JPS58194033A - パレスレ−ザ−光による直接製版法及びその装置 - Google Patents
パレスレ−ザ−光による直接製版法及びその装置Info
- Publication number
- JPS58194033A JPS58194033A JP57078016A JP7801682A JPS58194033A JP S58194033 A JPS58194033 A JP S58194033A JP 57078016 A JP57078016 A JP 57078016A JP 7801682 A JP7801682 A JP 7801682A JP S58194033 A JPS58194033 A JP S58194033A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive resin
- dial
- laser light
- light
- resin plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2051—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
- G03F7/2053—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a laser
- G03F7/2055—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a laser for the production of printing plates; Exposure of liquid photohardening compositions
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、パルスレーザ−元による直接製版法とその装
置に関するものであって、詳しくは文字盤の選択された
文字パターンを1つづつパルスレーザ−元で照射し、そ
の透過光を感光性樹脂版材に投影して、版Fを作らずに
直接製版する方法及びこの方法全実施するだめの装置に
関するものである。
置に関するものであって、詳しくは文字盤の選択された
文字パターンを1つづつパルスレーザ−元で照射し、そ
の透過光を感光性樹脂版材に投影して、版Fを作らずに
直接製版する方法及びこの方法全実施するだめの装置に
関するものである。
近年、ポリアミド系、つV/メタン不飽和オリゴマー、
ノアクリレートオリゴマーとセルローズ誘導体の混合系
などの固形状の感光性樹脂版材、不飽和ポリエステルと
ビニル系モノマーの混合系、ウレタン系不a 和オリゴ
マー、ポリビニルアルコールとアクリル系モノマーの混
合系などの液状の感光性樹脂版材が俺々開発され、印刷
分野においてこれらの感光性樹脂版材音用いた製版が盛
んに行われている。
ノアクリレートオリゴマーとセルローズ誘導体の混合系
などの固形状の感光性樹脂版材、不飽和ポリエステルと
ビニル系モノマーの混合系、ウレタン系不a 和オリゴ
マー、ポリビニルアルコールとアクリル系モノマーの混
合系などの液状の感光性樹脂版材が俺々開発され、印刷
分野においてこれらの感光性樹脂版材音用いた製版が盛
んに行われている。
第1図(A)は感光性樹脂版材を用いた従来の製版法の
工程ヲ示す。フラッシュランプ、タングステンランプな
どのランプ1、複数の文字i?ターン(r配列して成る
文字盤2、投射レンズ3、銀塩フィルムなどのフィルム
4を用いて写植により、羊がフィルム5を作シ、こtL
を感光性樹脂版材7に密着し、水銀う/プロで長時間一
括露光する。次に現像及び又は洗い出し処理8して印刷
用版(図では凸版)9會得る。
工程ヲ示す。フラッシュランプ、タングステンランプな
どのランプ1、複数の文字i?ターン(r配列して成る
文字盤2、投射レンズ3、銀塩フィルムなどのフィルム
4を用いて写植により、羊がフィルム5を作シ、こtL
を感光性樹脂版材7に密着し、水銀う/プロで長時間一
括露光する。次に現像及び又は洗い出し処理8して印刷
用版(図では凸版)9會得る。
上記の工程からも明らかなように、従来の製版法では、
版下すなわち写植に実るネがフィルムの製作工程を必要
とし、又この製作工程は暗室で行う必要があった。
版下すなわち写植に実るネがフィルムの製作工程を必要
とし、又この製作工程は暗室で行う必要があった。
本発明は上記に鑑みなされたものであって、従来法での
ネがフィルムの製作工程を省略し、紫外パルスレーザ−
元を用いて直接感光性樹脂版材上ニ文字ハターン全1つ
づつパルスレーザ−元テ投影(写植)して製版する方法
及びこの方法を実施するための装置を提供することを目
的とする。
ネがフィルムの製作工程を省略し、紫外パルスレーザ−
元を用いて直接感光性樹脂版材上ニ文字ハターン全1つ
づつパルスレーザ−元テ投影(写植)して製版する方法
及びこの方法を実施するための装置を提供することを目
的とする。
これらの目的は、前記め特許請求の範囲に記載された本
発明の構成によって達成されるが、本発明の構成及び効
果は以下の詳細な説明によって更に艮く理解される。
発明の構成によって達成されるが、本発明の構成及び効
果は以下の詳細な説明によって更に艮く理解される。
第1図(8)は本発明の輌版法の工程を従来法(第1図
(A)と対比して示す。レーザーit透過するネガ又は
ポジ形の膜数の文字パターンの配列から成る文字盤2の
選択された文字パターンを1つづつパルスレーデ−光l
Oで1回又は複数回照射し、その透過光を拡大、縮小又
変形のレンズ系3を介して感光性樹脂版材7の選択され
た位(dに順次に投影し、そして従来法と同様に、感光
した圏脂版材を現像又は洗い出し処理8して印刷用版(
図では凸版)9を得る方法である。
(A)と対比して示す。レーザーit透過するネガ又は
ポジ形の膜数の文字パターンの配列から成る文字盤2の
選択された文字パターンを1つづつパルスレーデ−光l
Oで1回又は複数回照射し、その透過光を拡大、縮小又
変形のレンズ系3を介して感光性樹脂版材7の選択され
た位(dに順次に投影し、そして従来法と同様に、感光
した圏脂版材を現像又は洗い出し処理8して印刷用版(
図では凸版)9を得る方法である。
いま、第2図に一例としてボリアばド系感光性樹脂版材
(富士トレリーフWFIの光吸収波長感度及び比感度を
示す。この図から明らかなように、450〜200 n
m にかけて吸収があり、260nm 附近が最も吸収
が強い。たソし、活字の条件として0.5w1以上深く
光硬化が進むことが望ましい。すなわち、ある程度光が
樹脂の内部まで入る必要がある。そこで、吸収と透過の
併合から推定したのが比感度曲4ii!11である。す
なわち、300〜400 nm に感度を示し、560
nrn 附近が最高である。
(富士トレリーフWFIの光吸収波長感度及び比感度を
示す。この図から明らかなように、450〜200 n
m にかけて吸収があり、260nm 附近が最も吸収
が強い。たソし、活字の条件として0.5w1以上深く
光硬化が進むことが望ましい。すなわち、ある程度光が
樹脂の内部まで入る必要がある。そこで、吸収と透過の
併合から推定したのが比感度曲4ii!11である。す
なわち、300〜400 nm に感度を示し、560
nrn 附近が最高である。
200〜400 nm にかけて現存するレーザーは
、193nm (ArF エキシマレーザ−)、22
1nm (にrctエキシマレーザ−)、249 nm
(にrF工Φシマレーデ−) 、308 nm (X
eclエキシマレーザ−)、325 nm (He−C
dL/−デー) 、337nm (N2レーデ−)、3
50 nm (XeF エキシマレーザ−)などがあ
る。上記の感光性樹脂版材を用いて凸版を得る場合には
、300 nm 以下では感光性樹脂表面近傍のみで吸
収されて[7まうため、内部まで光硬化が進壕ず適当で
ない。
、193nm (ArF エキシマレーザ−)、22
1nm (にrctエキシマレーザ−)、249 nm
(にrF工Φシマレーデ−) 、308 nm (X
eclエキシマレーザ−)、325 nm (He−C
dL/−デー) 、337nm (N2レーデ−)、3
50 nm (XeF エキシマレーザ−)などがあ
る。上記の感光性樹脂版材を用いて凸版を得る場合には
、300 nm 以下では感光性樹脂表面近傍のみで吸
収されて[7まうため、内部まで光硬化が進壕ず適当で
ない。
第6図に537 nmのN2レーザー及び350nmの
XeFエキシマレーザ−による上6己ポリアミド系感光
性樹脂の光硬化度全示す。これからも解るように、N2
レーザー(537nm )では膜厚o、45+m及び0
.65mいずれも200〜500mJ/crn2のエネ
ルギーが必要であるが、550 nmのXeFエキシマ
レーデ−では、0.45種厚で40 rnJ/cmζ0
.6511111で70mJ乙曹2で光硬化することが
解る。
XeFエキシマレーザ−による上6己ポリアミド系感光
性樹脂の光硬化度全示す。これからも解るように、N2
レーザー(537nm )では膜厚o、45+m及び0
.65mいずれも200〜500mJ/crn2のエネ
ルギーが必要であるが、550 nmのXeFエキシマ
レーデ−では、0.45種厚で40 rnJ/cmζ0
.6511111で70mJ乙曹2で光硬化することが
解る。
このことから、XeFエキシマンーザがIリアミド糸感
光性樹脂版材で凸版を製造するのに適したレーザーであ
ることが理解される。
光性樹脂版材で凸版を製造するのに適したレーザーであ
ることが理解される。
第4図に活字の寸法とXaFエキシマレーザ−の・ヤル
ス繰返し回数の関係會示す。新聞などに用いられる活字
の90俤以上は小さい活字であり、大きな活字は見出し
ぐらいである。この大きな活字のために大きな出力のレ
ーザーを用いることは非経済的である。そこで小さな文
字が、1パルスで露光できるように、ンーデー出力を設
定し、それより大きな活字は複数回i4’ルス照射すれ
ばよい。
ス繰返し回数の関係會示す。新聞などに用いられる活字
の90俤以上は小さい活字であり、大きな活字は見出し
ぐらいである。この大きな活字のために大きな出力のレ
ーザーを用いることは非経済的である。そこで小さな文
字が、1パルスで露光できるように、ンーデー出力を設
定し、それより大きな活字は複数回i4’ルス照射すれ
ばよい。
例えば第4図からも明らかなように、1ifルス40m
」のレーザーの場合、6ポイント活字なら1ノヤルスで
、30ポイントの活字で#−t30 /4ルスが必要で
ある。たソし、1/fルスの時間10ナノ秒である。
」のレーザーの場合、6ポイント活字なら1ノヤルスで
、30ポイントの活字で#−t30 /4ルスが必要で
ある。たソし、1/fルスの時間10ナノ秒である。
以上述べたように、本発明の製版法によれば、紫外i母
ルスV−デー元を用いて10ナノ秒程度の短かいパルス
で1つの文字を感光性樹脂版材に直 □接露光(f
、硬化)できるので、従来の版下ネがフィルム製作のた
めの写植工程を省き、更に、暗室を必要としないため処
理が簡単で、しかも展版時間金短縮する特長を有する。
ルスV−デー元を用いて10ナノ秒程度の短かいパルス
で1つの文字を感光性樹脂版材に直 □接露光(f
、硬化)できるので、従来の版下ネがフィルム製作のた
めの写植工程を省き、更に、暗室を必要としないため処
理が簡単で、しかも展版時間金短縮する特長を有する。
第5図に本発明の製版法を実画するための装fitの一
例をブロックダイヤグラムで示す。本発明の装置は電算
装置に人力されだPCM信号により、文字盤、レンズ系
、感光性樹脂版材を取付けるドラム又はステージ、及び
レーザー源を同期制御して直接製版する装置であって、
図示の如く構成される。パルスレーザ−@12、レーザ
ー光を透過するネガ又はポジ形の複数の文字ノ4ターン
の配列から成る文字盤2、前記の・母ルスレーザー源か
らのレーザー光が1つの選択した文字パターンを照射す
るよう文字盤を駆動する文字盤駆動機構2′、前i己の
文字盤の透過光全感光性樹脂版材7に拡大、縮小、変形
して投影するためのレンズ系3、このレンズ系を駆動す
るためのレンズ系駆動機構3′、感光性樹脂版材を取付
けるためのドラム又はステージ13、前記の文字盤を透
過したレーザー光が順次に選択位置に投影されるよう前
記のドラム又はステージを駆動するドラム又はステージ
駆動機構13′、および前記のパルスレーデ−源からの
レーザー光の出射と、前記の文字盤駆動機構の文字盤駆
動と、前記のドラム又はステージの駆動機構のドラム又
はステージ駆動と同期制御させるだめの畦算装置14よ
って構成されている。
例をブロックダイヤグラムで示す。本発明の装置は電算
装置に人力されだPCM信号により、文字盤、レンズ系
、感光性樹脂版材を取付けるドラム又はステージ、及び
レーザー源を同期制御して直接製版する装置であって、
図示の如く構成される。パルスレーザ−@12、レーザ
ー光を透過するネガ又はポジ形の複数の文字ノ4ターン
の配列から成る文字盤2、前記の・母ルスレーザー源か
らのレーザー光が1つの選択した文字パターンを照射す
るよう文字盤を駆動する文字盤駆動機構2′、前i己の
文字盤の透過光全感光性樹脂版材7に拡大、縮小、変形
して投影するためのレンズ系3、このレンズ系を駆動す
るためのレンズ系駆動機構3′、感光性樹脂版材を取付
けるためのドラム又はステージ13、前記の文字盤を透
過したレーザー光が順次に選択位置に投影されるよう前
記のドラム又はステージを駆動するドラム又はステージ
駆動機構13′、および前記のパルスレーデ−源からの
レーザー光の出射と、前記の文字盤駆動機構の文字盤駆
動と、前記のドラム又はステージの駆動機構のドラム又
はステージ駆動と同期制御させるだめの畦算装置14よ
って構成されている。
文字盤2Fiデイスク型又は平板型で、文字ノ!′μ−
/はレーザー光による損傷を避けるためにガラス又は合
成石英基板上にC「又t′iAtなどの金属被嗅を蒸看
又はスノヤツタし、これをエツチング処理して作ったも
のであり、ネが形又はポジ形いずれでもよい。
/はレーザー光による損傷を避けるためにガラス又は合
成石英基板上にC「又t′iAtなどの金属被嗅を蒸看
又はスノヤツタし、これをエツチング処理して作ったも
のであり、ネが形又はポジ形いずれでもよい。
レンズ系3はレンズタセット又はズームレンズであって
、文字盤からの透過光を拡大、縮小又は変形して、感光
性樹脂版材に投影する活字の大きさを設定することがで
きる。
、文字盤からの透過光を拡大、縮小又は変形して、感光
性樹脂版材に投影する活字の大きさを設定することがで
きる。
屯痺装(d14に人力されたPCM信号によシ、文字盤
2を駆動して文字盤に配列された文字パターンの1つを
列択して、その部分に細く絞ったレーザー′#Sを照射
し、その透過光をレンズ系3により各活字の大きさを設
定する。この活字の大きさニ合わせてパルスレーザ−元
の繰返し回数r電算装置14により制御する。その間ド
ラム又はディスク13が所定位置に#動して、感光性樹
脂版材7への投影を持っている。
2を駆動して文字盤に配列された文字パターンの1つを
列択して、その部分に細く絞ったレーザー′#Sを照射
し、その透過光をレンズ系3により各活字の大きさを設
定する。この活字の大きさニ合わせてパルスレーザ−元
の繰返し回数r電算装置14により制御する。その間ド
ラム又はディスク13が所定位置に#動して、感光性樹
脂版材7への投影を持っている。
本発明の製版装置によれば、操り返し1000Hz
のレーザーを用いる場合、新聞1ペ一ゾ1万語として1
0秒で、100 Hz では100秒で製版すること
ができ、従来の7−ザースキヤンニングによる方法(レ
ーザープリンターなど)よりも、製版時間が短縮され、
しかも鮮明な活字を作ることができる。
のレーザーを用いる場合、新聞1ペ一ゾ1万語として1
0秒で、100 Hz では100秒で製版すること
ができ、従来の7−ザースキヤンニングによる方法(レ
ーザープリンターなど)よりも、製版時間が短縮され、
しかも鮮明な活字を作ることができる。
父、レーザープリンターのように変pstg号ヲ搬送す
るのではなく、文字・やターンのアドレス信号を搬送す
るため、雑音による文字ノセターンの乱れもなく、鮮明
な活字が得られるなど多くの利点分有する。
るのではなく、文字・やターンのアドレス信号を搬送す
るため、雑音による文字ノセターンの乱れもなく、鮮明
な活字が得られるなど多くの利点分有する。
なお、本発明を印刷用版として凸版を例にとって説明し
たが、感光性樹脂版材を選択することに1′ よ
り、tヵゎち、gイffi e−141□、イ7ヤ親オ
、性。
たが、感光性樹脂版材を選択することに1′ よ
り、tヵゎち、gイffi e−141□、イ7ヤ親オ
、性。
は非親才日性となり、未露光部分が非親オロ性又は親1
】 相性となる感光性樹脂版材を用いることにより平版を製
版することができる。
】 相性となる感光性樹脂版材を用いることにより平版を製
版することができる。
第1図(A)は従来の製版法の工程全示す。第1図(θ
)は本発明の製版法の工8紫示す。第2図はポリアミド
系感光性樹脂版材の光吸収波長感度と比感度の一例を示
すグラフ。第3図はN2 レーデ−とXeFエキンマ
レーザーによるボリアばド系感元性樹脂版材の元硬化度
の一例を示すグラフ。第4図は活字の寸法とXeFエキ
シマレーザ−のノヤルス繰返し回数の関係を示すグラフ
。第5図は本発明の製版法の実施するための装置の一例
を示すブロックダイヤグラム。 図中の符号:2・・・文字盤、2′・・・文字盤駆動機
構、3・・・レンズ系、3′・・・レンズ系m@機構、
7・・・感光性樹脂版材、8・・・現像又は洗い出し処
理、10・・・パルスレーザ−光、12・・・ノヤルス
レーザー源、13・・・ドラム又はステーゾ、13′・
・・ドラム を又はステージ駆動機構、14・・・
電算装置特許出願人 理化学研究所 2 第2図 第3図 工ε)=ノL、−−(゛−
)は本発明の製版法の工8紫示す。第2図はポリアミド
系感光性樹脂版材の光吸収波長感度と比感度の一例を示
すグラフ。第3図はN2 レーデ−とXeFエキンマ
レーザーによるボリアばド系感元性樹脂版材の元硬化度
の一例を示すグラフ。第4図は活字の寸法とXeFエキ
シマレーザ−のノヤルス繰返し回数の関係を示すグラフ
。第5図は本発明の製版法の実施するための装置の一例
を示すブロックダイヤグラム。 図中の符号:2・・・文字盤、2′・・・文字盤駆動機
構、3・・・レンズ系、3′・・・レンズ系m@機構、
7・・・感光性樹脂版材、8・・・現像又は洗い出し処
理、10・・・パルスレーザ−光、12・・・ノヤルス
レーザー源、13・・・ドラム又はステーゾ、13′・
・・ドラム を又はステージ駆動機構、14・・・
電算装置特許出願人 理化学研究所 2 第2図 第3図 工ε)=ノL、−−(゛−
Claims (7)
- (1) レーザー元を透過するネが父はホゾ形の複数
の文字パターンの配列から成る文字盤の選択された文字
パターンを1つづつパルスレーザ−光で1回又は複数回
照射し、その透過光を感光性樹脂版材の選択された位置
に順次に投影し、そして感光した樹脂版材を現像及び又
は洗い出し処理して印刷用版をつくることを特徴とする
パルスレーザー尤による直接製版法。 - (2) 前記のレーザー元は紫外線レーザー光である特
許請求の範囲第1項に記載のパルスレーデ−光による直
接製版法。 - (3) 前記の紫外線レーザー光がXeFレーザー光
、Xecl V−デー光又FiNz レーデ−光で
あり、前記の感光性樹脂版材がポリアミド系、ランタン
系不飽和オリゴマー、ゾ了りリレートオリブマーとセル
ローズ誘導体の混合系のうちから選択された感光性樹脂
から成ることを特徴とする特許請求の範囲第2項に記載
のパルスレーデ−元による直接製版法。 - (4) 前記の文字盤が、金属被膜を施した紫外光透
過用プラス板であって、該金属被膜の文字・母ターンを
エツチング処理して構成し九ことを特徴とする特許請求
の範囲第1項に記載のノ4ルスV−ザー光による直接製
版法。 - (5) 前記の感光性樹脂版材は露光部分以外が現像
及び又は洗い出し処理段階で取除かれて印刷用凸版をつ
くる特許請求の範囲第1項に記載のパルスレーデ−元に
よる直接製版法。 - (6) 前記の感光性樹脂版材は現隊及び又は洗い出
し処理段階で露光部分が印刷インキと親和性となり未露
光部分が印刷インキと非親和性となって印刷用平版をつ
くる特許請求の範囲第1項に記載のパルスレーザ−光に
よる直接製版法。 - (7) 前記の感光性樹脂版材が現像及び又i洗い出
し処理段階で露光部分が印刷インキと非親和性となり未
露光部分が印刷インキと親和性となつて印刷用平版をつ
くる特許請求の範囲第1項VC記載のパルスノーデー元
による直接製版法。 (81t+ /l/ Xレニザー源:V−デー″#Sを
透過する不が又はボッ形の複数の文字・中ターンの配列
から成る文字盤;前記の/4′ルスレーデー源からのレ
ーザー元が1つの選択した文字・中ターンを照射するよ
う文字盤を駆動する文字盤駆動機構;前記の文字盤の透
過光?感元性樹脂版材に拡大、縮小、変形投影するため
のレンズ系駆動機構;感光性樹脂版材を取付けるドラム
又はステージ;前記の文字盤を透過したレーデ−元が順
次に選択位置に投影されるよう前ddのト“ラム又はス
テージを駆動するドラム又はステージ駆動機構;および
前記のパルスレーザー源からのレーザー元の出射と、前
記の文字盤駆動機構の文字盤駆動と、前記のドラム又は
ステージの駆動機構のドラム又はステージ駆動と全同期
制御するための電痺装TMtを備えたことを特徴とする
パルスノーデー元による直接製服装rIt。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57078016A JPS58194033A (ja) | 1982-05-10 | 1982-05-10 | パレスレ−ザ−光による直接製版法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57078016A JPS58194033A (ja) | 1982-05-10 | 1982-05-10 | パレスレ−ザ−光による直接製版法及びその装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58194033A true JPS58194033A (ja) | 1983-11-11 |
JPH0421854B2 JPH0421854B2 (ja) | 1992-04-14 |
Family
ID=13649993
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57078016A Granted JPS58194033A (ja) | 1982-05-10 | 1982-05-10 | パレスレ−ザ−光による直接製版法及びその装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58194033A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05263942A (ja) * | 1992-01-21 | 1993-10-12 | Seiji Nagayoshi | シールパッキン |
JP2001188354A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Asahi Kasei Corp | 感光性樹脂凸版の製造方法、及びその製造装置 |
JP2008500577A (ja) * | 2004-05-25 | 2008-01-10 | マクダーミッド プリンティング ソリューションズ, エルエルシー | レリーフ画像印刷版を予備露光させる方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52119126A (en) * | 1976-03-31 | 1977-10-06 | Asahi Chemical Ind | Microtypewriter |
-
1982
- 1982-05-10 JP JP57078016A patent/JPS58194033A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52119126A (en) * | 1976-03-31 | 1977-10-06 | Asahi Chemical Ind | Microtypewriter |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05263942A (ja) * | 1992-01-21 | 1993-10-12 | Seiji Nagayoshi | シールパッキン |
JP2001188354A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Asahi Kasei Corp | 感光性樹脂凸版の製造方法、及びその製造装置 |
JP2008500577A (ja) * | 2004-05-25 | 2008-01-10 | マクダーミッド プリンティング ソリューションズ, エルエルシー | レリーフ画像印刷版を予備露光させる方法 |
JP4754559B2 (ja) * | 2004-05-25 | 2011-08-24 | マクダーミッド プリンティング ソリューションズ, エルエルシー | レリーフ画像印刷版を予備露光させる方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0421854B2 (ja) | 1992-04-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7550251B2 (en) | Liquid transfer articles and method for producing the same using digital imaging photopolymerization | |
JP5133954B2 (ja) | マスター光学拡散体の作成方法 | |
US4054094A (en) | Laser production of lithographic printing plates | |
EP0528285A1 (en) | Method and apparatus for patterning an imaging member | |
US20060256307A1 (en) | Method and apparatus for maskless photolithography | |
DE2318133A1 (de) | Verfahren zur herstellung von polymeren bildern | |
EP0000995A1 (en) | Apparatus and method for the controlled processing of radiation sensitive devices in dependence upon the temperature of the developer liquid | |
US5386268A (en) | Exposure unit and method for exposing photosensitive materials | |
JPS58194033A (ja) | パレスレ−ザ−光による直接製版法及びその装置 | |
AU2003212835B2 (en) | Image replication element and method and system for producing the same | |
JP3071888B2 (ja) | 潜在凸版画像を製作する方法及び該方法に使用される露光装置 | |
JP4458394B2 (ja) | 非干渉光を用いて光学マスターを作成する作成方法 | |
JPH0212253A (ja) | オフセツト印刷版の感光層に潜像を得る方法及び装置 | |
JPH07227909A (ja) | 光造形装置 | |
JPH02183253A (ja) | スクリーンマスクの製造方法 | |
JPH06230375A (ja) | 導光板の網点パターン形成方法 | |
JPS62231758A (ja) | 光プリンタ | |
JPS60124939A (ja) | レ−ザ露光装置 | |
JPH04156459A (ja) | 高コントラスト露光用マスク | |
JPS6221294A (ja) | プリント基板焼付装置 | |
KR100515368B1 (ko) | 쉬프트 패터닝에 의하여 반도체 소자의 미세패턴을형성하는 노광장치 및 그 방법 | |
GB1599301A (en) | Processing of radiation sensitive devices | |
JPH0850358A (ja) | 写真製版製造装置 | |
JPS6143070A (ja) | 光書込装置 | |
JP2000094165A (ja) | 加工制御データ生成方法、光加工システム及び記録媒体 |