JPH0212253A - オフセツト印刷版の感光層に潜像を得る方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は光源から放射され、光マスクにより変調された
光束を用いてオフセット印刷版の感光層上に潜像を得る
方法及び装置に関する。

従来の技術 常用のオフセット印刷版は、光マスクとして使用しまた
印刷版の感光層上に直接施されたフィルムを通して多量
の光で露光される。

通常ネガチブ法（Ｎｅ（ａｔｉｖｖｅｒｆａｈｒｅｎ　
）で使用可能にされた印刷版はフィルムオリジナル、多
くの場合ハロゲン化銀ネガフィルムが施されている感光
層を有するアルミニウム薄板からなり、この場合両者は
真空密着状態で例えばハロゲン化金属を施された水銀灯
で露光される。露光箇所では化学反応が起きることによ
り層は硬化し、非露光部を現像剤で除去した後オフセッ
ト印刷用印刷版として使用可能の状態にされる。

これに対しボジチブ法（Ｐｏ５ｉｔ、１ｖｖｅｒｆａｈ
ｒｅｎ）で使用可能にされた印刷版の場合、疎水性化合
物からなる層は光分解により強親水性化合物に変換され
、層の露光部は現像剤により溶解除去される。

他の方法によればオリジナル画像は選択可能の縮尺で印
刷版に投射又は反射され、この場合フィルム、場合によ
ってはコンピュータによって記録されるマイクロフィル
ムから出発することもできる［「ドクルックィンドゥス
トリー」（Ｄｒｕｃｋｉｎｄｕｓｔｒｉｅ）　、５ＩＧ
ａｌｌｅｎ　、　１９８７年１０月６日、第１１６頁参
照］。

すべての方法において、印刷版を製造する前に、光マス
クとして印刷原稿から作成しなければならないフィルム
が必要である。

フィルムの製造は時間がかかるだけでなく、無塵の作業
場が高度に要求される処理を必要とする。更に個々のフ
ィルムを設置箔上に取り付ける費用の嵩む作業も行わな
ければならない。

発明が解決しようとする課題 従って本発明は光マスクの製造工程を簡略化しまた短縮
する方法及び装置を提供することを根本課題とする。

課題を解決するための手段 この課題は本発明によれば、光マスクとして光弁マトリ
ックスを使用しまた光弁マトリックスを画像と関連する
信号で制御することによって特徴づけられる、光源から
放射され、光マスクにより変調された光束を用いてオフ
セット印刷版の感光層に潜像を得る方法により、及び第
１液晶層単位と、この液晶層単位の第１面に向けられ、
画像と関連するパルスを送る、コンピュータ処理された
記録光線と、光源から放射された光を液晶層単位の、第
１面とは逆の側の第２面に反射するミラーと、液晶層単
位の第２面をオフセット印刷版上に結像させるレンズ系
とからなることによって特徴づけられる上記方法を実施
する装置により、また電極マトリックスを備えた第２液
晶層単位（この場合電極マトリックスは画像と関連する
電気信号で付加可能である）と、光束を第２液晶層単位
の第１面に投射させる。光束用案内系と、第２液晶層単
位を透過する光束成分を結像させるレンズ系とからなる
ことによって特徴づけられる上記方法を実施する装置に
より解決される。

オフセット印刷に適した印刷版をフィルムなしに製造す
る工程は文献にすでに記載されている［「デア・ドウル
ックシュビーゲル」（ＤｅｒＤｒｕｃｋｓｐｉｅｌｅｌ
）　、第８／８１号、第７４４頁〜第７４８頁並びに「
フィリップス・テヒニツシェ・ルントシャウＪ　（Ｐｈ
ｉｌｉｐｓ　ｔｅｃｈｎｉｓｃｈｅ　Ｒｕｎｄｓｈａｕ
）、第８巻、１９７７／　７８、第２１４頁〜第２２４
頁参照］、シかしこれらの方法は特殊な印刷版を必要と
する。この方法では印刷オリジナルの仕上げ加工した全
ページを印刷版の半導体層に直接投射することができる
。このため半導体層を暗所で充電し、印刷オリジナルを
投射することにより画像に応じて露光し、これにより放
電させ、その後硬化させる。この種の印刷版をコンビエ
ータにより導かれるパルス光線又はレーザ光線で露光す
る処置は「デア・ポリグラフＪ　（ＤｅｒＰｏｌｙｇｒ
ａｐｈ）、第９／８２号、第６７５頁〜第６８２頁に記
載されている。この方法の場合半導体層の高感度光伝導
性を利用する。従って先に記載したｒボジチブ法」又は
「ネガチブ法」により製造される印刷版の層が感応しな
い長波帯での弱い光源を使用することができる。パルス
光線又はレーザ光線で露光する種々の変法は［アンゲバ
ンテ・ヘミ−Ｊ　　（Ａｎｇｅｗａｎｄｔ、ｅ　Ｃｈｅ
ｍｉｅ）、第２／８０号、第９５頁〜第１０６頁に記載
されている。

最後に西ドイツ国特許出願公開第３２４８１７８号明細
書には、着色可能の表面素子を加熱及び加圧下に画像に
応じて印刷版の親水性表面に転写する形式の、オフセッ
ト印刷用印刷版を画像に応じて被覆する方法が記載され
ている。

熱転写インキリボンの親油性表面素子を用いて印刷版の
親水性表面を記録する処置は熱転写印字ヘッド又はレー
ザ光線を用いて行う（ＬｏｇＥｓｃａｎ−法）［「アン
ゲバンテ・ヘミ−Ｊ　（Ａｎｚｅｗａｎｄｔｅ　Ｃｈｅ
ｗｉｅ　）　、第９２巻（１９８０年）、第９５頁〜第
１０６頁、７オルマン（Ｖｏｌｌｍａｎｎ）　：　ｒノ
イエーテクノロギーエン・ツール・フィルムローゼン・
ヘルシュテルング・フォノ・ドクルックホルメンＪ　（
Ｎｅｕｅ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｎ　ｚｕｒ　ｆｉ１
ｍｌｏｓｅｎ＋ＩｅｒｓＬｅｌｌｕｎｇｖｏｎ　Ｄｒｕ
ｃｋｆｏｒｍｅｎ）参照］。

本発明方法は光ラスタの製造工程を簡略化し、短縮する
だけではなく、オフセット印刷版をフィルム無しに露光
する公知方法とは異なり、最初に記載した「ボジチブ法
」又は「ネガチブ法」用としてその層が被覆されている
印刷版をもフィルム無しに露光するために使用すること
ができるという利点を有する。

光弁マトリックスを制御するための信号は、印刷オリジ
ナルを走査することによって得ることができる。更にコ
ンピュータ内で生じた画像を印刷オリジナルとして使用
することもできる。従って本発明方法を用いて例えば印
刷版上に形成すべき、実体として存在する印刷オリジナ
ルの画像を、コンピュータ内に生じた付加的な「印刷オ
リジナル」により補完することもできる。

光マスクとして光弁マトリックスを本発明により使用す
ることによって特にフィルムの現像枠内での化学的処理
を省くことができる。この化学的処理は常に一定の反応
時間を必要とすることから、本発明方法ではこの時間を
節約することができる。同時に現像したフィルムの乾燥
処理並びに通常必要とされる個々のフィルムを設置箔上
に取り付ける処理も省かれる。

更に光弁マトリックスは最も取り扱い易くまた繰り返し
使用することのできる光マスクである。

画像と関連する信号を用いて光弁マトリックスを制御す
る処理はコンピュータを用いて行うことができる。

実施例 次に本発明を図面に基づき詳述する。

本質的に本発明方法は、信号により選択された画像に相
応するデイスプレーの”光点”をオフセット印刷版の感
光層に結像させることよりなる。

本発明方法の以下に記載する変法では、液晶層がその光
学的挙動を制御可能に変更するという事実を利用する。

この事実を利用するに当たり第１図に示した第１変法で
は、光弁マトリックスを第１型の液晶層から構成し、こ
うして構成された第１液晶層哨位１の片面に画像と関連
する、コンピュータ処理された記録光線２のパルスを当
て、この液晶層単位１の逆の面を光源４から放射される
光束３用の反射マスクとして使用する。この場合光源４
としては例えば金属ハロゲン化物を施された水銀灯を使
用することができる。記録光線２としては陰極線又はレ
ーザ光線を使用することができる。第１図では記録光線
２は任意の瞬間時における状態が描かれている。

本発明の枠内で使用される液晶層単位及びその制御法に
関する詳細な説明は省略することができる。それという
のも相応する関連事項は文献から明らかであるからであ
る［例えばｒ　５ＰＳＥ−ザ・ソサイエティ・フォア・
イメージング・サイエンス・アンド・テクノロジーＪ　
　（５ＰＳＲ−Ｔｈｅ　５ｏｃｉｅｔｙ　ｆｏｒ　Ｉ＋
ｗａｇｉｎｇ　５ｃｉｅｎｃｅ　ａｎｄ　Ｔｅｃｈｎ。

１ｏｇｙ″１９８７年、第１０８頁〜第１１５頁参照）
、記録光線の使用についての詳細は「ジャーナル・オブ
・アプライド・フィジックスＪ　（Ｊｏｕｒｎａｌｏｆ
　　Ａｐｐｌｉｅｄ　　Ｐｈｙｓｉｃｓ）　　、　Ａｍ
ｅｒｉｃａｎ　　ｒｎｓＬｉｔｕｔ　　ｏｆＰｈｙｓｉ
ｃｓ　、第５７　（４）巻、１９８５年２月１５日、第
１３５６頁以降から読み収ることができる。

本発明方法の上記第１変法の本質は、第１面を記録光線
で局部的に付勢することによって逆の面に当たる光線に
対して局部的に反射可能及び反射不能の領域が形成され
る第１型の液晶層を使用することである。

第２変法では光弁マトリックスを第２型の液晶層から構
成し、こうして構成された第２液晶層単位１°に電極マ
トリックスを設け、電極マトリックスに画像と関連する
電気信号５を当て、第２液晶層単位１°を光束３用透過
マスクとして使用する（第２図）。

この第２変法の本質は先に記載した第１変法とは異なり
、電気信号を局部的に付加することにより液晶層に局部
的な光透過性領域と光不透過性領域とを構成する第２型
の液晶層を使用することである。電気信号５での局部的
な付加は第２図に信号を表す矢印で暗示されている。

上記の２方法ではそれぞれの液晶層単位１．１゛に所望
画像のデイスプレーを光点の形で作成し、このデイスプ
レーをオフセット印刷版７の感光層６に結像させる。

この結像のために実施例ではレンズ系を設ける。このレ
ンズ系は本発明の１実施態様によれば投射方向８及び逆
方向に移動可能の投射レンズ９を存する。これによりデ
イスプレーから選択可能の大きさの画像を層６に投射す
ることができる。

上記第１型の液晶層を使用して本発明方法を実施する装
置は第１図に暗示されている。この装置では、光源４か
ら放射されまたレンズ１１により収斂された光束３はミ
ラー１０によって、第１液晶層単位１の記録光線２とは
逆の面に投射される。

光束３からできる限り大きな発光効率を得るためミラー
１０をビームスプリッタとして構成し、これから液晶層
単位１上に反射する光束３の光を実際に液晶層単位１に
直角に投射するように配置する。

上記第２型の液晶層を使用して本発明方法を実施する装
置は第２図に暗示されている。この場合光束３はオフセ
ット印刷版７への過程で、第２液晶層単位１゛の電気信
号５での局部的な被覆との関連において、透過するよう
に導かれる。

前記のように本発明方法は例えばジアゾ層又はハロゲン
化銀層を有する常用のオフセット印刷版を、露光するの
に使用することができる。このため光束３は、必要な照
度を当該オフセット印刷版上に生ザしぬることができる
ような、エネルギーに富んだ光源４で得ることができる
。

しかし本発明方法は、オフセット印刷版の電気的に充電
された半導体層を露光するのにも使用可能である。この
場合には必要とされる相応する一層小さい照度が当該オ
フセット印刷版上に得られるような光束３を使用すべき
である。

この相応する一層小さい照度は、慣用のオフセット印刷
版を露光するために構成された本発明による装置を用い
て、図示されていないフィルタを光束路に挿入すること
によっても得ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は反射マスクの形の光マスクを使用する本発明に
よる装置の暗示図、第２図は透過マスクの形の光マスク
を使用する本発明による装置の暗示図である。 １・・・液晶層単位、２・・・記録光線、３・−・光束
、４・・−光源、５・・・電気信号、６・・・感光層、
７・−・オフセット印刷版、８−・・投射方向、９・・
・投射レンズ１０・・・ミラー、１１・・・レンズ。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、光源から放射され、光マスクにより変調された光束
   を用いてオフセット印刷版の感光層に潜像を得る方法に
   おいて、光マスクとして光弁マトリックス（１、１’）
   を使用し、光弁マトリックスを画像と関連する信号で制
   御することを特徴とする、オフセット印刷版の感光層に
   潜像を得る方法。 ２、光弁マトリックスを第１液晶層単位（１）から構成
   し、その一方の面にコンピュータ処理された記録光線（
   ２）の、画像と関連するパルスを当て、対応する面を光
   束（３）用の反射マスクとして使用する、請求項１記載
   の方法。 ３、光弁マトリックスを、電極マトリックスを備えた第
   ２液晶層単位（１’）から構成し、電極マトリックスに
   画像と関連する電気信号（５）を送り、第２液晶層単位
   （１’）を光束（３）用の透過マスクとして使用する、
   請求項１記載の方法。 ４、光束（３）をレンズ系（９）を介して導く、請求項
   １から３までのいずれか１項記載の方法。 ５、オフセット印刷版（７）上に生じる画像をその大き
   さに関して変更することのできるレンズ系（９）を使用
   する、請求項４記載の方法。 ６、光束（３）をエネルギーに富んだ光源（４）を用い
   て発生させ、その光束により、慣用のハロゲン化銀フィ
   ルムの形で層上に設けられた光マスクを有する常用のオ
   フセット印刷版を露光した際にこの層上にハロゲン化銀
   フィルムの潜像を生ぜしめるのに十分な照度がオフセッ
   ト印刷版（７）上に得られる、請求項１から５までのい
   ずれか１項記載の方法。 ７、オフセット印刷版の暗所で充電された半導体層を光
   束（３）で露光することによって放電させるのに十分な
   照度がオフセット印刷版（７）上に得られる光束（３）
   を使用する、請求項１から５までのいずれか１項記載の
   方法。 ８、オフセット印刷版の充電半導体層の放電に同調した
   照度を、光束（３）中にフィルタを挿入することによつ
   て、オフセット印刷版上に得る、請求項１から５までの
   いずれか１項記載の方法。 ９、光源から放射され、光マスクにより変調された光束
   を用いてオフセット印刷版の感光層上に潜像を得る装置
   において、 −第１液晶層単位（１）と、 −この第１液晶層単位（１）の第１面に向けられ、画像
   と関連するパルスを送る、コンピュータ処理された記録
   光線（２）と、 −光源（４）から放射された光を第１液晶層単位（１）
   の、第１面とは逆の側の第２面に投射するミラー（１０
   ）と、 −第１液晶層単位（１）の第２面をオフセット印刷版（
   ７）上に結像させるレンズ系（９）と からなることを特徴とする、オフセット印刷版の感光層
   上に潜像を得る装置。 １０、ミラー（１０）をビームスプリッタとして構成し
   、ミラー（１０）から第１液晶層単位（１）上に反射す
   る光束（３）の光を第１液晶層単位（１）上に実際に直
   角に投射する、請求項９記載の装置。 １１、光源から放射され、光マスクにより変調された光
   束を用いてオフセット印刷版の感光層上に潜像を得る装
   置において、 −電極マトリックスを備えた第２液晶層単位（１’）（
   この場合電極マトリックスは画像と関連する電気信号（
   ５）で覆うことができる）と、 −光束（３）を第２液晶層単位（１’）の第１面に投射
   させる、光束（３）用案内系と、−第２液晶層単位（１
   ’）を透過する光束（３）の成分を結像させるレンズ系
   （９）と からなることを特徴とする、オフセット印刷版の感光層
   上に潜像を得る装置。