JPH0783999A - 基板保持装置 - Google Patents
基板保持装置Info
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- JPH0783999A JPH0783999A JP25256993A JP25256993A JPH0783999A JP H0783999 A JPH0783999 A JP H0783999A JP 25256993 A JP25256993 A JP 25256993A JP 25256993 A JP25256993 A JP 25256993A JP H0783999 A JPH0783999 A JP H0783999A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 基板ホルダに被測定基板を変形させずに確実
に保持させる。 【構成】 この発明の基板保持装置１は、被測定基板１
２を水平に支持するための複数の突起部１０を表面に有
した基板ホルダ３を具備する基板保持装置において、基
板ホルダ３に被測定基板１２が支持されているときに基
板ホルダ３に微振動を与える微振動発生装置２を更に具
備する。
に保持させる。 【構成】 この発明の基板保持装置１は、被測定基板１
２を水平に支持するための複数の突起部１０を表面に有
した基板ホルダ３を具備する基板保持装置において、基
板ホルダ３に被測定基板１２が支持されているときに基
板ホルダ３に微振動を与える微振動発生装置２を更に具
備する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、例えばシリコンウエ
ハのような基板を保持する基板保持装置に関する。
ハのような基板を保持する基板保持装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図８は従来の基板保持装置の一部を示す
側面図である。この基板保持装置は図示しないＸＹステ
ージ上に配置されたベース１０９と、このベース１０９
の表面に設けられた複数の突起部１１０とからなる基板
ホルダ１０３を備えている。これらの突起部１１０に
は、例えばシリコンウエハ等の被測定基板１１２がロー
ダの搬送アーム（いずれも図示せず）によって載置さ
れ、水平に支持される。
側面図である。この基板保持装置は図示しないＸＹステ
ージ上に配置されたベース１０９と、このベース１０９
の表面に設けられた複数の突起部１１０とからなる基板
ホルダ１０３を備えている。これらの突起部１１０に
は、例えばシリコンウエハ等の被測定基板１１２がロー
ダの搬送アーム（いずれも図示せず）によって載置さ
れ、水平に支持される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】半導体製造プロセスに
おいて被測定基板１１２に回路パターンを形成するリソ
グラフィではサブミクロン単位の寸法値が取り扱われて
いるが、その際被測定基板１１２を基板ホルダ１０３に
保持させないとＸＹステージの移動操作に伴う振動やス
ラスト力を受けて被測定基板１１２は容易に横滑り（初
期シフト）し、精度の高い測定や検査は不可能である。
そこで、従来は基板ホルダ１０３に設けた吸引孔１３６
から真空で被測定基板１１２を吸引し、突起部１１０に
吸着させて保持するクランプ機構が用いられている。
おいて被測定基板１１２に回路パターンを形成するリソ
グラフィではサブミクロン単位の寸法値が取り扱われて
いるが、その際被測定基板１１２を基板ホルダ１０３に
保持させないとＸＹステージの移動操作に伴う振動やス
ラスト力を受けて被測定基板１１２は容易に横滑り（初
期シフト）し、精度の高い測定や検査は不可能である。
そこで、従来は基板ホルダ１０３に設けた吸引孔１３６
から真空で被測定基板１１２を吸引し、突起部１１０に
吸着させて保持するクランプ機構が用いられている。
【０００４】しかし、この吸着力は測定時や検査時にも
継続して被測定基板１１２に加えられているから、被測
定基板１１２が変形して測定誤差が生じ、また測定誤差
の補正が難しいという問題があった。
継続して被測定基板１１２に加えられているから、被測
定基板１１２が変形して測定誤差が生じ、また測定誤差
の補正が難しいという問題があった。
【０００５】この発明はこのような事情に鑑みてなされ
たもので、その課題は被測定基板を変形させずに確実に
基板ホルダに保持させることができる基板保持装置を提
供することである。
たもので、その課題は被測定基板を変形させずに確実に
基板ホルダに保持させることができる基板保持装置を提
供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前述の課題を解決するた
め請求項１記載の発明の基板保持装置は、被測定基板を
水平に支持するための複数の突起部を表面に有した基板
ホルダを具備する基板保持装置において、前記基板ホル
ダに前記被測定基板が支持されている時に前記基板ホル
ダに微振動を与える微振動発生手段を更に具備する。
め請求項１記載の発明の基板保持装置は、被測定基板を
水平に支持するための複数の突起部を表面に有した基板
ホルダを具備する基板保持装置において、前記基板ホル
ダに前記被測定基板が支持されている時に前記基板ホル
ダに微振動を与える微振動発生手段を更に具備する。
【０００７】また、請求項２記載の発明の基板保持装置
は、被測定基板を水平に支持するための複数の突起部を
表面に有した基板ホルダを具備する基板保持装置におい
て、前記基板ホルダによって支持された前記被測定基板
を、水平方向に僅かに滑らせる基板スライド手段を更に
具備した。
は、被測定基板を水平に支持するための複数の突起部を
表面に有した基板ホルダを具備する基板保持装置におい
て、前記基板ホルダによって支持された前記被測定基板
を、水平方向に僅かに滑らせる基板スライド手段を更に
具備した。
【０００８】更に、請求項３記載の発明の基板保持装置
は、被測定基板を水平に支持するための複数の突起部を
表面に有した基板ホルダを具備する基板保持装置におい
て、前記基板ホルダによって支持された前記被測定基板
を、前記基板ホルダ側に押圧する押圧手段を更に具備す
る。
は、被測定基板を水平に支持するための複数の突起部を
表面に有した基板ホルダを具備する基板保持装置におい
て、前記基板ホルダによって支持された前記被測定基板
を、前記基板ホルダ側に押圧する押圧手段を更に具備す
る。
【０００９】また、請求項４記載の発明の基板保持装置
は、被測定基板を水平に支持するための複数の突起部を
表面に有した基板ホルダと、前記基板ホルダに対して前
記被測定基板を受け渡す搬送手段とを具備する基板保持
装置において、前記搬送手段は、前記被測定基板を前記
水平方向に対して所定の角度だけ傾斜させて保持するた
めの基板傾斜保持部を備えている。
は、被測定基板を水平に支持するための複数の突起部を
表面に有した基板ホルダと、前記基板ホルダに対して前
記被測定基板を受け渡す搬送手段とを具備する基板保持
装置において、前記搬送手段は、前記被測定基板を前記
水平方向に対して所定の角度だけ傾斜させて保持するた
めの基板傾斜保持部を備えている。
【００１０】
【作用】微振動発生手段によって基板ホルダに微振動を
与えることによって、被測定基板と突起部間に小振幅の
相対移動が生じて空気等が外部に流出し、被測定基板と
突起部とは密着状態になる。
与えることによって、被測定基板と突起部間に小振幅の
相対移動が生じて空気等が外部に流出し、被測定基板と
突起部とは密着状態になる。
【００１１】また、基板スライド手段によってシフト力
を与えると、突起部上で被測定基板がスライド（初期シ
フト）する。このスライド運動により空気等が外部に流
出し、被測定基板と突起部とは密着状態になる。
を与えると、突起部上で被測定基板がスライド（初期シ
フト）する。このスライド運動により空気等が外部に流
出し、被測定基板と突起部とは密着状態になる。
【００１２】更に、押圧手段によって被測定基板を突起
部に押圧すると、空気等が押し出されて被測定基板と突
起部とは密着状態になる。もっとも、この押圧力は基板
ホルダ上で被測定基板の測定や検査が行われる前に解除
されるため、被測定基板の変形による測定や検査の精度
低下は生じない。
部に押圧すると、空気等が押し出されて被測定基板と突
起部とは密着状態になる。もっとも、この押圧力は基板
ホルダ上で被測定基板の測定や検査が行われる前に解除
されるため、被測定基板の変形による測定や検査の精度
低下は生じない。
【００１３】また、被測定基板を搬送手段の基板傾斜保
持部によって水平方向に対して所定の傾斜角を与えられ
た状態で基板ホルダ上に載せると、載せられた被測定基
板は突起部上で水平に戻るまで揺動する。この揺動に伴
って、被測定基板と最初に接触し振動の支点となる突起
部では空気等が一方向に押し出され、次に被測定基板が
接触する突起部では被測定基板が落下する慣性力によっ
て空気等が押し出され、その結果被測定基板と突起部と
は密着状態になる。
持部によって水平方向に対して所定の傾斜角を与えられ
た状態で基板ホルダ上に載せると、載せられた被測定基
板は突起部上で水平に戻るまで揺動する。この揺動に伴
って、被測定基板と最初に接触し振動の支点となる突起
部では空気等が一方向に押し出され、次に被測定基板が
接触する突起部では被測定基板が落下する慣性力によっ
て空気等が押し出され、その結果被測定基板と突起部と
は密着状態になる。
【００１４】
【実施例】以下この発明の実施例を図面に基づいて説明
する。
する。
【００１５】図１はこの発明の第１実施例に係る基板保
持装置を示す斜視図である。
持装置を示す斜視図である。
【００１６】この実施例の基板保持装置１は、ＸＹステ
ージ（微振動発生手段）２と基板ホルダ３とを備えてい
る。
ージ（微振動発生手段）２と基板ホルダ３とを備えてい
る。
【００１７】ＸＹステージ２は、ベース４の上に配置さ
れたＹ方向に移動可能な移動ステージ５と、この移動ス
テージ５の上に配置されたＸ方向に移動可能な移動ステ
ージ６とを備えている。各移動ステージ５，６は、反転
可能なモータ７，８により、ピニオンとラック又はねじ
などの微動送り機構を介してそれぞれＹ方向とＸ方向に
送り操作される。
れたＹ方向に移動可能な移動ステージ５と、この移動ス
テージ５の上に配置されたＸ方向に移動可能な移動ステ
ージ６とを備えている。各移動ステージ５，６は、反転
可能なモータ７，８により、ピニオンとラック又はねじ
などの微動送り機構を介してそれぞれＹ方向とＸ方向に
送り操作される。
【００１８】基板ホルダ３は、移動ステージ６に固定さ
れたベース９と、このベース９の上面のコーナ近傍に固
定された４個の突起部１０とからなる。各突起部１０の
頂面は鏡面仕上げされているとともに、各頂面は正確に
同一水平面内で面一の関係にある。
れたベース９と、このベース９の上面のコーナ近傍に固
定された４個の突起部１０とからなる。各突起部１０の
頂面は鏡面仕上げされているとともに、各頂面は正確に
同一水平面内で面一の関係にある。
【００１９】ローダの搬送アーム１１は被測定基板１２
を載せてＹ方向にベース９の上方まで水平移動した後、
下降して被測定基板１２を突起部１０に載置し、図１に
示す位置へ後退する。
を載せてＹ方向にベース９の上方まで水平移動した後、
下降して被測定基板１２を突起部１０に載置し、図１に
示す位置へ後退する。
【００２０】被測定基板１２を基板ホルダ３に載せた状
態でＸＹステージ２はモータ７，８の一方又は両方を高
速で反転させて基板ホルダ３に微振動を与える。この微
振動により被測定基板１２と突起部１０の間に残留して
いる空気などが外部に排出されて被測定基板１２と突起
部１０が密着状態になる。この密着力によって、被測定
基板１２は基板ホルダ３に確実に保持される。
態でＸＹステージ２はモータ７，８の一方又は両方を高
速で反転させて基板ホルダ３に微振動を与える。この微
振動により被測定基板１２と突起部１０の間に残留して
いる空気などが外部に排出されて被測定基板１２と突起
部１０が密着状態になる。この密着力によって、被測定
基板１２は基板ホルダ３に確実に保持される。
【００２１】前述のように、被測定基板１２にはローダ
の搬送アーム１１によって基板ホルダ３の各突起部１０
の上に載せられるが、その際被測定基板１２は軽量であ
るから、被測定基板１２と突起部１０との間に微量な空
気などが残留し、このような介在物によって被測定基板
１２は浮遊状態になる。従って、僅かな振動やスラスト
を受けるとあるいは基板ホルダ１３が水平方向に対して
僅かに傾斜すると被測定基板１２は容易に横滑り（シフ
ト）を起す。
の搬送アーム１１によって基板ホルダ３の各突起部１０
の上に載せられるが、その際被測定基板１２は軽量であ
るから、被測定基板１２と突起部１０との間に微量な空
気などが残留し、このような介在物によって被測定基板
１２は浮遊状態になる。従って、僅かな振動やスラスト
を受けるとあるいは基板ホルダ１３が水平方向に対して
僅かに傾斜すると被測定基板１２は容易に横滑り（シフ
ト）を起す。
【００２２】各突起部１０の頂面及び被測定基板１２の
表面は鏡面状に仕上げられており、このような鏡面を密
着状態にすると両者間に密着力が生じて互いに固定され
る。そこで、この実施例では、上述のように基板ホルダ
３に微振動を与えて介在物を排除することにより両者１
０，１２間に密着力を生じさせたので、被測定基板１２
は突起部１０に確実に保持されることになる。
表面は鏡面状に仕上げられており、このような鏡面を密
着状態にすると両者間に密着力が生じて互いに固定され
る。そこで、この実施例では、上述のように基板ホルダ
３に微振動を与えて介在物を排除することにより両者１
０，１２間に密着力を生じさせたので、被測定基板１２
は突起部１０に確実に保持されることになる。
【００２３】図２はこの発明の第２実施例に係る基板保
持装置の斜視図、図３は基板ホルダと被測定基板との関
係を示す拡大側面図である。図１の実施例と共通する部
分には同一符号を付して説明を省略する。
持装置の斜視図、図３は基板ホルダと被測定基板との関
係を示す拡大側面図である。図１の実施例と共通する部
分には同一符号を付して説明を省略する。
【００２４】基板スライド装置（スライド手段）１４
は、基板ホルダ３のベース９に取り付けられた支持部材
１５と、この支持部材１５を貫通して螺着されたねじ１
６と、このねじ１６を回転させるモータ１７とを備えて
いる。搬送アーム１１によって突起部１０の上に被測定
基板１２が載せられた後、モータ１７を回転させるとね
じ１６を介して図３に示すように水平方向のシフト力１
８が与えられ、被測定基板１２は突起部１０の上でスラ
イド（初期シフト）し、この初期シフトにより空気など
が排出されて被測定基板１２は突起部１０に密着し確実
に保持される。
は、基板ホルダ３のベース９に取り付けられた支持部材
１５と、この支持部材１５を貫通して螺着されたねじ１
６と、このねじ１６を回転させるモータ１７とを備えて
いる。搬送アーム１１によって突起部１０の上に被測定
基板１２が載せられた後、モータ１７を回転させるとね
じ１６を介して図３に示すように水平方向のシフト力１
８が与えられ、被測定基板１２は突起部１０の上でスラ
イド（初期シフト）し、この初期シフトにより空気など
が排出されて被測定基板１２は突起部１０に密着し確実
に保持される。
【００２５】なお、被測定基板１２をスライドさせるに
はねじ１６を手動で回転させてもよいし、被測定基板１
２を直接手で水平方向にスライドさせてもよい。また、
ＸＹステージ２のベース４のような静止側部材に図示し
ない突当て部材を固定し、基板ホルダ３に載せられた被
測定基板１２の端部に突当て部材を突当てた状態でＸＹ
ステージ２を移動させ、被測定基板１２に初期シフトを
与えるようにしてもよい。
はねじ１６を手動で回転させてもよいし、被測定基板１
２を直接手で水平方向にスライドさせてもよい。また、
ＸＹステージ２のベース４のような静止側部材に図示し
ない突当て部材を固定し、基板ホルダ３に載せられた被
測定基板１２の端部に突当て部材を突当てた状態でＸＹ
ステージ２を移動させ、被測定基板１２に初期シフトを
与えるようにしてもよい。
【００２６】図４はこの発明の第３実施例に係る基板保
持装置の斜視図、図５は基板ホルダと被測定基板との関
係を示す拡大側面図である。図１の実施例と共通する部
分には同一符号を付して説明を省略する。
持装置の斜視図、図５は基板ホルダと被測定基板との関
係を示す拡大側面図である。図１の実施例と共通する部
分には同一符号を付して説明を省略する。
【００２７】押圧装置（押圧手段）２１は、ベース５に
固定されたコの字状の支持枠２３と、この支持枠２３に
上下方向移動自在に取り付けられた押圧部材２４とを備
えている。この押圧部材２４は４本の脚部２５を有し、
基板ホルダ３の突起部１０と対向するように配置されて
いる。押圧部材２４は自重又は外部からの押圧力を受け
て各脚部２５により図５に示すように下方への押圧力２
６を被測定基板１２に加え、被測定基板１２の四隅を各
突起部１０に押圧する。この押圧力は被測定基板１２の
測定や検査に先立って解除される。
固定されたコの字状の支持枠２３と、この支持枠２３に
上下方向移動自在に取り付けられた押圧部材２４とを備
えている。この押圧部材２４は４本の脚部２５を有し、
基板ホルダ３の突起部１０と対向するように配置されて
いる。押圧部材２４は自重又は外部からの押圧力を受け
て各脚部２５により図５に示すように下方への押圧力２
６を被測定基板１２に加え、被測定基板１２の四隅を各
突起部１０に押圧する。この押圧力は被測定基板１２の
測定や検査に先立って解除される。
【００２８】ローダの試料搬送アーム１１によって基板
ホルダ３に載せられた際、被測定基板１２と突起部１０
との間に残留した空気などはこの図５の押圧力２６によ
って外部に押し出され、被測定基板１２は突起部１０に
密着して確実に保持される。
ホルダ３に載せられた際、被測定基板１２と突起部１０
との間に残留した空気などはこの図５の押圧力２６によ
って外部に押し出され、被測定基板１２は突起部１０に
密着して確実に保持される。
【００２９】このように、この実施例の基板保持装置１
９では、被測定基板１２の測定や検査の前に押圧力２６
が解除されるから、測定中も吸引力を与える従来例と異
なり、高い測定精度が得られる。
９では、被測定基板１２の測定や検査の前に押圧力２６
が解除されるから、測定中も吸引力を与える従来例と異
なり、高い測定精度が得られる。
【００３０】なお、被測定基板１２の上面の四隅を直接
手で押圧するようにしてもよい。
手で押圧するようにしてもよい。
【００３１】図６はこの発明の第４実施例に係る基板保
持装置の斜視図、図７は基板ホルダと被測定基板との関
係を示す拡大側面図である。図１の実施例と共通する部
分には同一符号を付して説明を省略する。
持装置の斜視図、図７は基板ホルダと被測定基板との関
係を示す拡大側面図である。図１の実施例と共通する部
分には同一符号を付して説明を省略する。
【００３２】図６に示したように、ローダの搬送アーム
（搬送手段）１１にはスペーサ３０が配置され、基板傾
斜保持部３１が形成されている。被測定基板１２はこの
基板傾斜保持部３１により水平方向に対して所定の傾斜
角３２を与えられる。また、図７に示すようにローダの
搬送アーム３３には水平方向に対して所定の傾斜角３４
をなす基板傾斜保持部３５が設けられている。これらの
搬送アーム１１，３３はそれぞれ図６、図７の位置から
下降して被測定基板１２を基板ホルダ３の突起部１０に
載せた後、各図の右方向へ後退する。このとき、被測定
基板１２は傾斜角３２だけ揺動して水平になり突起部１
０に支持される。この揺動に伴って被測定基板１２と最
初に接触し揺動の支点となる左側の突起部１０では空気
等が右方向へ押し出され、次に被測定基板１２と接触す
る右側の突起部１０では被測定基板１２の落下によって
空気などが押し出される。このようにして、被測定基板
１２は突起部１０に密着し基板ホルダ３に確実に保持さ
れる。
（搬送手段）１１にはスペーサ３０が配置され、基板傾
斜保持部３１が形成されている。被測定基板１２はこの
基板傾斜保持部３１により水平方向に対して所定の傾斜
角３２を与えられる。また、図７に示すようにローダの
搬送アーム３３には水平方向に対して所定の傾斜角３４
をなす基板傾斜保持部３５が設けられている。これらの
搬送アーム１１，３３はそれぞれ図６、図７の位置から
下降して被測定基板１２を基板ホルダ３の突起部１０に
載せた後、各図の右方向へ後退する。このとき、被測定
基板１２は傾斜角３２だけ揺動して水平になり突起部１
０に支持される。この揺動に伴って被測定基板１２と最
初に接触し揺動の支点となる左側の突起部１０では空気
等が右方向へ押し出され、次に被測定基板１２と接触す
る右側の突起部１０では被測定基板１２の落下によって
空気などが押し出される。このようにして、被測定基板
１２は突起部１０に密着し基板ホルダ３に確実に保持さ
れる。
【００３３】以上のように、各実施例の基板保持装置
１，１３，１９，２７，２８では被測定基板１２と突起
部１０との間の空気などが排除されて被測定基板１２が
基板ホルダ３に確実に保持されるから、ＸＹステージ２
の移動に伴う振動やスラスト力を受けても、又は基板ホ
ルダ３が水平方向に対して僅かに傾斜していても、被測
定基板１２が横滑りを起すことがない。従って、精度の
高い測定や検査が行えるとともに、被測定基板１２がず
れないからＸＹステージ２の移動速度を高め被測定基板
１２の処理能率を上げることができる。
１，１３，１９，２７，２８では被測定基板１２と突起
部１０との間の空気などが排除されて被測定基板１２が
基板ホルダ３に確実に保持されるから、ＸＹステージ２
の移動に伴う振動やスラスト力を受けても、又は基板ホ
ルダ３が水平方向に対して僅かに傾斜していても、被測
定基板１２が横滑りを起すことがない。従って、精度の
高い測定や検査が行えるとともに、被測定基板１２がず
れないからＸＹステージ２の移動速度を高め被測定基板
１２の処理能率を上げることができる。
【００３４】なお、本願発明の基板保持装置では各発明
の微振動発生手段と、基板スライド手段と、押圧手段
と、被測定基板に傾斜角を与えて基板ホルダに載せる搬
送手段のうちの２以上を組み合わせて構成してもよい。
これらを併用すれば被測定基板の密着力は更に大きくな
る。
の微振動発生手段と、基板スライド手段と、押圧手段
と、被測定基板に傾斜角を与えて基板ホルダに載せる搬
送手段のうちの２以上を組み合わせて構成してもよい。
これらを併用すれば被測定基板の密着力は更に大きくな
る。
【００３５】
【発明の効果】この発明の基板測定装置によれば、被測
定基板を変形させずに確実に保持することができるの
で、被測定基板の測定や検査の精度が高く保たれると共
に、被測定基板の処理能率を上げることができる。
定基板を変形させずに確実に保持することができるの
で、被測定基板の測定や検査の精度が高く保たれると共
に、被測定基板の処理能率を上げることができる。
【図１】図１はこの発明の第１実施例に係る基板保持装
置を示す斜視図である。
置を示す斜視図である。
【図２】図２はこの発明の第２実施例に係る基板保持装
置を示す斜視図である。
置を示す斜視図である。
【図３】図３は図２のＡ矢視図である。
【図４】図４はこの発明の第３実施例に係る基板保持装
置を示す斜視図である。
置を示す斜視図である。
【図５】図５は図４のＢ矢視図である。
【図６】図６はこの発明の第４実施例に係る基板保持装
置の一部を示す側面図である。
置の一部を示す側面図である。
【図７】図７はこの発明の第５実施例に係る基板保持装
置の一部を示す側面図である。
置の一部を示す側面図である。
【図８】図８は従来の基板保持装置の一部を示す側面図
である。
である。
１，１３，１９，２７，２８ 基板保持装置 ２ ＸＹステージ（微振動発生手段） ３ 基板ホルダ １０ 突起部 １１，３３ 搬送アーム（搬送手段） １２ 被測定基板 １４ 基板スライド装置（基板スライド手段） ２１ 押圧装置（押圧手段） ３１，３５ 基板傾斜保持部
Claims (4)
- 【請求項１】 被測定基板を水平に支持するための複数
の突起部を表面に有した基板ホルダを具備する基板保持
装置において、 前記基板ホルダに前記被測定基板が支持されている時に
前記基板ホルダに微振動を与える微振動発生手段を更に
具備することを特徴とする基板保持装置。 - 【請求項２】 被測定基板を水平に支持するための複数
の突起部を表面に有した基板ホルダを具備する基板保持
装置において、 前記基板ホルダによって支持された前記被測定基板を、
水平方向に僅かに滑らせる基板スライド手段を更に具備
したことを特徴とする基板保持装置。 - 【請求項３】 被測定基板を水平に支持するための複数
の突起部を表面に有した基板ホルダを具備する基板保持
装置において、 前記基板ホルダによって支持された前記被測定基板を、
前記基板ホルダ側に押圧する押圧手段を更に具備するこ
とを特徴とする基板保持装置。 - 【請求項４】 被測定基板を水平に支持するための複数
の突起部を表面に有した基板ホルダと、 前記基板ホルダに対して前記被測定基板を受け渡す搬送
手段とを具備する基板保持装置において、 前記搬送手段は、前記被測定基板を前記水平方向に対し
て所定の角度だけ傾斜させて保持するための基板傾斜保
持部を備えていることを特徴とする基板保持装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25256993A JPH0783999A (ja) | 1993-09-14 | 1993-09-14 | 基板保持装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25256993A JPH0783999A (ja) | 1993-09-14 | 1993-09-14 | 基板保持装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0783999A true JPH0783999A (ja) | 1995-03-31 |
Family
ID=17239207
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25256993A Withdrawn JPH0783999A (ja) | 1993-09-14 | 1993-09-14 | 基板保持装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0783999A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100701390B1 (ko) * | 2002-12-30 | 2007-03-28 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 웨이퍼 프로파일러의 웨이퍼 스테이지 |
| JP2007114570A (ja) * | 2005-10-21 | 2007-05-10 | Nikon Corp | 基板ホルダ、露光装置及びデバイスの製造方法 |
| JP2007227911A (ja) * | 2006-02-09 | 2007-09-06 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
| JP2009088530A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-04-23 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置、ステージ装置及びデバイス製造方法 |
-
1993
- 1993-09-14 JP JP25256993A patent/JPH0783999A/ja not_active Withdrawn
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100701390B1 (ko) * | 2002-12-30 | 2007-03-28 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 웨이퍼 프로파일러의 웨이퍼 스테이지 |
| JP2007114570A (ja) * | 2005-10-21 | 2007-05-10 | Nikon Corp | 基板ホルダ、露光装置及びデバイスの製造方法 |
| JP2007227911A (ja) * | 2006-02-09 | 2007-09-06 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
| JP4667404B2 (ja) * | 2006-02-09 | 2011-04-13 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
| JP2009088530A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-04-23 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置、ステージ装置及びデバイス製造方法 |
| JP2012151490A (ja) * | 2007-09-28 | 2012-08-09 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置、ステージ装置及びデバイス製造方法 |
| US8384881B2 (en) | 2007-09-28 | 2013-02-26 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, stage apparatus and device manufacturing method |
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