JPS60107342A - スクリ−ン版のレ−ザ製版法 - Google Patents
スクリ−ン版のレ−ザ製版法Info
- Publication number
- JPS60107342A JPS60107342A JP21410283A JP21410283A JPS60107342A JP S60107342 A JPS60107342 A JP S60107342A JP 21410283 A JP21410283 A JP 21410283A JP 21410283 A JP21410283 A JP 21410283A JP S60107342 A JPS60107342 A JP S60107342A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- printing plate
- screen printing
- laser beam
- resist film
- laser
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/14—Forme preparation for stencil-printing or silk-screen printing
- B41C1/145—Forme preparation for stencil-printing or silk-screen printing by perforation using an energetic radiation beam, e.g. a laser
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
- H05K3/12—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns
- H05K3/1216—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns by screen printing or stencil printing
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
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- Toxicology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
る。
従来スクリーン版の製版には，絹，ナイロン、テトロン
、ステンレスワイヤーを織ってつくった網目スクリーン
を、木枠又は、アルミ金属製の枠に張って，これにポリ
ビニルアルコールとポリ酢酸ビニルの乳化液に，感光剤
としてジアゾ樹脂を加えてつくった感光性エマルジ目ン
液を塗布、乾燥し，この感光層に印刷すべき画像をもっ
たポジティブの写真フィルムから、紫外線を，投射して
焼き付け，次にその感光面に水を吹き付けて、光のあた
らなかった未硬化の画線部を溶解除去し乾燥すれば、イ
ンキを通過する画線部以外はレジスト皮膜で被われたス
クリーン版が得られる。
、ステンレスワイヤーを織ってつくった網目スクリーン
を、木枠又は、アルミ金属製の枠に張って，これにポリ
ビニルアルコールとポリ酢酸ビニルの乳化液に，感光剤
としてジアゾ樹脂を加えてつくった感光性エマルジ目ン
液を塗布、乾燥し，この感光層に印刷すべき画像をもっ
たポジティブの写真フィルムから、紫外線を，投射して
焼き付け，次にその感光面に水を吹き付けて、光のあた
らなかった未硬化の画線部を溶解除去し乾燥すれば、イ
ンキを通過する画線部以外はレジスト皮膜で被われたス
クリーン版が得られる。
本発明によるレーザビームを用いた新しいスクリーン製
版方法では、スクリーン版に塗布されるレジスト皮痕は
，感光性であることは、必ずしも必要でない。従ってポ
ジティブフィルムを通して紫外線で焼き付けたり、水で
現像する操作を必要としない。
版方法では、スクリーン版に塗布されるレジスト皮痕は
，感光性であることは、必ずしも必要でない。従ってポ
ジティブフィルムを通して紫外線で焼き付けたり、水で
現像する操作を必要としない。
スクリーン版には，インキを通過させない適当なレジス
ト皮膜を添付あるいは塗布しておけばよい．このレジス
ト皮膜には、レーザ・ビームによって融解又は燃焼し、
印刷の際インキが通過し得る画線を形成するような、た
とえば樹脂皮膜としてポリビニルアルコール、ポリ酢酸
ビニル、ポリプロピレン，ポリエチレンなどの皮膜を用
いることができる。これらの樹脂皮膜は，それぞれ使用
されるレーザ・ビームの波長を吸収するような色素で，
予め着色しておけば，なお好都合である．またスクリー
ン版の紗に用いられる繊維材料は，照射されるレーザ・
ビームで焼き切れたり，溶融したりしないものを用いな
ければならない．それにはステンレススティールワイヤ
が適当で，炭素ｔＲ ＩＩなども使用できる。
ト皮膜を添付あるいは塗布しておけばよい．このレジス
ト皮膜には、レーザ・ビームによって融解又は燃焼し、
印刷の際インキが通過し得る画線を形成するような、た
とえば樹脂皮膜としてポリビニルアルコール、ポリ酢酸
ビニル、ポリプロピレン，ポリエチレンなどの皮膜を用
いることができる。これらの樹脂皮膜は，それぞれ使用
されるレーザ・ビームの波長を吸収するような色素で，
予め着色しておけば，なお好都合である．またスクリー
ン版の紗に用いられる繊維材料は，照射されるレーザ・
ビームで焼き切れたり，溶融したりしないものを用いな
ければならない．それにはステンレススティールワイヤ
が適当で，炭素ｔＲ ＩＩなども使用できる。
レーザ・ビームを用いる方法で、スクリーン製版をおこ
なう場合の利点としては，従来の感光製版法ではなし得
なかった，版面への両像の直接描画が可能となったこと
である．即ちレーザ・ビームを数ミクロンの太さに絞っ
て，この細いビームをスクリーン版のレジスト皮膜上に
走査させ，それによりレジスト皮膜を焼ききり、あるい
は溶融させて、インキの通過する画線をつくる，この時
レーザ・ビームの走査は。
なう場合の利点としては，従来の感光製版法ではなし得
なかった，版面への両像の直接描画が可能となったこと
である．即ちレーザ・ビームを数ミクロンの太さに絞っ
て，この細いビームをスクリーン版のレジスト皮膜上に
走査させ，それによりレジスト皮膜を焼ききり、あるい
は溶融させて、インキの通過する画線をつくる，この時
レーザ・ビームの走査は。
画像を記憶させたコンピューターと連動させることがで
きるから，必要な画像をコンピューターに覚え込ませて
おけばよく、繁雑な原図を作ったり、それからポジフィ
ルムをつくる写真操作を一切必要とせず。
きるから，必要な画像をコンピューターに覚え込ませて
おけばよく、繁雑な原図を作ったり、それからポジフィ
ルムをつくる写真操作を一切必要とせず。
かつ配線図の秘密保持にも便利である。
この方法に使用できるレーザは，適当な走査速度でスク
リーン版のレジスト皮膜を焼ききり、あるいは溶融させ
るに十分なエネルギーをもつものならなんでもよい．た
とえばアルゴンレーザ、ヤグレーザ，炭酸ガスレーザ、
エキシマレーザなどを使用することができる。
リーン版のレジスト皮膜を焼ききり、あるいは溶融させ
るに十分なエネルギーをもつものならなんでもよい．た
とえばアルゴンレーザ、ヤグレーザ，炭酸ガスレーザ、
エキシマレーザなどを使用することができる。
この発明を図によって説明すれば、第１図はレーザ・ビ
ーｌ１をスクリーン版表面のレジスト皮膜上に走査し、
レジスＩ・皮膜を破壊して画線をつくる方法を図示した
ものである．第２図はスクリーン紗に土部されたレジス
ト皮膜が，レーザ・ビームにより破壊され，両線となっ
た部分を拡大して示したものである。
ーｌ１をスクリーン版表面のレジスト皮膜上に走査し、
レジスＩ・皮膜を破壊して画線をつくる方法を図示した
ものである．第２図はスクリーン紗に土部されたレジス
ト皮膜が，レーザ・ビームにより破壊され，両線となっ
た部分を拡大して示したものである。
次に本発明を実施例について説明する。
実施例１
２５０メツシユのステンレススクリーン紗を、アルミ金
属枠に張ったスクリーン版に、ポリビニルアルコールと
ポリ酢酸ビニルの混合乳化液に少量のフタロンアニン顔
料を着色剤として加えた樹脂液を槽重する．この時紗の
表面の樹脂皮膜の厚さは１５ミクロンで、紗のｌブさは
５６ミクロンであった．このレジスト皮膜上に、３ワッ
ト．１．０６ミクロンの波長のヤグレーザビームを１０
センチの長さに６秒間で走査させ，インキを通過させる
ことのできるｉ＋ ０ 、 １ミリの画線を得ることが
できた。
属枠に張ったスクリーン版に、ポリビニルアルコールと
ポリ酢酸ビニルの混合乳化液に少量のフタロンアニン顔
料を着色剤として加えた樹脂液を槽重する．この時紗の
表面の樹脂皮膜の厚さは１５ミクロンで、紗のｌブさは
５６ミクロンであった．このレジスト皮膜上に、３ワッ
ト．１．０６ミクロンの波長のヤグレーザビームを１０
センチの長さに６秒間で走査させ，インキを通過させる
ことのできるｉ＋ ０ 、 １ミリの画線を得ることが
できた。
を得ることができた。
できた。
れて形成さ肛たスクリーン版の画線部に拡大したキノの
である。
である。
図中符号
１ スクリーン印刷するための原図
２ 原図の画像
３ 原図を定Ｋする光線
４ 原図走査の光束を出す装置
５ プリントｌ！＋回路などの構図を記憶さ゛せたコン
ピューター６ 原図の走査光線と連Ｍ）＋させたレーザ
ー光線発生装置７ スクリーン版上のレジスト皮膜を走
査するレーザー光来や８ スクリーン版の枠 ９ スクリーン版紗の表面のレジスト皮膜１０ レーザ
ー光線によって破壊され、スクリーン版に形成された両
像１１ スクリーン版紗の繊維
ピューター６ 原図の走査光線と連Ｍ）＋させたレーザ
ー光線発生装置７ スクリーン版上のレジスト皮膜を走
査するレーザー光来や８ スクリーン版の枠 ９ スクリーン版紗の表面のレジスト皮膜１０ レーザ
ー光線によって破壊され、スクリーン版に形成された両
像１１ スクリーン版紗の繊維
Claims (1)
- スクリーン印刷用のスクリーン版に塗布されたレジスト
皮膜を、レーザビー１１照射によって破壊し、印刷用画
像パターンを形成させることを特徴とするスクリーン製
版方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21410283A JPS60107342A (ja) | 1983-11-16 | 1983-11-16 | スクリ−ン版のレ−ザ製版法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21410283A JPS60107342A (ja) | 1983-11-16 | 1983-11-16 | スクリ−ン版のレ−ザ製版法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60107342A true JPS60107342A (ja) | 1985-06-12 |
Family
ID=16650259
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21410283A Pending JPS60107342A (ja) | 1983-11-16 | 1983-11-16 | スクリ−ン版のレ−ザ製版法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60107342A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62181149A (ja) * | 1986-02-06 | 1987-08-08 | Gakken Co Ltd | 半導体レ−ザによる孔版原紙の作製方法 |
| JPS62181150A (ja) * | 1986-02-06 | 1987-08-08 | Gakken Co Ltd | 半導体レ−ザによる孔版原紙の作製装置 |
| JPH02183253A (ja) * | 1988-11-17 | 1990-07-17 | Samsung Electron Devices Co Ltd | スクリーンマスクの製造方法 |
| US4946763A (en) * | 1987-05-15 | 1990-08-07 | Stork Screens B.V. | Method for providing a design pattern on a metal stencil and metal stencil having a patternable covering layer |
| WO1991000806A1 (en) * | 1989-07-06 | 1991-01-24 | Zed Instruments Limited | Preparing printing screens |
| JPH0372364A (ja) * | 1989-08-11 | 1991-03-27 | Murakami Screen Kk | スクリーン印刷用版の製造方法 |
| JPH0735040U (ja) * | 1994-11-18 | 1995-06-27 | シャプローネンテヒニーク クフシュタイン ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | スクリーン印刷用の版を製作する装置 |
| JP2017187601A (ja) * | 2016-04-05 | 2017-10-12 | 株式会社ムラカミ | スクリーンマスクの製造方法 |
-
1983
- 1983-11-16 JP JP21410283A patent/JPS60107342A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62181149A (ja) * | 1986-02-06 | 1987-08-08 | Gakken Co Ltd | 半導体レ−ザによる孔版原紙の作製方法 |
| JPS62181150A (ja) * | 1986-02-06 | 1987-08-08 | Gakken Co Ltd | 半導体レ−ザによる孔版原紙の作製装置 |
| US4946763A (en) * | 1987-05-15 | 1990-08-07 | Stork Screens B.V. | Method for providing a design pattern on a metal stencil and metal stencil having a patternable covering layer |
| JPH02183253A (ja) * | 1988-11-17 | 1990-07-17 | Samsung Electron Devices Co Ltd | スクリーンマスクの製造方法 |
| WO1991000806A1 (en) * | 1989-07-06 | 1991-01-24 | Zed Instruments Limited | Preparing printing screens |
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| JPH0735040U (ja) * | 1994-11-18 | 1995-06-27 | シャプローネンテヒニーク クフシュタイン ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | スクリーン印刷用の版を製作する装置 |
| JP2017187601A (ja) * | 2016-04-05 | 2017-10-12 | 株式会社ムラカミ | スクリーンマスクの製造方法 |
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