DE3813398A1 - Verfahren und einrichtung zur erzeugung eines latenten bildes auf einer lichtempfindlichen beschichtung einer offset-druckplatte - Google Patents
Verfahren und einrichtung zur erzeugung eines latenten bildes auf einer lichtempfindlichen beschichtung einer offset-druckplatteInfo
- Publication number
- DE3813398A1 DE3813398A1 DE3813398A DE3813398A DE3813398A1 DE 3813398 A1 DE3813398 A1 DE 3813398A1 DE 3813398 A DE3813398 A DE 3813398A DE 3813398 A DE3813398 A DE 3813398A DE 3813398 A1 DE3813398 A1 DE 3813398A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- light
- liquid crystal
- printing plate
- offset printing
- crystal layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2051—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
- G03F7/2057—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using an addressed light valve, e.g. a liquid crystal device
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Einrichtung
zur Erzeugung eines latenten Bildes auf einer
lichtempfindlichen Beschichtung einer Offset-Druckplatte
mittels eines von einer Lichtquelle ausgesandten und mittels
einer Lichtmaske modulierten Strahlenbündels.
Herkömmliche Offsetdruckplatten werden mit einer großen
Lichtmenge durch einen Film hindurch belichtet, der als
Lichtmaske dient und direkt auf die lichtempfindliche
Schicht der Druckplatte aufgelegt wird.
Üblich sind einerseits in einem "Negativverfahren"
gebrauchsfertig gemachte Druckplatten aus einem
Aluminiumblech mit einer lichtempfindlichen Beschichtung,
auf die eine Filmvorlage, meistens ein
Silberhalogenidfilmnegativ, gelegt wird, worauf beide im
Vakuumkontakt beispielsweise mit einer
metallhalogenid-dotierten Quecksilberdampflampe belichtet
werden. An den belichteten Stellen tritt durch chemische
Reaktion eine Aushärtung der Beschichtung ein, und nach
Beseitigung der nicht belichteten Anteile mittels eines
Entwicklers ist die Druckplatte für den Offsetdruck
gebrauchsfertig.
Bei andererseits in einem "Positivverfahren" gebrauchsfertig
gemachten Druckplatten werden demgegenüber Beschichtungen
aus hydrophoben Verbindungen photolytisch in stärker
hydrophile Verbindungen umgewandelt und die belichteten
Teile der Beschichtung mittels eines Entwicklers
herausgelöst.
Nach einem anderen Verfahren wird das Originalbild im
wählbaren Maßstab auf die Druckplatte projiziert, bzw.
gespiegelt, wobei wiederum von einem Film, gegebenenfalls
von einem Mikrofilm ausgegangen wird, der von einem Computer
aufgezeichnet sein kann. (Z.: Druckindustrie (St. Gallen)
1987, 6. Oktober, S.116)
In allen Fällen wird also ein Film benötigt, welcher als
Lichtmaske vor der Herstellung der Druckplatte von der
Druckvorlage angefertigt werden muß.
Bereits die Herstellung der Filme erfordert einen
zeitaufwendigen Prozeß, der überdies hohe Anforderungen an
staubfreie Arbeitsräume stellt. Hinzu kommt das ebenfalls
aufwendige Montieren von Einzelfilmen auf einer
Montagefolie.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein
Verfahren und eine Einrichtung vorzuschlagen, wonach bzw.
womit der Prozeß zur Herstellung einer Lichtmaske
vereinfacht und verkürzt wird.
Diese Aufgabe wird gelöst mit einem Verfahren zur Erzeugung
eines latenten Bildes auf einer lichtempfindlichen
Beschichtung einer Offset-Druckplatte mittels eines von
einer Lichtquelle ausgesandten und mittels einer Lichtmaske
modulierten Strahlenbündels, das sich erfindungsgemäß
dadurch auszeichnet, daß als Lichtmaske eine
Lichtventilmatrix verwendet wird und die Lichtventilmatrix
mit Signalen angesteuert wird, die mit dem Bild korrelieren,
sowie mit Einrichtungen zur Durchführung dieses Verfahrens,
die sich einerseits auszeichnen durch eine erste
Flüssigkristallschichteinheit, einen auf eine erste Seite
dieser Flüssigkristallschichteinheit gerichteten, mit dem
Bild korrelierende Impulse sendenden, computergeführten
Schreibstrahl, einen, von der Lichtquelle ausgesandtes Licht
auf eine der ersten Seite gegenüberliegende zweite Seite der
Flüssigkristallschichteinheit reflektierenden Spiegel und
ein die zweite Seite der Flüssigkristallschichteinheit auf
der Offset-Druckplatte abbildendes Linsensystem, und
andererseits durch eine zweite, mit einer Elektrodenmatrix
versehene Flüssigkristallschichteinheit, wobei die
Elektrodenmatrix mit elektrischen Signalen belegbar ist, die
mit dem Bild korrelieren, eine derartige Führung des
Strahlenbündels, daß dieses auf eine erste Seite der zweiten
Flüssigkristallschichteinheit trifft und ein Linsensystem
zur Abbildung eines die zweite Flüssigkristallschichteinheit
durchdringenden Anteils des Strahlenbündels.
Wege zur filmlosen Herstellung von für den Offsetdruck
geeigneten Druckplatten sind zwar in der Literatur bereits
beschrieben (Z.: "Der Druckspiegel", Heft 8/81, S. 662 ff,
und Heft 9/81, S. 744 bis 748, sowie Z.: "Philips technische
Rundschau" Nr. 8, 1977/78, S. 214-224), sie erfordern jedoch
besonders darauf ausgerichtete Druckplatten. Mit einem
solchen Verfahren kann der Ganzseitenumbruch einer
Druckvorlage direkt auf eine Halbleiterschicht einer
Druckplatte projiziert werden. Hierzu wird die
Halbleiterschicht im Dunkeln aufgeladen, durch die
Projektion der Druckvorlage bildgemäß belichtet und damit
entladen und danach betonert. Die Belichtung solcher
Druckplatten mit einem von einem Computer geführten,
gepulsten Licht- oder Laserstrahl wird in Z.: "Der
Polygraph", Heft 9/82, S. 675-682 beschrieben. Bei diesem
Verfahren wird die hohe Empfindlichkeit der
Fotoleitfähigkeit der Halbleiterschicht ausgenutzt, so daß
schwache Lichtquellen im langwelligen Bereich verwendet
werden können, für welche die Beschichtungen von
Druckplatten nicht empfindlich sind, welche nach den
eingangs genannten "Positiv-" bzw. "Negativverfahren"
hergestellt werden. Varianten der Belichtung mit gepulsten
Licht- oder Laserstrahlen sind in Z.: "Angewandte Chemie",
Heft 2/80, S. 95-106, beschrieben.
In der DE-OS 32 48 178 wird schließlich ein Verfahren zur
bildmäßigen Beschichtung einer Druckplatte für den
Offsetdruck beschrieben, bei dem farbannehmende
Flächenelemente unter Wärme- und Druckeinwirkung bildmäßig
auf eine hydrophile Oberfläche einer Druckplatte übertragen
werden.
Das Beschreiben einer hydrophilen Oberfläche einer
Druckplatte mit oleophilen Flächenelementen eines
Thermofarbbandes kann mittels Thermoschreibkopf oder
Laserstrahl (LogEscan-Verfahren) erfolgen (Z.: "Angewandte
Chemie", 92 (1980) S. 95-106, Vollmann: Neue Technologien
zur filmlosen Herstellung von Druckformen).
Das erfindungsgemäße Verfahren vereinfacht und verkürzt
nicht nur den Prozeß der Herstellung einer Lichtmaske,
sondern es hat gegenüber den bekannten Methoden zur
"filmlosen" Belichtung einer Offset-Druckplatte auch den
Vorteil, daß es zur "filmlosen" Belichtung auch solcher
Druckplatten anwendbar ist, deren Beschichtungen für die
eingangs genannten "Positiv-" bzw. "Negativerfahren"
ausgelegt sind.
Die Signale zur Ansteuerung der Lichtventilmatrix können
durch Scannen einer Druckvorlage gewonnen werden. Darüber
hinaus ist es auch möglich, ein in einem Computer selbst
generiertes Bild als "Druckvorlage" zu verwenden. Damit kann
mit dem erfindungsgemäßen Verfahren beispielsweise das auf
der Druckplatte zu erzeugende Bild einer körperlich
vorhandenen Druckvorlage mittels zusätzlicher, in einem
Computer generierter "Druckvorlagen" ergänzt werden.
Durch die erfindungsgemäße Verwendung einer
Lichtventilmatrix als Lichtmaske wird insbesondere ein
chemischer Prozeß in Form des Entwickelns eines Filmes
vermieden. Ein solcher Prozeß bedarf immer einer gewissen
Reaktionszeit, die damit eingespart werden kann. Ebenso
entfällt das Trocknen eines entwickelten Films, sowie das im
allgemeinen notwendige Montieren von Einzelfilmen auf einer
Montagefolie.
Die Lichtventilmatrix stellt überdies eine äußerst flexibel
handhabbare und immer wiederverwendbare Lichtmaske dar.
Die Ansteuerung der Lichtventilmatrix mit Signalen, die mit
dem Bild korrelieren, kann unter Zuhilfenahme eines
Computers erfolgen.
Die Erfindung ist nachfolgend anhand der Zeichnung näher
erläutert.
Hierin zeigt
Fig. 1 eine schematische Darstellung einer
erfindungsgemäßen Einrichtung unter Verwendung einer
Lichtmaske in Form einer Reflexionsmaske,
Fig. 2 eine schematische Darstellung einer erfindungsgemäßen
Einrichtung unter Verwendung einer Lichtmaske in Form
einer Transmissionsmaske.
Dem Wesen nach stellt sich das erfindungsgemäße Verfahren so
dar, daß mittels der Signale ausgewählte "Lichtpunkte" eines
dem Bild entsprechenden Displays auf die lichtempfindliche
Beschichtung einer Offset-Druckplatte abgebildet werden.
Bei den nachfolgend beschriebenen Varianten des
erfindungsgemäßen Verfahrens wird von der Tatsache Gebrauch
gemacht, daß Flüssigkristallschichten ihr optisches
Verhalten steuerbar ändern.
In erfindungsgemäßer Nutzung dieser Tatsache ist damit bei
einer ersten Variante gemäß Fig. 1 vorgesehen, die
Lichtventilmatrix aus einem ersten Typ von
Flüssigkristallschichten zu bilden, auf eine Seite einer so
gebildeten ersten Flüssigkristallschichteinheit 1 mit dem
Bild korrelierende Impulse eines computergeführten
Schreibstrahles 2 zu richten und die gegenüberliegende Seite
der Flüssigkristallschichteinheit 1 als Reflexionsmaske für
das Strahlenbündel 3 zu verwenden, das von einer
Lichtquelle 4 ausgesandt wird. Als Lichtquelle 4 kann dabei
beispielsweise eine metallhalogeniddotierte
Quecksilberdampflampe verwendet werden. Als Schreibstrahl 2
kann ein Kathoden- oder Laserstrahl verwendet werden. In
Fig. 1 ist ein Schreibstrahl 2 in einer willkürlichen,
augenblicklichen Lage wiedergegeben.
Auf eine detaillierte Beschreibung der im Rahmen der
Erfindung verwendeten Flüssigkristallschichteinheiten und
deren Ansteuerung kann verzichtet werden, da entsprechende
Hinweise der Literatur entnommen werden können (siehe z. B.:
"SPSE-The Society for Imaging Science and Technology" 1987,
S. 108-115). Einzelheiten zur Verwendung von Schreibstrahlen
können entnommen werden aus "Journal of Applied Physics",
American Institut of Physics, Bd. 57(4) vom 15.02.1985,
Seiten 1356 ff.
Wesentlich für die genannte erste Variante des
erfindungsgemäßen Verfahrens ist hierbei die Verwendung
eines ersten Typs von Flüssigkristallschichten, bei welchem
sich infolge örtlicher Beaufschlagung einer ersten Seite mit
einem Schreibstrahl örtlich reflektierende und
nichtreflektierende Bereiche für auf die gegenüberliegende
Seite auftreffendes Licht ausbilden.
Bei einer zweiten Variante ist vorgesehen, die
Lichtventilmatrix aus einem zweiten Typ von
Flüssigkristallschichten zu bilden, eine so gebildete zweite
Flüssigkristallschichteinheit 1′ mit einer Elektrodenmatrix
zu versehen, die Elektrodenmatrix mit elektrischen
Signalen 5 zu belegen, die mit dem Bild korrelieren, und die
zweite Flüssigkristallschichteinheit 1′ als
Transmissionsmaske für das Strahlenbündel 3 zu verwenden
(Fig. 2).
Wesentlich für diese zweite Variante ist hierbei, abweichend
von der zuvor genannten ersten Variante, die Verwendung
eines zweiten Typs von Flüssigkristallschichten, bei welchem
sich infolge örtlicher Belegung mit elektrischen Signalen
örtlich lichtdurchlässige und lichtundurchlässige Bereiche
der Flüssigkristallschicht ausbilden. Die örtliche Belegung
mit elektrischen Signalen 5 ist in Fig. 2 schematisch durch
den die Signale wiedergebenden Pfeil dargestellt.
Mit beiden genannten Verfahren wird an der jeweiligen
Flüssigkristallschichteinheit 1, 1′ ein Display des
gewünschten Bildes in Form von Lichtpunkten erzeugt und
dieses Display auf die lichtempfindliche Beschichtung 6 der
Offset-Druckplatte 7 abgebildet.
Für diese Abbildung ist in weiterer Ausgestaltung ein
Linsensystem vorgesehen. Dieses Linsensystem weist gemäß
einer Weiterbildung der Erfindung eine in und entgegen einer
Projektionsrichtung 8 verschiebliche Projektionslinse 9 auf.
Damit kann von dem Display ein Bild von wählbarer Größe auf
die Beschichtung 6 projiziert werden.
Eine Einrichtung zur Durchführung des erfindungsgemäßen
Verfahrens unter Verwendung des genannten ersten Typs von
Flüssigkristallschichten ist schematisch in Fig. 1
dargestellt. Mit dieser Einrichtung wird das von der
Lichtquelle 4 ausgesandte und mit Hilfe einer Linse 11
gesammelte Strahlenbündel 3 mittels eines Spiegels 10 auf
die dem Schreibstrahl 2 abgewandte Seite der ersten
Flüssigkristallschichteinheit 1 geworfen.
Zur Erzielung einer möglichst großen Lichtausbeute aus dem
Strahlenbündel 3 ist der Spiegel 10 als Strahlenteiler
ausgebildet und so angeordnet, daß von diesem auf die
Flüssigkristallschichteinheit 1 reflektiertes Licht des
Strahlenbündels 3 im wesentlichen senkrecht auf der
Flüssigkristallschichteinheit 1 auftrifft.
Eine Einrichtung zur Durchführung des erfindungsgemäßen
Verfahrens unter Verwendung des genannten zweiten Typs von
Flüssigkristallschichten ist schematisch in Fig. 2
dargestellt. Hierbei ist das Strahlenbündel 3 so geführt,
daß es auf seinem Weg zur Offset-Druckplatte 7 die zweite
Flüssigkristallschichteinheit 1′ in Abhängigkeit von der
örtlichen Belegung derselben mit den elektrischen Signalen 5
durchdringt.
Das erfindungsgemäße Verfahren ist, wie erwähnt, zur
Belichtung herkömmlicher, beispielsweise mit einer
Diazo- oder einer Silberhalogenid-Beschichtung versehenen,
Offset-Druckplatten anwendbar. Hierzu ist lediglich das
Strahlenbündel 3 mit einer derart energiereichen
Lichtquelle 4 zu erzeugen, daß damit eine hierbei
erforderliche Beleuchtungsstärke auf der betreffenden
Offset-Druckplatte erzielt wird.
Das erfindungsgemäße Verfahren ist aber auch zur Belichtung
elektrisch aufgeladener Halbleiterbeschichtungen von
Offset-Druckplatten anwendbar. Hierzu bedarf es lediglich
der Verwendung eines Strahlenbündels 3, mit welchem eine
hierbei erforderliche, entsprechend kleinere
Beleuchtungsstärke auf der betreffenden Offset-Druckplatte
erzielt wird. Diese entsprechend kleinere Beleuchtungsstärke
kann auch mit einer zur Belichtung herkömmlicher
Offset-Druckplatten ausgelegten erfindungsgemäßen
Einrichtung dadurch erreicht werden, daß ein - in der
Zeichnung nicht dargestellter - Filter in das Strahlenbündel
eingesetzt wird.
Bezugszeichenliste
1 erste Flüssigkristallschichteinheit
1′ zweite Flüssigkristallschichteinheit
2 Schreibstrahl
3 Strahlenbündel
4 Lichtquelle
5 elektrische Signale
6 lichtempfindliche Beschichtung
7 Offset-Druckplatte
8 Projektionsrichtung
9 Projektionslinse
10 Spiegel
11 Linse
1′ zweite Flüssigkristallschichteinheit
2 Schreibstrahl
3 Strahlenbündel
4 Lichtquelle
5 elektrische Signale
6 lichtempfindliche Beschichtung
7 Offset-Druckplatte
8 Projektionsrichtung
9 Projektionslinse
10 Spiegel
11 Linse
Claims (11)
1. Verfahren zur Erzeugung eines latenten Bildes auf einer
lichtempfindlichen Beschichtung einer Offset-Druckplatte
mittels eines von einer Lichtquelle ausgesandten und
mittels einer Lichtmaske modulierten Strahlenbündels,
dadurch gekennzeichnet,
daß als Lichtmaske eine Lichtventilmatrix (1, 1′)
verwendet wird und die Lichtventilmatrix mit Signalen
angesteuert wird, die mit dem Bild korrelieren.
2. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Lichtventilmatrix aus einer ersten
Flüssigkristallschichteinheit (1) gebildet wird, auf
deren eine Seite mit dem Bild korrelierende Impulse
eines computergeführten Schreibstrahles (2) gerichtet
werden, und deren gegenüberliegende Seite als
Reflexionsmaske für das Strahlenbündel (3) verwendet
wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Lichtventilmatrix aus einer zweiten, mit einer
Elekrodenmatrix versehenen
Flüssigkristallschichteinheit (1′) gebildet wird, daß
die Elektrodenmatrix mit elektrischen Signalen (5)
belegt wird, die mit dem Bild korrelieren, und daß die
zweite Flüssigkristallschichteinheit (1′) als
Transmissionsmaske für das Strahlenbündel (3) verwendet
wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet,
daß das Strahlenbündel (3) durch ein Linsensystem (9)
geführt wird.
5. Verfahren nach Anspruch 4,
dadurch gekennzeichnet,
daß ein Linsensystem (9) verwendet wird, mit welchem das
auf der Offset-Druckplatte (7) erzeugte Bild in seiner
Größe veränderbar ist.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5,
dadurch gekennzeichnet,
daß das Strahlenbündel (3) mit einer derart
energiereichen Lichtquelle (4) erzeugt wird, daß mit dem
Strahlenbündel (3) an der Offset-Druckplatte (7) eine
Beleuchtungsstärke erzielt wird, die ausreichend wäre,
um eine herkömmliche, beispielsweise mit einer
Diazo- oder einer Silberhalogenid-Beschichtung
versehene Offset-Druckplatte mit einer über die
Beschichtung gelegten Lichtmaske in Form eines üblichen
Silberhalogenidfilmes derart zu belichten, daß auf der
Beschichtung ein latentes Bild des Silberhalogenidfilmes
entsteht.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5,
dadurch gekennzeichnet,
daß ein Strahlenbündel (3) verwendet wird, mit welchem
an der Offset-Druckplatte (7) eine Beleuchtungsstärke
erzielt wird, die ausreichend ist, um eine im Dunkeln
elektrisch aufgeladene Halbleiterbeschichtung der
Offset-Druckplatte durch Belichtung mit dem
Strahlenbündel (3) zu entladen.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5,
dadurch gekennzeichnet,
daß eine auf eine Entladung einer elektrisch
aufgeladenen Halbleiterbeschichtung der
Offset-Druckplatte abgestimmte Beleuchtungsstärke an der
Offset-Druckplatte durch Einsetzen eines Filters in ein
Strahlenbündel (3) erzielt wird.
9. Einrichtung zur Erzeugung eines latenten Bildes auf
einer lichtempfindlichen Beschichtung einer
Offset-Druckplatte mittels eines von einer Lichtquelle
ausgesandten und mittels einer Lichtmaske modulierten
Strahlenbündels,
gekennzeichnet durch
- - eine erste Flüssigkristallschichteinheit (1),
- - einen auf eine erste Seite dieser ersten Flüssigkristallschichteinheit (1) gerichteten, mit dem Bild korrelierende Impulse sendenden, computergeführten Schreibstrahl (2),
- - einen Spiegel (10), der von der Lichtquelle (4) ausgesandtes Licht auf eine der ersten Seite gegenüberliegende zweite Seite der ersten Flüssigkristallschichteinheit (1) wirft und
- - ein die zweite Seite der ersten Flüssigkristallschichteinheit (1) auf der Offset-Druckplatte (7) abbildendes Linsensystem (9).
10. Einrichtung nach Anspruch 9,
dadurch gekennzeichnet,
daß der Spiegel (10) als Strahlenteiler ausgebildet ist
und vom Spiegel (10) auf die erste
Flüssigkristallschichteinheit (1) reflektiertes Licht
des Strahlenbündels (3) im wesentlichen senkrecht auf
der ersten Flüssigkristallschichteinheit (1) auftrifft.
11. Einrichtung zur Erzeugung eines latenten Bildes auf
einer lichtempfindlichen Beschichtung einer
Offset-Druckplatte mittels eines von einer Lichtquelle
ausgesandten und mittels einer Lichtmaske modulierten
Strahlenbündels,
gekennzeichnet durch
- - eine zweite, mit einer Elektrodenmatrix versehene Flüssigkristallschichteinheit (1′), wobei die Elekrodenmatrix mit elektrischen Signalen (5) belegbar ist, die mit dem Bild korrelieren,
- - eine derartige Führung des Strahlenbündels (3), daß dieses auf eine erste Seite der zweiten Flüssigkristallschichteinheit (1′) trifft und
- - ein Linsensystem (9) zur Abbildung eines die zweite Flüssigkristallschichteinheit (1′) durchdringenden Anteils des Strahlenbündels (3).
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3813398A DE3813398A1 (de) | 1988-04-21 | 1988-04-21 | Verfahren und einrichtung zur erzeugung eines latenten bildes auf einer lichtempfindlichen beschichtung einer offset-druckplatte |
GB8908837A GB2217862B (en) | 1988-04-21 | 1989-04-19 | Offset printing plate latent image production |
FR8905258A FR2630555A1 (fr) | 1988-04-21 | 1989-04-20 | Procede et dispositif pour la creation d'une image latente sur un revetement sensible a la lumiere d'une plaque d'impression offset |
JP1100348A JPH0212253A (ja) | 1988-04-21 | 1989-04-21 | オフセツト印刷版の感光層に潜像を得る方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3813398A DE3813398A1 (de) | 1988-04-21 | 1988-04-21 | Verfahren und einrichtung zur erzeugung eines latenten bildes auf einer lichtempfindlichen beschichtung einer offset-druckplatte |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3813398A1 true DE3813398A1 (de) | 1989-11-02 |
DE3813398C2 DE3813398C2 (de) | 1991-09-26 |
Family
ID=6352543
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3813398A Granted DE3813398A1 (de) | 1988-04-21 | 1988-04-21 | Verfahren und einrichtung zur erzeugung eines latenten bildes auf einer lichtempfindlichen beschichtung einer offset-druckplatte |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0212253A (de) |
DE (1) | DE3813398A1 (de) |
FR (1) | FR2630555A1 (de) |
GB (1) | GB2217862B (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001069320A2 (de) * | 2000-03-11 | 2001-09-20 | basysPrint GmbH Systeme für die Druckindustrie | Belichtungsvorrichtung und verfahren zur kompensation von optischen fehlern |
WO2002061809A2 (en) * | 2001-02-01 | 2002-08-08 | Advanced Micro Devices, Inc. | Configurable patterning device and a method of making integrated circuits using such a device |
EP1495368A2 (de) * | 2002-04-09 | 2005-01-12 | Day International, Inc. | Druckelemente und methode zu deren erzeugung unter benutzung von digitaler photopolymerisation |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB9401566D0 (en) * | 1994-01-27 | 1994-03-23 | Univ Dundee | Method |
EP0746800B1 (de) * | 1994-02-21 | 2001-10-10 | Lüllau, Friedrich | Verfahren und vorrichtung zur photomechanischen herstellung strukturierter oberflächen, insbesondere zum belichten von offsetdruckplatten |
DE19602307A1 (de) * | 1996-01-23 | 1997-07-24 | Roland Man Druckmasch | Druckmaschine |
DE19602289A1 (de) * | 1996-01-23 | 1997-07-24 | Roland Man Druckmasch | Druckvorrichtung |
JP2001188354A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Asahi Kasei Corp | 感光性樹脂凸版の製造方法、及びその製造装置 |
EP3182206B1 (de) * | 2015-12-15 | 2019-12-04 | Agfa Nv | Verfahren zum belichten eines druckmasterplattenrohlings |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4054094A (en) * | 1972-08-25 | 1977-10-18 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Laser production of lithographic printing plates |
JPS60107034A (ja) * | 1983-11-14 | 1985-06-12 | Mitsubishi Electric Corp | 投影露光装置 |
US4672014A (en) * | 1985-10-08 | 1987-06-09 | The Mead Corporation | Exposure of imaging sheets utilizing a light valve as a wavelength transformer |
DE3708147A1 (de) * | 1986-03-14 | 1987-09-24 | Gerber Scient Inc | Von einer lichtventilvorrichtung gebrauch machender photoplotter und verfahren zum belichten von graphischen darstellungen |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3761171A (en) * | 1972-02-17 | 1973-09-25 | Eastman Kodak Co | Negative-positive, positive-positive exposure station |
GB1500952A (en) * | 1974-03-26 | 1978-02-15 | Berkel Patent Nv | Optical recording device particularly for use with weighing equipment |
US4013466A (en) * | 1975-06-26 | 1977-03-22 | Western Electric Company, Inc. | Method of preparing a circuit utilizing a liquid crystal artwork master |
GB2131964A (en) * | 1982-12-10 | 1984-06-27 | Letraset International Ltd | Exposing through an LCD |
DE3321346C2 (de) * | 1983-06-13 | 1987-04-09 | Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg | Optischer Druckkopf |
JPS6083019A (ja) * | 1983-10-12 | 1985-05-11 | Fujitsu Ltd | パタ−ン反射型投影露光方法 |
DE3514807C2 (de) * | 1984-04-25 | 1994-12-22 | Canon Kk | Vorrichtung mit einer Flüssigkristallzelle, zum Ansteuern einer Transistoranordnung |
JPS6159430A (ja) * | 1984-08-31 | 1986-03-26 | Casio Comput Co Ltd | 記録装置の駆動法 |
JPS61111061A (ja) * | 1984-11-05 | 1986-05-29 | Casio Comput Co Ltd | 記録装置 |
-
1988
- 1988-04-21 DE DE3813398A patent/DE3813398A1/de active Granted
-
1989
- 1989-04-19 GB GB8908837A patent/GB2217862B/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-04-20 FR FR8905258A patent/FR2630555A1/fr not_active Withdrawn
- 1989-04-21 JP JP1100348A patent/JPH0212253A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4054094A (en) * | 1972-08-25 | 1977-10-18 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Laser production of lithographic printing plates |
JPS60107034A (ja) * | 1983-11-14 | 1985-06-12 | Mitsubishi Electric Corp | 投影露光装置 |
US4672014A (en) * | 1985-10-08 | 1987-06-09 | The Mead Corporation | Exposure of imaging sheets utilizing a light valve as a wavelength transformer |
DE3708147A1 (de) * | 1986-03-14 | 1987-09-24 | Gerber Scient Inc | Von einer lichtventilvorrichtung gebrauch machender photoplotter und verfahren zum belichten von graphischen darstellungen |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001069320A2 (de) * | 2000-03-11 | 2001-09-20 | basysPrint GmbH Systeme für die Druckindustrie | Belichtungsvorrichtung und verfahren zur kompensation von optischen fehlern |
WO2001069320A3 (de) * | 2000-03-11 | 2001-12-06 | Basysprint Gmbh Sys Druckind | Belichtungsvorrichtung und verfahren zur kompensation von optischen fehlern |
US6844920B2 (en) | 2000-03-11 | 2005-01-18 | Basys Print Gmbh Systeme Fuer Die Druckindustrie | Exposure device and method for compensating optical defects |
WO2002061809A2 (en) * | 2001-02-01 | 2002-08-08 | Advanced Micro Devices, Inc. | Configurable patterning device and a method of making integrated circuits using such a device |
WO2002061809A3 (en) * | 2001-02-01 | 2003-01-09 | Advanced Micro Devices Inc | Configurable patterning device and a method of making integrated circuits using such a device |
EP1495368A2 (de) * | 2002-04-09 | 2005-01-12 | Day International, Inc. | Druckelemente und methode zu deren erzeugung unter benutzung von digitaler photopolymerisation |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2630555A1 (fr) | 1989-10-27 |
DE3813398C2 (de) | 1991-09-26 |
GB8908837D0 (en) | 1989-06-07 |
GB2217862B (en) | 1992-05-13 |
GB2217862A (en) | 1989-11-01 |
JPH0212253A (ja) | 1990-01-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0527166B1 (de) | Belichtungsvorrichtung | |
DE69220629T2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Musters eines Aufzeichnungselementes | |
DE1622992B1 (de) | Ohne druckeinwirkung arbeitendes druckwerk | |
DE19733370C2 (de) | Vorrichtung und Verfahren zum Kopieren von Bilder auf lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial | |
DE4121509A1 (de) | Belichtungs- und lichtmodulationssystem | |
WO1993009469A1 (de) | Belichtungsvorrichtung | |
DE2318133A1 (de) | Verfahren zur herstellung von polymeren bildern | |
DE1231029B (de) | Optisches Projektionssystem fuer Stehbildprojektion | |
DE3813398C2 (de) | ||
EP0746800B1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur photomechanischen herstellung strukturierter oberflächen, insbesondere zum belichten von offsetdruckplatten | |
DE2657246C2 (de) | Original eines Informationsträgers, Verfahren zum Herstellen des Originals, Verfahren zum Herstellen einer Matrize zum Prägen des Originals sowie Informa tionsträger, der mit der Matrize hergestellt ist | |
DE1963578A1 (de) | Verfahren zum kontaktlosen Belichten | |
DE1497565A1 (de) | Hologrammabdruckkopie und Verfahren zu ihrer Herstellung und Wiedergabe | |
DE69218814T2 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung von holographischen Projektionsschirmen | |
DE1280581B (de) | Verfahren, Aufzeichnungstraeger und Vorrichtung zum Speichern von Informationen | |
DE2063213A1 (de) | Druckverfahren insbesondere zum Ausdrucken von Daten und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens | |
DE2734581C2 (de) | Original eines Informationsträgers und Verfahren zum Herstellen des Originals | |
DE2734580C2 (de) | Verfahren zum Herstellen eines Originals eines Informationsträgers | |
EP1664921A2 (de) | Verfahren zur herstellung eines mediums zur wiedergabe von dreidimensionalen anordnungen | |
DE2901662A1 (de) | Halbton-mikrobilder hoher aufloesung und verfahren zur herstellung derselben | |
DE2164622C3 (de) | Verfahren zum Abbilden eines elektrofotografisch hergestellten, transparenten Reliefbildes | |
DE3708258A1 (de) | Bilduebertragungssystem | |
DE2518581A1 (de) | Verfahren zur herstellung einer vesikularen photographischen abbildung | |
DE2454750C3 (de) | Verfahren und Anordnung zur Herstellung von Bildmustern für Masken integrierter Schaltkreise mittels aberrationsfreier Bildpunkte von Punkthologrammen | |
US2304942A (en) | Method of preparing color print plates |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OM8 | Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law | ||
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
D2 | Grant after examination | ||
8363 | Opposition against the patent | ||
8331 | Complete revocation |