JP7105627B2 - 露光方法、露光装置、および物品の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明に係る第1実施形態を添付の図面に基づいて詳細に説明する。図1は、本実施形態の露光装置100の構成を示す図である。図1に示す露光装置100は、投影光学系2と基板W(ウェハ)との間に液体を介在させずに基板Wを露光する露光装置と、投影光学系2と基板Wとの間に液体を介在させて基板Wを露光する液浸露光装置とのいずれかであってよい。以下では、半導体デバイスの回路パターンが形成された原版M(レチクル、マスク)を用いて、回路パターンを基板上に転写する露光装置について説明する。
本発明に係る第2実施形態について説明する。第2実施形態では、図1に示すように、原版ステージ3(原版チャック3a)による原版Mの保持力を検出する検出部6を設け、当該検出部6による原版Mの保持力の検出結果に応じて第1工程(第1加速度での原版ステージ3の走査駆動)を終了する。原版Mの保持力とは、例えば、真空吸着圧や静電吸着圧である。なお、本実施形態の露光装置の構成は、第1実施形態と同様であるため、ここでの説明を省略する。
本発明に係る第3実施形態について説明する。第3実施形態では、原版ステージ3の走査駆動の回数をカウントし、そのカウントした回数に応じて第1工程(第1加速度での原版ステージ3の走査駆動)を終了する。なお、本実施形態の露光装置の構成は、第1実施形態と同様であるため、ここでの説明を省略する。
本発明の実施形態にかかる物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板に塗布された感光剤に上記の露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程(基板を露光する工程)と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像(加工)する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
Claims (27)
- ステージにより保持された原版を走査しながら、前記原版を介して基板の露光を行う露光方法であって、
最大加速度が第1加速度となるように、前記基板の露光を行わずに前記ステージを走査駆動する第1工程と、
前記第1工程の後、最大加速度が第2加速度となるように、前記基板の露光を行わずに前記ステージを走査駆動する第2工程と、
前記第2工程の後、前記基板の露光を行いながら前記ステージを走査駆動する第3工程と、
を含み、
前記第1加速度は前記第2加速度より小さく、
前記第1工程および前記第2工程の各々における前記ステージの走査駆動は、前記ステージの加速度が一定である等加速期間を有する加速動作と、前記ステージの減速度が一定である等減速期間を有する減速動作とを含み、
前記第1工程における前記ステージの走査駆動の回数は、4回から10回の範囲内である、ことを特徴とする露光方法。 - 前記第1工程は、前記ステージによる前記原版の保持が開始された後の最初の前記ステージの走査駆動を含む、ことを特徴とする請求項1に記載の露光方法。
- 前記第1加速度および前記第2加速度は、前記第3工程で適用される前記ステージの走査駆動の最大加速度より小さい、ことを特徴とする請求項1又は2に記載の露光方法。
- 前記第3工程の前に、前記ステージの走査駆動による前記ステージ上での前記原版の位置変動が許容範囲に収まったか否かを判定する判定工程を更に含み、
前記判定工程において前記原版の位置変動が前記許容範囲に収まったと判定された場合に、前記第3工程を開始する、ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の露光方法。 - 前記判定工程において前記原版の位置変動が前記許容範囲に収まっていないと判定された場合、最大加速度を変更して、前記基板の露光を行わずに前記ステージを走査駆動する、ことを特徴とすることを特徴とする請求項4に記載の露光方法。
- 前記ステージによる前記原版の保持力の検出結果に応じて前記第1工程を終了する、ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の露光方法。
- 前記ステージによる前記原版の保持が開始された後、前記原版の保持力の検出結果が第1閾値を超えた場合に前記第1工程を開始し、
前記原版の保持力の検出結果が、前記第1閾値より大きい第2閾値を超えた場合に前記第1工程を終了する、ことを特徴とする請求項6に記載の露光方法。 - 前記第1工程で前記ステージの走査駆動を行った回数に応じて前記第1工程を終了する、ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の露光方法。
- 前記第1工程を行った時間に応じて前記第1工程を終了する、ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の露光方法。
- 前記第1工程では、前記第3工程と同じ移動ストロークで前記ステージを走査駆動する、ことを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の露光方法。
- 前記第1工程は、前記ステージの最大加速度と前記ステージに対する前記原版の位置変動との関係を示す情報に基づいて、前記原版の位置変動が許容範囲に収まるように前記第1加速度を決定することを含む、ことを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項に記載の露光方法。
- 前記第1加速度は、前記ステージの最大加速度と前記原版の位置変動の再現性との関係を示す第2情報に更に基づいて決定される、ことを特徴とする請求項11に記載の露光方法。
- 前記第1工程は、最大加速度が前記第1加速度になるように所定方向へ前記ステージを走査駆動することと、最大加速度が前記第1加速度になるように前記所定方向とは反対の方向に前記ステージを走査駆動することとを含む、ことを特徴とする請求項1乃至12のいずれか1項に記載の露光方法。
- 前記第1加速度は、前記第2加速度の40%に設定される、ことを特徴とする請求項1乃至12のいずれか1項に記載の露光方法。
- 前記第1加速度は、複数の加速度候補の各々について前記ステージの走査駆動によって得られる前記ステージに対する前記原版の位置変動の結果に基づいて、前記複数の加速度候補の中から決定される、ことを特徴とする請求項1乃至14のいずれか1項に記載の露光方法。
- ステージにより保持された原版を走査しながら、前記原版を介して基板の露光を行う露光方法であって、
最大加速度が第1加速度となるように、前記基板の露光を行わずに前記ステージを走査駆動する第1工程と、
前記第1工程の後、最大加速度が第2加速度となるように、前記基板の露光を行いながら前記ステージを走査駆動する第2工程と、
を含み、
前記第1加速度は前記第2加速度より小さく、
前記第1工程では、前記第2工程と同じ移動ストロークで前記ステージを走査駆動し、
前記第1工程における前記ステージの走査駆動の回数は10回以下である、ことを特徴とする露光方法。 - 前記第1工程における前記ステージの走査駆動の回数は、4回から10回の範囲内である、ことを特徴とする請求項16に記載の露光方法。
- 前記第1工程および前記第2工程の各々における前記ステージの走査駆動は、前記ステージの加速度が一定である等加速期間を有する加速動作と、前記ステージの減速度が一定である等減速期間を有する減速動作とを含む、ことを特徴とする請求項16又は17に記載の露光方法。
- ステージにより保持された原版を走査しながら、前記原版を介して基板の露光を行う露光方法であって、
最大加速度が第1加速度となるように、前記基板の露光を行わずに前記ステージを走査駆動する第1工程と、
前記第1工程の後、最大加速度が第2加速度となるように、前記基板の露光を行わずに前記ステージを走査駆動する第2工程と、
前記第2工程の後、前記基板の露光を行いながら前記ステージを走査駆動する第3工程と、
を含み、
前記第1加速度は前記第2加速度より小さく、
前記第1工程および前記第2工程の各々における前記ステージの走査駆動は、前記ステージの加速度が一定である等加速期間を有する加速動作と、前記ステージの減速度が一定である等減速期間を有する減速動作とを含み、
前記第1工程における前記ステージの走査駆動の回数は、4回から10回の範囲内であり、
前記第1工程は、前記ステージによる前記原版の保持が開始された後の最初の前記ステージの走査駆動を含む、ことを特徴とする露光方法。 - ステージにより保持された原版を走査しながら、前記原版を介して基板の露光を行う露光方法であって、
最大加速度が第1加速度となるように、前記基板の露光を行わずに前記ステージを走査駆動する第1工程と、
前記第1工程の後、最大加速度が第2加速度となるように、前記基板の露光を行わずに前記ステージを走査駆動する第2工程と、
前記第2工程の後、前記基板の露光を行いながら前記ステージを走査駆動する第3工程と、
を含み、
前記第1加速度は前記第2加速度より小さく、
前記第1工程および前記第2工程の各々における前記ステージの走査駆動は、前記ステージの加速度が一定である等加速期間を有する加速動作と、前記ステージの減速度が一定である等減速期間を有する減速動作とを含み、
前記第1工程における前記ステージの走査駆動の回数は、4回から10回の範囲内であり、
前記第1工程で前記ステージの走査駆動を行った回数に応じて前記第1工程を終了する、ことを特徴とする露光方法。 - ステージにより保持された原版を走査しながら、前記原版を介して基板の露光を行う露光方法であって、
最大加速度が第1加速度となるように、前記基板の露光を行わずに前記ステージを走査駆動する第1工程と、
前記第1工程の後、最大加速度が第2加速度となるように、前記基板の露光を行わずに前記ステージを走査駆動する第2工程と、
前記第2工程の後、前記基板の露光を行いながら前記ステージを走査駆動する第3工程と、
を含み、
前記第1加速度は前記第2加速度より小さく、
前記第1工程および前記第2工程の各々における前記ステージの走査駆動は、前記ステージの加速度が一定である等加速期間を有する加速動作と、前記ステージの減速度が一定である等減速期間を有する減速動作とを含み、
前記第1工程における前記ステージの走査駆動の回数は、4回から10回の範囲内であり、
前記第1工程を行った時間に応じて前記第1工程を終了する、ことを特徴とする露光方法。 - ステージにより保持された原版を走査しながら、前記原版を介して基板の露光を行う露光方法であって、
最大加速度が第1加速度となるように、前記基板の露光を行わずに前記ステージを走査駆動する第1工程と、
前記第1工程の後、最大加速度が第2加速度となるように、前記基板の露光を行わずに前記ステージを走査駆動する第2工程と、
前記第2工程の後、前記基板の露光を行いながら前記ステージを走査駆動する第3工程と、
を含み、
前記第1加速度は前記第2加速度より小さく、
前記第1工程および前記第2工程の各々における前記ステージの走査駆動は、前記ステージの加速度が一定である等加速期間を有する加速動作と、前記ステージの減速度が一定である等減速期間を有する減速動作とを含み、
前記第1工程における前記ステージの走査駆動の回数は、4回から10回の範囲内であり、
前記第1工程では、前記第3工程と同じ移動ストロークで前記ステージを走査駆動する、ことを特徴とする露光方法。 - 請求項1乃至22のいずれか1項に記載の露光方法を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光を行われた前記基板を現像する工程と、を含み、
現像された前記基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。 - 原版を走査しながら、前記原版を介して基板の露光を行う露光装置であって、
前記原版を保持して移動可能なステージと、
最大加速度が第1加速度となるように、前記基板の露光を行わずに前記ステージを走査駆動する第1工程を制御し、その後、最大加速度が第2加速度となるように、前記基板の露光を行わずに前記ステージを走査駆動する第2工程を制御し、その後、前記基板の露光を行いながら前記ステージを走査駆動する第3工程を制御する制御部と、
を含み、
前記第1加速度は前記第2加速度より小さく、
前記第1工程および前記第2工程の各々における前記ステージの走査駆動は、前記ステージの加速度が一定である等加速期間を有する加速動作と、前記ステージの減速度が一定である等減速期間を有する減速動作とを含み、
前記第1工程における前記ステージの走査駆動の回数は、4回から10回の範囲内である、ことを特徴とする露光装置。 - 原版を走査しながら、前記原版を介して基板の露光を行う露光装置であって、
前記原版を保持して移動可能なステージと、
最大加速度が第1加速度となるように、前記基板の露光を行わずに前記ステージを走査駆動する第1工程を制御し、その後、最大加速度が第2加速度になるように、前記基板の露光を行いながら前記ステージを走査駆動する第2工程を制御する制御部と、
を含み、
前記第1加速度は前記第2加速度より小さく、
前記第1工程では、前記第2工程と同じ移動ストロークで前記ステージを走査駆動し、
前記第1工程における前記ステージの走査駆動の回数は10回以下である、ことを特徴とする露光装置。 - 前記第1工程における前記ステージの走査駆動の回数は、4回から10回の範囲内である、ことを特徴とする請求項25に記載の露光装置。
- 前記第1工程および前記第2工程の各々における前記ステージの走査駆動は、前記ステージの加速度が一定である等加速期間を有する加速動作と、前記ステージの減速度が一定である等減速期間を有する減速動作とを含む、ことを特徴とする請求項25又は26に記載の露光装置。
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