JPH05267116A - ウェハチャックの取り付け構造 - Google Patents
ウェハチャックの取り付け構造Info
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- JPH05267116A JPH05267116A JP4062593A JP6259392A JPH05267116A JP H05267116 A JPH05267116 A JP H05267116A JP 4062593 A JP4062593 A JP 4062593A JP 6259392 A JP6259392 A JP 6259392A JP H05267116 A JPH05267116 A JP H05267116A
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- stage
- wafer
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- chuck
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Abstract
(57)【要約】
【目的】半導体製造装置において、ウェハを吸着固定す
るウェハチャックの取り付け構造に関し、ウェハチャッ
クをステージに取り付ける際に、ステージ側の平面度に
左右されることなく、しかもステージ側の歪みがウェハ
チャックに伝わらないようにすることを目的とする。 【構成】ウェハを載置し支持するウェハチャック１と、
該ウェハチャック１を取り付けるステージ２を有する半
導体製造装置において、一部あるいは全部が球状のスペ
ーサ８を介して、ウェハチャック１をステージ２に取り
付けた構成とする。
るウェハチャックの取り付け構造に関し、ウェハチャッ
クをステージに取り付ける際に、ステージ側の平面度に
左右されることなく、しかもステージ側の歪みがウェハ
チャックに伝わらないようにすることを目的とする。 【構成】ウェハを載置し支持するウェハチャック１と、
該ウェハチャック１を取り付けるステージ２を有する半
導体製造装置において、一部あるいは全部が球状のスペ
ーサ８を介して、ウェハチャック１をステージ２に取り
付けた構成とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造装置におい
て、ウェハを吸着固定するウェハチャックの取り付け構
造に関する。ＬＳＩの高集積化に伴い、転写パターンの
微細化要求はますます強くなりつつある。例えば２５６
Ｍビットあるいは１ＧビットＤＲＡＭを製造するには、
最小線幅0.15〜0.2 μｍという極細パターンを正確に露
光転写できるステッパーが必要である。
て、ウェハを吸着固定するウェハチャックの取り付け構
造に関する。ＬＳＩの高集積化に伴い、転写パターンの
微細化要求はますます強くなりつつある。例えば２５６
Ｍビットあるいは１ＧビットＤＲＡＭを製造するには、
最小線幅0.15〜0.2 μｍという極細パターンを正確に露
光転写できるステッパーが必要である。
【０００２】しかし、パターンの解像度は、露光波長／
投影レンズの開口比に比例することが知られており、こ
のため、極細パターンを露光するには、露光装置（ステ
ッパー）の投影レンズの開口比N.A.を大きくしなければ
ならない。ところが、N.A.を大きくすると、マスク投影
像の被写体深度がN.A.の二乗に比例して悪くなるため、
ウェハの平坦度をいかに確保するかが大きな課題とな
る。
投影レンズの開口比に比例することが知られており、こ
のため、極細パターンを露光するには、露光装置（ステ
ッパー）の投影レンズの開口比N.A.を大きくしなければ
ならない。ところが、N.A.を大きくすると、マスク投影
像の被写体深度がN.A.の二乗に比例して悪くなるため、
ウェハの平坦度をいかに確保するかが大きな課題とな
る。
【０００３】
【従来の技術】図６はステッパーの斜視図であり、ウェ
ハチャック１が取り付けられたステージ２によって、ウ
ェハ３をＸ・Ｙ方向にステップアンドリピート動作さ
せ、マスク４に対し、間欠的にかつ高精度に移動させる
ことで、ウェハ３上に繰り返し露光を行なうようになっ
ている。５は紫外光源、Ｌ１、Ｌ２はレンズである。
ハチャック１が取り付けられたステージ２によって、ウ
ェハ３をＸ・Ｙ方向にステップアンドリピート動作さ
せ、マスク４に対し、間欠的にかつ高精度に移動させる
ことで、ウェハ３上に繰り返し露光を行なうようになっ
ている。５は紫外光源、Ｌ１、Ｌ２はレンズである。
【０００４】この装置において、常に最良の解像度が得
られるようにウェハ３の面上に焦点を合わせるには、レ
ンズＬ２とウェハ面との間の距離を常に一定に維持する
必要がある。すなわち、ウェハ３の表面が高い精度で平
坦になっていることが必要である。
られるようにウェハ３の面上に焦点を合わせるには、レ
ンズＬ２とウェハ面との間の距離を常に一定に維持する
必要がある。すなわち、ウェハ３の表面が高い精度で平
坦になっていることが必要である。
【０００５】ウェハ３の表面を平坦にするために、従来
は図７に示すように、表面が平坦なウェハチャック１に
ウェハ３を載置し、排気溝６を真空ポンプに接続して真
空吸着することで、ウェハ３の曲がりを矯正することに
よって、ウェハの平面度を確保していた。すなわち、ウ
ェハチャック１を高剛性の材料で製作することによって
その表面の平面度を維持し、ウェハ３をウェハチャック
表面に倣わせて、ウェハの平面度を確保しようとするも
のである。
は図７に示すように、表面が平坦なウェハチャック１に
ウェハ３を載置し、排気溝６を真空ポンプに接続して真
空吸着することで、ウェハ３の曲がりを矯正することに
よって、ウェハの平面度を確保していた。すなわち、ウ
ェハチャック１を高剛性の材料で製作することによって
その表面の平面度を維持し、ウェハ３をウェハチャック
表面に倣わせて、ウェハの平面度を確保しようとするも
のである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところが、図８に示す
ように、ウェハチャック１はネジ７でステージ２に取り
付けられるため、ステージ２の表面に倣ってウェハチャ
ック１が変形する。ステージ２の表面が高精度の平面と
なるように加工することは極めて困難なため、この変形
は避けられない。一方、ステージ２の組立て時の誤差や
環境変化などによって、ステージ２側に曲げや伸縮が起
きることもある。
ように、ウェハチャック１はネジ７でステージ２に取り
付けられるため、ステージ２の表面に倣ってウェハチャ
ック１が変形する。ステージ２の表面が高精度の平面と
なるように加工することは極めて困難なため、この変形
は避けられない。一方、ステージ２の組立て時の誤差や
環境変化などによって、ステージ２側に曲げや伸縮が起
きることもある。
【０００７】また、ウェハチャック１の取り付け時は歪
みが無くても、ウェハチャック１とステージ２間の熱膨
張率の差や経時変化によって、ウェハチャック１側に歪
みや変形が生じることもある。その結果、ウェハチャッ
ク１の表面の平面度が低下し、真空吸着や静電吸着され
たウェハ３の平面度を維持できなくなり、微細パターン
の露光に支障をきたしている。
みが無くても、ウェハチャック１とステージ２間の熱膨
張率の差や経時変化によって、ウェハチャック１側に歪
みや変形が生じることもある。その結果、ウェハチャッ
ク１の表面の平面度が低下し、真空吸着や静電吸着され
たウェハ３の平面度を維持できなくなり、微細パターン
の露光に支障をきたしている。
【０００８】本発明の技術的課題は、このような問題に
着目し、ウェハチャックをステージに取り付ける際に、
ステージ側の平面度に左右されることなく、しかもステ
ージ側の歪みがウェハチャックに伝わらないようにする
ことにある。
着目し、ウェハチャックをステージに取り付ける際に、
ステージ側の平面度に左右されることなく、しかもステ
ージ側の歪みがウェハチャックに伝わらないようにする
ことにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】図１は本発明によるウェ
ハチャックの取り付け構造の基本原理を説明する斜視図
であり、（ａ）はウェハチャック１をステージ２に取り
付ける前の状態、（ｂ）は取り付け後の状態である。請
求項１の発明は、一部あるいは全部が球状のスペーサ８
を介して、ウェハチャック１をステージ２に取り付けた
構造である。
ハチャックの取り付け構造の基本原理を説明する斜視図
であり、（ａ）はウェハチャック１をステージ２に取り
付ける前の状態、（ｂ）は取り付け後の状態である。請
求項１の発明は、一部あるいは全部が球状のスペーサ８
を介して、ウェハチャック１をステージ２に取り付けた
構造である。
【００１０】請求項２の発明は、請求項１の装置におい
て、一部あるいは全部が球状のスペーサ８を保持するた
めの窪み９を、ウェハチャック１側あるいはステージ２
側の片方あるいは両方に設けた構造である。
て、一部あるいは全部が球状のスペーサ８を保持するた
めの窪み９を、ウェハチャック１側あるいはステージ２
側の片方あるいは両方に設けた構造である。
【００１１】請求項３の発明は、図３に示すように、前
記の一部あるいは全部が球状のスペーサ８を３点に設
け、ウェハチャック１側またはステージ２側の片方に
は、各スペーサを支持するための円錐状の窪み９を設け
てある。そして、他方においては、１個のスペーサは円
錐状の窪み９の中に支持し、もう１個のスペーサは、該
円錐状窪み９と一直線上に形成されたＶ字状の溝１０中
に支持し、残りの１個は平面１１に支持した構造であ
る。
記の一部あるいは全部が球状のスペーサ８を３点に設
け、ウェハチャック１側またはステージ２側の片方に
は、各スペーサを支持するための円錐状の窪み９を設け
てある。そして、他方においては、１個のスペーサは円
錐状の窪み９の中に支持し、もう１個のスペーサは、該
円錐状窪み９と一直線上に形成されたＶ字状の溝１０中
に支持し、残りの１個は平面１１に支持した構造であ
る。
【００１２】請求項４の発明は、図４のように、ウェハ
チャック１側あるいはステージ２側の片方に磁石Ｍを設
け、他方に磁性体１２または磁石を設けた構造である。
チャック１側あるいはステージ２側の片方に磁石Ｍを設
け、他方に磁性体１２または磁石を設けた構造である。
【００１３】
【作用】請求項１のように、一部あるいは全部が球状の
スペーサ８を介して、３点でウェハチャック１をステー
ジ２に取り付けた構造にすると、ウェハチャック１がス
テージ２に直接接している場合と違って、ウェハチャッ
ク１がステージ２の平面状態の影響を受けることはな
い。
スペーサ８を介して、３点でウェハチャック１をステー
ジ２に取り付けた構造にすると、ウェハチャック１がス
テージ２に直接接している場合と違って、ウェハチャッ
ク１がステージ２の平面状態の影響を受けることはな
い。
【００１４】しかも、ウェハチャック１またはステージ
２がスペーサ８の球面と接することによって、回り対偶
となるため、図２（ａ）のようにステージ２側が曲がり
方向に変形したときに、スペーサ８との間の回転によっ
て、曲がり方向の変形が吸収される。その結果、ステー
ジ２の変形ないし歪みがウェハチャック１に伝わるのを
防止し、ウェハチャック１の平面度を維持できる。
２がスペーサ８の球面と接することによって、回り対偶
となるため、図２（ａ）のようにステージ２側が曲がり
方向に変形したときに、スペーサ８との間の回転によっ
て、曲がり方向の変形が吸収される。その結果、ステー
ジ２の変形ないし歪みがウェハチャック１に伝わるのを
防止し、ウェハチャック１の平面度を維持できる。
【００１５】請求項２のように、一部あるいは全部が球
状のスペーサ８を保持するための窪み９をウェハチャッ
ク１側あるいはステージ２側の片方あるいは両方に設け
ることにより、スペーサ８がウェハチャック１とステー
ジ２との間に安定して保持される。
状のスペーサ８を保持するための窪み９をウェハチャッ
ク１側あるいはステージ２側の片方あるいは両方に設け
ることにより、スペーサ８がウェハチャック１とステー
ジ２との間に安定して保持される。
【００１６】請求項３の発明によれば、図３に示すよう
に、前記の一部あるいは全部が球状のスペーサ８を３点
に設け、ウェハチャック１側またはステージ２側の片方
には、各スペーサを支持するための円錐状の窪み９を設
けてあるので、スペーサ８が安定して保持される。
に、前記の一部あるいは全部が球状のスペーサ８を３点
に設け、ウェハチャック１側またはステージ２側の片方
には、各スペーサを支持するための円錐状の窪み９を設
けてあるので、スペーサ８が安定して保持される。
【００１７】しかも、ウェハチャック１またはステージ
２の他方においては、１個のスペーサは円錐状の窪み９
の中に支持し、もう１個のスペーサは、該円錐状窪み９
と一直線上に形成されたＶ字状の溝１０中に支持してい
るので、Ｖ溝１０中のスペーサ８は、該溝方向に回転な
いし滑り移動して、ステージ２の歪みを吸収でき、溝１
０と交差する方向には該溝１０によって規制される。
２の他方においては、１個のスペーサは円錐状の窪み９
の中に支持し、もう１個のスペーサは、該円錐状窪み９
と一直線上に形成されたＶ字状の溝１０中に支持してい
るので、Ｖ溝１０中のスペーサ８は、該溝方向に回転な
いし滑り移動して、ステージ２の歪みを吸収でき、溝１
０と交差する方向には該溝１０によって規制される。
【００１８】また、残りの１個のスペーサ８は平面１１
に支持されているため、図２（ｂ）のように、ステージ
２が伸縮方向に歪んでも、該平面１１上において、任意
の方向に回転ないし滑り運動できる。結局、ウェハチャ
ック１は、該円錐状窪み９中のスペーサ８を中心にして
位置決めされ、しかもステージ２の曲がり方向の歪みも
含め、あらゆる方向の歪みを吸収できる。
に支持されているため、図２（ｂ）のように、ステージ
２が伸縮方向に歪んでも、該平面１１上において、任意
の方向に回転ないし滑り運動できる。結局、ウェハチャ
ック１は、該円錐状窪み９中のスペーサ８を中心にして
位置決めされ、しかもステージ２の曲がり方向の歪みも
含め、あらゆる方向の歪みを吸収できる。
【００１９】請求項４のように、ウェハチャック１側あ
るいはステージ２側の片方に磁石Ｍを設け、他方に磁性
体１２または磁石を設けたことにより、ウェハチャック
１をより確実にステージ２に固定することができる。し
かも、該磁石Ｍや磁性体１２は、スペーサ８の近傍に配
設されているので、磁力によってウェハチャック１が変
形するようなことはない。
るいはステージ２側の片方に磁石Ｍを設け、他方に磁性
体１２または磁石を設けたことにより、ウェハチャック
１をより確実にステージ２に固定することができる。し
かも、該磁石Ｍや磁性体１２は、スペーサ８の近傍に配
設されているので、磁力によってウェハチャック１が変
形するようなことはない。
【００２０】
【実施例】次に本発明によるウェハチャックの取り付け
構造が実際上どのように具体化されるかを実施例で説明
する。図３は請求項３の発明の実施例を示す斜視図であ
り、ウェハチャック１をステージ２に取り付ける前の状
態である。図示例では、ウェハチャック１側に、スペー
サ８が嵌入する円錐状窪み９が３か所に形成されてい
る。
構造が実際上どのように具体化されるかを実施例で説明
する。図３は請求項３の発明の実施例を示す斜視図であ
り、ウェハチャック１をステージ２に取り付ける前の状
態である。図示例では、ウェハチャック１側に、スペー
サ８が嵌入する円錐状窪み９が３か所に形成されてい
る。
【００２１】一方ステージ２側には、円錐状の窪み９は
１個だけ形成し、該窪み９とウェハチャック１の円錐状
窪み９との間に１個のスペーサ８が嵌入される。そし
て、円錐状窪み９と一直線上にＶ字状の溝１０を形成し
てあり、該溝１０とウェハチャック１の１個の円錐状窪
み９との間に、もう１個のスペーサ８が嵌入される。そ
して、残りの１個は、底面が平面１１となった凹部１３
であり、該凹部１３とウェハチャック１の円錐状窪み９
との間に、残りのスペーサ８が嵌入される。
１個だけ形成し、該窪み９とウェハチャック１の円錐状
窪み９との間に１個のスペーサ８が嵌入される。そし
て、円錐状窪み９と一直線上にＶ字状の溝１０を形成し
てあり、該溝１０とウェハチャック１の１個の円錐状窪
み９との間に、もう１個のスペーサ８が嵌入される。そ
して、残りの１個は、底面が平面１１となった凹部１３
であり、該凹部１３とウェハチャック１の円錐状窪み９
との間に、残りのスペーサ８が嵌入される。
【００２２】この構造によれば、ウェハチャック１は、
ステージ２の円錐状窪み９中のスペーサ８に位置決めさ
れているが、他の部分は、Ｖ字状溝１０および平面１１
上で相対移動できる。すなわち、Ｖ字状溝１０とウェハ
チャック１の円錐状窪み９間にスペーサ８が嵌入してい
る状態で、該スペーサ８は、Ｖ字状溝１０の溝方向には
自由に移動できる。したがって、図２のようにステージ
２が曲がり方向にあるいは伸縮方向に変形しても、Ｖ字
状溝１０の方向の変形を吸収できる。
ステージ２の円錐状窪み９中のスペーサ８に位置決めさ
れているが、他の部分は、Ｖ字状溝１０および平面１１
上で相対移動できる。すなわち、Ｖ字状溝１０とウェハ
チャック１の円錐状窪み９間にスペーサ８が嵌入してい
る状態で、該スペーサ８は、Ｖ字状溝１０の溝方向には
自由に移動できる。したがって、図２のようにステージ
２が曲がり方向にあるいは伸縮方向に変形しても、Ｖ字
状溝１０の方向の変形を吸収できる。
【００２３】また、凹部１３の平らな底部１１上では、
スペーサ８は任意の方向に回転ないし滑り動作できるた
め、ステージ２がどの方向に歪んでも、平面１１上のス
ペーサ８によって吸収できる。結局、ステージ２は、そ
の円錐状窪み９中のスペーサ８を中心にして、かつウェ
ハチャック１から独立して、任意の方向に変形できるの
で、曲がり方向の歪みも含めて、あらゆる方向の歪みを
吸収できる。
スペーサ８は任意の方向に回転ないし滑り動作できるた
め、ステージ２がどの方向に歪んでも、平面１１上のス
ペーサ８によって吸収できる。結局、ステージ２は、そ
の円錐状窪み９中のスペーサ８を中心にして、かつウェ
ハチャック１から独立して、任意の方向に変形できるの
で、曲がり方向の歪みも含めて、あらゆる方向の歪みを
吸収できる。
【００２４】図示例とは逆に、ステージ２側に３個の円
錐状窪み９を形成し、ウェハチャック１側に１個の円錐
状窪み９と、１本のＶ字状溝１０と、１個の底が平らな
凹部１３を形成してもよい。また、回転中心となる円錐
状窪み９側は、ステージ２に対してウェハチャック１が
回転自在で、面内方向には規制される構造であればよ
く、図示例に限定されるものではない。なお、ステージ
２は、Ｘ−Ｙ方向のガイドレール１４、１５に沿って、
Ｘ−Ｙ方向に間欠駆動される。
錐状窪み９を形成し、ウェハチャック１側に１個の円錐
状窪み９と、１本のＶ字状溝１０と、１個の底が平らな
凹部１３を形成してもよい。また、回転中心となる円錐
状窪み９側は、ステージ２に対してウェハチャック１が
回転自在で、面内方向には規制される構造であればよ
く、図示例に限定されるものではない。なお、ステージ
２は、Ｘ−Ｙ方向のガイドレール１４、１５に沿って、
Ｘ−Ｙ方向に間欠駆動される。
【００２５】図４は請求項４の発明の実施例を示す斜視
図である。図示例においては、ステージ２およびウェハ
チャック１ともに、円錐状窪み９が３個ずつ形成されて
いる。そして、ステージ２の円錐状窪み９の周りにリン
グ状の磁石Ｍが埋め込まれている。ウェハチャック１側
には、円錐状窪み９の周りに、鉄板などの磁性体１２が
埋め込まれている。
図である。図示例においては、ステージ２およびウェハ
チャック１ともに、円錐状窪み９が３個ずつ形成されて
いる。そして、ステージ２の円錐状窪み９の周りにリン
グ状の磁石Ｍが埋め込まれている。ウェハチャック１側
には、円錐状窪み９の周りに、鉄板などの磁性体１２が
埋め込まれている。
【００２６】したがって、磁石Ｍと磁性体１２間の磁力
によって、ウェハチャック１をステージ２に吸着し固定
できる。しかも、スペーサ８の付近のみに磁力が作用す
るので、磁気吸引力でウェハチャック１が変形するよう
なことはない。なお、図示例とは逆に、ウェハチャック
１側に磁石Ｍを取り付け、ステージ２側に磁性体１２を
取り付けてもよい。また、磁性体１２に代えて磁石を用
い、他方の磁石Ｍと逆極性同士を対向させてもよい。
によって、ウェハチャック１をステージ２に吸着し固定
できる。しかも、スペーサ８の付近のみに磁力が作用す
るので、磁気吸引力でウェハチャック１が変形するよう
なことはない。なお、図示例とは逆に、ウェハチャック
１側に磁石Ｍを取り付け、ステージ２側に磁性体１２を
取り付けてもよい。また、磁性体１２に代えて磁石を用
い、他方の磁石Ｍと逆極性同士を対向させてもよい。
【００２７】ウェハチャック１として、アルミニウムや
セラミックスなどのような非磁性体を用いるときは、前
記のように磁性体１２を取り付けておく必要があるが、
ウェハチャック１自体が鉄などのような磁性体でできて
いる場合は、磁性体１２を取り付ける必要はない。
セラミックスなどのような非磁性体を用いるときは、前
記のように磁性体１２を取り付けておく必要があるが、
ウェハチャック１自体が鉄などのような磁性体でできて
いる場合は、磁性体１２を取り付ける必要はない。
【００２８】磁石に代えて、引張りスプリングのバネ力
でステージ２とウェハチャック１間を引張っておくと
か、図２（ｂ）に示すように、シリコーンゴムのような
軟性接着剤１６をステージ２とウェハチャック１間に塗
布しておくこともできる。
でステージ２とウェハチャック１間を引張っておくと
か、図２（ｂ）に示すように、シリコーンゴムのような
軟性接着剤１６をステージ２とウェハチャック１間に塗
布しておくこともできる。
【００２９】図５は円錐状窪み９の実施例であり、
（ａ）図のように内壁が円錐状をした窪み９だけでな
く、（ｂ）図のように内壁が階段状の窪み９でもよい。
（ａ）図のように内壁が円錐状をした窪み９だけでな
く、（ｂ）図のように内壁が階段状の窪み９でもよい。
【００３０】またスペーサ８は、全体が球状のものが製
造が容易であるが、少なくともステージ２やウェハチャ
ック１と接する面が球面をしておれば足りる。ただし、
図３における回転中心となる円錐状窪み９に嵌入するス
ペーサ８は、算盤玉様の円錐体でも差し支えない。
造が容易であるが、少なくともステージ２やウェハチャ
ック１と接する面が球面をしておれば足りる。ただし、
図３における回転中心となる円錐状窪み９に嵌入するス
ペーサ８は、算盤玉様の円錐体でも差し支えない。
【００３１】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、ステージ
２とウェハチャック１との間に、一部あるいは全部が球
状のスペーサ８が介在しているため、ウェハチャック１
はステージ２の面の影響を受けることはなく、またステ
ージ２の面方向および曲げ方向の変形や歪みを吸収でき
るため、ウェハチャック１が変形することはなく、その
結果ステージ２上に真空吸着や静電吸着などによって固
定されたウェハ３の平面度が阻害されるようなことはな
い。
２とウェハチャック１との間に、一部あるいは全部が球
状のスペーサ８が介在しているため、ウェハチャック１
はステージ２の面の影響を受けることはなく、またステ
ージ２の面方向および曲げ方向の変形や歪みを吸収でき
るため、ウェハチャック１が変形することはなく、その
結果ステージ２上に真空吸着や静電吸着などによって固
定されたウェハ３の平面度が阻害されるようなことはな
い。
【００３２】また、請求項３のように、１個のスペーサ
８は、位置決め用の円錐状窪み９に嵌入させ、他の１個
は該円錐状窪み９と一直線上のＶ字状溝１０に嵌入さ
せ、残りの１個は平面１１上に嵌入させることで、円錐
状窪み９を中心にして、ステージ２の任意の方向の歪み
を吸収できる。
８は、位置決め用の円錐状窪み９に嵌入させ、他の１個
は該円錐状窪み９と一直線上のＶ字状溝１０に嵌入さ
せ、残りの１個は平面１１上に嵌入させることで、円錐
状窪み９を中心にして、ステージ２の任意の方向の歪み
を吸収できる。
【００３３】そして、請求項４のように、スペーサ８の
周りに磁石Ｍを設けて、磁力でウェハチャック１をステ
ージ２に吸着することによって、ウェハチャック１を安
定して保持できる。
周りに磁石Ｍを設けて、磁力でウェハチャック１をステ
ージ２に吸着することによって、ウェハチャック１を安
定して保持できる。
【図１】本発明によるウェハチャックの取り付け構造の
基本原理を説明する斜視図である。
基本原理を説明する斜視図である。
【図２】本発明の作用説明図である。
【図３】請求項３の発明の実施例を示す斜視図である。
【図４】請求項４の発明の実施例を示す斜視図である。
【図５】円錐状窪みの実施例を示す断面図である。
【図６】半導体製造用のステッパーの斜視図である。
【図７】従来のウェハチャックの断面図である。
【図８】従来のウェハチャックの取り付け構造とその作
用を示す図である。
用を示す図である。
１ ウェハチャック ２ ステージ ３ ウェハ ４ マスク ５ 紫外光源 ６ 排気溝 ７ ネジ ８ スペーサ ９ 窪み 10 Ｖ字状溝 11 平面部 Ｍ 磁石 12 磁性体 13 底が平らな凹部 14,15 ガイドレール 16 軟性接着剤 17 段部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 阪田 裕司 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内
Claims (4)
- 【請求項１】 ウェハを載置し支持するウェハチャック
（１）と、該ウェハチャック（１）を取り付けるステー
ジ（２）を有する半導体製造装置において、 一部あるいは全部が球状のスペーサ（８）を介して、ウ
ェハチャック（１）をステージ（２）に取り付けたこと
を特徴とするウェハチャックの取り付け構造。 - 【請求項２】 前記の一部あるいは全部が球状のスペー
サ（８）を保持するための窪みを、ウェハチャック
（１）側あるいはステージ（２）側の片方あるいは両方
に設けたことを特徴とする請求項１記載のウェハチャッ
クの取り付け構造。 - 【請求項３】 前記の一部あるいは全部が球状のスペー
サ（８）を３点に設け、 ウェハチャック（１）側また
はステージ（２）側の片方には、各スペーサ（８）を支
持するための円錐状の窪み（９）を設け、 他方においては、１個のスペーサは円錐状の窪み（９）
の中に支持し、 もう１個のスペーサは、該円錐状窪み（９）と一直線上
に形成されたＶ字状の溝（１０）中に支持し、 残りの１個は平面（１１）に支持したことを特徴とする
請求項１記載のウェハチャックの取り付け構造。 - 【請求項４】 ウェハチャック（１）側あるいはステー
ジ（２）側の片方に、各スペーサ（８）の近傍に磁石
（Ｍ）を設け、 他方には、該磁石（Ｍ）と対応する位置に、磁性体（１
２）または磁石を設けたことを特徴とする請求項１、２
または請求項３記載のウェハチャックの取り付け構造。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4062593A JPH05267116A (ja) | 1992-03-18 | 1992-03-18 | ウェハチャックの取り付け構造 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4062593A JPH05267116A (ja) | 1992-03-18 | 1992-03-18 | ウェハチャックの取り付け構造 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05267116A true JPH05267116A (ja) | 1993-10-15 |
Family
ID=13204783
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4062593A Withdrawn JPH05267116A (ja) | 1992-03-18 | 1992-03-18 | ウェハチャックの取り付け構造 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05267116A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006215122A (ja) * | 2005-02-02 | 2006-08-17 | Sigma Corp | 画像振れ防止装置 |
| KR100745667B1 (ko) * | 2000-09-05 | 2007-08-02 | 캐스케이드 마이크로테크 인코포레이티드 | 시험중의 디바이스를 유지하기 위한 척 |
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| JP2014532963A (ja) * | 2011-10-28 | 2014-12-08 | エフ・イ−・アイ・カンパニー | 試料ブロック・ホルダ |
-
1992
- 1992-03-18 JP JP4062593A patent/JPH05267116A/ja not_active Withdrawn
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|---|---|---|---|
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