JPS60124939A - レ−ザ露光装置 - Google Patents
レ−ザ露光装置Info
- Publication number
- JPS60124939A JPS60124939A JP58234745A JP23474583A JPS60124939A JP S60124939 A JPS60124939 A JP S60124939A JP 58234745 A JP58234745 A JP 58234745A JP 23474583 A JP23474583 A JP 23474583A JP S60124939 A JPS60124939 A JP S60124939A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens
- laser
- light
- laser beam
- expander
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70383—Direct write, i.e. pattern is written directly without the use of a mask by one or multiple beams
- G03F7/704—Scanned exposure beam, e.g. raster-, rotary- and vector scanning
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06K—GRAPHICAL DATA READING; PRESENTATION OF DATA; RECORD CARRIERS; HANDLING RECORD CARRIERS
- G06K15/00—Arrangements for producing a permanent visual presentation of the output data, e.g. computer output printers
- G06K15/02—Arrangements for producing a permanent visual presentation of the output data, e.g. computer output printers using printers
- G06K15/12—Arrangements for producing a permanent visual presentation of the output data, e.g. computer output printers using printers by photographic printing, e.g. by laser printers
- G06K15/1204—Arrangements for producing a permanent visual presentation of the output data, e.g. computer output printers using printers by photographic printing, e.g. by laser printers involving the fast moving of an optical beam in the main scanning direction
- G06K15/1219—Detection, control or error compensation of scanning velocity or position, e.g. synchronisation
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、レーザ光により精密な印刷パターン等を感光
相ｌ−に描くレーザ露光装置に係り、特に描画線幅を自
由に設定できるようにした装置に関する。
相ｌ−に描くレーザ露光装置に係り、特に描画線幅を自
由に設定できるようにした装置に関する。
この種のレーリ゛露光装置は、レーザビームプリンタや
ＩＣＣ基環等プリント基板パターンの描画装置として用
いられている。第１図は、モニタ光による描画レーザ光
の位置検出光学装置をｆｏｌλたレーザ露光装置を示す
もので、まずこの装置の構成、およびこの装置では描画
線幅を自由に設定することができない理由を説明する。
ＩＣＣ基環等プリント基板パターンの描画装置として用
いられている。第１図は、モニタ光による描画レーザ光
の位置検出光学装置をｆｏｌλたレーザ露光装置を示す
もので、まずこの装置の構成、およびこの装置では描画
線幅を自由に設定することができない理由を説明する。
レーザ光Ｘｉ ｔｌを出たレーザ光は、超音波光変調器
１２およびビームエキスパンダＬ３を介して回転ポリ」
ン鏡１４に照射され、ここで反射した後、ｆ ０１／ン
ズ１５、ターニングミラー１６を介してフィルムシート
（被露光材料）１７に照射される。フィルムシート１７
に至る描画レーデ光Ｂは、回転ポリゴン鏡１４の回転に
伴ないＸ方向に走査されることとなり、他力フィルムシ
ート１７は図示しない送り機構によってｙ方向に駆動さ
れるため、゛１次元方向の描画ができる。第２図は超音
波光変調器１２の原理図であって、光変調素子の結晶１
２ａに特定の方向から超音波を当てると、レーザ光が入
射方向０の２倍の角度（２０）にプラグ（Ｂｒａｇｇ）
回折する。この回折角２０は、超ｆｆ波の１“？速Ｖと
超音波周波数ｆおよびレーザ光の波長入によって定まる
（２θ＝入ｄ ／ ｖ ）。したがって超音波をオンオ
フしてやると、超音波光変調器１２から出ていくレーザ
光の一部分が０次方向と１次方向に切り換わる。」―記
フィルムシー）１７に達する描画レーザ光はこの１次光
を用いるもので、０次光は、遮光板１９によりカッ）さ
れ、回転ポリゴン鏡１４には至らない。なおｆＯレンズ
１５は、通常の′り゛真しンズやフーリエ変換レンズと
異なり、焦点距＃ｆ、入射角０に対し、その像高ｙかｙ
＝ｆθとなる特性があるもので、回転ポリゴン鏡１４で
反射ｙれるレーザ光をリニアにフィルムシート１７上１
こ再現することができるので、この種露光装置の結像レ
ンズとして広く用いられている。
１２およびビームエキスパンダＬ３を介して回転ポリ」
ン鏡１４に照射され、ここで反射した後、ｆ ０１／ン
ズ１５、ターニングミラー１６を介してフィルムシート
（被露光材料）１７に照射される。フィルムシート１７
に至る描画レーデ光Ｂは、回転ポリゴン鏡１４の回転に
伴ないＸ方向に走査されることとなり、他力フィルムシ
ート１７は図示しない送り機構によってｙ方向に駆動さ
れるため、゛１次元方向の描画ができる。第２図は超音
波光変調器１２の原理図であって、光変調素子の結晶１
２ａに特定の方向から超音波を当てると、レーザ光が入
射方向０の２倍の角度（２０）にプラグ（Ｂｒａｇｇ）
回折する。この回折角２０は、超ｆｆ波の１“？速Ｖと
超音波周波数ｆおよびレーザ光の波長入によって定まる
（２θ＝入ｄ ／ ｖ ）。したがって超音波をオンオ
フしてやると、超音波光変調器１２から出ていくレーザ
光の一部分が０次方向と１次方向に切り換わる。」―記
フィルムシー）１７に達する描画レーザ光はこの１次光
を用いるもので、０次光は、遮光板１９によりカッ）さ
れ、回転ポリゴン鏡１４には至らない。なおｆＯレンズ
１５は、通常の′り゛真しンズやフーリエ変換レンズと
異なり、焦点距＃ｆ、入射角０に対し、その像高ｙかｙ
＝ｆθとなる特性があるもので、回転ポリゴン鏡１４で
反射ｙれるレーザ光をリニアにフィルムシート１７上１
こ再現することができるので、この種露光装置の結像レ
ンズとして広く用いられている。
１−記構両し−ブ光のＸ方向の位置を検出するモニタ光
学系は、１ｔｆｌ音波光変調器１２のｉ（Ｉに置いたビ
ームスプリンタ（ハーフミラ−）２０によって分離され
たモニタ光Ｍを用いるもので、このモニタ光Ｍは、モニ
タ光バイパス光路２１を通って、（「ｆび回転ポリ」ン
鏡１４に入射する。モニタ光バイパス光路２１は、三個
のミラー２２からなっており、中間にビームエキスパン
ダ２３が配設されている。モニタ光Ｍは、回転ポリゴン
鏡１４に対する平面的な入射方向は描画レーザ光Ｂと同
一で、高さ方向の入射位置は、描画レーザＪＢより若干
低くなるようにしである。そしてこのモニタ光Ｍは、回
転ポリゴン鏡１４で反射され、ｆ０１／ンズ１５を通っ
た後、ターニングミラー１６を介してフィルムシート１
７方向に曲折される。そしてフィルムシート１７に到達
する前にビームペンタ２５により曲折されて位置検出ス
ケール２６に至り１位置検出スケール２６を通過したレ
ーザ光が集光ミラー２７を介して光電変換器２８に入用
する。集光ミラー２７は位置検出スケール２６を通過し
たモニタ光をすべて光電変換器２８に入射させるように
形状を定めたもので、集光ミラー２７以外にも光ファイ
バを用いて光電変換器２８に集光するようにしたタイプ
も知られている。
学系は、１ｔｆｌ音波光変調器１２のｉ（Ｉに置いたビ
ームスプリンタ（ハーフミラ−）２０によって分離され
たモニタ光Ｍを用いるもので、このモニタ光Ｍは、モニ
タ光バイパス光路２１を通って、（「ｆび回転ポリ」ン
鏡１４に入射する。モニタ光バイパス光路２１は、三個
のミラー２２からなっており、中間にビームエキスパン
ダ２３が配設されている。モニタ光Ｍは、回転ポリゴン
鏡１４に対する平面的な入射方向は描画レーザ光Ｂと同
一で、高さ方向の入射位置は、描画レーザＪＢより若干
低くなるようにしである。そしてこのモニタ光Ｍは、回
転ポリゴン鏡１４で反射され、ｆ０１／ンズ１５を通っ
た後、ターニングミラー１６を介してフィルムシート１
７方向に曲折される。そしてフィルムシート１７に到達
する前にビームペンタ２５により曲折されて位置検出ス
ケール２６に至り１位置検出スケール２６を通過したレ
ーザ光が集光ミラー２７を介して光電変換器２８に入用
する。集光ミラー２７は位置検出スケール２６を通過し
たモニタ光をすべて光電変換器２８に入射させるように
形状を定めたもので、集光ミラー２７以外にも光ファイ
バを用いて光電変換器２８に集光するようにしたタイプ
も知られている。
位置検出スケール２６は、第３図に示すようにＸ方向に
連続する、スリット状の透光部３０と遮九部３１を３Ｅ
−１７−に有する格子体からなるもので、これをモニタ
光が走査すると、光重変換器２８によって第４図に模式
的に示すようなスケール（透光部）検出信号（パルス）
が検出される。透光部３０のピンチｐは、描画レーザ光
の最小分解能に合わせて定められるが、同時に隣り合う
描画レーリ゛光のスボントが適当帛、オーバランプする
ようにλ７Ｉ！定される。几体的にはスボント径をＤ３
とすると、Ｄ３ン２ｐ程度にするのがｔｊ′通である。
連続する、スリット状の透光部３０と遮九部３１を３Ｅ
−１７−に有する格子体からなるもので、これをモニタ
光が走査すると、光重変換器２８によって第４図に模式
的に示すようなスケール（透光部）検出信号（パルス）
が検出される。透光部３０のピンチｐは、描画レーザ光
の最小分解能に合わせて定められるが、同時に隣り合う
描画レーリ゛光のスボントが適当帛、オーバランプする
ようにλ７Ｉ！定される。几体的にはスボント径をＤ３
とすると、Ｄ３ン２ｐ程度にするのがｔｊ′通である。
そしてこのパルスは、〔ニジ光が透光部３０を通過する
度に発廿られるから、最初からのパルス数をカウントす
ることによってモニタ光のＸ方向の位置、つまりクィル
トシート１７１−に走査される描画レーザ光のＸ方向の
位置を検出することができる。よってこの位置検出６吐
に応じ、超音波光変調器１２に′ｊえるＪｐ ｊ’ｆ波
をオンオフすることにより、フィルＬ、シ・−１−１，
７、ｌ−に精密な描画を行なうことかでｙる。このよう
なフィードバック系によれば、回転ポリ：ｆン鏡１４の
回転速１■精度、反射＋／＋ｉ ｔｙ−１ｉ函を古１ｆ
ｔ ｋ、 ス１．％ Ｉ−） ｆ ｎ ｌｚ ｖプＩＲ
ｍＭ−ずａ＝ Ｍ １分でなくとも、実際にフィルムシ
ートｌ ７−にに走査されている描画レーザ光の位置を
知って超ｊ′ｆ波光変調器１２をオンオフすることがで
きるので。
度に発廿られるから、最初からのパルス数をカウントす
ることによってモニタ光のＸ方向の位置、つまりクィル
トシート１７１−に走査される描画レーザ光のＸ方向の
位置を検出することができる。よってこの位置検出６吐
に応じ、超音波光変調器１２に′ｊえるＪｐ ｊ’ｆ波
をオンオフすることにより、フィルＬ、シ・−１−１，
７、ｌ−に精密な描画を行なうことかでｙる。このよう
なフィードバック系によれば、回転ポリ：ｆン鏡１４の
回転速１■精度、反射＋／＋ｉ ｔｙ−１ｉ函を古１ｆ
ｔ ｋ、 ス１．％ Ｉ−） ｆ ｎ ｌｚ ｖプＩＲ
ｍＭ−ずａ＝ Ｍ １分でなくとも、実際にフィルムシ
ートｌ ７−にに走査されている描画レーザ光の位置を
知って超ｊ′ｆ波光変調器１２をオンオフすることがで
きるので。
より精密で正確な描画を行なうことができる。
第５図は、以にのようにして描画レーザ光Ｂによって描
かれる直線を拡大して示すものである。
かれる直線を拡大して示すものである。
いま描画レーザ光Ｂのビーム系をＤ３とし、Ｘ方向への
センタラインを固定して考えた場合、１−記構画ビッチ
Ｐを用いて描画ｎ（能な＃ｉ幅はＷｎはＷｌ ＝Ｄ３ Ｗ２＝２ｐ＋０３ Ｗ３＝４ｐ＋Ｄ３ Ｗｎ ＝２（ｎ−１） ＋Ｄ３ （１）よって線幅のｔ
ｌ（変幅ΔＷは、 ΔＷ＝Ｗｎ −Ｗｎ−１＝ ２ ｐ （２）であり、２
ｐ以下でＭＡ幅を変更することはできなかった。
センタラインを固定して考えた場合、１−記構画ビッチ
Ｐを用いて描画ｎ（能な＃ｉ幅はＷｎはＷｌ ＝Ｄ３ Ｗ２＝２ｐ＋０３ Ｗ３＝４ｐ＋Ｄ３ Ｗｎ ＝２（ｎ−１） ＋Ｄ３ （１）よって線幅のｔ
ｌ（変幅ΔＷは、 ΔＷ＝Ｗｎ −Ｗｎ−１＝ ２ ｐ （２）であり、２
ｐ以下でＭＡ幅を変更することはできなかった。
しかし実際には、例えばプリント基板等の表面に感光膜
を塗布して描画し、これを現像した後エツチングしてパ
ターンを作成する場合には、エンチングに程における線
幅の太り、細り、サイドエッヂ等の影響を考慮して原パ
ターンの線幅を決定する必要がある。レーザを用いない
従来のフォト自動製図機では、この線幅の調整がｏ（能
であったが、レーザプロッタ（ｎ光装置）ではこの線幅
調整はできなかった。
を塗布して描画し、これを現像した後エツチングしてパ
ターンを作成する場合には、エンチングに程における線
幅の太り、細り、サイドエッヂ等の影響を考慮して原パ
ターンの線幅を決定する必要がある。レーザを用いない
従来のフォト自動製図機では、この線幅の調整がｏ（能
であったが、レーザプロッタ（ｎ光装置）ではこの線幅
調整はできなかった。
本発明は、描画線幅を自由に設定することができるレー
ザ露光装置を提案して、レーザプロッタにおいてもより
細密な種々の形状を描画することができるようにするこ
とを目的としてなされたもので、描画レーデ光の光学系
中に設置されるビームエキスパンクをズームレンズを含
む変倍光学系から構成し、これの焦点距離を変化させる
ことによって描画レーデ光のビーム径をＩＩ）変とした
ことを特徴としている。
ザ露光装置を提案して、レーザプロッタにおいてもより
細密な種々の形状を描画することができるようにするこ
とを目的としてなされたもので、描画レーデ光の光学系
中に設置されるビームエキスパンクをズームレンズを含
む変倍光学系から構成し、これの焦点距離を変化させる
ことによって描画レーデ光のビーム径をＩＩ）変とした
ことを特徴としている。
第６図についてビームエキスパンダをズームレンズとす
ることにより、描画ビームの径Ｄ３を変化させることが
でき、したがって描画線幅を変化さゼることかできる理
由を説明する。第６図はレーザ光源１１、固定レンズ４
１とズームレンズ４２な有するビームエキスパンダ４３
、ｆＯレンズ１５およびフィルムシー）１７以外の要素
を省いて描いた本発明のレーザ露光装置の実施例で、レ
ーザ光源１１からのレーザ光径Ｄｌ、ビームエキスパン
ダ４３を出たレーザ光径Ｄ２．およびフィルムシート１
７に達する最終的な描画ビーム径Ｄ３を、それぞれガウ
スビームのｌ ／ ｅ ２のｆイと仮定すると、光の回
折理論から Ｄ３＝１．２７人ｆ３／Ｄ、２ となる。ここで入はレーザ光の波長、ｆ３はｆＯレンズ
１５の焦点距離である。
ることにより、描画ビームの径Ｄ３を変化させることが
でき、したがって描画線幅を変化さゼることかできる理
由を説明する。第６図はレーザ光源１１、固定レンズ４
１とズームレンズ４２な有するビームエキスパンダ４３
、ｆＯレンズ１５およびフィルムシー）１７以外の要素
を省いて描いた本発明のレーザ露光装置の実施例で、レ
ーザ光源１１からのレーザ光径Ｄｌ、ビームエキスパン
ダ４３を出たレーザ光径Ｄ２．およびフィルムシート１
７に達する最終的な描画ビーム径Ｄ３を、それぞれガウ
スビームのｌ ／ ｅ ２のｆイと仮定すると、光の回
折理論から Ｄ３＝１．２７人ｆ３／Ｄ、２ となる。ここで入はレーザ光の波長、ｆ３はｆＯレンズ
１５の焦点距離である。
またビームエキスパンダ４３の固定レンズ４１の焦点距
離をｆｌ、同ズームレンズ４２の焦点距離をｆ２とする
と、上記Ｄ２は Ｄ２ ＝ （ｆ２ ／ｆｌ ） ＤＩ で学えられるから、 Ｄ３＝１．２？入−ｆ３ ・ｆｌ ／ｆ２ −Ｄｉとな
る。よってｆ２．つまりビームエキスパンダ４３のズー
１、レンズ４２の焦点距離を変化させることにより、描
画スポット径を変えることができる。
離をｆｌ、同ズームレンズ４２の焦点距離をｆ２とする
と、上記Ｄ２は Ｄ２ ＝ （ｆ２ ／ｆｌ ） ＤＩ で学えられるから、 Ｄ３＝１．２？入−ｆ３ ・ｆｌ ／ｆ２ −Ｄｉとな
る。よってｆ２．つまりビームエキスパンダ４３のズー
１、レンズ４２の焦点距離を変化させることにより、描
画スポット径を変えることができる。
そしてＤ３を変化させることができれば、上記（１）式
から明らかなように描画線幅Ｗｎを変えることができる
。またこのＤ３の可変幅ΔＤ３は、２ｐより小さくする
必要はない。つまりΔＤ３≧２ ｐ （３） とすれば、２ｐ以１−のすべての線幅を描画することが
できる。
から明らかなように描画線幅Ｗｎを変えることができる
。またこのＤ３の可変幅ΔＤ３は、２ｐより小さくする
必要はない。つまりΔＤ３≧２ ｐ （３） とすれば、２ｐ以１−のすべての線幅を描画することが
できる。
具体例を次表に示す。
ｐ 入 旧 ｆｌ ｆ２ Ｄ２ ｆ３ Ｄ’３ｇｍ ｎ
ｍ ｍｍ ｍｍ ＩＩＩＩｌ ｍｍ ｍｍ ｇｍ！１０
４．２ １０１ ２５．４ ４８８ ０．７１８．４〜 〜６８７ 〜２
８０ １０．６４０ Δ０３４１０１−４０（μｍ）＝ＢＬＩＬｍ≧２Ｐであ
るから、に記（３）式の条件を満たしており、すべての
線幅が描画ｉｔ）能である。
ｍ ｍｍ ｍｍ ＩＩＩＩｌ ｍｍ ｍｍ ｇｍ！１０
４．２ １０１ ２５．４ ４８８ ０．７１８．４〜 〜６８７ 〜２
８０ １０．６４０ Δ０３４１０１−４０（μｍ）＝ＢＬＩＬｍ≧２Ｐであ
るから、に記（３）式の条件を満たしており、すべての
線幅が描画ｉｔ）能である。
第７図は、−１−表に示した焦点距離１１０−２８０
ｍｍのズームレンズの具体例である。このズームレンズ
は前後２群の可動レンズＬ１．Ｌ２からなるもので、同
図（Ａ）が最短焦点圧＋１１＆（１１０ｍｍ） 、回（
Ｂ）が中間の焦点距＠（＋５５ｍ１１） 、同（Ｃ）が
最長焦点距離（２８０ｍａ＋）の状態をそれぞれ示して
いる。
ｍｍのズームレンズの具体例である。このズームレンズ
は前後２群の可動レンズＬ１．Ｌ２からなるもので、同
図（Ａ）が最短焦点圧＋１１＆（１１０ｍｍ） 、回（
Ｂ）が中間の焦点距＠（＋５５ｍ１１） 、同（Ｃ）が
最長焦点距離（２８０ｍａ＋）の状態をそれぞれ示して
いる。
勿論図示ズームレンズは−・例を示すもので、本発明は
他の構成のズームレンズも使用し得る。また図示例では
ビームエキスパンダ４３が固定レンズ４１とズームレン
ズ４２とからなっているが、ズームレンズのみからビー
ムエキスパンダを構成してもよい。
他の構成のズームレンズも使用し得る。また図示例では
ビームエキスパンダ４３が固定レンズ４１とズームレン
ズ４２とからなっているが、ズームレンズのみからビー
ムエキスパンダを構成してもよい。
なお第１図に示したレーザ露光装置のモニタ光による走
査位置検出装置は、モニタ光の位ｌから描画レーザ光の
位置を正確に検出することができるという利点があるが
、本発明は、このようなモニタ光による走査位置検出装
置の有無およびその構成を間うものではない。描画ピッ
チＰは、このような走査位置検出装置によることなく、
電気的に発生させるクロフクパルスその他によっても、
設定することかできる。
査位置検出装置は、モニタ光の位ｌから描画レーザ光の
位置を正確に検出することができるという利点があるが
、本発明は、このようなモニタ光による走査位置検出装
置の有無およびその構成を間うものではない。描画ピッ
チＰは、このような走査位置検出装置によることなく、
電気的に発生させるクロフクパルスその他によっても、
設定することかできる。
以１−のように本発明のレーザ露光装置は、ズーＬ、ｌ
／ンスを右゛する光学系によって、描画レーザ光の１ギ
を拡大するビームエキスパンダを構成したものであるか
ら、その焦点距汚を変化させることにより描画レーリ゛
光の径を変化さゼることができる。したかっＣ描画線幅
を自由に設定してより精冨な描画を行なうことができる
。特にプリント基板のエンｊ−ング用パターンを作成す
る局舎には、経験的に知られるエンチング「程における
線幅の太り、細り等を考慮した細密な線幅を実現でき、
より１１１現（’ｌ高く精密にパターンを描画すること
ができる。
／ンスを右゛する光学系によって、描画レーザ光の１ギ
を拡大するビームエキスパンダを構成したものであるか
ら、その焦点距汚を変化させることにより描画レーリ゛
光の径を変化さゼることができる。したかっＣ描画線幅
を自由に設定してより精冨な描画を行なうことができる
。特にプリント基板のエンｊ−ング用パターンを作成す
る局舎には、経験的に知られるエンチング「程における
線幅の太り、細り等を考慮した細密な線幅を実現でき、
より１１１現（’ｌ高く精密にパターンを描画すること
ができる。
第１図はレーザ露光装置の従来例を示す刺視図、第２図
はｌ１ｒｔ ｆＹ波光変調器の作用を示す模式図、第３
図は位置検出スケールの例を示す拡大図、第４図は（１
′（置検出スケールによる位置検出信号を模式的に示す
グラフ、第５図は描画レーザ光の描画ピッチｐとレーザ
ビーム径および描画線幅の関係を示すｊ１面図、第６図
はレーザ光源、ズームレンズを有するビームエキスパン
ダ、ｆθレンズ、およびフィルムシート（被露光材才゛
１）のみを取り出して描いた、本発明のレーザ露光装置
の実施例を示す光学配置図、第７図は本発明装置に用い
るズームレンズの具体例を示すレンズ構成図で、（Ａ）
、（Ｂ）、（Ｃ）はそれぞれ異なる焦点圧熱の状態を示
している。 １１・・・レーザ光源、１２・・・超音波光変調器、１
４・・・回転ポリゴン鏡、１５・・・ｆｏレンズ、１７
・・・フィルムシート（被露光材木’ｌ）、２６・・・
位置検出スケール、２７・・・集光ミラー、２８・・・
光電変換器、３０・・・透光部、３１・・・遮光部、４
２・・・ズームレンズ、４３・・・ビームエキスパンダ
、Ｂ・・・描画レーザ光、Ｍ・・・モニタ光。 ４、′ｒ許出出願人 旭光学］二業株式会社同代理人
玉 浦 邦 大 第３図 ３１３０ 第６図 第５図
はｌ１ｒｔ ｆＹ波光変調器の作用を示す模式図、第３
図は位置検出スケールの例を示す拡大図、第４図は（１
′（置検出スケールによる位置検出信号を模式的に示す
グラフ、第５図は描画レーザ光の描画ピッチｐとレーザ
ビーム径および描画線幅の関係を示すｊ１面図、第６図
はレーザ光源、ズームレンズを有するビームエキスパン
ダ、ｆθレンズ、およびフィルムシート（被露光材才゛
１）のみを取り出して描いた、本発明のレーザ露光装置
の実施例を示す光学配置図、第７図は本発明装置に用い
るズームレンズの具体例を示すレンズ構成図で、（Ａ）
、（Ｂ）、（Ｃ）はそれぞれ異なる焦点圧熱の状態を示
している。 １１・・・レーザ光源、１２・・・超音波光変調器、１
４・・・回転ポリゴン鏡、１５・・・ｆｏレンズ、１７
・・・フィルムシート（被露光材木’ｌ）、２６・・・
位置検出スケール、２７・・・集光ミラー、２８・・・
光電変換器、３０・・・透光部、３１・・・遮光部、４
２・・・ズームレンズ、４３・・・ビームエキスパンダ
、Ｂ・・・描画レーザ光、Ｍ・・・モニタ光。 ４、′ｒ許出出願人 旭光学］二業株式会社同代理人
玉 浦 邦 大 第３図 ３１３０ 第６図 第５図
Claims (1)
- （１）ｌ／−リ゛光を超音波光変調器、ビームエキスパ
ンダ、回転ポリゴン鏡および結像レンズを介して被露光
材料１．に走査さぜ、に記、１ｆｌｆｆｒ波光変調器に
よるレーデ光のオンオフにより被露光材料にに描画する
レーザ露光装置において、１−記ビートエキスパンダを
ズームレンズを含む変倍光学系から構成し、被露光材料
に至るレーデビーム径をＩＩｆ変としたことを特徴とす
るレーザ露光装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58234745A JPS60124939A (ja) | 1983-12-12 | 1983-12-12 | レ−ザ露光装置 |
| DE19843445342 DE3445342A1 (de) | 1983-12-12 | 1984-12-12 | Laserstrahlbelichtungssystem |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58234745A JPS60124939A (ja) | 1983-12-12 | 1983-12-12 | レ−ザ露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60124939A true JPS60124939A (ja) | 1985-07-04 |
Family
ID=16975689
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58234745A Pending JPS60124939A (ja) | 1983-12-12 | 1983-12-12 | レ−ザ露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60124939A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0902945A4 (en) * | 1996-05-31 | 1999-09-22 | Cinram Inc | POINT SIZE SETTING SYSTEM IN AN OPTICAL RECORDING SYSTEM |
| JP2002023379A (ja) * | 2000-07-10 | 2002-01-23 | Sony Corp | 光ディスク、露光装置および露光方法 |
| CN112304868A (zh) * | 2019-07-24 | 2021-02-02 | 上海科技大学 | 便携式光声成像装置、变焦扩束装置、及光声成像试验系统 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52116172A (en) * | 1976-03-26 | 1977-09-29 | Nec Corp | Exposure method by light beam |
| JPS55135813A (en) * | 1979-04-12 | 1980-10-23 | Ricoh Co Ltd | Laser beam scanner |
-
1983
- 1983-12-12 JP JP58234745A patent/JPS60124939A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52116172A (en) * | 1976-03-26 | 1977-09-29 | Nec Corp | Exposure method by light beam |
| JPS55135813A (en) * | 1979-04-12 | 1980-10-23 | Ricoh Co Ltd | Laser beam scanner |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0902945A4 (en) * | 1996-05-31 | 1999-09-22 | Cinram Inc | POINT SIZE SETTING SYSTEM IN AN OPTICAL RECORDING SYSTEM |
| JP2002023379A (ja) * | 2000-07-10 | 2002-01-23 | Sony Corp | 光ディスク、露光装置および露光方法 |
| CN112304868A (zh) * | 2019-07-24 | 2021-02-02 | 上海科技大学 | 便携式光声成像装置、变焦扩束装置、及光声成像试验系统 |
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