JPH0620917A - ステージ装置 - Google Patents
ステージ装置Info
- Publication number
- JPH0620917A JPH0620917A JP4174093A JP17409392A JPH0620917A JP H0620917 A JPH0620917 A JP H0620917A JP 4174093 A JP4174093 A JP 4174093A JP 17409392 A JP17409392 A JP 17409392A JP H0620917 A JPH0620917 A JP H0620917A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- guide mechanism
- positioning
- base
- suction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 位置決めの分解能が高く、構成が簡潔で位置
決め後のステージの位置を高精度に保持することのでき
るステージ装置を得る。 【構成】 基盤４上に転がり案内機構５を介してステー
ジ３を載置する。ステージ３と基盤４との間には、ステ
ージの移動方向に剛性を持つ板バネ１４によって基盤４
上に支持された真空吸着部１２を配置する。真空吸着部
１２は板バネ１４によってステージに接触している。ス
テージ３の移動時には転がり案内機構５によってステー
ジを移動し、ステージ３の位置決めの際には真空吸着部
１２によってステージを基盤４に固定する。 【効果】 案内機構とステージとの摩擦が小さいので位
置決めの分解能が高くなり、板バネの付勢力のためステ
ージが撓んだり、移動方向に位置ずれを起こしたりする
ことがない。
決め後のステージの位置を高精度に保持することのでき
るステージ装置を得る。 【構成】 基盤４上に転がり案内機構５を介してステー
ジ３を載置する。ステージ３と基盤４との間には、ステ
ージの移動方向に剛性を持つ板バネ１４によって基盤４
上に支持された真空吸着部１２を配置する。真空吸着部
１２は板バネ１４によってステージに接触している。ス
テージ３の移動時には転がり案内機構５によってステー
ジを移動し、ステージ３の位置決めの際には真空吸着部
１２によってステージを基盤４に固定する。 【効果】 案内機構とステージとの摩擦が小さいので位
置決めの分解能が高くなり、板バネの付勢力のためステ
ージが撓んだり、移動方向に位置ずれを起こしたりする
ことがない。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はステージ装置に関するも
のであり、特にウェハやレチクル等の基板を載置して移
動し、基板を所定の位置に位置決めする装置に関するも
のである。
のであり、特にウェハやレチクル等の基板を載置して移
動し、基板を所定の位置に位置決めする装置に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】従来この種の装置は、図２（ａ），
（ｂ）に示すような構成であった。図２（ａ）は装置の
平面図であり、図２（ｂ）は装置の側面図である。つま
り、基盤４上にはベアリング等の転がり案内機構５を介
してステージ３が載置されている。ステージ３は、駆動
装置６によって平面内を移動可能となっている。またス
テージ３上にはウェハやレチクル等の基板１が載置さ
れ、ステージ３を駆動装置６で移動して、基板１上のア
ライメントマーク２をアライメント顕微鏡８で検出する
ことによって基板１を所定の位置に位置決めする。この
ステージ装置はステージ３の位置を検出する位置検出器
７を備えており、位置検出器７で検出された位置を保持
するように駆動装置６を閉ループ制御してステージ位置
を保持していた。
（ｂ）に示すような構成であった。図２（ａ）は装置の
平面図であり、図２（ｂ）は装置の側面図である。つま
り、基盤４上にはベアリング等の転がり案内機構５を介
してステージ３が載置されている。ステージ３は、駆動
装置６によって平面内を移動可能となっている。またス
テージ３上にはウェハやレチクル等の基板１が載置さ
れ、ステージ３を駆動装置６で移動して、基板１上のア
ライメントマーク２をアライメント顕微鏡８で検出する
ことによって基板１を所定の位置に位置決めする。この
ステージ装置はステージ３の位置を検出する位置検出器
７を備えており、位置検出器７で検出された位置を保持
するように駆動装置６を閉ループ制御してステージ位置
を保持していた。
【０００３】また、図３に示すような構成の装置も用い
られていた。これは、図２に示す転がり案内機構の代わ
りに、ステージ３との接触面（案内面）に摩擦係数の小
さな潤滑樹脂等を用いた滑り案内機構１０を備えたもの
である。この滑り案内機構１０の案内面には空間９が設
けてあり、排気路１１を介して不図示の真空装置に接続
している。この場合も、図２に示す装置と同様にして基
板１を位置決めするが、位置決めした後は空間９を真空
に引くことによってステージ３を案内機構１０に吸着
し、ステージ３の位置を固定していた。
られていた。これは、図２に示す転がり案内機構の代わ
りに、ステージ３との接触面（案内面）に摩擦係数の小
さな潤滑樹脂等を用いた滑り案内機構１０を備えたもの
である。この滑り案内機構１０の案内面には空間９が設
けてあり、排気路１１を介して不図示の真空装置に接続
している。この場合も、図２に示す装置と同様にして基
板１を位置決めするが、位置決めした後は空間９を真空
に引くことによってステージ３を案内機構１０に吸着
し、ステージ３の位置を固定していた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記の如き従来の技術
においては、以下の問題点があった。即ち、転がり案内
機構を閉ループ制御してステージ位置を保持する構成で
は、構成が複雑で高価になる。一方、滑り案内機構を用
いた構成では、ステージと接触面との間の摩擦のうち、
ステージに力を加えてからステージが移動し始めるまで
の静摩擦とステージが移動する際の動摩擦との差によっ
て所謂スティックスリップが生じ、駆動装置の駆動力に
対するステージの移動量が一定にならない。このため、
ステージの位置決め分解能が低くなり、その結果位置決
め時間も長くなる。また、ステージの位置決め後にステ
ージを吸着する際、ステージ側の案内面や滑り案内機構
側の案内面の剛性が高く、しかも面精度が悪ければ（高
精度の平面でなければ）、両案内面が均一に接触せずに
吸着不良を起こす。たとえ両案内面が吸着しても、ステ
ージの移動方向に対して垂直な方向にステージが撓むこ
とになり、移動平面内の方向に僅かな位置ずれが生じて
位置決め精度を劣化させることになる。本発明は上記の
問題点に鑑みて成されたものであり、簡潔な構成で高精
度な位置決めを達成し、且つ位置決め後のステージの位
置を高精度に保持することを可能とするステージ装置を
提供することを目的とする。
においては、以下の問題点があった。即ち、転がり案内
機構を閉ループ制御してステージ位置を保持する構成で
は、構成が複雑で高価になる。一方、滑り案内機構を用
いた構成では、ステージと接触面との間の摩擦のうち、
ステージに力を加えてからステージが移動し始めるまで
の静摩擦とステージが移動する際の動摩擦との差によっ
て所謂スティックスリップが生じ、駆動装置の駆動力に
対するステージの移動量が一定にならない。このため、
ステージの位置決め分解能が低くなり、その結果位置決
め時間も長くなる。また、ステージの位置決め後にステ
ージを吸着する際、ステージ側の案内面や滑り案内機構
側の案内面の剛性が高く、しかも面精度が悪ければ（高
精度の平面でなければ）、両案内面が均一に接触せずに
吸着不良を起こす。たとえ両案内面が吸着しても、ステ
ージの移動方向に対して垂直な方向にステージが撓むこ
とになり、移動平面内の方向に僅かな位置ずれが生じて
位置決め精度を劣化させることになる。本発明は上記の
問題点に鑑みて成されたものであり、簡潔な構成で高精
度な位置決めを達成し、且つ位置決め後のステージの位
置を高精度に保持することを可能とするステージ装置を
提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記問題点解決のため本
発明では、基盤（４）上に転がり案内機構（５）を介し
てテーブル（３）を載置し、テーブル（３）を平面内で
移動可能としたステージ装置において、基盤（４）とテ
ーブル（３）との間に配置され、基盤（４）に対してテ
ーブル（３）を吸着し固定する吸着手段（１２）と；吸
着手段（１２）を支持するとともに、テーブル（３）の
移動方向に沿った方向に剛性を有し、且つ吸着手段（１
２）がテーブル（３）に対してほぼ均一に接触するよう
に吸着手段（１２）をテーブル（３）に対して付勢する
付勢手段（１４）とを備えることとした。
発明では、基盤（４）上に転がり案内機構（５）を介し
てテーブル（３）を載置し、テーブル（３）を平面内で
移動可能としたステージ装置において、基盤（４）とテ
ーブル（３）との間に配置され、基盤（４）に対してテ
ーブル（３）を吸着し固定する吸着手段（１２）と；吸
着手段（１２）を支持するとともに、テーブル（３）の
移動方向に沿った方向に剛性を有し、且つ吸着手段（１
２）がテーブル（３）に対してほぼ均一に接触するよう
に吸着手段（１２）をテーブル（３）に対して付勢する
付勢手段（１４）とを備えることとした。
【０００６】
【作用】本発明においては、ステージの移動時に案内面
に生じる抵抗は、転がり案内機構による転がり摩擦と僅
かの滑り摩擦であるため極めて小さなものとなる。ま
た、ステージを位置決めした後は吸着部を板バネでステ
ージに対して付勢し、ステージを吸着するため、ステー
ジと吸着部とが均一に吸着し、ステージの撓みも生じな
い。
に生じる抵抗は、転がり案内機構による転がり摩擦と僅
かの滑り摩擦であるため極めて小さなものとなる。ま
た、ステージを位置決めした後は吸着部を板バネでステ
ージに対して付勢し、ステージを吸着するため、ステー
ジと吸着部とが均一に吸着し、ステージの撓みも生じな
い。
【０００７】
【実施例】図１は本発明の実施例によるステージ装置の
概略的な構成を示す図である。図１（ａ）は装置の平面
図であり、図１（ｂ）は装置の側面図である。基本的な
構成は、図２に示す従来の装置と同様である。本発明で
は、ステージの位置決め後の位置保持のための構成とし
て、従来の位置検出器に代えて吸着機構を用いる点で異
なる。即ち、基盤４上には転がり案内機構５を介してス
テージ３が載置されている。さらに、転がり案内機構５
とは異なる基盤４上の位置に開口部１３を設け、この開
口部１３の縁に板バネ１４をその一端が架かるように設
けてある。この板バネ１４の他端には吸着部１２が支持
されており、吸着部１２の吸着面は板バネ１４の付勢力
によってステージ３の案内面に接触している。尚、板バ
ネ１４の付勢力は、吸着部１２とステージ３とが軽く接
触する程度でよい。また吸着部１２のステージ３との接
触面には、開口部１３内の排気路１１を介して不図示の
真空装置と連通した空間が設けられている。
概略的な構成を示す図である。図１（ａ）は装置の平面
図であり、図１（ｂ）は装置の側面図である。基本的な
構成は、図２に示す従来の装置と同様である。本発明で
は、ステージの位置決め後の位置保持のための構成とし
て、従来の位置検出器に代えて吸着機構を用いる点で異
なる。即ち、基盤４上には転がり案内機構５を介してス
テージ３が載置されている。さらに、転がり案内機構５
とは異なる基盤４上の位置に開口部１３を設け、この開
口部１３の縁に板バネ１４をその一端が架かるように設
けてある。この板バネ１４の他端には吸着部１２が支持
されており、吸着部１２の吸着面は板バネ１４の付勢力
によってステージ３の案内面に接触している。尚、板バ
ネ１４の付勢力は、吸着部１２とステージ３とが軽く接
触する程度でよい。また吸着部１２のステージ３との接
触面には、開口部１３内の排気路１１を介して不図示の
真空装置と連通した空間が設けられている。
【０００８】上記の構成の装置を用いてステージを位置
決めする際は、先ず駆動装置６によってステージ３を移
動してアライメントマーク２をアライメント顕微鏡８で
検出する。ステージ３を位置決めした後は、不図示の真
空装置によって吸着部１２の空間を真空に引いてステー
ジ３を吸着部１２に吸着する。このときステージ３と転
がり案内機構５との間には転がり摩擦が、またステージ
３と吸着部１２との間には滑り摩擦が夫々生じることに
なるが、特に滑り摩擦については吸着部１２をステージ
３に対して付勢する板バネ１４の付勢力を小さくするこ
とができるため、いずれの摩擦も極めて小さくすること
が可能である。よって、スティックスリップの発生が抑
えられ、位置決め精度が悪くなるのを避けることができ
る。また、吸着部１２は板バネ１４によってステージ３
に接触しているため、ステージ３の案内面や複数設けら
れた吸着部１２の全体的な吸着面の精度（精度のバラン
ス）が良くなくても、常に均一に接触することになる。
またこの板バネ１４はステージ３の移動方向に剛性を持
つため、ステージ３を吸着した後の位置ずれがなく、高
精度にステージ３の位置を保持することができる。
決めする際は、先ず駆動装置６によってステージ３を移
動してアライメントマーク２をアライメント顕微鏡８で
検出する。ステージ３を位置決めした後は、不図示の真
空装置によって吸着部１２の空間を真空に引いてステー
ジ３を吸着部１２に吸着する。このときステージ３と転
がり案内機構５との間には転がり摩擦が、またステージ
３と吸着部１２との間には滑り摩擦が夫々生じることに
なるが、特に滑り摩擦については吸着部１２をステージ
３に対して付勢する板バネ１４の付勢力を小さくするこ
とができるため、いずれの摩擦も極めて小さくすること
が可能である。よって、スティックスリップの発生が抑
えられ、位置決め精度が悪くなるのを避けることができ
る。また、吸着部１２は板バネ１４によってステージ３
に接触しているため、ステージ３の案内面や複数設けら
れた吸着部１２の全体的な吸着面の精度（精度のバラン
ス）が良くなくても、常に均一に接触することになる。
またこの板バネ１４はステージ３の移動方向に剛性を持
つため、ステージ３を吸着した後の位置ずれがなく、高
精度にステージ３の位置を保持することができる。
【０００９】上記の実施例では、基盤４に吸着部１２等
を配置する構成としたが、これらはステージ３に配置す
る構成であっても構わない。
を配置する構成としたが、これらはステージ３に配置す
る構成であっても構わない。
【００１０】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、ステージ
の案内機構とステージとの間の摩擦を小さくすることが
できるため、位置決めの分解能が高くなり、位置決めの
時間も短くてすむ。また、ステージの位置を固定するた
めの吸着部を板バネで支持したので、ステージの案内面
等の精度が良くなくてもステージが撓むことがなく、さ
らに板バネがステージの移動方向に剛性を持っているた
め移動平面内の方向での位置ずれが生じない。
の案内機構とステージとの間の摩擦を小さくすることが
できるため、位置決めの分解能が高くなり、位置決めの
時間も短くてすむ。また、ステージの位置を固定するた
めの吸着部を板バネで支持したので、ステージの案内面
等の精度が良くなくてもステージが撓むことがなく、さ
らに板バネがステージの移動方向に剛性を持っているた
め移動平面内の方向での位置ずれが生じない。
【図１】本発明の実施例によるステージ装置の概略的な
構成を示す図
構成を示す図
【図２】従来の技術によるステージ装置の概略的な構成
を示す図
を示す図
【図３】従来の技術による他のステージ装置の概略的な
構成を示す図
構成を示す図
１ 基板 ３ ステージ ４ 基盤 ５ 転がり案内機構 ６ 駆動装置 11 排気路 12 吸着部 14 板バネ
Claims (1)
- 【請求項１】 基盤上に転がり案内機構を介してテーブ
ルを載置し、該テーブルを平面内で移動可能としたステ
ージ装置において、 前記基盤と前記テーブルとの間に配置され、前記基盤に
対して前記テーブルを吸着し固定する吸着手段と；前記
吸着手段を支持するとともに、前記テーブルの移動方向
に沿った方向に剛性を有し、且つ前記吸着手段が前記テ
ーブルに対してほぼ均一に接触するように前記吸着手段
を前記テーブルに対して付勢する付勢手段とを備えたこ
とを特徴とするステージ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4174093A JPH0620917A (ja) | 1992-07-01 | 1992-07-01 | ステージ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4174093A JPH0620917A (ja) | 1992-07-01 | 1992-07-01 | ステージ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0620917A true JPH0620917A (ja) | 1994-01-28 |
Family
ID=15972535
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4174093A Pending JPH0620917A (ja) | 1992-07-01 | 1992-07-01 | ステージ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0620917A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6017246A (en) * | 1996-06-10 | 2000-01-25 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Printed wiring board |
| EP0993035A1 (en) * | 1998-04-04 | 2000-04-12 | Tokyo Electron Limited | Probe device |
| JP2001052452A (ja) * | 1999-08-10 | 2001-02-23 | Alps Electric Co Ltd | 被検査物の位置決め装置 |
| JP2006352115A (ja) * | 2005-06-08 | 2006-12-28 | Asml Netherlands Bv | ステージ装置、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
| JP2010183077A (ja) * | 2009-02-05 | 2010-08-19 | Asml Holding Nv | レチクル滑りを減少させるレチクルサポート |
| CN102555097A (zh) * | 2012-03-28 | 2012-07-11 | 杭州海纳半导体有限公司 | 适用于多线切割机加工时工件装载的夹具及紧固方法 |
-
1992
- 1992-07-01 JP JP4174093A patent/JPH0620917A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6017246A (en) * | 1996-06-10 | 2000-01-25 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Printed wiring board |
| EP0993035A1 (en) * | 1998-04-04 | 2000-04-12 | Tokyo Electron Limited | Probe device |
| EP0993035A4 (en) * | 1998-04-04 | 2007-01-17 | Tokyo Electron Ltd | PROBE |
| JP2001052452A (ja) * | 1999-08-10 | 2001-02-23 | Alps Electric Co Ltd | 被検査物の位置決め装置 |
| JP2006352115A (ja) * | 2005-06-08 | 2006-12-28 | Asml Netherlands Bv | ステージ装置、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
| JP4695022B2 (ja) * | 2005-06-08 | 2011-06-08 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | ステージ装置、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
| JP2010183077A (ja) * | 2009-02-05 | 2010-08-19 | Asml Holding Nv | レチクル滑りを減少させるレチクルサポート |
| US9229341B2 (en) | 2009-02-05 | 2016-01-05 | Asml Holding N.V. | Reticle support that reduces reticle slippage |
| CN102555097A (zh) * | 2012-03-28 | 2012-07-11 | 杭州海纳半导体有限公司 | 适用于多线切割机加工时工件装载的夹具及紧固方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 13 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090110 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090110 Year of fee payment: 13 |