JPH02183253A - スクリーンマスクの製造方法 - Google Patents
スクリーンマスクの製造方法Info
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- JPH02183253A JPH02183253A JP1220112A JP22011289A JPH02183253A JP H02183253 A JPH02183253 A JP H02183253A JP 1220112 A JP1220112 A JP 1220112A JP 22011289 A JP22011289 A JP 22011289A JP H02183253 A JPH02183253 A JP H02183253A
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- screen mask
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Links
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Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、スクリーン印刷用スクリーンマスクの製造方
法に関するものであって、詳しくはスクリーンマスクの
パターン形成過程における露光方法に関する。
法に関するものであって、詳しくはスクリーンマスクの
パターン形成過程における露光方法に関する。
（従来の技術）
一般的に螢光表示管、プラズマ・デイスプレィ・パネル
等の製造工程にはスクリーン印刷法が多く使用される。
等の製造工程にはスクリーン印刷法が多く使用される。
例えば製品内部の電極やこれに信号を伝達するシグナル
ライン等がこれにより加工形成され、所定のパターンが
形成されたスクリーンマスクがこの加工法に適用される
。このような用途のスクリーンマスクは、カラー陰極線
管のシャドーマスク、螢光表示器のグリッド電極、印刷
回路基板（ＰＣＢ）等の加工法におけるように、蝕刻パ
ターン（Ｅｔｃｈｉｎｇ Ｐａｔｔｅｒｎ）が印画（Ｐ
ｒｉｎｔ）されているフィルムを利用したフォトエツチ
ング工程を通じて所定のパターンに加工される。このよ
うなスクリ−ンマスクの全体的な製造工程の流れは、パ
ターンのデザイン−パターンのフィルム化→金属メシュ
（Ｍｅｓｈ）又は繊維メシ二のスクリーンマスクへの感
光液塗布→スクリーンマスクに対する露光→パターンの
現像順に構成される。このときに上記のパターンのデザ
イン段階の工程は一般的にＣＡＤシステム（Ｃｏｍｐｕ
ｔｅｒ ａｉｄｅｄ ｄｅｓｉｇｎ ｓｙｓｔｅｍ）を
通して成り、上記フィルムの印画工程は前記ＣＡＤシス
テムから発生されたパターンをフィルムに移す段階であ
る。そしてスクリーンマスクに対する露光工程では感光
乳剤（１’ｈｏｌｏｓｅｎｓｉｔｉｖｅ ｅｍｕｌｓｉ
ｏｎ）が塗布されたスクリーンマスクの表面に写真印画
工程におけるよう、にフィルムを介して光を照射し、前
記現像工程では上記のスクリーンマスクを水又薬物をも
って処理してパターンを現像させる。
ライン等がこれにより加工形成され、所定のパターンが
形成されたスクリーンマスクがこの加工法に適用される
。このような用途のスクリーンマスクは、カラー陰極線
管のシャドーマスク、螢光表示器のグリッド電極、印刷
回路基板（ＰＣＢ）等の加工法におけるように、蝕刻パ
ターン（Ｅｔｃｈｉｎｇ Ｐａｔｔｅｒｎ）が印画（Ｐ
ｒｉｎｔ）されているフィルムを利用したフォトエツチ
ング工程を通じて所定のパターンに加工される。このよ
うなスクリ−ンマスクの全体的な製造工程の流れは、パ
ターンのデザイン−パターンのフィルム化→金属メシュ
（Ｍｅｓｈ）又は繊維メシ二のスクリーンマスクへの感
光液塗布→スクリーンマスクに対する露光→パターンの
現像順に構成される。このときに上記のパターンのデザ
イン段階の工程は一般的にＣＡＤシステム（Ｃｏｍｐｕ
ｔｅｒ ａｉｄｅｄ ｄｅｓｉｇｎ ｓｙｓｔｅｍ）を
通して成り、上記フィルムの印画工程は前記ＣＡＤシス
テムから発生されたパターンをフィルムに移す段階であ
る。そしてスクリーンマスクに対する露光工程では感光
乳剤（１’ｈｏｌｏｓｅｎｓｉｔｉｖｅ ｅｍｕｌｓｉ
ｏｎ）が塗布されたスクリーンマスクの表面に写真印画
工程におけるよう、にフィルムを介して光を照射し、前
記現像工程では上記のスクリーンマスクを水又薬物をも
って処理してパターンを現像させる。
このような段階的処理工程を有する従来のスクリーン膜
製造方法は上記の如（ＣＡＤシステムから発生されたパ
ターンをフィルムを通じて間接的にスクリーンマスクに
形成するようにすることであり、ＣＡＤから発生された
パターンをフィルムに移す段階と、このフィルムを形成
する段階において非常に厳密な工程管理が行なわれなけ
ればならない。又、ＣＡＤシステムからのパターンをス
クリーンマスクに精密に形成させるためには面倒なフィ
ルムの管理が要求される。特にフィルムを現像する工程
において薬物処理が多過ぎるとか又は過少になる場合、
ＣＡＤから発生さり、た元来のパターンの再現が不可能
になり変形された状態のパターンが得られるからである
。
製造方法は上記の如（ＣＡＤシステムから発生されたパ
ターンをフィルムを通じて間接的にスクリーンマスクに
形成するようにすることであり、ＣＡＤから発生された
パターンをフィルムに移す段階と、このフィルムを形成
する段階において非常に厳密な工程管理が行なわれなけ
ればならない。又、ＣＡＤシステムからのパターンをス
クリーンマスクに精密に形成させるためには面倒なフィ
ルムの管理が要求される。特にフィルムを現像する工程
において薬物処理が多過ぎるとか又は過少になる場合、
ＣＡＤから発生さり、た元来のパターンの再現が不可能
になり変形された状態のパターンが得られるからである
。
尚、フィルム上にパターンが比較的に良好な印画されて
も部分的なフィルムの用傷によるパターンの離脱が発生
ずれば、フィルム自体を使用することができなくなり、
これを未だ発見せず露光］−程に仕込むようになれば、
数多いスクリーンマスクの不良化を招くようになる。
も部分的なフィルムの用傷によるパターンの離脱が発生
ずれば、フィルム自体を使用することができなくなり、
これを未だ発見せず露光］−程に仕込むようになれば、
数多いスクリーンマスクの不良化を招くようになる。
（発明の目的）
従って、本発明の目的は、最も好ましき形態のパターン
を有するスクリーン・マスクの製造方法を提供すること
である。
を有するスクリーン・マスクの製造方法を提供すること
である。
（発明の要約）
前記の目的を達成するために、本発明は、スクリーンマ
スクを製造する工程において、ＣＡＤシステムを通じて
所定形状のパターンをデザイン及び貯蔵する段階と、 前記ＣＡＤシステムからデータを出力しレーザーガン（
Ｌａｓｅｒ ｇｕｎ）を有するレーザー発生装置を制御
する段階と、上記ＣＡＤシステムからのデータによって
レーザー発生装置のレーザーガンで乳剤が塗布されたス
クリーンマスクにレーザービームを照射する段階から構
成される点に特徴がある。
スクを製造する工程において、ＣＡＤシステムを通じて
所定形状のパターンをデザイン及び貯蔵する段階と、 前記ＣＡＤシステムからデータを出力しレーザーガン（
Ｌａｓｅｒ ｇｕｎ）を有するレーザー発生装置を制御
する段階と、上記ＣＡＤシステムからのデータによって
レーザー発生装置のレーザーガンで乳剤が塗布されたス
クリーンマスクにレーザービームを照射する段階から構
成される点に特徴がある。
（実施例）
以下に本発明の実施例を詳細に説明する。
第１図は本発明によるスクリーンマスクのパターン形成
装置をブロック化して表わしたものである。このパター
ン形成装置は、使用者によってデザインされた希望する
パターンをディジタル信号として記憶、出力するＣＡＤ
システム１と、上記ＣＡＤシステム１からのディジタル
信号を仲介するインターフェース２と、前記インターフ
ェース２を経た上記ディジタル信号により制御されるレ
ーザー発生装置３から構成される。そして上記レーザー
発生装置３は、上記ＣＡＤシステムからのディジタル信
号によってＸ−Ｙ座標を移動しながらレーザービームを
発射するガン（Ｇｕｎ： ４ ’ ）及びこの駆動部４
を具備する。このレーザービームの強度と焦点等は上記
ディジタル信号とよって可変される。そしてこれの底部
には上記露光対像物理ち、スクリーンマスク５を真空吸
着して固定する装着装置６が具備される。
装置をブロック化して表わしたものである。このパター
ン形成装置は、使用者によってデザインされた希望する
パターンをディジタル信号として記憶、出力するＣＡＤ
システム１と、上記ＣＡＤシステム１からのディジタル
信号を仲介するインターフェース２と、前記インターフ
ェース２を経た上記ディジタル信号により制御されるレ
ーザー発生装置３から構成される。そして上記レーザー
発生装置３は、上記ＣＡＤシステムからのディジタル信
号によってＸ−Ｙ座標を移動しながらレーザービームを
発射するガン（Ｇｕｎ： ４ ’ ）及びこの駆動部４
を具備する。このレーザービームの強度と焦点等は上記
ディジタル信号とよって可変される。そしてこれの底部
には上記露光対像物理ち、スクリーンマスク５を真空吸
着して固定する装着装置６が具備される。
上記の如き構成のパターン形成装置は次のような状態に
作動する。
作動する。
一般的なＣＡＤシステムの周辺機器であるブロック（Ｉ
’１ｏｔｔｅｒ）におけるように、レーザーガン、駆動
部４のレーザーガン４′はｘ−ｙ座標を移動しながら金
属繊維状のスクリーンマスク５に塗布された乳剤を露光
するか又は除去する。即ち、希望するパターンのデータ
が記憶されたＣＡＤシステムからデータが出力されてレ
ーザーガンの駆動部を制御し、レーザーガンはＸ−Ｙ座
標を移動しながら、外套座標におけるビーム発射可否信
号によってビームを発射する。
’１ｏｔｔｅｒ）におけるように、レーザーガン、駆動
部４のレーザーガン４′はｘ−ｙ座標を移動しながら金
属繊維状のスクリーンマスク５に塗布された乳剤を露光
するか又は除去する。即ち、希望するパターンのデータ
が記憶されたＣＡＤシステムからデータが出力されてレ
ーザーガンの駆動部を制御し、レーザーガンはＸ−Ｙ座
標を移動しながら、外套座標におけるビーム発射可否信
号によってビームを発射する。
このような段階を通じてスクリーンマスクに塗布された
乳剤が所定形状に露光されるか又は除去される。単に露
光された場合には現像工程が後続され、乳剤がビームに
よって除去された場合にはこれをパターン形成が完了さ
れる。
乳剤が所定形状に露光されるか又は除去される。単に露
光された場合には現像工程が後続され、乳剤がビームに
よって除去された場合にはこれをパターン形成が完了さ
れる。
この乳剤の材料としては感光性又はこれと関わりのない
性質の材料が使用されるが、これはレーザービームによ
って単純に露光されるか、それとも除去されるかに従っ
て決定される。
性質の材料が使用されるが、これはレーザービームによ
って単純に露光されるか、それとも除去されるかに従っ
て決定される。
発明の効果
以上の如き本発明は、ＣＡＤシステムからのパターン形
成ク（Ｐａｔｔｅｒｎ ｄｅｔａ）で直接レーザー加工
装置を駆動してパターンをスクリーンマスクの表面に形
成するようにするものであるので、非常に精密なパター
ンの形成が可能であり、又完全なパターンによる製品の
不良化を防ぐことができる。
成ク（Ｐａｔｔｅｒｎ ｄｅｔａ）で直接レーザー加工
装置を駆動してパターンをスクリーンマスクの表面に形
成するようにするものであるので、非常に精密なパター
ンの形成が可能であり、又完全なパターンによる製品の
不良化を防ぐことができる。
第１図は本発明によるスクリーンマスクパターン形成装
置の構成的ブロック図である。 １・・・ＣＡＤシステム、２・・・インク−フェース、
３・・・レーザー発生装置、４・・・駆動部、４′・・
・ガン、６・・・装着装置。
置の構成的ブロック図である。 １・・・ＣＡＤシステム、２・・・インク−フェース、
３・・・レーザー発生装置、４・・・駆動部、４′・・
・ガン、６・・・装着装置。
Claims (1)
- （１）ＣＡＤシステムをもって所定形状のパターンをデ
ザイン及び記憶する段階と、 上記ＣＡＤシステムからデータを出力してレーザーガン
を有するレーザー発生装置を制御する段階と、 上記ＣＡＤシステムからのデータに対応してレーザー発
生装置のレーザーガンで乳剤が塗布されたスクリーンマ
スクにレーザービームを照射する段階から構成されるこ
とを特徴とするスクリーンマスクの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR880015138 | 1988-11-17 | ||
| KR15138 | 1988-11-17 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02183253A true JPH02183253A (ja) | 1990-07-17 |
Family
ID=19279348
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1220112A Pending JPH02183253A (ja) | 1988-11-17 | 1989-08-25 | スクリーンマスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02183253A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1994021463A1 (en) * | 1993-03-17 | 1994-09-29 | Daisen Co., Ltd. | Form plate making apparatus for screen printing |
| JPH09190468A (ja) * | 1995-10-12 | 1997-07-22 | Schablonentechnik Kufstein Ag | パターン形成方法 |
| JP2017187601A (ja) * | 2016-04-05 | 2017-10-12 | 株式会社ムラカミ | スクリーンマスクの製造方法 |
| WO2019240275A1 (ja) * | 2018-06-15 | 2019-12-19 | ミタニマイクロニクス株式会社 | スクリーンマスクの製造方法及び露光装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5246902A (en) * | 1975-10-01 | 1977-04-14 | Hoechst Ag | Method of making lithographic printing form using laser |
| JPS60107342A (ja) * | 1983-11-16 | 1985-06-12 | Takahiro Tsunoda | スクリ−ン版のレ−ザ製版法 |
| JPS62181149A (ja) * | 1986-02-06 | 1987-08-08 | Gakken Co Ltd | 半導体レ−ザによる孔版原紙の作製方法 |
-
1989
- 1989-08-25 JP JP1220112A patent/JPH02183253A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN1045925C (zh) * | 1993-03-17 | 1999-10-27 | 株式会社台山 | 丝网印刷制版方法 |
| JPH09190468A (ja) * | 1995-10-12 | 1997-07-22 | Schablonentechnik Kufstein Ag | パターン形成方法 |
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| JP2019217641A (ja) * | 2018-06-15 | 2019-12-26 | ミタニマイクロニクス株式会社 | スクリーンマスクの製造方法及び露光装置 |
| CN111770839A (zh) * | 2018-06-15 | 2020-10-13 | 米塔尼梅克罗尼株式会社 | 丝网掩模的制造方法以及曝光装置 |
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