JP2015231035A - 露光方法、露光装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
次に、デバイス(半導体デバイス、液晶表示デバイス等)の製造方法について説明する。半導体デバイスは、ウエハに集積回路を作る前工程と、前工程で作られたウエハ上の集積回路チップを製品として完成させる後工程を経ることにより製造される。前工程は、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたウエハを露光する工程と、ウエハを現像する工程を含む。後工程は、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディング)と、パッケージング工程(封入)を含む。液晶表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラス基板に感光剤を塗布する工程と、前述の走査露光装置を使用して感光剤が塗布されたガラス基板を露光する工程と、ガラス基板を現像する工程を含む。本実施形態のデバイス製造方法によれば、従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。
Claims (14)
- レチクルと基板とを走査しながら前記基板に露光を行う露光方法であって、
前記レチクルを保持するレチクルステージにその走査駆動範囲を往復させる走査駆動を複数回行い、該複数回の走査駆動のそれぞれによって発生した前記レチクルの前記レチクルステージに対する位置ずれ量を測定し、該測定された位置ずれ量を前記レチクルステージの走査駆動回数と関連付けた情報を生成する生成工程と、
前記露光を行うときのレチクルの位置ずれ量を、前記走査駆動回数と前記情報とに基づいて推定する推定工程と、
前記推定された位置ずれ量を低減するように、前記レチクルステージおよび前記基板を保持する基板ステージの少なくともいずれかの走査駆動を補正しながら前記露光を行う露光工程と、
を含むことを特徴とする露光方法。 - 前記生成工程で、前記露光を規定するレシピ単位に前記情報を生成し、前記推定工程で、前記露光が従うレシピに対応する前記情報に基づいて前記位置ずれ量を推定することを特徴とする請求項1に記載の露光方法。
- 前記生成工程で、レチクル単位に前記情報を生成し、前記推定工程で、前記露光で使用するレチクルに対応する前記情報に基づいて前記位置ずれ量を推定することを特徴とする請求項1に記載の露光方法。
- 前記推定工程で、前記露光で使用するレチクルを前記レチクルステージに搭載した後の前記レチクルステージの走査駆動回数に応じて前記位置ずれ量を推定することを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の露光方法。
- 前記生成工程の走査駆動における前記レチクルステージの加速度と前記露光工程の走査駆動における前記レチクルステージの加速度とは、等しいことを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1項に記載の露光方法。
- 前記露光に使用するレチクルを前記レチクルステージに初めて搭載した場合の前記生成工程における前記レチクルステージの走査駆動回数は、前記レチクルを前記レチクルステージに以前に搭載したことがある場合の前記生成工程における前記レチクルステージの走査駆動回数よりも多いことを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1項に記載の露光方法。
- 前記情報は、前記レチクルの位置ずれ量と前記走査駆動回数との関係を示す関数を特定する係数であることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1項に記載の露光方法。
- 前記情報は、前記レチクルの位置ずれ量と前記走査駆動回数との関係を示すテーブルであることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1項に記載の露光方法。
- 前記推定工程で、当該露光を行うまでの前記レチクルステージの走査駆動回数に基づいて前記位置ずれ量を推定することを特徴とする請求項1ないし8のいずれか1項に記載の露光方法。
- 前記露光工程を行った後で、前記レチクルの前記レチクルステージに対する位置ずれ量を再測定する再測定工程をさらに含み、
前記再測定工程で、該再測定された位置ずれ量と前記推定工程で推定された位置ずれ量との差が許容範囲を超える場合には、前記再測定された位置ずれ量を用いて前記情報を更新し、前記差が前記許容範囲に収まる場合には、前記情報を更新しないことを特徴とする請求項1ないし8のいずれか1項に記載の露光方法。 - 前記露光に使用するレチクルを複数のグループにグループ分けし、前記複数のグループのそれぞれに対応して基準レチクルを設定し、
前記生成工程で、基準レチクル毎に前記情報を生成し、前記推定工程で、前記露光で使用するレチクルが属するグループに対応する基準レチクルの前記情報に基づいて前記位置ずれ量を推定することを特徴とする請求項1に記載の露光方法。 - 請求項1ないし11のいずれか1項に記載の露光方法を用いて基板に露光を行う工程と、
前記露光が行われた前記基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法 - レチクルと基板とを走査しながら前記基板に露光を行う露光装置であって、前記レチクルを保持するレチクルステージと、前記基板を保持する基板ステージと、前記露光を制御する制御部とを備え、
前記制御部は、
前記レチクルステージにその走査駆動範囲をそれぞれ往復させる複数回の走査駆動のそれぞれによって発生した前記レチクルの前記レチクルステージに対する位置ずれ量の測定結果に基づいて生成された、前記位置ずれ量と前記レチクルステージの走査駆動回数とが関連付けられた情報を取得し、
前記露光を行うときのレチクルの位置ずれ量を、前記の走査駆動回数と前記情報とに基づいて推定し、
前記推定された位置ずれ量を低減するように、前記レチクルステージおよび前記基板を保持する基板ステージの少なくともいずれかの走査駆動を補正しながら前記露光を行う
ことを特徴とする露光装置。 - 前記情報を格納する格納部をさらに備え、
前記制御部は、前記格納部から前記情報を取得することを特徴とする請求項13に記載の露光装置。
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