JP2009088530A - リソグラフィ装置、ステージ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 リソグラフィ装置について説明し、装置は、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン付き放射ビームを生成することができるパターニングデバイスを支持するように構築された支持体と、基板を保持するように構築された基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、基板テーブルを保持するように構築されたチャックと、使用時にチャックを変位する位置決めデバイスと、位置決めデバイスを制御するように構成された制御ユニットと、を備え、制御ユニットは、位置決めデバイスを駆動して、パターニングデバイスを位置合わせする前に、チャックの変形を可能にする実質的に動的な力によってチャックを励起するように構成される。
【選択図】なし
Description
本発明の別の実施形態では、オブジェクトを位置決めするステージ装置が提供され、ステージ装置は、オブジェクトを保持するように構築されたテーブルと、テーブルを保持するように構築されたチャックと、使用時にチャックを変位する位置決めデバイスと、位置決めデバイスを制御するように構成された制御ユニットと、を備え、制御ユニットは、位置決めデバイスを駆動して、実質的に動的な力によってチャックを励起し、チャックの変形を可能にするように構成される。
本発明のさらに別の実施形態では、パターンをパターニングデバイスから基板に転写することを含むデバイス製造方法が提供され、基板は基板テーブルによって保持され、基板テーブルはチャックによって保持され、方法は、
a)基板テーブルを保持するために、基板テーブルとチャックの間に実質的に静的な力を加え、
b)チャックの変形を可能にする実質的に動的な力によってチャックを励起し、
c)パターニングデバイスを基板と位置合わせし、
d)パターンをパターニングデバイスから基板に転写することを含む。
図1はさらに、マスクと基板を位置合わせする前に、チャックの変形を可能にする実質的に動的な力によってチャックを励起するために、第二位置決め装置PWを制御するように構成された制御ユニットCUを概略的に示す。
そうすることによって、以下でさらに詳細に説明するように、チャックを加速することによって引き起こされるチャック変形のヒステリシス効果を軽減することができる。その結果、チャックと基板テーブルとの相対位置が、チャックの加速から受ける影響が少なくなる。これによって、露光プロセスの精度を改良することができる。というのは、チャックの位置測定と基板の正確な位置との間の対応を改良できるからである。
図2は、本発明によるステージ装置の実施形態を概略的に示している。このようなステージ装置は、例えばパターニングデバイス又は基板を位置決めするためにリソグラフィ装置に適用することができる。図2は、例えば真空又は静電クランプなどの締め付け機構120を介してチャック110に装着された基板テーブル100を概略的に示している。基板130は基板テーブル100に装着される。チャック110は位置決めデバイス150に装着され、これは例えばチャックを6自由度で位置決めできるようにする複数のアクチュエータを備えることができる。上述したように、位置決めデバイスは、短い距離にわたってnmの精度で位置決めを可能にするいわゆるショートストロークモジュール170を、より長い距離にわたるが、これより低い精度で変位を可能にするいわゆるロングストロークモジュール180との組合せで備えることができる。一般的に、チャックをショートストロークモジュールに装着することができ、ロングストロークモジュールは、ショートストロークモジュールを変位するように構成される。そうすることによって、ロングストロークモジュールの全動作範囲にわたってチャックの正確な位置決めを達成することができる。ステージ装置はさらに、位置決めデバイスを制御する制御ユニット160を備えることができる。制御ユニットは、位置決めデバイスを駆動して、チャックの変形を可能にする実質的に動的な力によってチャックを励起するように構成される。このようなステージ装置をリソグラフィ装置に適用する場合、これは、例えば基板などの正確な変位及び位置決めに使用することができる。このような構成では、リソグラフィ装置は、ステージ装置のチャックと協働するように構成された測定システムを装備することができる。図3a及び図3bは、このような構成の2つの例を概略的に示している。
Claims (20)
- 放射ビームを調整するように構成された照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構築された支持体と、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、
基板テーブルを保持するように構築されたチャックと、
使用時に前記チャックを変位する位置決めデバイスと、
前記位置決めデバイスを制御するように構成された制御ユニットと、を備え、
前記制御ユニットが、前記位置決めデバイスを駆動し、前記パターニングデバイスの位置合わせの前に、前記チャックの変形を可能にする実質的に動的な力で前記チャックを励起するように構成される
リソグラフィ装置。 - 前記制御ユニットが、前記チャックを交流加速で加速させるように構成される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御ユニットが、前記チャックで少なくとも約1000回の動作サイクルを実行するために前記位置決めデバイスを駆動するように構成される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御ユニットが前記チャックを振動させるように構成される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御ユニットが、ある周波数帯の雑音バーストを前記チャックに加えさせるように構成される、請求項4に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御ユニットが、単一周波数の周期信号を前記チャックに加えさえるように構成される、請求項4に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御ユニットが、前記チャックを前記チャックの共振周波数で励起するために、前記位置決めデバイスを駆動するように構成される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記共振周波数がチャックねじり共振モードを含む、請求項7に記載のリソグラフィ装置。
- オブジェクトを位置決めするステージ装置であって、
前記オブジェクトを保持するように構築されたテーブルと、
前記テーブルを保持するように構築されたチャックと、
使用時に前記チャックを変位する位置決めデバイスと、
前記位置決めデバイスを制御するように構成された制御ユニットと、を備え、
制御ユニットが、前記位置決めデバイスを駆動して、前記チャックの変形を可能にする実質的に動的な力によって前記チャックを励起するように構成されたステージ装置。 - 前記制御ユニットが、前記チャックを前記チャックの共振周波数で励起するために、前記位置決めデバイスを駆動するように構成される、請求項9に記載のステージ装置。
- パターンをパターニングデバイスから基板に転写することを含むデバイス製造方法であって、前記基板が前記基板テーブルによって保持され、前記基板テーブルが前記チャックによって保持され、
a)前記基板テーブルを保持するために、前記基板テーブルと前記チャックの間に実質的に静的な力を加え、
b)前記チャックの変形を可能にする実質的に動的な力によって前記チャックを励起し、
c)前記パターニングデバイスを前記基板と位置合わせし、
d)前記パターンを前記パターニングデバイスから前記基板に転写することを含む方法。 - b)が、前記チャックを交流加速で加速することを含む、請求項11に記載の方法。
- 前記加速のレベルが、前記チャックの加速中に上昇する、請求項12に記載の方法。
- b)が、前記チャックで少なくとも1000回の動作サイクルを実行することを含む、請求項12に記載の方法。
- b)が前記パターニングデバイスを振動することを含む、請求項12に記載の方法。
- b)が所定の周波数帯の雑音バーストを前記チャックに加えることを含む、請求項15に記載の方法。
- b)が周波数掃引周期信号を前記チャックに加えることを含む、請求項15に記載の方法。
- b)が単一周波数の周期信号を前記チャックに加えることを含む、請求項15に記載の方法。
- b)の前記励起が、前記チャックの共振周波数で実行される、請求項11に記載の方法。
- 前記共振周波数がチャックのねじり共振モードを含む、請求項19に記載の方法。
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