JPH0421854B2 - - Google Patents
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- JPH0421854B2 JPH0421854B2 JP57078016A JP7801682A JPH0421854B2 JP H0421854 B2 JPH0421854 B2 JP H0421854B2 JP 57078016 A JP57078016 A JP 57078016A JP 7801682 A JP7801682 A JP 7801682A JP H0421854 B2 JPH0421854 B2 JP H0421854B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2051—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
- G03F7/2053—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a laser
- G03F7/2055—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a laser for the production of printing plates; Exposure of liquid photohardening compositions
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、パルスレーザー光による直接製版法
とその装置に関するものであつて、詳しくは文字
盤の選択された文字パターンを１つづつパルスレ
ーザー光で照射し、その透過光を感光性樹脂版材
に投影して、版下を作らずに直接製版する方法及
びこの方法を実施するための装置に関するもので
ある。
とその装置に関するものであつて、詳しくは文字
盤の選択された文字パターンを１つづつパルスレ
ーザー光で照射し、その透過光を感光性樹脂版材
に投影して、版下を作らずに直接製版する方法及
びこの方法を実施するための装置に関するもので
ある。
近年、ポリアミド系、ウレンタン系不飽和オリ
ゴマー、ジアクリレートオリゴマーとセルローズ
誘導体の混合系などの固形状の感光性樹脂版材、
不飽和ポリエステルとビニル系モノマーの混合
系、ウレタン系不飽和オリゴマー、ポリビニルア
ルコールとアクリル系モノマーの混合系などの液
状の感光性樹脂版材が種々開発され、印刷分野に
おいてこれらの感光性樹脂版材を用いた製版が盛
んに行われている。
ゴマー、ジアクリレートオリゴマーとセルローズ
誘導体の混合系などの固形状の感光性樹脂版材、
不飽和ポリエステルとビニル系モノマーの混合
系、ウレタン系不飽和オリゴマー、ポリビニルア
ルコールとアクリル系モノマーの混合系などの液
状の感光性樹脂版材が種々開発され、印刷分野に
おいてこれらの感光性樹脂版材を用いた製版が盛
んに行われている。
第１図Ａは感光性樹脂版材を用いて従来の製版
法の工程を示す。フラツシユランプ、タングステ
ンランプなどのランプ１、複数の文字パターンを
配列して成る文字盤２、投射レンズ３、銀塩フイ
ルムなどのフイルム４を用いて写植により、ネガ
フイルム５を作り、これを感光性樹脂版材７に密
着し、水銀ランプ６で長時間一括露光する。次に
現像及び又は洗い出し処理８して印刷用版（図で
は凸版）９を得る。
法の工程を示す。フラツシユランプ、タングステ
ンランプなどのランプ１、複数の文字パターンを
配列して成る文字盤２、投射レンズ３、銀塩フイ
ルムなどのフイルム４を用いて写植により、ネガ
フイルム５を作り、これを感光性樹脂版材７に密
着し、水銀ランプ６で長時間一括露光する。次に
現像及び又は洗い出し処理８して印刷用版（図で
は凸版）９を得る。
上記の工程からも明らかなように、従来の製版
法では、版下すわわち写植によるネガフイルムの
製作工程を必要とし、又この製作工程は暗室で行
う必要があつた。
法では、版下すわわち写植によるネガフイルムの
製作工程を必要とし、又この製作工程は暗室で行
う必要があつた。
本発明は上記に鑑みなされたものであつて、従
来法でのネガフイルムの製作工程を省略し、紫外
パルスレーザー光を用いて直接感光性樹脂版材上
に文字パターンを１つづつパルスレーザー光で投
影（写植）して製版する方法及びこの方法を実施
するための装置を提供することを目的とする。
来法でのネガフイルムの製作工程を省略し、紫外
パルスレーザー光を用いて直接感光性樹脂版材上
に文字パターンを１つづつパルスレーザー光で投
影（写植）して製版する方法及びこの方法を実施
するための装置を提供することを目的とする。
これらの目的は、前記の特許請求の範囲に記載
された本発明の構成によつて達成されるが、本発
明の構成及び効果は以下の詳細に説明によつて更
に良く理解される。
された本発明の構成によつて達成されるが、本発
明の構成及び効果は以下の詳細に説明によつて更
に良く理解される。
第１図Ｂは本発明の製版法の工程を従来法（第
１図Ａと対比して示す。レーザー光を透過するネ
ガ又はポジ形の複数の文字パターンの配列から成
る文字盤２の選択された文字パターンを１つづつ
パルスレーザー光１０で１回又は複数回照射し、
その透過光を拡大、縮小又変形のレンズ系３を介
して感光姓樹脂版材７の選択された位置に順次に
投影し、そして従来法と同様に、感光した樹脂版
材は現像又は洗い出し処理８して印刷用版（図で
は凸版）９を得る方法である。
１図Ａと対比して示す。レーザー光を透過するネ
ガ又はポジ形の複数の文字パターンの配列から成
る文字盤２の選択された文字パターンを１つづつ
パルスレーザー光１０で１回又は複数回照射し、
その透過光を拡大、縮小又変形のレンズ系３を介
して感光姓樹脂版材７の選択された位置に順次に
投影し、そして従来法と同様に、感光した樹脂版
材は現像又は洗い出し処理８して印刷用版（図で
は凸版）９を得る方法である。
いま、第２図に一例としてポリアミド系感光性
樹脂版材（富士トレリーフWF）の光吸収波長感
度及び比感度を示す。この図から明らかなよう
に、450〜200nmにかけて吸収があり、260nｍ附
近が最も吸収が強い。たヾし、活字の条件として
0.3mm以上深く光硬化が進むことが望ましい。す
なわち、ある程度光が樹脂の内部まで入る必要が
ある。そこで、吸収と透過の併合から推定したの
が比感度曲線１１である。すなわち、300〜400n
ｍに感度を示し、360nｍ附近が最高である。
樹脂版材（富士トレリーフWF）の光吸収波長感
度及び比感度を示す。この図から明らかなよう
に、450〜200nmにかけて吸収があり、260nｍ附
近が最も吸収が強い。たヾし、活字の条件として
0.3mm以上深く光硬化が進むことが望ましい。す
なわち、ある程度光が樹脂の内部まで入る必要が
ある。そこで、吸収と透過の併合から推定したの
が比感度曲線１１である。すなわち、300〜400n
ｍに感度を示し、360nｍ附近が最高である。
200〜400nｍにかけて現存するレーザーは、
193nｍ（ArFエキシマレーザー）、221nｍ（Krcl
エキシマレーザー）、249nｍ（KrFエキシマレー
ザー）、308nｍ（Xeclエキシマレーザー）、325n
ｍ（He−Cdレーザー）、337nｍ（N2レーザー）、
350nｍ（XeFエキシマレーザー）などがある。
上記の感光性樹脂版材を用いて凸板を得る場合に
は、300nｍ以下では感光性樹脂表面近傍のみで
吸収されてしまうため、内部まで高硬化が進まず
適当でない。
193nｍ（ArFエキシマレーザー）、221nｍ（Krcl
エキシマレーザー）、249nｍ（KrFエキシマレー
ザー）、308nｍ（Xeclエキシマレーザー）、325n
ｍ（He−Cdレーザー）、337nｍ（N2レーザー）、
350nｍ（XeFエキシマレーザー）などがある。
上記の感光性樹脂版材を用いて凸板を得る場合に
は、300nｍ以下では感光性樹脂表面近傍のみで
吸収されてしまうため、内部まで高硬化が進まず
適当でない。
第３図に337nｍのN2レーザー及び350nｍの
XeFエキシマレーザーによる上記ポリアミド系感
光性樹脂の高硬化度を示す。これからも解るよう
に、N2レーザー（337nｍ）では膜厚0.45mm及び
0.65mmいずれも200〜300ｍＪ／cm2のエネルギーが
必要であるが、350nｍのXeFエキシマレーザー
では、0.45mm厚で40ｍＪ／cm2、0.65mmで70ｍＪ／
cm2で高硬化することが解る。このことから、XeF
エキシマレーザがポリアミド系感光性樹脂版材で
凸版を製造するのに適したレーザーであることが
理解される。
XeFエキシマレーザーによる上記ポリアミド系感
光性樹脂の高硬化度を示す。これからも解るよう
に、N2レーザー（337nｍ）では膜厚0.45mm及び
0.65mmいずれも200〜300ｍＪ／cm2のエネルギーが
必要であるが、350nｍのXeFエキシマレーザー
では、0.45mm厚で40ｍＪ／cm2、0.65mmで70ｍＪ／
cm2で高硬化することが解る。このことから、XeF
エキシマレーザがポリアミド系感光性樹脂版材で
凸版を製造するのに適したレーザーであることが
理解される。
第４図に活字の寸法とXeFエキシマレーザーの
パルス繰返し回数の関係を示す。新聞などに用い
られる活字の90％以上は小さい活字であり、大き
な活字は見出しぐらいである。この大きな活字の
ために大きな出力のレーザーを用いることは非経
済的である。そこで小さな文字が、１パルスで露
光できるように、レーザー出力を設定し、それよ
り大きな活字は複数回パルスを照射すればよい。
例えば第４図からも明らかなように、１パルス40
ｍＪのレーザーの場合、６ポイント活字なら１パ
ルスで、30ポイントの活字では30パルスが必要で
ある。たヾし、１パルスの時間10ナノ秒である。
パルス繰返し回数の関係を示す。新聞などに用い
られる活字の90％以上は小さい活字であり、大き
な活字は見出しぐらいである。この大きな活字の
ために大きな出力のレーザーを用いることは非経
済的である。そこで小さな文字が、１パルスで露
光できるように、レーザー出力を設定し、それよ
り大きな活字は複数回パルスを照射すればよい。
例えば第４図からも明らかなように、１パルス40
ｍＪのレーザーの場合、６ポイント活字なら１パ
ルスで、30ポイントの活字では30パルスが必要で
ある。たヾし、１パルスの時間10ナノ秒である。
以上述べたように、本発明の製版法によれば、
紫外パルスレーザー光を用いて10ナノ秒程度の短
かいパルスで１つの文字を感光性樹脂版材に直接
露光（光硬化）できるので、従来と版下ネガフイ
ルム製作のための写植工程を省き、更に、暗室を
必要としないため処理が簡単で、しかも製版時間
を短縮する波長を有する。
紫外パルスレーザー光を用いて10ナノ秒程度の短
かいパルスで１つの文字を感光性樹脂版材に直接
露光（光硬化）できるので、従来と版下ネガフイ
ルム製作のための写植工程を省き、更に、暗室を
必要としないため処理が簡単で、しかも製版時間
を短縮する波長を有する。
第５図に本発明の製版法実施するための装置の
一例をブロツクダイヤグラムで示す。本発明の装
置は電算装置に入力されたPCM信号により、文
字盤、レンズ系、感光性樹脂版材を取付けるドラ
ム又はステージ、及びレーザー源を同期制御して
直接製版する装置であつて、図示の如く構成され
る。パルスレーザー源１２、レーザー光を透過す
るネガ又はポジ形の複数の文字パターンの配列か
ら成る文字盤２、前記のパルスレーザー源からの
レーザー光が１つの選択した文字パターンを照射
するよう文字盤を駆動する文字盤駆動機構２′、
前記の文字盤の透過光を感光性樹脂版材７に拡
大、縮小、変形して投影するためのレンズ系３、
このレンズ系を駆動するためのレンズ系駆動機構
３′、感光性樹脂版材を取付けるためのドラム又
はステージ１３、前記の文字盤を透過したレーザ
ー光が順次位置に投影されるよう前記のドラム又
はステージを駆動するドラム又はステージ駆動機
構１３′、および前記のパルスレーザー源からの
レーザー光の出射と、前記の文字盤駆動機構の文
字盤駆動と、前記のドラム又はステージの駆動機
構のドラム又はステージ駆動と同期制御させるた
めの電算装置１４によつて構成されている。
一例をブロツクダイヤグラムで示す。本発明の装
置は電算装置に入力されたPCM信号により、文
字盤、レンズ系、感光性樹脂版材を取付けるドラ
ム又はステージ、及びレーザー源を同期制御して
直接製版する装置であつて、図示の如く構成され
る。パルスレーザー源１２、レーザー光を透過す
るネガ又はポジ形の複数の文字パターンの配列か
ら成る文字盤２、前記のパルスレーザー源からの
レーザー光が１つの選択した文字パターンを照射
するよう文字盤を駆動する文字盤駆動機構２′、
前記の文字盤の透過光を感光性樹脂版材７に拡
大、縮小、変形して投影するためのレンズ系３、
このレンズ系を駆動するためのレンズ系駆動機構
３′、感光性樹脂版材を取付けるためのドラム又
はステージ１３、前記の文字盤を透過したレーザ
ー光が順次位置に投影されるよう前記のドラム又
はステージを駆動するドラム又はステージ駆動機
構１３′、および前記のパルスレーザー源からの
レーザー光の出射と、前記の文字盤駆動機構の文
字盤駆動と、前記のドラム又はステージの駆動機
構のドラム又はステージ駆動と同期制御させるた
めの電算装置１４によつて構成されている。
文字盤２はデイスク版又は平板型で、文字パタ
ーンはレーザー光による損傷を避けるためにガラ
ス又は合成石英基板上にCr又はAlなどの金属被
膜を蒸着又はスパツタし、これをエツチング処理
して作つたものであり、ネガ形又はポジ形いずれ
でもよい。
ーンはレーザー光による損傷を避けるためにガラ
ス又は合成石英基板上にCr又はAlなどの金属被
膜を蒸着又はスパツタし、これをエツチング処理
して作つたものであり、ネガ形又はポジ形いずれ
でもよい。
レンズ系３はレンズターレツト又はズームレン
ズであつて、文字盤からの透過光を拡大、縮小又
は変形して、感光性樹脂版材に投影する活字の大
きさを設定することができる。
ズであつて、文字盤からの透過光を拡大、縮小又
は変形して、感光性樹脂版材に投影する活字の大
きさを設定することができる。
電算装置１４に入力されたPCM信号により、
文字盤２を駆動して文字盤に配列された文字パタ
ーンの１つを選択して、その部分に細く絞つたレ
ーザー光を照射し、その透過光をレンズ系３によ
り各活字の大きさを設定する。この活字の大きさ
に合わせてパルスレーザー光の繰返し回数を電算
装置１４により制御する。その間ドラム又はデイ
スク１３が所定位置に移動して、感光性樹脂版材
７への投影を持つている。
文字盤２を駆動して文字盤に配列された文字パタ
ーンの１つを選択して、その部分に細く絞つたレ
ーザー光を照射し、その透過光をレンズ系３によ
り各活字の大きさを設定する。この活字の大きさ
に合わせてパルスレーザー光の繰返し回数を電算
装置１４により制御する。その間ドラム又はデイ
スク１３が所定位置に移動して、感光性樹脂版材
７への投影を持つている。
本発明の製版装置によれば、繰り返し1000Hzの
レーザーを用いる場合、新聞１ページ１万語とし
て10秒で、100Hzでは100秒で製版することがで
き、従来のレーザースキヤンニングによる方法
（レーザープリンターなど）よりも、製版時間が
短縮され、しかも鮮明な活字を作ることができ
る。
レーザーを用いる場合、新聞１ページ１万語とし
て10秒で、100Hzでは100秒で製版することがで
き、従来のレーザースキヤンニングによる方法
（レーザープリンターなど）よりも、製版時間が
短縮され、しかも鮮明な活字を作ることができ
る。
又、レーザープリンターのように変調信号を搬
送するのではなく、文字パターンのアドレス信号
を搬送するため、雑音による文字パターンの乱れ
もなく、鮮明な活字が得られるなど多くの利点を
有する。
送するのではなく、文字パターンのアドレス信号
を搬送するため、雑音による文字パターンの乱れ
もなく、鮮明な活字が得られるなど多くの利点を
有する。
なお、本発明を印刷用版として凸版を例にとつ
て説明したが、感光性樹脂版材を選択することに
より、すなわち、露光部分が印刷インキ親和性又
は非親和性となり、未露光部分が非親和性又は親
和性となる感光性樹脂版材を用いることにより平
版を製版することができる。
て説明したが、感光性樹脂版材を選択することに
より、すなわち、露光部分が印刷インキ親和性又
は非親和性となり、未露光部分が非親和性又は親
和性となる感光性樹脂版材を用いることにより平
版を製版することができる。
第１図Ａは従来の製版法の工程を示す。第１図
Ｂは本発明の製版法の工程を示す。第２図はポリ
アミド系感光性樹脂版材の光吸収波長感度と比感
度の一例を示すグラフ。第３図はN2レーザーと
XeFエキシマレーザーによるポリアミド系感光性
樹脂版材の光硬化度の一例を示すグラフ。第４図
は活字の寸法とXeFエキシマレーザーのパルス繰
返し回数の関係を示すグラフ。第５図は本発明の
製版法の実施するための装置の一例を示すブロツ
クダイヤグラム。 図中の符号：２……文字盤、２′……文字盤駆
動機構、３……レンズ系、３′……レンズ系駆動
機構、７……感光性樹脂版材、８……現像又は洗
い出し処理、１０……パルスレーザー光、１２…
…パルスレーザー源、１３……ドラム又はステー
ジ、１３′……ドラム又はステージ駆動機構、１
４……電算装置。
Ｂは本発明の製版法の工程を示す。第２図はポリ
アミド系感光性樹脂版材の光吸収波長感度と比感
度の一例を示すグラフ。第３図はN2レーザーと
XeFエキシマレーザーによるポリアミド系感光性
樹脂版材の光硬化度の一例を示すグラフ。第４図
は活字の寸法とXeFエキシマレーザーのパルス繰
返し回数の関係を示すグラフ。第５図は本発明の
製版法の実施するための装置の一例を示すブロツ
クダイヤグラム。 図中の符号：２……文字盤、２′……文字盤駆
動機構、３……レンズ系、３′……レンズ系駆動
機構、７……感光性樹脂版材、８……現像又は洗
い出し処理、１０……パルスレーザー光、１２…
…パルスレーザー源、１３……ドラム又はステー
ジ、１３′……ドラム又はステージ駆動機構、１
４……電算装置。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ レーザー光を透過するネガ又はポジ形の複数
の文字パターンの配列から成る文字盤の選択され
た文字パターンを１つずつパルス紫外線レーザー
光で１回又は複数回照射し、その透過光を感光性
樹脂版材の選択された位置に順次に投影する段
階、そして感光した樹脂版材を現像及び又は洗い
出し処理して印刷用版をつくる段階を備え、前記
の紫外線レーザー光はXeFレーザー光、XeClレ
ーザー光又はN2レーザー光であり、前記の感光
性樹脂版材はポリアミド系、ウレタン系不飽和オ
リゴマー、ジアクリレートオリゴマーとセルロー
ズ誘導体の混合系のうちから選択された感光性樹
脂から成ることを特徴とするパルスレーザー光に
よる直接製版法。 ２ 前記の文字盤が、金属被膜を施した紫外光透
過用ガラス板であつて、該金属被膜の文字パター
ンをエツチング処理して構成した特許請求の範囲
第１項に記載のパルスレーザー光による直接製版
法。 ３ 前記の感光性樹脂版材は露光部分以外が現像
及び又は洗い出し処理段階で取除かれて印刷用版
板をつくる特許請求の範囲第１項に記載のパルス
レーザー光による直接製版法。 ４ 前記の感光性樹脂版材は現像及び又は洗い出
し処理段階で露光部分が印刷インキと親和性とな
り未露光部分が印刷インキと非親和性となつて印
刷用平板をつくる特許請求の範囲第１項に記載の
パルスレーザー光による直接製版法。 ５ 前記の感光性樹脂版材が現像及び又は洗い出
し処理段階で露光部分が印刷インキと非親和性と
なり未露光部分が印刷インキと親和性となつて印
刷用平板をつくる特許請求の範囲第１項に記載の
パルスレーザー光による直接製版法。 ６ XeFレーザー光、XeClレーザー光又はN2レ
ーザー光を発生するパルスレーザー源；レーザー
光を透過するネガ又はポジ形の複数の文字パター
ンの配列から成る文字盤；前記のパルスレーザー
源からのレーザー光が１つの選択した文字パター
ンを照射するよう文字盤を駆動する文字盤駆動機
構；前記の文字盤の透過光を感光性樹脂版材に拡
大、縮小、変形投影するためのレンズ系駆動機
構；感光性樹脂版材を取付けるドラム又はステー
ジ；前記の文字盤を透過したレーザー光が順次に
選択位置に投影されるよう前記のドラム又はステ
ージを駆動するドラム又はステージ駆動機構；お
よび前記のパルスレーザー源からのレーザー光の
出射と、前記の文字盤駆動機構の文字盤駆動と、
前記のドラム又はステージの駆動機構のドラム又
はステージ駆動とを同期制御するための電算装置
備え、前記の感光性樹脂版材がポリアミド系、ウ
レタン系不飽和オリゴマー、ジアクリレートオリ
ゴマーとセルローズ誘導体の混合系のうちから選
択された感光性樹脂から成ることを特徴とするパ
ルスレーザー光による直接製版装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57078016A JPS58194033A (ja) | 1982-05-10 | 1982-05-10 | パレスレ−ザ−光による直接製版法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57078016A JPS58194033A (ja) | 1982-05-10 | 1982-05-10 | パレスレ−ザ−光による直接製版法及びその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58194033A JPS58194033A (ja) | 1983-11-11 |
| JPH0421854B2 true JPH0421854B2 (ja) | 1992-04-14 |
Family
ID=13649993
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57078016A Granted JPS58194033A (ja) | 1982-05-10 | 1982-05-10 | パレスレ−ザ−光による直接製版法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58194033A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05263942A (ja) * | 1992-01-21 | 1993-10-12 | Seiji Nagayoshi | シールパッキン |
| JP2001188354A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Asahi Kasei Corp | 感光性樹脂凸版の製造方法、及びその製造装置 |
| US7632625B2 (en) * | 2004-05-25 | 2009-12-15 | Roberts David H | Method of pre-exposing relief image printing plate |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52119126A (en) * | 1976-03-31 | 1977-10-06 | Asahi Chemical Ind | Microtypewriter |
-
1982
- 1982-05-10 JP JP57078016A patent/JPS58194033A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52119126A (en) * | 1976-03-31 | 1977-10-06 | Asahi Chemical Ind | Microtypewriter |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58194033A (ja) | 1983-11-11 |
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