JPS59165063A - 拡大フイルム製作機 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （、λ）発明の技術分野 本光明は拡大フィルム製作機に係り、特に”ｄ−を子ヒ
ーム露光装置に連結してレチクルの所定パターンをフィ
ルム上に拡大して露光する拡大フィルムＩ縛作機Ｖこ１
ソ］する。

（ｂ）　　従来技も１、ｆと問題点 一般ニ工Ｃ−Ｌ　Ｓ　工等の半導体装置の製造に用いる
レチクルをよびホトマスクを製造する場合には次に述べ
る製造工程がとられている。

まずガラヌ基板上にクロム（Ｏｒ）等の金属膜を蒸着に
よって形成したのち、該金属膜上に例えばネガ型のホト
レジスト膜を０布する。その後該ホトレジスト膜を所定
パターンに電子ビーム露光装置口：を用いて露光したの
ち、該未露光部分のホトレジスト膜の箇所をホトレジス
ト膜を除去液にて除去して所定パターンのホトレジスト
膜を形成したのち、該バターニングされたホトレジスト
膜をマスクとして下部のクロムの金属膜を所定パターン
に形成してレチクルを形成する。その後肢レチクルが設
計者の設計通り作成されているが検図するための拡大検
図用カラフィ７レムを製作して確認したのち、縮少カメ
ラを用いて１＼１ｏの寸法に縮少したマスタマヌクを形
成したのち、該マヌタマヌクをコヒーシて実際の半導体
装置に使用するホトマスクを作成する工程がとられてい
る。

ところで従来前述した拡大検図用力ラーフィルムは第１
図に示すように電子に、５光技１１：ｔに工って作成さ
れたレチクルｌをレンズ２を介して拡大れセ図用カフー
フィルム：３−１−に１１、玉射して’ｖ、’を光しプ
こＦｊ２、ｉｊ＃レナク／ｌｚ　ｌの拡大像を拡大れｉ
ｊ図圧用カフフィルＪ・、３上に作成Ｌ−Ｃいた。かか
る製作工程は時間がかル・す４’Ｊｒ！［ｉ作業が終了
するまで律、１１這二［ネ′ｔＶ二使用されるポ１−マ
スクの製作工程は待機しなければならず能率が非常に豊
いという問題がめった。

（Ｃ）　　釦明の目的 本発明の目的はかかる問題、＋５、に鑑みな≧れたもの
で、能率よく拡大検図圧力′ン一フイルノ・の装作をＨ
ｆ能にする拡大フイノ７ムｌＪ、’、！作様の＃；ｈ　
’Ｊ’＜　Ｉこδ〉る。

＜ａ＞　　発明の構成 その目的を達成するための不発明は光学走査糸と彼処（
Ｉ！１．フィルムの１１代置台７１あとを具１１１“１
１シてなるフィルレム露装我置と、該フィルム露光装置
１樟の制御系とを具１：１ｉ　してなり、Ｐ〃所定のパ
ターンデータに裁づいて″［；ｉ子ヒーム露光を行なう
’（１ｇ：子ビーム露光値ｆ１＃のパターンデータに基
づき、前記制伺１糸が前記光学走査系と前記載置台糸と
を作動せしめて、前記彼処理フイ／Ｌ’ム上に前記所定
のパターンの拡大１“京を描し１するように（＋４成さ
れ／ヒことを特徴とする０ （ｅ）発明の実施例 以下本発明の実施例について図面を参照して鋺明する。

第２図は本発明の一実施例の拡大フィルム製作機の模式
的概略１ｔ４成図である。同図において１０は電子計算
機、１１は制御部、１２は電子ビーム露光装置、１３は
拡大フィルム製作機、１４は光学走査系、１５は被処理
フィルムの載置台糸、］６はフィルム露光装置、１７は
フィルム露光装置の制御系を示す。

不発明の拡大フィルム製作機１８はフィルム露光装置の
制御系１７と、光学走査糸１４と被処理フィルムの載置
台糸１５とを具（１ｆｉｉしてなるフィルム露光装置１
６より構成されている。光学走査糸１４はレーザ光源ｉ
＋−ｉ、走査ミラー１４−２、及び走査ミラーの駆動部
１４−３とからなり、被処理フィルムの載置台系１５は
、載１々台１５−１、載置台上の被処理フィルム１５−
２、及び載置台をＸ軸方向、Ｙ軸方向へ夫４所・歩の移
動を行なう駆動部１５　　Ｂ、１５−４が付設さ）して
いる。

かかるように１？１′■成された拡大フィルム製作（；
朗３を用いる場合に（１、ｌず前記電子計甥９機１０内
に設けられた記憶装置（イ内に格納された所定パターン
データ（・て基一ついて”重子ビーム露光装置１２１２
の制御部１１によって核゛市子ビーム露光装置を作動し
所定のパターンを描画してレチクル（図示せず）がｔψ
作さｔする。又同時に前記所定のパターンデータは重子
計算機１０に連結されたフィルム霧光装置を斤１Ｇの制
御系１７に入力され、該制御系１７（でよって１１ｊ記
レチクル」−の所定のパターンを拡大しうる１１を気イ
訂−号に変換さシする。との制帽１系１７（Ｃよる電気
信号によっで沈査ミラーの駆動部１４−３を作動し走査
ミラー］４−２を揺動運ｊ＋ｉｂさせレーザ光源１・１
・たとえばヘリウム−ネオン光源より照射でｔ’ｔルレ
ーザ光を被処理フィルム１５−２＋にに浴、ミラー１４
・−２を介してｉｊ′ｊ躬すると同時に、前記制ｇＩＩ
糸１７による電気（Ｎ号によ−）て１賎１ドを台１５−
１を前記レーノークルＩ−のノダ「だのバ〃−ンに対応
する缶１：’ｔ　ＶＣｇ：に動部１１’＋−１３・ｌ　
５＝１４によって所要の移動を行ない、前記被処理フィ
ルム１５−２上に前記、レチクル−にの所定パターンの
拡大像（図示せず）が同時に描ｌ！！！ｉでれる。

（ｆ）耐す明の効果 以上説明したごとく本発明の一実施例によれば電子ビー
ム露光装置と連結してレチクル作成と同時に該レチクル
の所定パターンの拡大像の作成が可能となり能率向上に
寄与する所大である。　。

【図面の簡単な説明】

ｆｒＸ　１図は従来の拡大検図用カラーフィルムの作成
を説明するだめの図、第２図１ｄ本発明の一実施例の拡
大フィルム製作機の模式的概略構成図である。 １ン１において１０は重子計算機、１１は制御部、１２
は電子ビーム露光装置、１３は拡大フィルム製作＃・・
シ、＋４（σＬ光学走査系、１５は被処理フィルムの載
置台系、１５−２は被処理フィルム、１６はフィルム露
光装置、１７はフィルム露光装置の制御系を示す。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 光学走査系と被処理フィルムの載置台系とを具備してな
   るフィルム露光装置と、該フィルム露光装置の制御系と
   を具備してなり、所定のパターンデータに基づいて電子
   ビーム露光を行なう電子ビーム露光装置のパターンデー
   タに基づき、前記制御系が前記光学走査系と前記載置金
   屑とを作Ｍｉｄ　辻しめて、前記被処理フィルム上にｆ
   ’ｉ！Ｊ記所定のパターンの拡大像を描画するように１
   ７４成さ）したことを特徴とする拡大フィルム製作機。