KR910005896A - 에어리어 패터닝 마스크를 이용한 레이저 세이핑방법 및 그 시스템 - Google Patents

에어리어 패터닝 마스크를 이용한 레이저 세이핑방법 및 그 시스템 Download PDF

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Abstract

내용 없음.

Description

에어리어 패터닝 마스크를 이용한 레이저 세이핑방법 및 그 시스템
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (35)

  1. 워크피스를 레이저 세이핑하는 방법에 있어서, 상기 레이저 세이핑중에 워크피스의 형상을 변환시키고자 하는 위치에 대응하는 화학선광 전송 화소와 화학선광 비전송 화소의 패턴을 갖는 마스크를 제공하는 단계와; 상기 마스크 패턴을 포함하도록 충분한 크기의 빔을 제공하는 화학선 광원을 제공하는 단계와; 상기 광원으로부터 상기 워크피스 까지의 광통로에 상기 마스크를 위치시키는 단계와; 상기 마스크에 의해 결정된 패턴으로 상기 워크피스의 표면을 형상짓도록 상기 마스크를 통하여 상기 워크피스에 화학선광을 조사하는 단계를 포함한 것을 특징으로 하는 레이저 세이핑 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 화학선 광원을 사정 결정된 에너지의 펄스를 제공하는 것을 특징으로 하는 레이저 세이핑 방법.
  3. 제2항에 있어서, 상기 조사단계는 상기 워크피스의 노출된 부분에서 소망하는 형상변화를 일으키도록 상기 마스크를 통하여 상기 광원으로부터 다수의 펄스를 조사하는 단계로 포함한 것을 특징으로 하는 레이저 세이핑 방법.
  4. 제1항에 있어서, 상기 마스크의 패턴화 된 에어리어는 상기 워크피스의 전체 작업 에어리어를 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 세이핑 방법.
  5. 제1항에 있어서, 상기 마스크 패턴은 상기 세이핑 중에 상기 워크피스에 대하여 거의 정지상태로 유지되도록 구성된 것을 특징으로 하는 레이저 세이핑 방법.
  6. 제5항에 있어서, 상기 화학선 광의 복수 펄스가 통과하는 마스크에 대하여 상기 거의 정지상태의 위치결정은 선택된 펄스 다음에 화소의 폭보다 적은 만큼의 마스크 이동을 포함한 것을 특징으로 하는 레이저 세이핑 방법.
  7. 제1항에 있어서, 워크피스가 눈의 각막에 부착된 수정체인 것을 특징으로 하는 레이저 세이핑 방법.
  8. 제1항에 있어서, 워크피스가 눈의 각막 부착용 수정체인 것을 특징으로 하는 레이저 세이핑 방법.
  9. 제1항에 있어서, 상기 워크피스가 각막인 것을 특징으로 하는 레이저 세이핑 방법.
  10. 워크피스를 레이저 조각하는 방법에 있어서, 마스크 패턴의 웨이트에 비례하는 다량의 물질을 제거하고자 하는 위치에 대응하는 전송화소 및 비전송화소의 개개의 패턴을 각각 포함한 한 세트의 웨이티드 마스크 패턴을 제공하는 단계와; 상기 마스크 패턴 각각을 개별적으로 포함하도록 충분한 크기의 빔을 제공하는 융삭 광원을 제공하는 단계를 포함하고; 상기 마스크 패턴 각각에 대하여; 상기 광원으로부터 상기 워크피스까지의 광통로에 상기 마스크 패턴을 위치 정하는 단계와, 상기 마스크 패턴의 노출부로부터 다량의 물질을 제거하는데 유효한 상기 워크피스상에 상기 마스크를 통하여 다량의 융삭성 광을 조사하는 단계를 포함한 것을 특징으로 하는 레이저 조각방법.
  11. 제10항에 있어서, 상기 마스크 세트는 1의 웨이트를 갖고, 제2마스크 패턴은 2의 웨이트를 가지며, 제3의 마스크 패턴은 4의 웨이트를 갖는 것을 특징으로 하는 레이저 조작 방법.
  12. 제11항에 있어서, 상기 융삭성 광은 거의 동일한 에너지 펄스로 제공되고, 상기 웨이트 1의 마스크는 K개의 펄스에 의해 노출되며, 상기 웨이트 2의 마스크는 2K개의 펄스에 의해 노출되고, 상기 웨이트 4의 마스크는 4K개의 펄스에 의해 노출되며, 여기에서 K는 상수인 것을 특징으로 하는 레이저 조각방법.
  13. 제12항에 있어서, 상수 K가 1인 것을 특징으로 하는 레이저 조각방법.
  14. 제12항에 있어서, 하나 이상의 펄스가 전송되는 적어도 하나의 마스크 패턴에 대하여, 상기 마스크 패턴이 상기 펄스들중 적어도 하나가 상기 마스크 패턴을 통하여 조사된 후에 화소의 폭 보다 더 적은 만큼 이동되는 것을 특징으로 하는 레이저 조각방법.
  15. 제14항에 있어서, 상기 적어도 하나의 마스크 패턴은 각각의 펄스가 그것을 통하여 조사된 후에 이동되는 것을 특징으로 하는 레이저 조각방법.
  16. 제10항에 있어서, 워크피스가 눈의 각막에 부착된 수정체인 것을 특징으로 하는 레이저 조각방법.
  17. 제10항에 있어서, 워크피스가 눈의 각막 부착용 수정체인 것을 특징으로 하는 레이저 조각방법.
  18. 제10항에 있어서, 상기 워크피스가 각막인 것을 특징으로 하는 레이저 조각방법.
  19. 레이저 융삭에 의해 사전 결정된 3D 패턴으로 물질을 제거하는 마스크 세트에 있어서, 사실상 상기 사전 결정된 3D패턴으로 상기 물질을 제거하도록 상기 마스크 세트를 사용하기 위하여 배정된 웨이트에 따라 각각 노출할 필요가 있는 복수의 마스크를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 세트.
  20. 제19항에 있어서, 상기 마스크 각각은 사전 결정된 수의 화소를 포함하고 각각의 마스크에서 각각의 화소는 불투명하거나 전송성이며 불투명하고 전송성인 화소의 패턴은 제거물질의 사전 결정된 3D패턴에 따라 결정된 것을 특징으로 하는 마스크 세트.
  21. 제20항에 있어서, 상기 마스크 세트는 웨이트 1의 제1마스크와, 웨이트 2의 제2마스크와, 웨이트 4의 제3마스크를 포함한 것을 특징으로 하는 마스크 세트.
  22. 제21항에 있어서, 웨이트 8의 마스크를 아울러 포함한 것을 특징으로 하는 마스크 세트.
  23. 제22항에 있어서, 웨이트 16의 마스크를 아울러 포함한 것을 특징으로 하는 마스크 세트.
  24. 제23항에 있어서, 웨이트 32의 마스크를 아울러 포함한 것을 특징으로 하는 마스크 세트.
  25. 제19항에 있어서, 상기 마스크 각각은 단일 기판상에 나타나는 것을 특징으로 하는 마스크 세트.
  26. 제25항에 있어서, 상기 마스크 패턴 각각의 중심은 상기 기판상에 사전 결정된 위치를 갖는 것을 특징으로 하는 마스크 세트.
  27. 제26항에 있어서, 상기 마스크 세트는 상기 마스크 패턴에 관련하여 형성된 위치를 갖는 정렬 키이를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 세트.
  28. 제27항에 있어서, 상기 키이는 상기 기판의 물리적 구성의 일부인 것을 특징으로 하는 마스크 세트.
  29. 제27항에 있어서, 상기 키이는 상기 기판상의 패턴의 일부인 것을 특징으로 하는 마스크 세트.
  30. 제27항에 있어서, 상기 키이는 상기 기판 및 상기 기판상의 물리적 구성의 결합인 것을 특징으로 하는 마스크 세트.
  31. 레이저 세이핑 마스크 생성 시스템에 있어서, 마스크 블랭크를 기억하는 수단과; 마스크 블랭크를 노출위치에 장착하는 수단과; 소망하는 마스크 패턴으로 방사선을 여자시키기 위하여 마스크 블랭크를 노출시키는 수단과; 노출된 마스크 블랭크를 현상하고 상기 노출 및 현상에 의해 결정된 패턴으로 상기 블랭크로부터 불투명한 코팅을 제거하는 수단으로 포함한 것을 특징으로 하는 레이저 세이핑 마스크 생성 시스템.
  32. 제31항에 있어서, 상기 마스크를 노출 및 현상시키는 일환으로서 상기 마스크 상에 긍정적으로 환자식별을 제공하는 수단을 아울러 포함한 것을 특징으로 하는 레이저 세이핑 마스크 생성 시스템.
  33. 제31항에 있어서, 마스크 설계 데이터를 아울러 포함한 것을 특징으로 하는 레이저 세이핑 마스크 생성 시스템.
  34. 제31항에 있어서, 상기 소망하는 마스크 패턴으로 상기 마스크의 노출을 제어하기 위하여 마스크 설계 데이타를 수신하는 수단을 아울러 포함한 것을 특징으로 하는 레이저 세이핑 마스크 생성 시스템.
  35. 제31항에 있어서, 상기 노출수단이 상기 마스크 블랭크를 노출시키도록 구성된 레이저 프린터를 포함한 것을 특징으로 하는 레이저 세이핑 마스크 생성 시스템.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019900013812A 1989-09-05 1990-09-03 에어리어 패터닝 마스크를 이용한 레이저 세이핑방법 및 그 시스템 KR930001313B1 (ko)

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