被処理材の平面度を測定することを特徴とする特
許請求の範囲第２項の被処理材の固定装置。 （４） 調整手段はピエゾモータでちることを特徴と
する特許請求の範囲第２項または第３項記載の被処理材
の固定装置。 （５） 調整手段はねじ部材であることを特徴とする
特許請求の範囲第２項記載の被処理材の固定装置。
１図は固定装置を示す平面図、第２図はその一部を示す
断面図、第３図はガラス基板の平面度の測定方法を示す
説明図、第４図はその測定結果を示すグラフ図、第５図
は他の実施例を示す断面図、第６図は従来例を示す平面
図である。 １１・・・ホルダー、１２・・・収納凹部、１３・・・
ガラス基板（被処理材）、１４・・・固定基準片、１５
゜１５・・・可動基準片、１７・・・発光素子（測定手
段）、１８・・・受光素子（測定手段）、２０・・・ピ
エゾモータ（駆動手段）、３１・・・調整ねじ（駆動手
段）。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第１図 第２図 第３図 第４図 第５ 図 第６図 □、１Ｐ１・苓−６８ 特許庁長官 宇 賀 道 部 殿 １、事件の表示 特願昭６０−２８０４５３号 ２、発明の名称 被処理材の固定方法および装置 ３、を重圧をするーバ 事（ＩＰとの関係 特許出願人 （３４５）東芝機械株式会社 ４、代理人 ５、自発補正 べ ・ 明細書 、７ ７、補正の内容 （１１特許請求の範囲を別紙の通り訂正する。 （２）明細書筒５頁７行目から第６頁３行目に記載した
「本発明は〜装置である。」を「本発明は上記目的を達
成す石ため、第１の発明はホルダー又はステージ上にセ
ットされる被処理材を上記ホルダ又はステージに設けら
れた高さ方向の固定基準片および上下動自在な同じく高
さ方向の可動基準片によって保持し、この保持した被処
理材の平面度を測定してその測定結果に応じて上記可動
基準片の高さ位置を変化させることによって上記被処理
材の平面度を調整する方法であり、第２の発明は被処理
材の収納部を有するホルダー又はステージと、このホル
ダー又はステージの収納部の縁部に配設され上記被処理
材を保持する複数個の固定基準片および少なくとも１個
の上下動自在な可動基準片と、上記収納部内に収納され
た被処理材の平面度を測定する測定手段と、この測定手
段によって測定された被処理材の平面度に応じて上記可
動基準片の高さ位置を調整する調整手段とを具備してな
る装置であるっ」と訂正する７ ２、特許請求の範囲 （１） ホルダー又はステージ上にセットされる被処
理材を上記ホルダー又はステージに設けられた高さ方向
の固定基準片および上下動自在な高さ方向の可動基準片
によって保持し、この保持した被処理材の平面度を測定
してその測定結果に応じて上記可動基準片の高さ位置を
変化させることによシ上記被処理材の平面度を調整する
ことを特徴とする被処理材の固定方法。 （２）被処理材の収納部を有するホルダー又はステージ
と、このホルダー又はステージの収納部の縁部に配設さ
れ上記被処理材を保持する複数個の固定基準片および少
なくとも１個の上下動自在な可動基準片と、上記収納部
内に収納された被処理材の平面度を測定する測定手段と
、この測定手段によって測定された被処理材の平面度に
応じて上記可動基準片の高さ位置を調整する調整手段と
を具備したことを特徴とする被処理材の固定装置。 （３）測定手段は被処理材に光を走査しその反射光を受
光して被処理材の平面度を測定することを特徴とする特
許請求の範囲第２項の被処理材の固定装置。 （４） 調整手段はピエゾモータでちることを特徴と
する特許請求の範囲第２項または第３項記載の被処理材
の固定装置。 （５） 調整手段はねじ部材であることを特徴とする
特許請求の範囲第２項記載の被処理材の固定装置。
Claims (5)
- （１）ホルダー又はステージ上に被処理材をセットし、
この被処理材を上記ホルダー又はステージに設けられた
固定基準片および上下動自在な可動基準片に押圧保持し
、この保持した被処理材の平面度を測定してその測定結
果に応じて上記可動基準片の高さ位置を変化させること
により上記被処理材の平面度を調整することを特徴とす
る被処理材の固定方法。 - （２）上面部に被処理材の収納凹部を有したホルダー又
はステージと、このホルダー又はステージの収納凹部の
上縁部に配設され上記被処理材を押圧させて保持する複
数個の固定基準片および上下動自在な可動基準片と、上
記収納凹部内に収納された被処理材の平面度を測定する
測定手段と、この測定手段によって測定された被処理材
の平面度に応じて上記可動基準片の高さ位置を調整する
調整手段とを具備したことを特徴とする被処理材の固定
装置。 - （３）測定手段は被処理材に光を走査しその反射光を受
光して被処理材の平面度を測定することを特徴とする特
許請求の範囲第２項の被処理材の固定装置。 - （４）調整手段はピエゾモータであることを特徴とする
特許請求の範囲第２項または第３項記載の被処理材の固
定装置。 - （５）調整手段はねじ部材であることを特徴とする特許
請求の範囲第２項記載の被処理材の固定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60280453A JPS62139330A (ja) | 1985-12-13 | 1985-12-13 | 被処理材の固定方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60280453A JPS62139330A (ja) | 1985-12-13 | 1985-12-13 | 被処理材の固定方法および装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62139330A true JPS62139330A (ja) | 1987-06-23 |
Family
ID=17625270
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60280453A Pending JPS62139330A (ja) | 1985-12-13 | 1985-12-13 | 被処理材の固定方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62139330A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1097985A (ja) * | 1996-09-24 | 1998-04-14 | Canon Inc | 走査型露光装置およびデバイス製造方法 |
| JP2002148781A (ja) * | 2000-11-13 | 2002-05-22 | Dainippon Printing Co Ltd | 描画状態表示装置とフォトマスク描画装置 |
| KR100720423B1 (ko) * | 2002-11-16 | 2007-05-22 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시소자용 기판 합착 장치 및 이를 이용한 평탄도보정 방법 |
| JP2007178819A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Ushio Inc | 支持機構及び支持機構を使ったマスクステージ |
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Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6097359A (ja) * | 1983-11-01 | 1985-05-31 | Toshiba Corp | 投影形露光装置 |
-
1985
- 1985-12-13 JP JP60280453A patent/JPS62139330A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6097359A (ja) * | 1983-11-01 | 1985-05-31 | Toshiba Corp | 投影形露光装置 |
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