JPH0936599A - 基板の保持方法およびその装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 基板の形状に拘らず、また、基板が反ってい
たり変形していても安定した静止状態に確実に保持可能
な基板の保持方法およびその装置の提供。 【構成】 真空吸引用の吸引路が形成されたホルダーベ
ース上に、多孔質のエラストマー部材からなる基板保持
用のホルダーを固着するとともに、ロックユニットをそ
の内周面が前記ホルダーの外周側面を押圧可能に設置
し、前記ホルダー上に基板を載置して前記ホルダーベー
スの吸引路を真空吸引し、前記ホルダーの多孔を介して
基板を吸着保持した後、該基板を前記ロックユニットを
介して前記ホルダーの基板吸着保持面以外の部分の変形
を拘束して保持する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、電子回路基板やプリン
ト配線基板等の保持方法およびその装置に係わり、特
に、多層セラミック基板などのように表面あるいは裏面
に部品が搭載されていて凹凸を有し、しかも厚さが数ｍ
ｍ程度の高い剛性を有する基板の保持に好適な基板の保
持方法およびその装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来技術を半導体基板の保持装置を例に
して説明する。従来、半導体基板のウエハやマスク、レ
チクルなどの保持方法や保持装置として、特公昭６０−
２２１２３３号公報、特開平３−２０１４５８号公報、
特開平６−１５１５６２号公報で開示された方法があ
る。これらの方法は多孔質のプラスチックフィルムやス
ポンジを介して真空吸引力により半導体基板を吸着保持
するものである。プラスチックフィルムやスポンジ等の
柔らかい部材を介して真空吸引する目的は、半導体を吸
着保持する際に基板の被吸着面に傷をつけたり、基板と
吸着保持面との間に異物を挾み込んで基板にダメージを
与えないようにするためである。

【０００３】また、特開平４−２０１０３９号公報に
は、円柱状に形成された弾性多孔体（スポンジゴム等）
を介してレンズを吸着保持しながらレンズ研磨を行い、
被加工レンズの着脱が容易にできるようにした真空吸着
タイプのレンズ保持具が開示されている。

【０００４】上記の各吸着保持装置は、基板自身の反り
が小さく、被吸着面の平坦度が高く、かつ表面粗さも極
力高精度（数μｍ以内）に形成されている場合に適して
いる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】近年、電子回路基板は
実装の高密度化が著しく、特に、大型計算機やワークス
テーション等に用いられる電子回路基板は、サーキット
テクノロジー（Ｖｏｌ．４Ｎｏ．３（１９８９）ｐ１５
１〜ｐ１５５）で述べられているように、厚さ数ｍｍの
多層セラミック基板上に半導体技術を応用して回路パタ
ーンを形成し、ＩＣやＬＳＩ、抵抗、さらに入出力ピン
を組み立てて電子回路を形成する。

【０００６】この電子回路基板に用いられる多層セラミ
ック基板は、アルミナやムライト或いはシリコン等の材
料を数百℃以上の温度で焼結して製作する。このため、
これらの基板の厚さは数ｍｍ以上あり、半導体基板（ウ
エハやマスク）に比べ厚くて剛性が高く、数十μｍない
し数百μｍの基板の反りや変形量が生じている。

【０００７】また、この種の電子回路基板では、基板の
両面にめっきや薄膜加工による配線加工が施されたり、
ＩＣやＬＳＩのほか抵抗やコンデンサ等の電子部品が載
置される。これらの配線加工や電子部品の搭載は、基板
の両面に施されるため、基板の裏面にめっきや電子部品
が搭載されている状態、つまり基板の裏面にめっきや電
子部品の搭載により凹凸が生じている状態で、回路パタ
ーンを形成したり、電子部品を搭載したり、或いは回路
パターンの検査や搭載された電子部品の接続状態を検査
する必要がある。

【０００８】しかし、上記従来の保持方法を用いて、基
板の被保持部に凹凸がある電子回路パターンを形成した
り、電子部品を搭載したり、或いは回路パターンの検査
や搭載された電子部品の接続状態を検査する等の場合に
ついては考慮されていなかった。

【０００９】すなわち、電子回路基板の露光装置や検査
装置或いは部品搭載装置においては、光学系が複雑で高
精密であるため、対象となる基板をＸＹに走査して露光
や検査或いは部品搭載している。このような装置に上記
従来の保持装置を用いると、被保持部の凹凸により基板
が傾斜したり、基板をＸＹに走査中に基板が走査方向に
揺れたり、走査方向に対して直角方向に振動したりし
て、基板の安定した静止状態が得られない。このため、
基板を確実に保持することができず、露光時の配線パタ
ーンの焼き付け精度が低下したり、部品搭載位置精度が
低下したり、或いはこれらの配線パターンや搭載された
部品が、検査中に振動したり位置ずれしたりして検査精
度が低下する問題を生じることになる。

【００１０】上記の問題を解決するための従来技術とし
ては、厚さ数ｍｍ以上の半導体用マスクやレチクルのよ
うな表裏面が平坦な基板の場合は、機械的に保持する方
法も用いられてきた。図４は従来から用いられている基
板の保持方法の一例を示すものである。図４（ａ）の平
面図に示すように、基板１０１は保持台１０２上に載置
され、ピン１０３ａ，１０３ｂ，１０３ｃに基板１０１
の側面１０１ａ，１０１ｂをプッシャー１０４で押しつ
け（押しつけ機構図示せず）、保持台１０２上に載置拘
束している。

【００１１】この方法では、基板１０１の側面１０１
ａ，１０１ｂがピン１０３ａ，１０３ｂ，１０３ｃに接
触し、また、プッシャー１０４で基板１０１の側面１０
１ｃ，１０１ｄに衝撃力を作用させるため、基板が破損
したり、変形したりする不具合があった。また、この方
法は、前記従来の保持装置と同様に、基板の被保持面に
凹凸が生じている場合については考慮されてなく、さら
に、図４（ｂ）の正面図に示すように基板の安定した静
止状態が得られないため、基板を確実に保持することは
できない。

【００１２】本発明の第１の目的は、被保持部材として
の基板が反っていたり、変形していたり、或いは基板の
被保持面に凹凸があったりしても、基板に無理な力を作
用させないで、基板が揺れたり振動することなく、表面
状態を安定した静止状態に保持することができる基板の
保持方法およびその装置を提供するにある。

【００１３】本発明の第２の目的は、真空中、水中、油
中等の大気中以外の雰囲気中でも、被保持部材としての
基板が反っていたり、変形していたり、或いは基板の被
保持面に凹凸があったりしても、基板に無理な力を作用
させないで、基板が揺れたり振動することなく、表面状
態を安定した静止状態に保持することができる基板の保
持方法およびその装置を提供するにある。

【００１４】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、第１の本発明の基板の保持方法は、電子回路基板や
プリント配線基板等の基板を、多孔質の弾性材を介して
吸着保持する基板の保持方法において、真空吸引用の吸
引路が形成されたホルダーベース上に、多孔質のエラス
トマー部材からなる基板保持用のホルダーを固着すると
ともに、ロックユニットをその内周面が前記ホルダーの
外周側面を押圧可能に設置し、前記ホルダー上に基板を
載置して前記ホルダーベースの吸引路を真空吸引し、前
記ホルダーの多孔を介して基板を吸着保持した後、該基
板を前記ロックユニットを介して前記ホルダーの基板吸
着保持面以外の部分の変形を拘束して保持する構成にし
たものである。

【００１５】また、第２の本発明の基板の保持方法は、
電子回路基板やプリント配線基板等の基板を、弾性材を
介して吸着保持する基板の保持方法において、電磁コイ
ルが付設されたホルダーベース上に、磁性体を混入して
形成された磁性を有するエラストマー部材からなる基板
保持用のホルダーを固着するとともに、ロックユニット
をその内周面が前記ホルダーの外周側面を押圧可能に設
置し、前記ホルダー上に磁性体基板を載置してホルダー
ベースおよびホルダーを励磁し、前記ホルダーにより磁
性体基板を保持した後、該磁性体基板を前記ロックユニ
ットを介して前記ホルダーの磁性体基板を保持する面以
外の部分の変形を拘束して保持する構成にしたものであ
る。

【００１６】そして、前記ロックユニットによる基板を
保持する面以外の部分の変形の拘束を、流体圧を介して
行われる構成にするとよい。

【００１７】一方、第１の本発明の基板の保持装置は、
電子回路基板やプリント配線基板等の基板を、多孔質の
弾性材を介して吸着保持する基板の保持装置において、
真空吸引用の吸引路が形成されたホルダーベースと、該
ホルダーベース上に固着された多孔質のエラストマー部
材からなる基板保持用のホルダーと、該ホルダー上に載
置された基板を前記ホルダーベースの吸引路およびホル
ダーの多孔を介して真空吸引する吸引手段と、前記ホル
ダーベース上に設置され、前記ホルダーの外周側面を押
圧可能で、かつ該押圧により前記ホルダーの基板吸着保
持面以外の部分の変形を拘束可能なロックユニットとを
備える構成にしたものである。

【００１８】また、第２の本発明の基板の保持装置は、
電子回路基板やプリント配線基板等の基板を、弾性材を
介して吸着保持する基板の保持装置において、電磁コイ
ルが付設されたホルダーベースと、該ホルダーベース上
に固着された磁性体を混入して形成された磁性を有する
エラストマー部材からなる基板保持用のホルダーと、前
記電磁コイルを介してホルダーベース、ホルダーおよび
ホルダー上に載置された磁性体基板を励磁する励磁手段
と、前記ホルダーベース上に設置され、前記ホルダーの
外周側面を押圧可能で、かつ該押圧により前記ホルダー
の基板吸着保持面以外の部分の変形を拘束可能なロック
ユニットとを備える構成にしたものである。

【００１９】そして、前記ロックユニットを、中空断面
形状で、かつ該中空断面内に流体圧が供給された際に膨
張可能な弾性体にて形成し、該膨張時にその内周面によ
り前記ホルダーの外周側面を押圧する構成にすることが
好ましい。

【００２０】また、前記エラストマー部材を、弾性率
０.１〜１００ｋｇ／ｃｍ²、弾性限界伸び１２０％以
上、ショアー硬度ＨｓＡ８０以内である構成にすること
が望ましい。

【００２１】

【作用】上記構成としたことにより、エラストマー部材
からなるホルダーの無数の微小な孔から平均的な吸引力
が作用し、基板が反っていたり、変形していたり、ある
いは表面に凹凸があったりしても、ホルダーが基板の表
面状態に倣って変形して該基板に密着し、基板に無理な
力を作用させないで基板を変形させることなく吸着保持
することができる。

【００２２】そして、上記基板を吸着保持した後、ホル
ダーの基板吸着保持面以外の部分の変形を拘束して保持
するため、ホルダーが変形できなくなり、基板に移動方
向の外力が作用しても、基板が揺れたり振動したりする
ことなく、表面状態を安定した静止状態に保持すること
が可能になる。

【００２３】また、基板が磁性体あるいは基板の被保持
部が磁性体の場合、基板が反っていたり、変形していた
り、あるいは表面に凹凸があったりしても、ホルダーの
全面から平均的な磁力が作用し、ホルダーが基板の表面
状態に倣って変形して該基板に密着し、基板に無理な力
を作用させないで基板を変形させることなく保持するこ
とができる。

【００２４】そして、上記基板を保持した後、ホルダー
の基板吸着保持面以外の部分の変形を拘束して保持する
ため、ホルダーが変形できなくなり、基板に移動方向の
外力が作用しても、基板が揺れたり振動したりすること
なく、表面状態を安定した静止状態に保持することが可
能になる。

【００２５】

【実施例】以下、本発明の実施例を図１ないし図３を参
照して順に説明する。図１は本発明の第１の実施例の基
本構成を示す図で、被保持面に配線パターン等の凹凸の
ある基板を保持する例についての説明図である。

【００２６】図１において、基板１は、孔径が数μｍ〜
数百μｍの多孔質のエラストマー（ｅｌａｓｔｏｍｅ
ｒ：張力が加えられると伸び、張力を除くとすばやく収
縮して完全に元の長さに回復する性質を有するゴムや樹
脂などのような軟らかい物質）部材であるホルダ２上に
載置されている。ホルダー２はホルダーベース３の保持
面４に接着あるいは焼き付けなどにより固定され、ホル
ダーベース３には吸引路（吸引穴）５が配設されてい
る。そして、中空断面のロックユニット６の内周面６ａ
が、ホルダー２の外周側面２ｂに接するようにホルダー
ベース３上に設置されている。ロックユニット６はその
中空断面内に空気圧が供給されると、タイヤチューブの
ように膨張してホルダー２の外周側面２ｂを均一に押圧
するようになっている。

【００２７】なお、上記エラストマー部材からなるホル
ダー２の性状は、弾性率が０.１〜１００ｋｇ／ｃｍ²、
弾性限界伸び１２０％以上、ショアー硬度ＨｓＡ８０以
内（ＨｓＤ３０以内）が好適で、また、多孔の孔径とし
ては数μｍ〜数百μｍ程度が好適である。

【００２８】上記構成において、基板１がホルダー２上
に載置されると、ホルダー２の表面２ａが基板１の被保
持面１ａの凹凸部１ｂに倣って変形し、ホルダー２の外
周側面２ｂもホルダー２の表面２ａの変形に呼応して変
形する。このホルダー２の変形状態でホルダーベース３
の吸引路５を真空吸引すると、基板１はホルダー２の多
孔を介して真空吸着される。

【００２９】基板１がホルダー２の表面２ａに吸着保持
された後、ロックユニット６内に空気を供給すると、ホ
ルダー２の外周側面２ｂとロックユニット６の内周面６
ａとが密着状態に接触し、ホルダー２の基板吸着保持面
２ａ以外の部分の変形を拘束する。この状態で基板１に
水平方向の外力が作用しても、エラストマー部材である
ホルダー２の表面２ａは変形したり振動したりすること
はなく、表面状態を安定した静止状態に保持することが
できる。

【００３０】なお、本実施例ではロックユニット６に空
気を供給する場合について説明したが、ロック手段とし
ては空気以外の流体、例えば、水や油等の流体の圧力を
利用しても同様の作用を行わせることができる。

【００３１】つぎに、図２を参照して本発明の第２の実
施例を説明する。図２は本発明の第２の実施例の基本構
成を示す図で、被保持面に配線パターン等の凹凸のある
磁性体基板を保持する例についての説明図である。

【００３２】図２において、磁性体基板１１は、磁性体
を混入して形成されているエラストマー部材（ゴムや樹
脂などの軟らかい物質）からなる磁性ホルダー１２上に
載置され、磁性ホルダー１２は磁性ホルダーベース１３
の保持面１４に接着あるいは焼き付けなどにより固定さ
れている。磁性ホルダーベース１３には、電磁コイル１
５が付設されておりスイッチ１７をＯＮ／ＯＦＦするこ
とにより、磁性ホルダーベース１３、磁性ホルダー１２
が励磁されるようになっている。そして、中空断面のロ
ックユニット１６の内周面１６ａが、磁性ホルダー１２
の外周側面１２ｂに接するように磁性ホルダーベース１
３上に設置されている。このロックユニット１６は、前
記図１に示したロックユニット６と同様の機能を有して
おり、その中空断面内に空気等の流体圧が供給される
と、タイヤチューブのように膨張して磁性ホルダー１２
の外周側面１２ｂを均一に押圧するようになっている。

【００３３】なお、上記エラストマー部材からなる磁性
ホルダー１２の性状は、前記図１に示す性状と同一にす
ることが望ましい。

【００３４】上記構成の動作を説明する。磁性体基板１
１が磁性ホルダー１２上に載置されると、磁性ホルダー
１２の表面１２ａが磁性体基板１１の被保持面１１ａの
凹凸部１ｂに倣って変形し、磁性ホルダー１２の外周側
面１２ｂも磁性ホルダー１２の表面１２ａの変形に呼応
して変形する。この磁性ホルダー１２の変形状態でスイ
ッチ１７をＯＮして電磁コイル１５に通電すると、磁性
ホルダーベース１３、磁性ホルダー１２および磁性体基
板１１が励磁され、保持される面に凹凸がある磁性体基
板１１であっても確実に保持される。

【００３５】磁性体基板１１が磁性ホルダー１２の表面
１２ａに吸着保持された後、ロックユニット１６内に空
気圧を供給すると、前記第１の実施例と同様に、磁性ホ
ルダー１２の外周側面１２ｂとロックユニット１６の内
周面１６ａとが密着状態に接触し、磁性ホルダー１２の
基板吸着保持面１２ａ以外の部分の変形を拘束する。こ
の状態で基板１１に水平方向の外力が作用しても、エラ
ストマー部材である磁性ホルダー１２の表面は変形した
り振動したりすることはなく、表面状態を安定した静止
状態に保持することができる。本実施例においても前記
第１の実施例と同様に、ロック手段として空気以外の流
体、例えば、水や油等の流体の圧力を利用してもよいの
は勿論である。

【００３６】上記の如く本実施例は、吸着手段に磁気を
使用しているため、大気中以外の雰囲気、例えば、真空
中や液体中等においても使用することが可能である。す
なわち、工作機械で切削油等を用いて加工する場合や、
真空雰囲気でのイオンビーム加工用のホルダーとしても
好適である。

【００３７】なお、上記図１示すロックユニット６およ
び図２に示すロックユニット１６は、いずれも流体を使
用するロック手段であるが、バネやリング状のベルトの
機械的な弾性変形を使用するロック手段にしてもよい。
また、図１および図２に示す基板の保持装置を、露光装
置や検査装置或いは加工装置に用いると、被保持物の表
面状態を変形させることなく安定した静止状態に吸着保
持することができるため、露光精度、検査精度、加工精
度を向上することができる。

【００３８】つぎに、図３を参照して前記図１に示す本
発明の第１の実施例の基板の保持装置を、検査装置に用
いた例について説明する。図中、図１と同符号のものは
同じものを示す。図３において、基板１は真空路が形成
されているホルダーベース３に固定されている多孔質の
エラストマー部材であるホルダー２上に載置されてい
る。

【００３９】ホルダーベース３にはロックユニット６が
ホルダー２の外周面２ｂに接するように設置されてい
る。ホルダーベース３は変位ユニット２１ａ，２１ｂ，
２１ｃを介してＸＹΘステージ２２上に載置されてい
る。

【００４０】基板１の上方にはレンズ２３を介して基板
上のパターンを検出するパターン検出器２４が設置され
ており、また、高さ検出器２５ａ，２５ｂ，２５ｃが変
位ユニット２１ａ，２１ｂ，２１ｃの上方にそれらと対
応するよう設けられている。変位ユニット２１ａ，２１
ｂ，２１ｃは、例えば電歪素子のように、電圧を印加す
ることにより変位が得られるものであり、高さ検出器２
５ａ，２５ｂ，２５ｃは、基板１の表面１ｃの反射光を
光学的に検出することで、高さ検出器２５ａ，２５ｂ，
２５ｃから基板１までの距離を計測するものである。こ
れは、例えば、特開平５−２９４２０に開示されている
ような光学的な検出器である。

【００４１】高さ検出器２５ａ，２５ｂ，２５ｃの各出
力は、高さ検出回路２６に入力され、その結果は変位駆
動ユニット２７に入力されて、高さ検出器２５ａ，２５
ｂ，２５ｃの各出力値が一致するように変位ユニット２
１ａ，２１ｂ，２１ｃを駆動するようになっている。な
お、高さ検出器２５ａ，２５ｂ，２５ｃは、基板１の表
面１ｃがレンズ２３の焦点深度以内の時に各出力値が一
致するようにあらかじめ調整されている。

【００４２】上記構成において、基板１がホルダー２に
載置されると、前記図１で説明した動作と同様にして吸
着される。このとき基板１の表面１ｃが傾斜している
と、高さ検出器２５ａ，２５ｂ，２５ｃの各出力値が異
なる。この各出力値が一致するように変位ユニット２１
ａ，２１ｂ，２１ｃが駆動される。基板１の表面１ｃの
高さがその傾きを補正されて一致すると、レンズ２３を
介して基板１の表面１ｃのパターンをパターン検出器２
４で検出する。そして、検出したパターン画像に基づい
て図示しない欠陥判定機能により欠陥を判定する。

【００４３】本実施例の検査装置の場合、基板１の厚さ
が数ｍｍ以上と厚く、被保持面１ａが反って変形してい
たり、凹凸があったりしても、基板１の表面１ｃを容易
に平坦にして吸着保持することができる。検査中、ロッ
クユニット６でホルダー２の外周側面２ｂを拘束し、Ｘ
ＹΘステージ２２を走査しながら画像検出しているた
め、ホルダー２は該走査中、安定した静止状態を保持す
ることができる。このため、水平方向に揺れることがな
く、位置ずれのない高精度の画像検出ができるととも
に、基板表面１ｃの振動もなく静止した水平な高さを保
つことができ、確実にかつ高精度の検査が実現できる。

【００４４】本実施例は、本発明の基板の保持装置を、
検査装置に用いた例について説明したが、露光装置、測
定装置、或いは加工装置などに用いても同様な効果を得
られることは明らかである。

【００４５】

【発明の効果】以上説明したように本発明は、被保持部
材としての基板が、反っていたり、変形していたり、或
いは基板の被保持面に凹凸があったりしても、また、真
空中、水中、油中等の大気中以外の雰囲気中であって
も、基板に無理な力を作用させないで、基板が揺れたり
振動することなく、表面状態を安定した静止状態に保持
することができる効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例の基本構成を示す図であ
る。

【図２】本発明の第２の実施例の基本構成を示す図であ
る。

【図３】図３は図１に示す基板の保持装置を検査装置に
用いた場合の構成例を示す図である。

【図４】従来の基板の保持装置の一例を示す図で、
（ａ）は平面図、（ｂ）は正面図である。

【符号の説明】

１…基板、１ａ…被保持面、１ｂ…凹凸部、１ｃ…表
面、２…ホルダー、２ａ…表面、２ｂ…外周側面、３…
ホルダーベース、５…吸引路、６…ロックユニット、６
ａ…内周面、１１…磁性体基板、１１ａ…被保持面、１
２…磁性ホルダー、１２ａ…表面、１２ｂ…外周側面、
１３…磁性ホルダーベース、１５…電磁コイル、１６…
ロックユニット、１６ａ…内周面、２１ａ，２１ｂ，２
１ｃ…変位ユニット、２２…ＸＹΘステージ、２３…レ
ンズ、２４…パターン検出器、２５ａ，２５ｂ，２５ｃ
…高さ検出器、２６…高さ検出回路。

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 電子回路基板やプリント配線基板等の基
   板を、多孔質の弾性材を介して吸着保持する基板の保持
   方法において、真空吸引用の吸引路が形成されたホルダ
   ーベース上に、多孔質のエラストマー部材からなる基板
   保持用のホルダーを固着するとともに、ロックユニット
   をその内周面が前記ホルダーの外周側面を押圧可能に設
   置し、前記ホルダー上に基板を載置して前記ホルダーベ
   ースの吸引路を真空吸引し、前記ホルダーの多孔を介し
   て基板を吸着保持した後、該基板を前記ロックユニット
   を介して前記ホルダーの基板吸着保持面以外の部分の変
   形を拘束して保持することを特徴とする基板の保持方
   法。
2. 【請求項２】 電子回路基板やプリント配線基板等の基
   板を、弾性材を介して吸着保持する基板の保持方法にお
   いて、電磁コイルが付設されたホルダーベース上に、磁
   性体を混入して形成された磁性を有するエラストマー部
   材からなる基板保持用のホルダーを固着するとともに、
   ロックユニットをその内周面が前記ホルダーの外周側面
   を押圧可能に設置し、前記ホルダー上に磁性体基板を載
   置してホルダーベースおよびホルダーを励磁し、前記ホ
   ルダーにより磁性体基板を保持した後、該磁性体基板を
   前記ロックユニットを介して前記ホルダーの磁性体基板
   を保持する面以外の部分の変形を拘束して保持すること
   を特徴とする基板の保持方法。
3. 【請求項３】 前記ロックユニットによる基板を保持す
   る面以外の部分の変形の拘束が、流体圧を介して行われ
   る請求項１または２記載の基板の保持方法。
4. 【請求項４】 電子回路基板やプリント配線基板等の基
   板を、多孔質の弾性材を介して吸着保持する基板の保持
   装置において、真空吸引用の吸引路が形成されたホルダ
   ーベースと、該ホルダーベース上に固着された多孔質の
   エラストマー部材からなる基板保持用のホルダーと、該
   ホルダー上に載置された基板を前記ホルダーベースの吸
   引路およびホルダーの多孔を介して真空吸引する吸引手
   段と、前記ホルダーベース上に設置され、前記ホルダー
   の外周側面を押圧可能で、かつ該押圧により前記ホルダ
   ーの基板吸着保持面以外の部分の変形を拘束可能なロッ
   クユニットとを備えたことを特徴とする基板の保持装
   置。
5. 【請求項５】 電子回路基板やプリント配線基板等の基
   板を、弾性材を介して吸着保持する基板の保持装置にお
   いて、電磁コイルが付設されたホルダーベースと、該ホ
   ルダーベース上に固着された磁性体を混入して形成され
   た磁性を有するエラストマー部材からなる基板保持用の
   ホルダーと、前記電磁コイルを介してホルダーベース、
   ホルダーおよびホルダー上に載置された磁性体基板を励
   磁する励磁手段と、前記ホルダーベース上に設置され、
   ホルダーの外周側面を押圧可能で、かつ該押圧により前
   記ホルダーの基板吸着保持面以外の部分の変形を拘束可
   能なロックユニットとを備えたことを特徴とする基板の
   保持装置。
6. 【請求項６】 前記ロックユニットが、中空断面形状
   で、かつ該中空断面内に流体圧が供給された際に膨張可
   能な弾性体にて形成され、該膨張時にその内周面により
   前記ホルダーの外周側面を押圧する構成からなる請求項
   ４または５記載の基板の保持装置。
7. 【請求項７】 前記エラストマー部材が、弾性率０.１
   〜１００ｋｇ／ｃｍ²、弾性限界伸び１２０％以上、シ
   ョアー硬度ＨｓＡ８０以内である請求項４または５記載
   の基板の保持装置。