JPH02165881A - レーザマーキング装置のシャドウマスク - Google Patents
レーザマーキング装置のシャドウマスクInfo
- Publication number
- JPH02165881A JPH02165881A JP63317297A JP31729788A JPH02165881A JP H02165881 A JPH02165881 A JP H02165881A JP 63317297 A JP63317297 A JP 63317297A JP 31729788 A JP31729788 A JP 31729788A JP H02165881 A JPH02165881 A JP H02165881A
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- Japan
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- laser light
- laser
- marking
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- Pending
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- 238000010330 laser marking Methods 0.000 title claims description 16
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
支度±1
本発明はシャドウマスクに関し、特にICパッケージの
表面、プラスチックモールド等の表面にマーキングを行
うレーザマーキング装置のシャドウマスクに関する。
表面、プラスチックモールド等の表面にマーキングを行
うレーザマーキング装置のシャドウマスクに関する。
従来技術
従来、レーザマーキング装置においてはマーキングを行
うべきエリア全体を1回のレーザ照射で行うため、マー
キングエリアが広くなればなるほど使用するレーザの出
力が増大する。そのレーザの出力は実用的に上限がある
ために通常のマーキングエリアは100[l1l12]
、すなわち10[nnl×10[ll11の範囲が限界
となり、それ以上の範囲は難しく、コスト高になってし
まう。
うべきエリア全体を1回のレーザ照射で行うため、マー
キングエリアが広くなればなるほど使用するレーザの出
力が増大する。そのレーザの出力は実用的に上限がある
ために通常のマーキングエリアは100[l1l12]
、すなわち10[nnl×10[ll11の範囲が限界
となり、それ以上の範囲は難しく、コスト高になってし
まう。
また、マーキングの際には周知のシャドウマスクを用い
ていた。そのシャドウマスクは、レーザ光に対して透過
率が高い材質に金属蒸着を行い、さらにマーキングすべ
き文章や単語(ICの型番等)のパターンに応じてエツ
チングにより金属蒸着部分を透明にすることによって作
成されるものである。
ていた。そのシャドウマスクは、レーザ光に対して透過
率が高い材質に金属蒸着を行い、さらにマーキングすべ
き文章や単語(ICの型番等)のパターンに応じてエツ
チングにより金属蒸着部分を透明にすることによって作
成されるものである。
さらにまた、シャドウマスクは通常、1枚から数枚重ね
て組合せることにより、マーキングのすべき文章や単語
を作っていた。また、回転板の周囲に必要な数のシャド
ウマスクを固定しておき、マーキングすべき文章を変更
する場合には、その回転板を回してシャドウマスクを遷
択するという方式もあった。
て組合せることにより、マーキングのすべき文章や単語
を作っていた。また、回転板の周囲に必要な数のシャド
ウマスクを固定しておき、マーキングすべき文章を変更
する場合には、その回転板を回してシャドウマスクを遷
択するという方式もあった。
しかし、以上のような方式においては、文意や単語等の
変更はシャドウマスクを変換あるいは回転板を回さなけ
ればならず、煩雑であるという欠点があった。また、回
転板にシャドウマスクを固定できる数は20〜30種類
が限界であり、それ以上の場合には回転板を池の回転板
と交換しなければならなかった。したがって1以上のよ
うな従来のレーザマーキング装置においてはシャドウマ
スクの交換、管理等の手間が増大するという欠点があっ
た。
変更はシャドウマスクを変換あるいは回転板を回さなけ
ればならず、煩雑であるという欠点があった。また、回
転板にシャドウマスクを固定できる数は20〜30種類
が限界であり、それ以上の場合には回転板を池の回転板
と交換しなければならなかった。したがって1以上のよ
うな従来のレーザマーキング装置においてはシャドウマ
スクの交換、管理等の手間が増大するという欠点があっ
た。
発明の目的
本発明の目的は、シャドウマスクを交換せずに数種類の
文字、文章、単語等をマーキングすることができるレー
ザマーキング装置のシャドウマスクを提供することであ
る。
文字、文章、単語等をマーキングすることができるレー
ザマーキング装置のシャドウマスクを提供することであ
る。
1肌ム1羞
本発明によるレーザマーキング装置のシャドウマスクは
、レーザ光が照射され、透過したレーザ光によってマー
キングが行われるレーザマーキング装置のシャドウマス
クであって、アルファベットの全文字及び0〜9の数字
のパターンを少なくとも含むことを特徴とする。
、レーザ光が照射され、透過したレーザ光によってマー
キングが行われるレーザマーキング装置のシャドウマス
クであって、アルファベットの全文字及び0〜9の数字
のパターンを少なくとも含むことを特徴とする。
火土1
以下、図面を用いて本発明の詳細な説明する。
第1図は本発明によるレーザマーキング装置のシャドウ
マスクの一実施例の概略図である0図において、本発明
の一実施例によるシャドウマスク3はアルファベットの
全文字(A〜Z)、数字(0〜9)、演算記号等の各パ
ターンがエツチングによって表面に現されている。この
シャドウマスクの製法そのものは従来と同様であり、各
パターン部分が透明となっている。
マスクの一実施例の概略図である0図において、本発明
の一実施例によるシャドウマスク3はアルファベットの
全文字(A〜Z)、数字(0〜9)、演算記号等の各パ
ターンがエツチングによって表面に現されている。この
シャドウマスクの製法そのものは従来と同様であり、各
パターン部分が透明となっている。
かかる構成のシャドウマスクを利用したレーザマーキン
グ装置の一実施例について第2図を用いて説明する0図
は本発明の一実施例によるシャドウマスクを利用したレ
ーザマーキング装置の光学レイアウト図である。
グ装置の一実施例について第2図を用いて説明する0図
は本発明の一実施例によるシャドウマスクを利用したレ
ーザマーキング装置の光学レイアウト図である。
図において、本例のレーザマーキング装置はレンズ8と
、ガルバノスキャナミラー1と、コリメータレンズ2と
、シャドウマスク3と、ガルバノスキャナミラー4と、
対物レンズ5とを含んで構成されており、図示せぬレー
ザ発振器からのレーザ光7を試料6の表面に結像させて
マーキングを行うものである。
、ガルバノスキャナミラー1と、コリメータレンズ2と
、シャドウマスク3と、ガルバノスキャナミラー4と、
対物レンズ5とを含んで構成されており、図示せぬレー
ザ発振器からのレーザ光7を試料6の表面に結像させて
マーキングを行うものである。
レンズ8はレーザ光7をコリメータレンズ2の焦点f1
に集光させるものである。
に集光させるものである。
ガルバノスキャナミラー1はレーザ照射すべきシャドウ
マスク3上のパターンを選択できるように直交した2軸
で構成されている。そのうちのミラー1aは矢印Y1の
ように動き、またミラー1bは矢印Y2のように動くも
のである。
マスク3上のパターンを選択できるように直交した2軸
で構成されている。そのうちのミラー1aは矢印Y1の
ように動き、またミラー1bは矢印Y2のように動くも
のである。
コリメータレンズ2はレーザ光7を平行にするものであ
る。
る。
第1図のシャドウマスク3はコリメータレンズ2の後に
配置されている。
配置されている。
ガルバノスキャナミラー4は試料6に対するマー’rン
グ位置を選択できるように直交した2軸で構成されてい
る。そのうちのミラー4bは矢印Y3のように動き、ま
たミラー4aは矢印Y4のように動くものである。
グ位置を選択できるように直交した2軸で構成されてい
る。そのうちのミラー4bは矢印Y3のように動き、ま
たミラー4aは矢印Y4のように動くものである。
対物レンズ5はシャドウマスク3を通過したレーザ光を
試料6の表面に結像させるものである。
試料6の表面に結像させるものである。
かかる構成において、図示せぬレーザ発振器、光ファイ
バから出射したレーザ光7はレンズ8によりコリメータ
レンズ2の焦点位置であるflに集光する。ここで、ガ
ルバノスキャナミラー1はflより前に配置され、ガル
バノスキャナミラー4にレーザ光7を集光させる位置に
配置されている。つまり、このガルバノスキャナミラー
1を矢印Y1 、Y2のように動かすことによりシャド
ウマスク3上の有効範囲が選択されるのである。
バから出射したレーザ光7はレンズ8によりコリメータ
レンズ2の焦点位置であるflに集光する。ここで、ガ
ルバノスキャナミラー1はflより前に配置され、ガル
バノスキャナミラー4にレーザ光7を集光させる位置に
配置されている。つまり、このガルバノスキャナミラー
1を矢印Y1 、Y2のように動かすことによりシャド
ウマスク3上の有効範囲が選択されるのである。
ガルバノスキャナミラー1を通過したレーザ光7はfl
の位置で焦点を結び、そこからは広がりながらコリメー
タレンズ2に入射する。そして、コリメータレンズ2を
通過したレーザ光7は平行ビームの、ttガルバノスキ
ャナーミラー4の位置f2に集光する。シャドウマスク
3はコリメータレンズ2とガルバノスキャナミラー4と
の間に置かれており、このときの位置は試料6に結像す
るときの倍率、有効範囲によって決定される。
の位置で焦点を結び、そこからは広がりながらコリメー
タレンズ2に入射する。そして、コリメータレンズ2を
通過したレーザ光7は平行ビームの、ttガルバノスキ
ャナーミラー4の位置f2に集光する。シャドウマスク
3はコリメータレンズ2とガルバノスキャナミラー4と
の間に置かれており、このときの位置は試料6に結像す
るときの倍率、有効範囲によって決定される。
ここで、試料6上のマーキングすべき場所を選択するた
めにガルバノスキャナミラー4を矢印Y3、Y4のよう
に動かせばシャドウマスク3を通過し、ガルバノスキャ
ナミラー4に達しなレーザ光7は、そのビーム角度が変
化する。
めにガルバノスキャナミラー4を矢印Y3、Y4のよう
に動かせばシャドウマスク3を通過し、ガルバノスキャ
ナミラー4に達しなレーザ光7は、そのビーム角度が変
化する。
また、ガルバノスキャナミラー4は対物レンズ5の焦点
に配置されているためレーザ光7は対物レンズ5を通過
後、試料6上に結像する。これにより、レーザマーキン
グが行われることになる。
に配置されているためレーザ光7は対物レンズ5を通過
後、試料6上に結像する。これにより、レーザマーキン
グが行われることになる。
なお、このときの倍率は、距MA/距離Bで決定される
。
。
以下、ソフトウェア等を用いた制御によりシャドウマス
ク3に照射するレーザ光7の位置をガルバノスキャナミ
ラー1によって順次選択し、同時にシャドウマスク3を
通過し、試料6上に結像する位置をガルバノスキャナミ
ラー4によって順次選択すれば、位置to、tt等の任
意の場合に所望の文章、単語等をマーキングすることが
できるのである。
ク3に照射するレーザ光7の位置をガルバノスキャナミ
ラー1によって順次選択し、同時にシャドウマスク3を
通過し、試料6上に結像する位置をガルバノスキャナミ
ラー4によって順次選択すれば、位置to、tt等の任
意の場合に所望の文章、単語等をマーキングすることが
できるのである。
ここで重要なことはシャドウマスク3上に設けられな各
文字のうちの任意のパターンを1個ずつ順にレーザ照射
する必要があるため、シャドウマスク3上にはレーザ光
7のビーム径以上の間隔で、かつレーザ光7が移動でき
る範囲に各文字が配列されていることである。
文字のうちの任意のパターンを1個ずつ順にレーザ照射
する必要があるため、シャドウマスク3上にはレーザ光
7のビーム径以上の間隔で、かつレーザ光7が移動でき
る範囲に各文字が配列されていることである。
つまり、本発明のシャドウマスク3を1枚用いれば、交
換せずに、多品種のICCバラゲージに対応することが
でき、汎用性が高いマーキング装置が実現できるのであ
る。
換せずに、多品種のICCバラゲージに対応することが
でき、汎用性が高いマーキング装置が実現できるのであ
る。
また、本発明によるシャドウマスクを用いて各文字に対
して順にレーザ照射すれば、大出力のレーザを用いなく
ても、対物レンズの径、ガルバノスキャナミラーの振れ
角により直径50〜100 [ll11]程度の広い
マーキングエリアを実現できるのである。
して順にレーザ照射すれば、大出力のレーザを用いなく
ても、対物レンズの径、ガルバノスキャナミラーの振れ
角により直径50〜100 [ll11]程度の広い
マーキングエリアを実現できるのである。
さらにまた、本実施例においてはアルファベット、数字
等をシャドウマスクの表面に設けているが、それに加え
て必要なひらがな、カタカナ、漢字等を設ければ、より
汎用性が増すのである。
等をシャドウマスクの表面に設けているが、それに加え
て必要なひらがな、カタカナ、漢字等を設ければ、より
汎用性が増すのである。
1丑座夏」
以上説明したように、本発明によれば、シャドウマスク
としてマーキングを行うために必要なアルファベット、
数字、記号等を含む構成としなので、シャドウマスクの
任意の場所を順に選択するためにコリメータレンズ及び
ガルバノスキャナーミラーでレーザ光のビームを変化さ
せ、かつ試料の任意の場所に選択して結像させるための
対物レンズ及びガルバノスキャナミラーを用いることに
より、マーキングのためのシャドウマスクの交換が不要
になり、かつ数種類の文章、単語等をマーキングできる
という効果がある。
としてマーキングを行うために必要なアルファベット、
数字、記号等を含む構成としなので、シャドウマスクの
任意の場所を順に選択するためにコリメータレンズ及び
ガルバノスキャナーミラーでレーザ光のビームを変化さ
せ、かつ試料の任意の場所に選択して結像させるための
対物レンズ及びガルバノスキャナミラーを用いることに
より、マーキングのためのシャドウマスクの交換が不要
になり、かつ数種類の文章、単語等をマーキングできる
という効果がある。
第1図は本発明の実施例によるレーザマーキング装置の
シャドウマスクのR略図、第2図は第1図のシャドウマ
スクを用いたレーザマーキング装置の構成例を示す光学
レイアウト図である。 主要部分の符号の説明 1.4・・・・・・ガルバノスキャナミラー2・・・・
・・コリメータレンズ 3・・・・・・シャドウマスク 5・・・・・・対物レンズ 8・・・・・・レンズ
シャドウマスクのR略図、第2図は第1図のシャドウマ
スクを用いたレーザマーキング装置の構成例を示す光学
レイアウト図である。 主要部分の符号の説明 1.4・・・・・・ガルバノスキャナミラー2・・・・
・・コリメータレンズ 3・・・・・・シャドウマスク 5・・・・・・対物レンズ 8・・・・・・レンズ
Claims (1)
- (1)レーザ光が照射され、透過したレーザ光によって
マーキングが行われるレーザマーキング装置のシャドウ
マスクであって、アルファベットの全文字及び0〜9の
数字のパターンを少なくとも含むことを特徴とするレー
ザマーキング装置のシャドウマスク。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63317297A JPH02165881A (ja) | 1988-12-15 | 1988-12-15 | レーザマーキング装置のシャドウマスク |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63317297A JPH02165881A (ja) | 1988-12-15 | 1988-12-15 | レーザマーキング装置のシャドウマスク |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02165881A true JPH02165881A (ja) | 1990-06-26 |
Family
ID=18086652
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63317297A Pending JPH02165881A (ja) | 1988-12-15 | 1988-12-15 | レーザマーキング装置のシャドウマスク |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02165881A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0714726A2 (en) | 1994-11-28 | 1996-06-05 | Nec Corporation | Method for making patterns by scanning laser beam and apparatus and the mask applied to the same apparatus |
US7411151B2 (en) * | 2002-05-24 | 2008-08-12 | Riken | Method and device for processing inside of transparent material |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6245487A (ja) * | 1985-08-21 | 1987-02-27 | Nec Corp | レ−ザ捺印装置 |
JPS63299878A (ja) * | 1987-05-30 | 1988-12-07 | Toshiba Corp | レ−ザ加工装置 |
-
1988
- 1988-12-15 JP JP63317297A patent/JPH02165881A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6245487A (ja) * | 1985-08-21 | 1987-02-27 | Nec Corp | レ−ザ捺印装置 |
JPS63299878A (ja) * | 1987-05-30 | 1988-12-07 | Toshiba Corp | レ−ザ加工装置 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0714726A2 (en) | 1994-11-28 | 1996-06-05 | Nec Corporation | Method for making patterns by scanning laser beam and apparatus and the mask applied to the same apparatus |
US6097420A (en) * | 1994-11-28 | 2000-08-01 | Nec Corporation | Method and apparatus for marking patterns by a scanning laser beam, a mask applied to the same apparatus |
US7411151B2 (en) * | 2002-05-24 | 2008-08-12 | Riken | Method and device for processing inside of transparent material |
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