DE2518581A1 - Verfahren zur herstellung einer vesikularen photographischen abbildung - Google Patents

Description

^1A~⁸²³ "25. April 1975

MITSUBISHI CHEMICAL INDUSTRIES LTD., Tokyo , Japan

Verfahren zur Herstellung einer vesikularen photοgraphischeη

Abbildung

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Bildung einer vesikularen Abbildung. Insbesondere betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Bildung einer positiven vesikularen Abbildung von einem positiven Original oder einer negativen vesikularen Abbildung von einem negativen Original unter Verwendung eines vesikularen photographischen Substrats, welches in einem synthetischen Harz ein photoempfindliches Material enthält, das bei Belichtung zur Gasbildung führt.

Man kennt bereits die nachstehenden Verfahren zur Herstellung einer Abbildung auf einem vesikularen photographischen Substrat (1) (Fig. 1). Fig. 1 zeigt ein vesikulares photographisches Substrat (1) auf welches ein transparentes Original (2) gelegt ist (A-1). Der Film (1) wird mit den durchgelassenen ultravioletten Strahlen einer Strahlungsquelle belichtet. Aufgrund der Bestrahlung mit den ultravioletten Strahlen von der Seite des Originals her wird das photoempfindliche Material zersetzt und es wird Gas gebildet (Herstellung einer latenten Abbildung) (A-1). Sodann wird der Film erhitzt, wobei an den belichteten Stellen die vesikulare Abbildung entsteht (Entwicklung eines sichtbaren Bildes)(A-2). Somit gelangt man mit den Stufen (A-1) und (A-2) zu einer vesikularen Abbildung. Falls erwünscht, kann die vesikulare Abbildung durch die nachfolgende Stufe stabilisiert werden. Hierzu wird das photoempfindliche Material über die gesamte Oberfläche mit ultra-

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violetten Strahlen bestrahlt, so daß das photoempfindliche Material in den zuvor nicht "belichteten Bereichen zersetzt wird (A-3). Sodann wird das "belichtete Substrat stehengelassen (A-4), wobei das während der Stufe (A-3) erzeugte Gas durch Diffusion austritt. Aus vorstehender Beschreibung des Prinzips des herkömmlichen Verfahrens geht hervor, daß man bei Herstellung einer vesikularen Abbildung durch die Stufen (A-1) bis (A2) oder (A-1) bis (A-4) im Falle eines negativen Originals (2) eine positive Abbildung erhält und im Falle eines positiven Originals eine negative Abbildung. Es werden also in denjenigen Bereichen des vesikularen photographischen Substrats (1), welche transparenten Bereichen des Originals entsprechen, Bläschen gebildet, und somit wird das Licht in diesen Bereichen reflektiert, so daß man ein sichtbares Bild erhält. Im Projektionsbild der vesikularen Photographie ist der vesikulare Bereich der negative Bereich.

Zur Herstellung einer positiven vesikularen Abbildung von einem positiven Original (2) oder zur Herstellung einer negativen vesikularen Abbildung von einem negativen Original (2) sind nach der Stufe (A-1) die folgenden Arbeitsschritte erforderlich. Zunächst wird das vesikulare photographische Substrat (1) stehengelassen (B-1), wobei das in der Stufe (A-1) entwickelte Gas durch Diffusion austritt. Das in der Stufe (A-I) nicht zersetzte photoempfindliche Material wird sodann durch Bestrahlung der gesamten Fläche des Substrats mit ultravioletten Strahlen zersetzt, wobei es zur Gasentwicklung kommt (B-2). Sodann wird das vesikulare Bild durch Erhitzen entwickelt, so daß die in der Stufe (B-2) gebildeten Gasbläschen wachsen (B-3). Somit bedarf es zur Herstellung einer positiven Abbildung von einem positiven Original auf einem vesikularen photographischen Substrat (1) der Kombination einer Vielzahl von Stufen der Belichtung zum Zwecke der Abbildung, des Stehenlassens, der Belichtung der Gesamtfläche und des Erhitzens. Somit ist diese Arbeitsweise recht kompliziert. Bei dem herkömmlichen Verfahren führt das durch das Original (2) durchgelassene Licht zu einer Bestrahlung des vesikularen photo-

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graphischen Substrats (1) (Bestrahlung mit Abbildungslicht), so daß das Trägermaterial des Originals transparent sein muß. Dieses herkömmliche vesikulare photοgraphische Verfahren hat den Vorteil, daß Abbildungen nach einem Trockenverfahren gewonnen werden können. Es hat jedoch den Nachteil einer komplizierten Verfahrensführung und der Notwendigkeit eines Originals (2) mit einem transparenten Träger.

Somit ist es Aufgabe der Erfindung, ein einfaches Verfahren zur Herstellung einer vesikularen photographischen Abbildung zu schaffen, bei dem ein undurchsichtiges Original (2) verwendet werden kann.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß man ein Original im Zustand des zersetzten photoempfindlichen Materials niit einem vesikularen photographischen Substrat kontaktiert und von der Seite des photographischen Substrats (1) her mit infrarote Strahlen umfassendem Licht bestrahlt.

Ferner

kann das Original mit einem vesikularen photographischen kontaktiert werden, worauf man das vesikulare photographische Substrat von der Seite des photοgraphischen Substrats (1) her mit Licht bestrahlt, welches infrarote Strahlen und Licht des empfindlichen Bereichs enthält. Ferner wird ein Verfahren zur Bildung einer vesikularen Abbildung geschaffen, bei dem ein vesikulares photographisches Substrat mit Licht des empfindlichen Bereichs bestrahlt wird, worauf das belichtete vesikulare photographische Substrat mit einem Original kontaktiert wird, worauf man das photographische Substrat (1) von der Seite des photographischen Substrats (1) her mit Licht, welches infrarote Strahlen enthält, bestrahlt, so daß aus einem positiven Original eine positive Abbildung erhalten werden kann.

Im folgenden wird die Erfindung anhand von Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen:

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Figuren 1 A-1bis A-4 und B-1 "bis B-3 die Stufen eines herkömmlichen Verfahrens zur Herstellung einer vesikularen photographischen Abbildung;

Figuren 2 C_r1 "bis C-21 verschiedene Stufen des erfindungsgemäßen Verfahrens zur Herstellung einer vesikularen photographischen Abbildung;

Figuren 3 C-22 bis C-24 Stufen eines abgewandelten erfindungsgemäßen Verfahrens zur Herstellung einer vesikularen photo graphischen Abbildung;

Figuren 4 A-O bis A-2 und B-1 bis B-2 eine Ausführungsform zur Durchführung der Stufen A und B;

Figuren 5 A-O bis A-4 und B-1 bis B-2 eine weitere Ausführungsform zur Durchführung der Stufen A und B;

Figuren 6 A-1 bis A-3 und B-t bis B-2 eine weitere AusfÜhrungsform zur Durchführung der Stufen A und B;

Figur 7 einen Schnitt einer Ausführungsform zur Durchführung der Stufe B (Bestrahlung mit Lieht) und

Figur 8 eine weitere Ausführungsform der Stufe B (Bestrahlung mit Licht).

Das für das erfindungsgemäße Verfahren verwendet vesikulare photographische Substrat wird hergestellt, indem man ein photoempfindliches Material, welches bei Bestrahlung mit Licht Gas entwickelt, in einem thermoplastischen und/oder einem durch Wärme härtbaren Harz dispergiert oder auflöst und damit einen geeigneten Träger (1b) beschichtet, wobei eine photoempfindliche Schicht (1a) ausgebildet wird. Geeignete thermoplastische Harze sind".

Polyvinylidenchlorid, Vinylidenchloria-Copolymere, Vinylchlorid-Copolymere, thermoplastische Epoxyharze oder dgl. Geeignete wärmehärtbare Harze sind reaktive Harze, welche als Härter Isocyanat enthalten.

Als photoempfindliche Materialien, welche bei Bestrahlung mit Licht Gas erzeugen und welche dem synthetischen Harz zugemischt werden, kommen Verbindungen mit Diazogruppen (-N=N^ ) oder mit Azidogruppen (-N,) in Frage, Geeignete photoempfind-

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liehe Materialien sind Diazoniumverbindungen, wie p-Diazodimethylanilin-zinkchloridsalz, p-Diazophenylaminsulfat, p-Diazoäthylanilin-zinkchloridsalz, p-Diazoäthylhydroxyäthylanilin-zinkchloridsalz, p-Diazoäthylmethylanilin-zinkchloridsalz, 4-Morpholinobenzol-diazoniumchlorid oder dgl. und Azidoverbindungen, wie 2-Azido-1,4-chinon und Derivate derselben oder dgl.. Man kann auch weitere Zusatzstoffe verwenden, z. B. Farbstoffe zur Verbesserung der Eigenschaften der photoempfindlichen Schicht. Bei dem Träger (1b) kann es sich um einen infrarote Strahlen durchlassenden Film aus Polyester, Polyäthylen, Polypropylen, Acrylharz, Celluloseharz oder dgl. handeln. Bei einigen Anwendungen ist ein Träger (1b) erforderlich.

Das vesikulare photographische Substrat (1) kann hergestellt werden, indem man das synthetische Harz und das photoempfindliche Material in einem geeigneten Lösungsmittel, z. B. Methyläthylketon oder dgl.,auflöst und einen Träger (1b) damit beschichtet und das Produkt dann trocknet. In einigen Fällen kann man auch aus der Lösung des Harzes und des photoempfindlichen Materials einen Film herstellen. Die Dicke der photoempfindlichen Schicht (1a) unterliegt keinen Beschränkungen und beträgt gewöhnlich weniger als 100 η und vorzugsweise weniger als 50 ja und speziell 3-2Ou. Typische handelsübliche vesikulare photographische Substrate (1) sind Kalva-Filme, wie Mikrolith 100, Mikrolith 150, Mikrolith 200, Mikrolith 500 und Kalvalith (hergestellt durch Kalvar Corporation). Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Herstellung einer vesikularen Abbildung ist es erforderlich, entweder das photoempfindliche Substrat gleichzeitig mit Licht zu bestrahlen, welches Infrarotstrahlen enthält und Licht des photoempfindlichen Bereichs, so daß zur gleichen Zeit das photoempfindliche Material zersetzt wird und das vesikulare Bild ausgebildet wird. Alternativ kann man das photοgraphische Substrat (1) mit Licht des photoempfindlichen Bereichs bestrahlen und dann eine Bestrahlung mit einem Infrarotstrahlen umfassenden Licht vornehmen.

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Der photoempfindliche Bereich des photographischen Substrats (1) hängt a"b von der Art des photoempfindlichen Materials und der Zusatzstoffe und liegt gewöhnlich bei einer Wellenlänge von 200 mu - 600 im und speziell von 300 mn - 550 mu. Der photoempfindliche Bereich bei handelsüblichem Kalvar-Film liegt bei 340 mu - 450 mu mit einem Spitzenwert bei 385 mu 400 mu. Als Lichtquellen für das Licht des photoempfindlichen Bereiches kommen z. B. Ultraviolett-Fluoreszenz-Lampen und Quecksilber-Lampen oder dgl. in Frage. Das Infrarotstrahlen umfassende Licht kann Infrarotstrahlen mit einer Wellenlänge von mehr als 800 mu an sich oder in Mischung mit anderen Strahlen aufweisen. Es sind solche Lichtquellen bevorzugt, welche während einer kurzen Zeitdauer Licht hoher Intensität erzeugen können. Geeignete Lichtquellen sind Infrarotlampen, Schiller-Quellen (Schillerization Sources), welche von der Verbrennung von Aluminium, Magnesium oder dgl. Gebrauch machen, Anregungslampen und Lampen·, welche von der Entladung in Edelgasen,, wie Xenon, Krypton, Argon oder dgl. Gebrauch machen (Blitz). Das Licht der Schiller-Quellen, der Anregungslampen und der Blitzlampen (mit Ausnahme der Infrarotlampen) umfaßt sowohl das Licht des photoempfindlichen Bereichs des photographischen Substrats (1) als auch Infrarotstrahlen. Die Zeitdauer der Bestrahlung mit der Lichtquelle hängt ab von der Intensität der Lichtquelle und vom Abstand zum photοgraphischen Substrat (1) und beträgt gewöhnlich mehrere Sekunden bis 30 see im Falle der Ultraviolett-Fluoreszenz-Lampen und der Quecksilber-Lampen und gewöhnlich weniger als 1 see im Falle der Schiller-Quellen, der Anregungslampen und der Blitzlampen. Im Gegensatz zur Bestrahlung von Filmen vom Silbersalz-Typ ist ein dunkler Raum nicht erforderlich. Die Arbeit kann in einem Büroraum durchgeführt werden.

Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren wird ein Original (2) mit einem vesikularen photοgraphischen Substrat (1) kontaktiert und Licht, welches sowohl Infrarotstrahlen als auch Licht des photographischen Bereichs des photographischen Substrats ent-

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hält, wird von der Seite des photοgraphischen Substrats (1) her eingestrahlt, so daß das photoempfindliche Material im vesikularen photographischen Substrat 1 im Bereich der gesamten Oberfläche zersetzt wird und zur Gasentwicklung führt. Gleichzeitig werden die Infrarotstrahlen absorbiert, und zwar nur in denjenigen Bereichen des Originals (2), in denen ein Bild vorliegt, so daß in diesen Bereichen Wärme entwickelt wird. Somit expandieren nur die Bläschen in denjenigen Bereichen der photoempfindlichen Schicht (1a), welche die ursprunglichen Abbildungsbereiche des Originals berühren, wobei eine vesikulare Abbildung entsprechend dem Original im photographischen Substrat (1) ausgebildet'wird. Wärme v/ird nur in denjenigen Bereichen entwickelt, welche das Orjginalbild kontaktieren und nicht in anderen Bereichen, so daß die kleinen Bläschen der photoempfindlichen Schicht (1a), welche sich in den übrigen Bereichen befinden, nicht expandiert werden und an der Entwicklung des Bildes nicht teilnehmen. In dem vesikularen photographischen Substrat (1) wird eine dem Original (2) entsprechende Abbildung erzeugt. Die Einstrahlung des Infrarotlicht und Licht des photoempfindlichen Bereichs umfassenden Lichts erfolgt gemäß Fig. 2 C-2. Wenn das Licht des photoempfindlichen Bereichs von der Seite des photographischen Substrats (1) her in das photographische Substrat (1) eingestrahlt wird, so wird das photoempfindliche Material der photoempfindlichen Schicht (1a) gemäß Fig. 2 C-1 zersetzt. Das Original (2) wird mit dem vesikularen photographischen Substrat (1) kontaktiert und Licht, welches Infrarotstrahlen umfaßt, wird zur Bestrahlung verwendet, wobei die Infrarotstrahlen nur in denjenigen Bereichen des Originals (2) absorbiert werden, in denen eine Abbildung vorliegt, so daß in diesen Bereichen Wärme entwickelt wird und nur die kleinen Bläschen in denjenigen Bereichen der photoempfindlichen Schicht (1a), welche die Bildbereiche des Originals kontaktieren, werden unter Ausbildung der dem Original entsprechenden vesikularen Abbildung im photographischen Substrat (1) expandiert (Fig. 2 C-2). An allen anderen Stellen außer den Stellen, welche die Bildbereiche des Originals kontaktieren, wird keine Hitze entwickelt, so daß hier auch die kleinen Bläschen der photoempfindlichen Schicht

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(la) nicht expandiert werden und nicht zur Ausbildung einer Abbildung führen. Auf diese Weise wird eine Abbildung erhalten, welche mit dem Original (2) identisch ist.

Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren ist es erforderlich, in den Bildbereichen des Originals (2) V/arme zu entwickeln. Demgemäß sollte das Original vorzugsweise mit einem Material beschrieben sein, welches zur Entwicklung einer ausreichenden Wärmeenergie geeignet ist, wie mit schwarzem Pigment, schwarzer Tinte, Drucktinte, Bleistift oder dgl.. Wenn das Original mit einem" anderen Material beschrieben ist, so kann man natürlich auch eine Abbildung erzielen, wenn man die Bestrahlung mit dem Licht, welches Infrarotstrahlen umfaßt, während einer genügend langen Zeitdauer durchführt. Zur Verhinderung eines Wärmeverlustes ist es bevorzugt, die Rückseite (die der Bestrahlungsquelle abgewandte Seite) des Originals (2) mit einer wärmeisolierenden Platte (4) zu bedecken (Fig. 3 C-22). Wenn das Original (2) mit dem Träger (1b) kontaktiert wird, und Licht von der Seite des photographischen Substrats (1) her eingestrahlt wird (Fig. 3 C-23), so muß die in den Bildbereichen des Originals entwickelte Wärme durch den Träger (1b) hindurch zum photoempfindlichen Material übertragen werden. Demgemäß ist in diesem Falle die Effizienz des Verfahrens herabgesetzt und es bedarf einer langen Bestrahlungsdauer. Somit ist es bevorzugt, die photoempfindliche Schicht (1a) mit dem Original (2) zu kontaktieren. Wenn das Original (2) mit der photoempfindlichen Schicht (1a) kontaktiert wird und

Licht von der Seite des Originals her (Fig. 3 C-24) eingestrahlt wird, so v/ird an der Oberfläche des Originals (2) Wärme entwickelt und diese muß durch.das Original (2) hindurch zum photoempfindlichen Material übertragen werden. Demgemäß ,ist auch bei dieser Verfahrensvariante die Effizienz gering. Erfindungsgemäß ist es somit möglich, ein positives vesikulares Bild von einem positiven Original (2) herzustellen oder ein negatives vesikulares Bild von einem negativen Original (2) herzustellen, wobei lediglich eine Belichtung durchgeführt werden muß. Man erzielt eine klare Abbildung und die Haltbar-

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keit der Abbildung ist ausgezeichnet.

Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren kann man die Bestrahlung mit dem Licht von der Seite des photographischen Substrats (1) her vornehmen. Demgemäß ist es nicht erforderlich, ein transparentes Original, wie bei herkömmlichen Verfahren, zu verwenden und man kann eine vesikulare Abbildung auch VGn einem undurchsichtigen Original (2) herstellen. Somit kann man vesikulare Abbildungen direkt von verschiedensten Originalen, z. B. von druckschriftlichen Originalen, von handschriftlichen Originalen und von Originalen mit Aufzeichnungen auf beiden Seiten herstellen. Das durch Beschichtung eines transparenten Trägers (1b), z. B. eines Polyesterfilms, mit einer photoempfindlichen Schicht (1a) hergestellte Produkt zeigt eine große mechanische Festigkeit und es ist leicht handhabbar. Wenn dieses Produkt als Original für einen Projektor (von oben arbeitend) verwendet wird, so kann es leicht gehandhabt werden im Vergleich zu einem Original für einen Projektor, bei dem die Wärmeschrumpfung des Films ausgenutzt wird. Die nach dem erfindungsgemäßen Verfahren herstellbare vesikulare Abbildung zeigt einen hohen Kontrast, so daß das Projektionsbild sehr klar ist. Wenn man das Produkt mit der vesikularen Abbildung als Original für die Diazotypie-Reproduktion verwendet, so erhält man klare Diazotypie-Kopien.

Wenn man die photoempfindliche Schicht (1a) auf einem transparenten Gegenstand ausbildet, und dann in dieser Schicht eine vesikulare Abbildung erzeugt, so kann man auf diese Weise Ornamente herstellen. Das erfindungsgemäire Verfahren kann zum Kopieren eines Originals verwendet werden, wobei in einem Original sowohl transparente Bereiche als auch undurchsichtige Bereiche vorliegen, was z. B. bei durchbrochenen Karten für Mikrofilme der Fall ist. Das erfindungsgemäße Verfahren eignet sich insbesondere zur Herstellung und Reproduktion von solchen Öffnungen aufweisenden Karten. Diese Karten umfassen eine Aufzeichnung auf einem transparenten Träger (Mikrofilm) und eine Aufzeichnung (Information betreffend den Mikrofilm) auf einem

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opaken Träger, wie Papier (Karte). Nach herkömmlichen Verfahren ist es schwierig, sowohl die Aufzeichnung auf dem transparenten Träger als auch die Aufzeichnung auf dem undurchsichtigen Träger zu kopieren. Demgemäß wird "bei der Herstellung von solchen Karten die Herstellung des Mikrofilms (Belichtung, Entwicklung oder Kopie) getrennt von der Herstellung der Aufzeichnung auf der Karte vorgenommen und der Mikrofilm wird mittels einer Klebermasse in dem Fenster der Karte "befestigt oder der Mikrofilm wird in eine transparente Tasche des Kartenfensters eingeschoben. Jedenfalls werden in herkömmlicher Weise die " Karte und der Mikrofilm getrennt hergestellt und dann miteinander verbunden. Eine solche Arbeitsweise ist recht kompliziert. Ferner führt das herkömmliche Verfahren aufgrund der Klebermasse oder der Tasche zu einer Karte mit ungleichmäßiger Dicke. Dies ist insbesondere bei der Ablage einer Vielzahl von Karten von Nachteil. Oft kommt es vor, daß die einzelnen Karten durch die dabei herausgequetschte· Klebcrrnasse aneinander kleben. Somit ist es erwünscht, derartige Karten mit Aufzeichnungen auf dem Mikrofilm und der Karte selbst auf einem einzigen Träger herzustellen. Bisher ist jedoch kein befriedigendes Verfahren zur Herstellung oder Reproduktion eines solchen Produkts bekannt. Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren ist es nun möglich, eine Aufzeichnung auf einem transparenten Träger und eine Aufzeichnung auf einem undurchsichtigen Träger auf ein vesikulares photographisches Substrat (1) zu kopieren, indem man die folgenden Schritte A und B kombiniert:

A. Stufe der Bestrahlung des vesikularen photographischen Substrats (1) mit Licht des photoempfindlichen Bereichs von der Seite des Originals (2) her (Zersetzung des photoempfindlichen Materials).

B. Stufe der Kontaktierung des Originals (2) mit dem vesikularen photographischen Substrat (1) und Bestrahlung mit Infrarotstrahlen und Licht des photoempfindlichen Bereichs umfassendem Licht von der

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Seite des photographischen Substrats (1) her.

Im folgenden wird, eine Ausführungsform des Verfahrens erläutert. Das latente Bild, welches dem Bild (2p) des transparenten Teils (2s) des Originals (2) entspricht, wird in der Stufe A auf dem photographischen Substrat (1) ausgebildet, wobei das vesikulare photographische Substrat (1) von der·* Seite des Originals (2) her (Fig. 4 A-1) mit Licht des photoempfindlichen Bereichs bestrahlt wird. Dabei kann das Original (2) das vesikulare photographische Substrat (1) berühren oder nicht berühren. Es genügt, daß das Licht des photcempfindlichen Bereichs durch den transparenten Teil (2s) des Originals hindurchgeht und das vesikulare photographische Substrat belichtet. Wenn das vesikulare photographische Substrat von der Seite des Originals (2) her mit dem Licht des photoempfindlichen Bereichs bestrahlt wird, so fällt das Licht durch die bildfreien Bereiche des transparenten Teils (2s) und erzeugt ein latentes Bild (Fig. 4 A-1). Wenn aus einem positiven Bild (2p) des transparenten Teils (2s) eine negative vesikulare Abbildung (3p) erzeugt werden soll (oder umgekehrt) (Fig. 4 B-2), so wird nun das vesikulare pliotographische Substrat (1) erhitzt, wobei die kleinen Bläschen in der photoempfindliehen Schicht (1a) expandiert werden und eine vesikulare Abbildung (3p) bilden (Fig. 4 A-2).

Danach wird auf dem vesikularen photographischen Substrat (1) in der Stufe B eine Abbildung erzeugt, welche dem Bild (2q) im undurchsichtigen Bereich (2b) des Originals (2) entspricht. Hierzu wird das Original (2) mit dem photographischen Substrat (1) kontaktiert und Licht, welches Infrarotstrahlen und Licht des photoempfindlichen Bereichs umfaßt, wird von der Seite des photographischen Substrats (1) her eingestrahlt (Fig. 4 B-1). Das photoempfindliche Material in der photoempfindlichen Schicht (1a) wird durch das Licht des photoempfindlichen Frequenzbereichs während der Belichtung zersetzt, wobei ein latentes Bild durch Gaserzeugung über die gesamte Oberfläche gebildet wird (Fig. 4 B-1). Das latente

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Bild wird jedoch nicht im Bereich der vesikularen Abbildung (3p) des photοgraphischen Substrats (1) ausgebildet, da das photoempfindliche Material dieses Bereichs bereits in der Stufe A zersetzt wurde (das latente Bild wird mit kleinen Bläschen gebildet). Gleichzeitig mit der Bildung der latenten Abbildung werden die Infrarotstrahlen des Lichtes absorbiert,und zwar nur an den Bildteilen (2q) des undurchsichtigen Bereichs des Originals, so daß hier Wärme erzeugt wird. Unter dem Einfluß dieser Wärme wird nur das latente Bild der photoempfindlichen Schrift (1a), welche das Bild (2q) berührt, expandiert, so daß eine vesikulare Abbildung entsprechend dem Bild (2q) im photographischen Substrat (1) hergestellt wird (Fig. 4 B-1, B-2). Wärme wird nur in den Bereichen entwickelt, in denen das Original Bildbereiche aufweist und nicht in allen anderen Bereichen, so daß in allen anderen Bereichen das latente Bild der photoempfindlichen Schicht (1a) nicht expandiert wird und somit auch kein sichtbares Bild hervorgerufen wird.

Die Infrarotstrahlen werden in den Bildbereiehen (2p) des transparenten Teils des Originals (2) absorbiert. Die Bildbereiche (2p) stehen jedoch mit der photoempfindlichen Schicht (1a) nicht in direkter Berührung. Zwischen beiden befindet sich der Träger des Originals (2) und somit wird die Wärme nicht innerhalb einer genügend kurzen Zeit auf.die photoempfindliche Schicht (1a) übertragen, so daß in diesen Bereichen das latente Bild nicht expandiert wird.

Wenn die· vesikulare Abbildung (3p) durch Positiv-Positiv-Abbildung des Bildes (2p) des transparenten Bereichs (2s) hergestellt werden soll (Fig. 6 B-2)._f so wird das vesikulare photographische Substrat (1) gemäß Stufβ Ά behandelt, so daß ein latentes Bild erzeugt wird (Fig. 4 A-1). Das Produkt wird mehrere Stunden gelagert, so daß das Gas der Bläschen auf dem photοgraphischen Substrat (1) entweicht» Danach wird das photographische Substrat (1) gemäß Fig. 6 A-3 mit dem gleichen Licht, welches in der Stufe A verwendet wurde,

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belichtet, und zwar durch eine Maske oder Abschirmplatte (4) hindurch, welche einen transparenten Teil (4s) und einen undurchsichtigen Teil (4b) aufweist und die gleiche Gestalt wie das Original (2) hat, aber keine Abbildung aufweist. Durch Erhitzen (Fig. 6 A-2) wird sodann ein dem positiven Original (2p) entsprechendes positives vesikulares Bild (2p) ausgebildet.

Die vesikulare Abbildung (3q) wird in der Stufe B hergestellt.

Vorstehend wurde ein Fall beschrieben, bei dem das Original (2) das Bild (2q) auf der Vorderflache und das Bild (2p) auf der Rückseite aufweist. Die Beschreibung erfolgte für die Stufen A und B gemäß Fig. 4.

Es ist jedoch auch möglich, durch Positiv-Negativ-Abbildung eine vesikulare Abbildung (3p) des Bildes (2p) auf dem transparenten Teil (2s) des Originals (2) herzustellen, wenn beide Bilder des Originals sich auf der gleichen Seite befinden (Fig. 5 A-O). In letzterem Falle wird nach der Stufe A (Fig. A-1) die vesikulare Abbildung (3p) durch Erhitzen ausgebildet (Fig. 5 A-2). Dann wird das photographische Substrat (1) mit dem Licht der Stufe A belichtet, wobei an den nicht belichteten Stellen des photographischen Substrats (1) eine dem transparenten Teil des Originals (2) entsprechende Abbildung hergestellt wird. Wenn die latente Abbildung mehrere Stunden gelagert wird, so diffundiert das Gas der Bläschen aus dem photographischen Substrat (1) heraus (Fig. 5 A-4). In diesem Falle wird die durch Erhitzen (A-2) entwickelte vesikulare Abbildung (3p) nicht verändert. Die vesikulare Abbildung (3i) wird in der Stufe B ausgebildet. Wenn die Bilder (2^fp) und (2q) auf der gleichen Oberfläche vorliegen (Fig. 5 A-O), so kann die vesikulare Abbildung (3'p) durch Positiv-Positiv-Abbildung des Bildes (2'p) ausgebildet werden, indem man die oben erwähnten Stufen kombiniert. Hierzu wird zunächst die Stufe A gemäß Fig. 5 A-1 durchgeführt. Dann wird das Substrat gelagert, so daß das Gas der Bläschen durch Diffusion ent-

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weichen kann. Dann wird das Produkt gemäß Pig. 6 A-3, Fig. 6 A-2 und Fig. 5 B-1 behandelt, so daß die vesikulare Abbildung (3'p) entsteht. Zur Verhinderung eines Wärmeverlustes ist es bevorzugt, die Rückseite des Originals mit einer wärmeisolierenden Platte (5) zu bedecken (Fig. 7). In der Stufe B ist es bevorzugt, das Original (2) mit der photoempfindlichen Schicht des vesikularen photographischen Substrats (1) zu kontaktieren,
so daß man bei der Bestrahlung mit Infrarotstrahlen eine gute Wärmeausnützung erzielt (Fig. 6 B-1). Wenn das Original mit
der entgegengesetzten Seite, welche die photoempfindliche
Schicht nicht auf v/eist, kontaktiert wird, und dann mit Infrarotstrahlen bestrahlt wird (Fig. 8), so muß die in den Bildbereichen des Originals erzeugte Wärme durch den Träger (1b)
hindurch in das photoempfindliche Material übertragen werden, so daß die Wärmeausnutzung recht gering ist und unvorteilhaft lange Bestrahlungszeiten erforderlich sind.

Vorstehend wurde der Fall beschrieben, daß das Original einen transparenten Bereich und einen undurchsichtigen Bereich aufweist. Man kann jedoch auch eine vesikulare Abbildung auf einem einzigen photographischen Substrat unter Verwendung von zwei verschiedenen Originalen, nämlich einem transparenten Original und einem undurchsichtigen Original, erzeugen. Es ist ferner möglich, die Stufe B vor der Stufe A durchzuführen, indem man Einrichtungen verwendet, w"elche eine Bestrahlung des in der
Stufe A belichteten Teils mit dem Licht (welches Infrarotstrahlen und Strahlen des photoempfindlichen Bereichs umfaßt) verhindern, z. B. durch Abschirmung des Lichts mit einer undurchsichtigen Platte.

Im folgenden wird die Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen näher erläutert.

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Beispiel 1

Eine Glasplatte wird in einem Abstand von 7 cm über einer Xenon-Lampe (Ausgang: 1400 WS) mit einer reflektierenden Platte an der Unterseite angeordnet. Sodann wird ein vesikularer Film auf die Glasplatte gelegt, so daß die Emulsionsfläche an der Oberseite zu liegen kommt. Der vesikulare Film besteht aus einem Polyäthylenterephthalat-Film, v/elcher mit p-Diazodimethylanilin-zinkchlorid enthaltendem Polyvinylidenchlorid beschichtet ist. Es wird ein mit Bleistift beschriebenes Original 2 verwendet, und zwar derart, daß die Beschriftung nach unten zeigt. t>as Original wird mit dem vesikularen Film kontaktiert. Auf die Rückseite des Originals wird ein Isolator 5 gelegt und auf den Isolator wird ein bestimmter Druck ausgeübt. Sodann erfolgt die Bestrahlung durch Entladung der Xenon-Lampe. Hierbei wird in dem Film eine positive vesikulare Abbildung erzeugt, welche dem Original genau entspricht. Der die positive Abbildung aufweisende Film wird mittels eines Projektors (Overhead-Projektor) projeziert, wobei ein klares Bild erhalten wird. Bei Reproduktion mit einem Diazotypie-Kopiergerät wird eine klare Kopie erhalten.

Beispiel 2

Ein vesikularer Film 1 gemäß Beispiel 1 wird während 60 see mit einem Belichtungsgerät für die vesikulare Photographie (Karprinter Automatic, hergestellt durch Cannon K.K.) belichtet. Ein Original 2 (z. B. eine Zeitung) wird auf die empfindliche Schicht 1a des vesikularen Films 1 gelegt und der Film 1 wird von der Filmseite her mit Infrarotstrahlen bestrahlt, und zwar mit einem Lithographie-Gerät für wärmeempfindliches Kopieren (Rithofax BF-11), wobei die Ziffereinstellung auf 1 eingestellt wird. Man erzielt eine scharfe positive vesikulare Abbildung, welche dem Original 2 genau entspricht. Wenn man diesen Film mit der positiven Abbildung

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für Projektionszwecke verwendet, so erzielt man ein scharfes Projektionsbild. Wenn man das Original zur Herstellung einer Reproduktion mit einem Diazotypie-Kopiergerät verwendet, so erzielt man eine scharfe Kopie.

Beispiel 3

Der vesikulare Film 1 gemäß Beispiel 2 wird mit ultravioletten Strahlen während 15 see "bestrahlt. Hierzu wird eine Hochdruck-Quecksilber-Bogenle.mpe verwendet (Ushio UMH-3000). Ein mit schwarzer Japantinte beschriebenes Original 2 (weiße Pappe) wird auf den Film 1 gelegt und danach wird gemäß Beispiel 2 mit Infrarotstrahlen bestrahlt, \tfobei die vesikulare Abbildung erhalten wird. Das erhaltene Produkt eignet sich für Ausstellungszwecke .

Beispiel 4 (Figur 4)

Ein Original 2 (eine mit einem Fenster -/ersehene Karte) wird hergestellt, indem man einen farbig enwickelten Mikrofilm vom Diaζοtyp (2s) in einer Fensteröffnung einer bedruckten Karte 2b, welche Druckbuchstaben 2q 'and Linien 2q in schwarzer Tinte aufweistj befestigt, so daß die empfindliche Schicht des Mikrofilms auf der entgegengesetzten Seite zn liegen . kommt wie die bedruckte Fläche der Karte„ In folgender Weise wird von dem Original eine Kopie auf den vesilcularen Film 1 des Beispiels 1 hergestellt. Der Film 1 hat die gleichen Abmessungen wie die mit dem Fenster versehene Karte 2. Auf die· empfindliche Schicht 1a des Films 1 legt man die empfindliche Schicht des Mikrofilms. Sodann wird der vesikulare Film während 35 see belichtet, und zwar mit Lieht des photoempfindlichen Frequenzbereichs. Die Belichtung erfolgt durch den Mikrofilm hindurch mittels eines Belichtungsgeräts der Bezeichnung KAL-Printer Automatic (hergestellt von Cannon I₀K₀) (A-1).

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Der belichtete Film wird sodann mit einem Entwicklungsgerät (KAL-Developer, hergestellt durch Cannon K.K.) entwickelt (A-2), Die empfindliche Schicht 1a des vesikularen Films 1, in der die Abbildung 2p des Mikrofilms 2s ausgebildet wird, wird sodann auf die bedruckte Seite der Karte gelegt. Dann wird der Film 1 mit einer Xenon-Lampe (1400 V/S), welche auf der Rückseite einen Reflektor aufweist, aus einem Abstand von 5 cm belichtet (B-1). Man erzielt eine scharfe vesikulare Abbildung 3p, 3q.

Beispiel 5

Die Bildseite eines photographischen Films 2 vom Silbersalz-Typ wird auf die photoempfindliche Schicht 1a des vesikularen Films gemäß Beispiel 1 gelegt. Der vesikulare Film wird während 50 see mittels einer Hochdruck-Quecksilber-Bogenlampe (500 W) aus einem Abstand von 50 cm" belichtet,und zwar unter Verwendung einer Abschirmplatte 4 (Stufe A). Der vesikulare Film 1 wird sedann durch Erhitzen entwickelt. Hierzu wird der Film 1 mit einer auf 130 ⁰C erhitzten Metallwalze berührt. Auf die nicht belichtete empfindliche Schicht 1a des vesikularen Films 1 legt man sodann ein Original 2q (Kopierdruck) (das Gleiche wie bei der Photographic vom Silbersalz-Typ), worauf der Film mit einer Xenon-Lampe belichtet wird (Stufe B). Man erhält eine scharfe Kopie der beiden Originale auf dem gleichen vesikularen Film 1,und zwar eine Kopie des Silbersalz-Fiüms (2p) und des gedruckten Originals (2q).

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Claims (14)

1. PATENTANSPRÜCHE

   {\y Verfahren zur Herstellung einer vesikularen Abbildung durch Kontaktieren eines Originals mit einem vesikularen photographischen Substrat und durch Belichtung und Entwicklung des vesikularen photographischen Substrats unter Zersetzung des photoempfindlichen Materials, dadurch gekennzeichnet,' daß man eine Bestiah.3i.ng von der Seite des vesikularen photographischen Substrats her mit Infrarotstrahlen umfassendem Licht bei einem Substrat mit zersetztem photoempfindlichem Material vornimmt.
2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ein undurchsichtiges Original verwendet wird.
3. 3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Original einen undurchsichtigen Bereich und einen transparenten Bereich -aufweist.
4. 4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Original eine mit einem Fenster versehene Karte ist.
5. 5. Verfahren nach einem der Anspräche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Original mit der empfindlichen Schicht des vesikularen photographischen Substrats in Berührung gebracht wird.
6. 6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Rückseite des Originals mit der wärmeisolierenden Platte bedeckt wird.
7. 7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß zur Belichtung mit Infrarotstrahlen umfassendem Licht eine Xenon-Lampe verwendet wird.
8. 8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß das Infrarotstrahlen umfassende Licht aus Infrarotstrahlen besteht.

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9. 9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß unter Verwendung einer Abschirmplatte das photoempfindljehe Material in einem Teilbereich des vesikularen photographischen Substrats zersetzt wird.
10. 10. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 9_} dadurch gekennzeichnet, daß zur Zersetzung des photoempfendlichen Materials eine Bestrahlung mit ultravioletten Strahlen vorgenommen wird.
11. 11. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zur Zersetzung des photoempfindlichen Materials das Licht

    einer Xenon-Lampe verwendet wird.
12. 12. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß das vesikulare photograph!sehe Substrat vor der Belichtung mit Infrarotstrahlen in einem Teilbereich bereits eine vesikulare Abbildung aufweist.
13. 13. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß das vesikulare photogra/phische Substrat gleichzeitig mit Infrarotstrahlen und mit Lieht des photoempfindlichen Bereichs belichtet wird, so daß zur gleichen Zeit das photoempfEndliche Material zersetzt wird und die vesikulare Abbildung hergestellt wird.
14. 14. Verfahren nach einem der Anspräche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß die Gesamtfläche des vesikularen photographischen Substrats mit Licht des photoempfindlichen Bereichs belichtet wird, worauf das Original mit dem belichteten vesikularen photographischen Substrat in Berührung gebracht wird, worauf das vesikulare photographische Substrat von der Seite des vesikularen photographischen Substrats her mit Infrarotstrahlen umfassendem Licht bestrahlt wird.

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