JP3349572B2 - 薄板固定装置 - Google Patents
薄板固定装置Info
- Publication number
- JP3349572B2 JP3349572B2 JP33299693A JP33299693A JP3349572B2 JP 3349572 B2 JP3349572 B2 JP 3349572B2 JP 33299693 A JP33299693 A JP 33299693A JP 33299693 A JP33299693 A JP 33299693A JP 3349572 B2 JP3349572 B2 JP 3349572B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin plate
- photomask
- shaped object
- fixing device
- frame
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、たとえば、半導体装置
の製造装置において、フォトマスクの様な平面度の精度
が高い薄板形状物を固定する固定装置に関する。
の製造装置において、フォトマスクの様な平面度の精度
が高い薄板形状物を固定する固定装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】この種の固定装置としては、図３，図４
に示すようなものが知られている。
に示すようなものが知られている。
【０００３】すなわち、図中１はフレームで、このフレ
ーム１の下面部には複数個（４個）の固定吸着部２…が
取り付けられている。前記固定吸着部２…の上面部は高
精度な平面度、たとえば、１μｍ以下に加工されてい
る。上記固定吸着部２…は図示しない真空配管を介して
真空源に接続され、フォトマスク３の縁部を吸引吸着す
るようになっている。
ーム１の下面部には複数個（４個）の固定吸着部２…が
取り付けられている。前記固定吸着部２…の上面部は高
精度な平面度、たとえば、１μｍ以下に加工されてい
る。上記固定吸着部２…は図示しない真空配管を介して
真空源に接続され、フォトマスク３の縁部を吸引吸着す
るようになっている。
【０００４】上記フォトマスク３は、平面度が１μｍ以
下程度に加工されている。
下程度に加工されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来に
おいては、上記固定吸着部２…とフォトマスク３とが同
じ平面度（１μｍ）を有するため、固定吸着部２…上に
フォトマスク３を固定すると、フォトマスク３の平面度
はそれ自身の有する平面度より悪くなってしまうことが
多い。
おいては、上記固定吸着部２…とフォトマスク３とが同
じ平面度（１μｍ）を有するため、固定吸着部２…上に
フォトマスク３を固定すると、フォトマスク３の平面度
はそれ自身の有する平面度より悪くなってしまうことが
多い。
【０００６】また、上記固定吸着部２…が平面度１μｍ
であっても傾きがあると、フォトマスク３を固定した
際、フォトマスク３に曲げモーメントが発生し、更にフ
ォトマスク３の平面度が悪化する。
であっても傾きがあると、フォトマスク３を固定した
際、フォトマスク３に曲げモーメントが発生し、更にフ
ォトマスク３の平面度が悪化する。
【０００７】さらに、最近の傾向としてフォトマスク３
の厚さが厚くなる傾向にあり、フォトマスク３自身の平
面度をそのまま保持した方が良い。
の厚さが厚くなる傾向にあり、フォトマスク３自身の平
面度をそのまま保持した方が良い。
【０００８】また、マスク欠陥検査装置の場合、フレー
ム１を図示しないＸＹθステージに固定し、フォトマス
ク３の欠陥検査をするが、ステージの固定力でフレーム
１が歪まされると、フォトマスク３の平面度も低下され
る。
ム１を図示しないＸＹθステージに固定し、フォトマス
ク３の欠陥検査をするが、ステージの固定力でフレーム
１が歪まされると、フォトマスク３の平面度も低下され
る。
【０００９】そこで、本発明は薄板形状物の平面精度を
低下させることなく固定でき、かつ、薄板形状物の平面
方向と直交する方向には高精度な定位性を持たせ、装置
の処理性能力を向上させる薄板形状物の固定装置を提供
することを目的とする。
低下させることなく固定でき、かつ、薄板形状物の平面
方向と直交する方向には高精度な定位性を持たせ、装置
の処理性能力を向上させる薄板形状物の固定装置を提供
することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明の薄板固定装置
は、上記課題を解決するため、薄板形状物を縁部の複数
箇所で保持する薄板固定装置において、フレームと、前
記縁部の複数箇所に対応して配置され、前記フレームに
一端部が取り付けられ、前記薄板形状物の平面方向に高
剛性で、平面方向と直交する方向に低剛性な複数の取付
部材と、これらの取付部材の他端部に取り付けられ、前
記薄板形状物の縁部を吸着またはクランプすることによ
って前記薄板形状物を固定する固定部材と、を具備して
なる。
は、上記課題を解決するため、薄板形状物を縁部の複数
箇所で保持する薄板固定装置において、フレームと、前
記縁部の複数箇所に対応して配置され、前記フレームに
一端部が取り付けられ、前記薄板形状物の平面方向に高
剛性で、平面方向と直交する方向に低剛性な複数の取付
部材と、これらの取付部材の他端部に取り付けられ、前
記薄板形状物の縁部を吸着またはクランプすることによ
って前記薄板形状物を固定する固定部材と、を具備して
なる。
【００１１】また、前記フレームは、薄板形状物の平面
方向と直交する方向を位置決めすべく薄板形状物の縁部
を支持する少なくとも３点の基準部材を備えることが好
ましい。
方向と直交する方向を位置決めすべく薄板形状物の縁部
を支持する少なくとも３点の基準部材を備えることが好
ましい。
【００１２】
【作用】薄板形状物の固定時に、固定部材の取付部材は
薄板形状物の平面方向には位置を固定するが、薄板形状
物の平面方向と直交する方向には、低剛性であるため、
容易に変形し、薄板形状物に対しその平面方向と直交す
る方向に外力を付与することがない。これにより、薄板
形状物の固定時における平面度を高精度に維持する。
薄板形状物の平面方向には位置を固定するが、薄板形状
物の平面方向と直交する方向には、低剛性であるため、
容易に変形し、薄板形状物に対しその平面方向と直交す
る方向に外力を付与することがない。これにより、薄板
形状物の固定時における平面度を高精度に維持する。
【００１３】
【実施例】以下、本発明を図１および図２に示す一実施
例を参照して説明する。
例を参照して説明する。
【００１４】図１，図２はマスク欠陥検査装置のマスク
ホルダを示すもので、図中１１はフレームである。前記
フレ−ム１１の下面部には複数個（４個）の可動吸着部
１３…および複数個（３個）の支持手段としての高さ基
準片１４が取り付けられている。
ホルダを示すもので、図中１１はフレームである。前記
フレ−ム１１の下面部には複数個（４個）の可動吸着部
１３…および複数個（３個）の支持手段としての高さ基
準片１４が取り付けられている。
【００１５】前記可動吸着部１３…および高さ基準片１
４…上に薄板形状物としてのフォトマスク１２の縁部が
載置され、その高さ方向および、平面方向の位置決めが
なされるようになっている。
４…上に薄板形状物としてのフォトマスク１２の縁部が
載置され、その高さ方向および、平面方向の位置決めが
なされるようになっている。
【００１６】上記可動吸着部１３は取付部材としての板
ばね１７を有し、この板ばね１７の一端部は固定ねじ２
１…によって上記フレ−ム１１の下面部に固定され、他
端部には固定部材としての吸着ポケット１６が固定ねじ
２２…により固定されている。
ばね１７を有し、この板ばね１７の一端部は固定ねじ２
１…によって上記フレ−ム１１の下面部に固定され、他
端部には固定部材としての吸着ポケット１６が固定ねじ
２２…により固定されている。
【００１７】上記高さ基準片１４…はその一端部が上記
フレーム１１の下面部に固定され、他端部に上記フォト
マスク１２の縁部を支持する基準部としての基準ピン１
９を備えている。
フレーム１１の下面部に固定され、他端部に上記フォト
マスク１２の縁部を支持する基準部としての基準ピン１
９を備えている。
【００１８】上記した可動吸着部１３…および高さ基準
片１４…上に支持固定されるフォトマスク１２はその平
面方向には位置が固定されるが、平面方向と直交する方
向すなわち、高さ方向には低剛性な板ばね１７で支持さ
れているため、平面度を悪化させる様な外力が与えられ
ることがない。
片１４…上に支持固定されるフォトマスク１２はその平
面方向には位置が固定されるが、平面方向と直交する方
向すなわち、高さ方向には低剛性な板ばね１７で支持さ
れているため、平面度を悪化させる様な外力が与えられ
ることがない。
【００１９】従って、基準ピン１９の３点で支持され
て、かつ水平面方向には高剛性に固定されることにな
り、フォトマスク１２自身の平面度を悪化させることな
く、固定できる。
て、かつ水平面方向には高剛性に固定されることにな
り、フォトマスク１２自身の平面度を悪化させることな
く、固定できる。
【００２０】また、上記吸着ポケット１６には図示しな
い真空源が接続されており、真空源の動作により上記フ
ォトマスク１２は真空チャックされるようになってい
る。
い真空源が接続されており、真空源の動作により上記フ
ォトマスク１２は真空チャックされるようになってい
る。
【００２１】なお、上記一実施例では、フォトマスク１
２を真空チャックによりクランプしたが、これに限られ
ることなく、フォトマスク１２を機械的にクランプして
も良い。
２を真空チャックによりクランプしたが、これに限られ
ることなく、フォトマスク１２を機械的にクランプして
も良い。
【００２２】また、マスク欠陥検査装置においては、図
示しないＸＹθステージにフレーム１１を固定するが、
その際、ステージでの固定力でフレーム１１の平面度が
悪化させられても、フォトマスク１２は高さ方向に低剛
性な可動吸着部１３で固定されているためフォトマスク
２の平面度は悪化しない。
示しないＸＹθステージにフレーム１１を固定するが、
その際、ステージでの固定力でフレーム１１の平面度が
悪化させられても、フォトマスク１２は高さ方向に低剛
性な可動吸着部１３で固定されているためフォトマスク
２の平面度は悪化しない。
【００２３】さらに、前述した実施例では、３つの基準
ピン１９を設けてフォトマスク１２の高さ方向の位置を
定めるようにした例を示したが、フォトマスク１２の剛
性との兼ね合いで（フォトマスク１２を実質的に変形さ
せることなく）、低剛性な板ばね１７…が比較的わずか
なたわみでフォトマスク１２の重量を支えるような剛性
であるように設定すれば、基準ピン１９のような基準は
省略することができる。ただし、この場合、傾きを生じ
ることはあるが、平面度は確保されている。
ピン１９を設けてフォトマスク１２の高さ方向の位置を
定めるようにした例を示したが、フォトマスク１２の剛
性との兼ね合いで（フォトマスク１２を実質的に変形さ
せることなく）、低剛性な板ばね１７…が比較的わずか
なたわみでフォトマスク１２の重量を支えるような剛性
であるように設定すれば、基準ピン１９のような基準は
省略することができる。ただし、この場合、傾きを生じ
ることはあるが、平面度は確保されている。
【００２４】また、上記実施例では、装置例としてマス
ク欠陥検査装置、固定機構として真空チャックを用いた
が、これに限られることはなく、機械式固定方法とすれ
ば、電子ビーム描画装置にも適用できる。
ク欠陥検査装置、固定機構として真空チャックを用いた
が、これに限られることはなく、機械式固定方法とすれ
ば、電子ビーム描画装置にも適用できる。
【００２５】
【発明の効果】本発明は以上説明したように、高精度に
平面加工された薄板形状物をその平面度を低下させるこ
となく、その平面と同一方向に拘束して高精度で安定し
て保持でき、処理能率を向上することができる。
平面加工された薄板形状物をその平面度を低下させるこ
となく、その平面と同一方向に拘束して高精度で安定し
て保持でき、処理能率を向上することができる。
【００２６】また、薄板形状物の平面度を維持できるた
め、脱着を繰り返しても再現性を良好に維持できるとい
う効果を奏する。
め、脱着を繰り返しても再現性を良好に維持できるとい
う効果を奏する。
【図１】本発明の一実施例である薄板形状物の固定装置
を示す平面図。
を示す平面図。
【図２】図１の薄板形状物の固定装置を示す断面図。
【図３】従来の薄板形状物の固定装置を示す平面図。
【図４】図３の薄板形状物の固定装置を示す断面図。
１１…フレーム、１２…フォトマスク（薄板形状物）、
１３…可動吸着部、１４…高さ基準片（支持手段）、１
６…吸着ポケット（固定部材）、１７…板ばね（取付部
材）、１９…基準ピン（基準部材）。
１３…可動吸着部、１４…高さ基準片（支持手段）、１
６…吸着ポケット（固定部材）、１７…板ばね（取付部
材）、１９…基準ピン（基準部材）。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/027 G03F 1/14
Claims (2)
- 【請求項１】 薄板形状物を縁部の複数箇所で保持する
薄板固定装置において、 フレームと、前記縁部の複数箇所に対応して配置され、前記 フレーム
に一端部が取り付けられ、前記薄板形状物の平面方向に
高剛性で、平面方向と直交する方向に低剛性な複数の取
付部材と、これらの 取付部材の他端部に取り付けられ、前記薄板形
状物の縁部を吸着またはクランプすることによって前記
薄板形状物を固定する固定部材と、 を具備してなることを特徴とする薄板固定装置。 - 【請求項２】 前記フレームは、薄板形状物の平面方向
と直交する方向を位置決めすべく薄板形状物の縁部を支
持する少なくとも３点の基準部材を備えてなることを特
徴とする請求項１記載の薄板固定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33299693A JP3349572B2 (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 薄板固定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33299693A JP3349572B2 (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 薄板固定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07192984A JPH07192984A (ja) | 1995-07-28 |
| JP3349572B2 true JP3349572B2 (ja) | 2002-11-25 |
Family
ID=18261133
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33299693A Expired - Fee Related JP3349572B2 (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 薄板固定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3349572B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3725671B2 (ja) * | 1997-08-08 | 2005-12-14 | 日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社 | プロキシミティ露光装置及び方法並びに液晶ディスプレイの製造方法 |
| TW504605B (en) | 1999-12-03 | 2002-10-01 | Asm Lithography Bv | Lithographic projection apparatus, method of manufacturing a device using the same, the device and mask |
| US6653639B1 (en) * | 2000-10-17 | 2003-11-25 | Nikon Corporation | Chuck for mounting reticle to a reticle stage |
| JP4429518B2 (ja) * | 2000-11-13 | 2010-03-10 | 大日本印刷株式会社 | 描画状態表示装置とフォトマスク描画装置 |
| JP2004253401A (ja) * | 2000-12-28 | 2004-09-09 | Nikon Corp | ステージ装置、露光装置、多点位置検出系の調整方法、及びデバイス製造方法 |
| US7459701B2 (en) * | 2005-06-08 | 2008-12-02 | Asml Netherlands B.V. | Stage apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method |
| JP4692276B2 (ja) * | 2005-12-28 | 2011-06-01 | ウシオ電機株式会社 | 支持機構及び支持機構を使ったマスクステージ |
| US9851643B2 (en) * | 2012-03-27 | 2017-12-26 | Kla-Tencor Corporation | Apparatus and methods for reticle handling in an EUV reticle inspection tool |
| CN108351597B (zh) * | 2015-09-01 | 2021-02-09 | 株式会社尼康 | 光罩保持装置、曝光装置、平板显示器的制造方法、器件制造方法、光罩的保持方法以及曝光方法 |
-
1993
- 1993-12-27 JP JP33299693A patent/JP3349572B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07192984A (ja) | 1995-07-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101025086B1 (ko) | 지지기구 및 지지기구를 사용한 마스크 스테이지 | |
| US6736588B1 (en) | Integrated large glass handling system | |
| JP3349572B2 (ja) | 薄板固定装置 | |
| US5675403A (en) | Stress-free mount for imaging mask | |
| US4711438A (en) | Mask holding | |
| US4544311A (en) | Mask alignment apparatus | |
| JPH0897133A (ja) | 試料保持装置 | |
| JP2002305138A (ja) | 露光装置および露光方法 | |
| JPH0831514B2 (ja) | 基板の吸着装置 | |
| US5130747A (en) | Carrier apparatus | |
| JP3368139B2 (ja) | 電子ビーム描画装置用試料ステージ | |
| JPH08167553A (ja) | 被処理材の固定装置 | |
| JPH07302831A (ja) | 共用試料ホールダ | |
| JPH0620917A (ja) | ステージ装置 | |
| JP2526199Y2 (ja) | ウェハホルダの固定構造 | |
| JPH05267116A (ja) | ウェハチャックの取り付け構造 | |
| JPH0369138B2 (ja) | ||
| JP3425249B2 (ja) | 試料ホルダの固定装置 | |
| JPH11194188A (ja) | 板状部材の保持装置 | |
| JP3068908B2 (ja) | 試料搬送装置 | |
| JPH09205131A (ja) | 半導体製造装置用ステージへの被処理材固定装置 | |
| JPS6322673Y2 (ja) | ||
| JPH0682397A (ja) | 試料位置決め機構 | |
| JP2783571B2 (ja) | マスク構造体 | |
| JP2926283B2 (ja) | ウェハホールド装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080913 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090913 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090913 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100913 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100913 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110913 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110913 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120913 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130913 Year of fee payment: 11 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |