JPH023489B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 (a) 発明の技術分野 本発明は拡大フイルム製作機に係り、特に電子
ビーム露光装置に連結してレチクルの所定パター
ンをフイルム上に拡大して露光する拡大フイルム
製作機に関する。

(b) 従来技術と問題点 一般にIC・LSI等の半導体装置の製造に用いる
レチクルおよびホトマスクを製造する場合には次
に述べる製造工程がとられている。

まずガラス基板上にクロム（Cr）等の金属膜
を蒸着によつて形成したのち、該金属膜上に例え
ばネガ型のホトレジスト膜に塗布する。その後該
ホトレジスト膜を所定パターンに電子ビーム露光
装置を用いて露光したのち、該未露光部分のホト
レジスト膜の箇所をホトレジスト膜を除去液にて
除去して所定パターンのホトレジスト膜を形成し
たのち、該パターニングされたホトレジスト膜を
マスクとして下部のクロムの金属膜を所定パター
ンに形成してレチクルを形成する。その後該レチ
クルが設計者の設計通り作成されているか検図す
るための拡大検図用カラフイルムを製作して確認
したのち、縮少カメラを用いて1/10の寸法に縮少
したマスタマスクを形成したのち、該マスタマス
クをコピーして実際の半導体装置に使用するホト
マスクを作成する工程がとられている。

ところで従来前述した拡大検図用カラーフイル
ムは第１図に示すように電子露光装置によつて作
成されたレチクル１をレンズ２を介して拡大検図
用カラーフイルム３上に照射して露光した後、該
レチクル１の拡大像を拡大検図用カラーフイルム
３上に作成していた。かかる製作工程は時間がか
かり検図作業が終了するまで製造工程に使用され
るホトマスクの製作工程は待機しなければならず
能率が非常に悪いという問題があつた。

(c) 発明の目的 本発明の目的はかかる問題点に鑑みなされたも
ので、能率よく拡大検図用カラーフイルムの製作
を可能にする拡大フイルム製作機の提供にある。

(d) 発明の構成 その目的を達成するための本発明は光学走査系
と被処理フイルムの載置台系とを具備してなるフ
イルム露光装置と、該フイルム露光装置の制御系
とを具備してなり、所定のパターンデータに基づ
いて電子ビーム露光を行なう電子ビーム露光装置
のパターンデータに基づき、前記制御系が前記光
学走査系と前記載置台系とを作動せしめて、前記
被処理フイルム上に前記所定のパターンの拡大像
を描画するように構成されたことを特徴とする。

(e) 発明の実施例 以下本発明の実施例について図面を参照して説
明する。第２図は本発明の一実施例の拡大フイル
ム製作機の模式的概略構成図である。同図におい
て１０は電子計算機、１１は制御部、１２は電子
ビーム露光装置、１３は拡大フイルム製作機、１
４は光学走査系、１５は被処理フイルムの載置台
系、１６はフイルム露光装置、１７はフイルム露
光装置の制御系を示す。

本発明の拡大フイルム製作機１３はフイルム露
光装置の制御系１７と、光学走査系１４と被処理
フイルムの載置台系１５とを具備してなるフイル
ム露光装置１６より構成されている。光学走査系
１４はレーザ光源１４−１、走査ミラー１４−
２、及び走査ミラーの駆動部１４−３とからな
り、被処理フイルムの載置台系１５は、載置台１
５−１、載置台上の被処理フイルム１５−２、及
び載置台をＸ軸方向、Ｙ軸方向へ夫々所要の移動
を行なう駆動部１５−３，１５−４が付設されて
いる。

かかるように構成された拡大フイルム製作機１
３を用いる場合には、まず前記電子計算機１０内
に設けられた記憶装置内に格納された所定パター
ンデータに基づいて電子ビーム露光装置１２の制
御部１１によつて該電子ビーム露光装置を作動し
所定のパターンを描画してレチクル（図示せず）
が製作される。又同時に前記所定のパターンデー
タは電子計算機１０に連結されたフイルム露光装
置１６の制御系１７に入力され、該制御系１７に
よつて前記レチクル上の所定のパターンを拡大し
うる電気信号に変換される。この制御系１７によ
る電気信号によつて走査ミラーの駆動部１４−３
を作動し走査ミラー１４−２を揺動運動させレー
ザ光源１４たとえばヘリウム−ネオン光源より照
射されるレーザ光を被処理フイルム１５−２上に
走査ミラー１４−２を介して照射すると同時に、
前記制御系１７による電気信号によつて載置台１
５−１を前記レチクル上の所定のパターンに対応
する位置に駆動部１５−１３，１５−１４によつ
て所要の移動を行ない、前記被処理フイルム１５
−２上に前記レチクル上の所定パターンの拡大像
（図示せず）が同時に描画される。

(f) 発明の効果 以上説明したごとく本発明の一実施例によれば
電子ビーム露光装置と連結してレチクル作成と同
時に該レチクルの所定パターンの拡大像の作成が
可能となり能率向上に寄与する所大である。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の拡大検図用カラーフイルムの作
成を説明するための図、第２図は本発明の一実施
例の拡大フイルム製作機の模式的概略構成図であ
る。 図において１０は電子計算機、１１は制御部、
１２は電子ビーム露光装置、１３は拡大フイルム
製作機、１４は光学走査系、１５は被処理フイル
ムの載置台系、１５−２は被処理フイルム、１６
はフイルム露光装置、１７はフイルム露光装置の
制御系を示す。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 光学走査系と被処理フイルムの載置台系とを
   具備してなるフイルム露光装置と、該フイルム露
   光装置の制御系とを具備してなり、所定のパター
   ンデータに基づいて電子ビーム露光を行なう電子
   ビーム露光装置のパターンデータに基づき、前記
   制御系が前記光学走査系と前記載置台系とを作動
   せしめて、前記被処理フイルム上に前記所定のパ
   ターンの拡大像を描画するように構成されたこと
   を特徴とする拡大フイルム製作機。