JPH11251228A

JPH11251228A - スキャン型露光装置、スキャン露光方法及び記録媒体

Info

Publication number: JPH11251228A
Application number: JP10055008A
Authority: JP
Inventors: Tatsuo Sakai; 達生阪井
Original assignee: NEC Corp
Current assignee: NEC Corp
Priority date: 1998-03-06
Filing date: 1998-03-06
Publication date: 1999-09-17

Abstract

(57)【要約】【課題】被処理物上のショット領域と投影される前記
レチクルのパターンの像との位置合わせを高精度に行う
ことのできるスキャン型露光装置を提供する。【解決手段】図３の各矢印に示すように、スキャン露
光時のスキャン方向は、各ショット領域Ｎ１〜Ｎ２５毎
に交互に変更される。露光コントローラは、スキャン方
向毎に異なるアライメント補正値Ａ、Ｂに従って、アラ
イメントユニットコントローラの制御を補正し、レチク
ル及び被処理物の位置を微調整しながらスキャン露光す
る。すなわち、−Ｙ方向へのスキャンのときは、アライ
メント補正値Ａに従って、レチクル及び被処理物の位置
を微調整し、＋Ｙ方向へのスキャンのときは、アライメ
ント補正値Ｂに従って、レチクル及び被処理物の位置を
微調整しながらスキャン露光する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レチクルのパター
ンの像を被処理物に投影し、被処理物上の複数のショッ
ト領域に順次スキャン露光するスキャン型露光装置、ス
キャン露光方法及び記録媒体に関し、特に、被処理物上
のショット領域と投影される前記レチクルのパターンの
像との位置合わせ（アライメント）を高精度に行うこと
のできるスキャン型露光装置、スキャン露光方法及び記
録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体素子及び液晶表示素子等からなる
被処理物をフォトリソグラフィ技術を用いて製造する工
程において、露光装置が用いられている。露光装置は、
転写用のパターンが形成されたマスク（以下、「レチク
ル」という。）に均一な照明光を照射し、透過したレチ
クルのパターンの像を投影光学系を介してフォトレジス
ト等が塗布された半導体ウエハ又はガラスプレート等
（以下、「被処理物」という。）上のショット領域（形
成されるパターン領域）に露光する。

【０００３】レチクルのパターンの像が露光された被処
理物は、現像工程、成膜工程（エッチング処理、イオン
注入処理等）及びレジスト塗布工程等により処理された
後、再度露光装置により異なるレチクルのパターンの像
が露光される。その際、前回の露光により形成されたシ
ョット領域と投影されるレチクルのパターンの像とが正
確に重なるように位置合わせ（アライメント）し、露光
する。このような露光工程及び現像工程が繰り返され、
複数のレイヤ（配線層等）を有する被処理物が形成され
る。

【０００４】露光工程にて使用される露光装置は、前回
の露光時に被処理物上に設けられた複数のアライメント
マークの位置を検出し、各検出した値から被処理物の現
在位置に対する補正値を統計処理等の演算により算出す
る。露光装置は、算出した補正値に従って、レチクル及
び被処理物の位置を調整してショット領域に正確に露光
する。

【０００５】近年、転写対象パターンの大面積化及び投
影光学系の製造コストの抑制等の要求に応えるために、
スキャン型露光装置が使用されている。スキャン型露光
装置は、レチクルにスリットを介した照明光を照射した
状態で、レチクルを一方向にスキャン（走査）するのと
同期して、被処理物をレチクルの走査方向に対応する方
向にスキャンし、レチクルのパターンを投影光学系を介
して被処理物上のショット領域にスキャン露光する。ス
キャン型露光装置は、被処理物上の複数のショット領域
にレチクルのパターンを露光するために、スキャン露光
及びステッピングの動作を繰り返し、レチクルのパター
ンを各ショット領域に順次露光する。

【０００６】このようなスキャン型露光装置は、スキャ
ン露光時に、前述のアライメントマークの位置の検出に
よる位置合わせを行っている。それでも、スキャン露光
時に、この位置合わせによっても除かれないショット領
域の位置ずれ（以下、「補正残り」という。）が、アラ
イメントマークの形状の変形及び装置間の光学系の光路
位置の差等から生じる。そのため、スキャン型露光装置
は、予めパイロット計測という処理を行い、補正残りを
補うアライメント補正値を算出し、算出したアライメン
ト補正値に従って、レチクル及び被処理物の位置を微調
整ながらスキャン露光する。

【０００７】以下、パイロット計測及び、スキャン型露
光装置が行うステッピング移動及びパイロット計測によ
り算出されたアライメント補正値に従ったスキャン露光
の動作について図面を参照して説明する。

【０００８】パイロット計測時、製品としての被処理物
をスキャン露光する前に、スキャン型露光装置は、試験
的に被処理物にスキャン露光する。試験的にスキャン露
光された被処理物の現像処理後、スキャン型露光装置と
異なる専用の測定装置は、パイロット計測により被処理
物上のショット領域に形成されたパターンの位置ずれ等
の計測情報を生成する。スキャン型露光装置は、パイロ
ット計測により生成された計測情報を専用の測定装置か
ら取得し、取得した計測情報に従って、１種類のアライ
メント補正値（Ａ）を生成する。スキャン型露光装置
は、生成した１種類のアライメント補正値（Ａ）を記憶
部に記憶する。

【０００９】１種類のアライメント補正値（Ａ）を記憶
したスキャン型露光装置は、製品としての被処理物を露
光する際に、図６に示すように、予め定められたローテ
ーション（例えば、ショット領域Ｎ１、ショット領域Ｎ
２、ショット領域Ｎ３、・・・、ショット領域Ｎ２５の
順序）に従って、順次スキャン露光及びステッピング移
動を行い、各ショット領域にレチクルのパターンを露光
する。その際、スキャン型露光装置は、露光しないで移
動するいわゆる「空戻し」を少なくするために、各ショ
ット領域において矢印の方向にスキャン露光する。

【００１０】例えば、スキャン型露光装置は、ショット
領域Ｎ１をスキャン露光する場合に、投影光学系を介し
て露光領域Ｋに結像されたレチクル１のパターンの像を
−Ｙの方向にスキャンする。一方、スキャン型露光装置
は、ショット領域Ｎ２をスキャン露光する場合に、＋Ｙ
の方向にスキャンする。その際、スキャン型露光装置
は、記憶部に記憶された１種類のアライメント補正値
（Ａ）に基づいて、レチクル及び被処理物の位置を微調
整しながらスキャン露光する。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】しかし、このようなス
キャン型露光装置は、パイロット計測により生成した１
種類のアライメント補正値（Ａ）に従って、図６に示す
全てのショット領域Ｎ１〜Ｎ２５をスキャン露光するた
め、スキャン方向毎に異なる補正残りが生じる場合があ
った。即ち、スキャン型露光装置は、被処理物ステージ
側の駆動ネジのバックラッシュ、ステージのゆがみ、直
交性、ヨーイング、及び、レチクルステージ側の直交
性、ヨーイング等がスキャン方向毎に異なるため、スキ
ャン方向毎に最適な位置合わせをすることができず、位
置合わせ精度の向上が図れないという問題点があった。

【００１２】また、このようなスキャン方向の違いによ
り生じる補正残りを考慮したスキャン型露光装置の技術
が、特開平８−３０６６１０号公報に開示されている。
しかし、特開平８−３０６６１０号公報に開示されてい
る技術は、先行する第１のマスクパターンでスキャン露
光するときのスキャン方向と、後続の第２のマスクパタ
ーンでスキャン露光するときのスキャン方向とを一致さ
せるのみで、スキャン方向毎に最適な位置合わせをする
には、不十分であった。

【００１３】更に、今後、スキャン型露光装置の能力向
上に伴い、スキャン露光時のスキャン動作のスピードが
一層高速化し、レチクルの位置及び被処理物の位置を検
出するだけでは補足しきれない機械的な要因により発生
する位置ずれが益々重要な問題となるおそれがある。

【００１４】本発明は、上記実状に鑑みてなされたもの
で、２方向以上にスキャン方向を変更してスキャン露光
するスキャン型露光装置において、被処理物上のショッ
ト領域と投影される前記レチクルのパターンの像との位
置合わせを高精度に行うことのできるスキャン型露光装
置、スキャン露光方法及び記録媒体を提供することを目
的とする。

【００１５】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明の第１の観点に係るスキャン型露光装置
は、照明光学系からの光を転写用のパターンが形成され
たレチクルに照射し、該レチクルのパターンの像を被処
理物に投影し、該被処理物上の複数のショット領域に順
次スキャン露光するスキャン型露光装置であって、前記
レチクルを予め定められた第１の方向又は第２の方向に
スキャン移動させるレチクルスキャン手段と、前記レチ
クルスキャン手段によるスキャン移動と同期を合わせて
前記レチクルの移動方向に対応した方向に前記被処理物
をスキャン移動させる被処理物スキャン手段と、前記レ
チクルスキャン手段及び前記被処理物スキャン手段によ
り前記レチクル及び前記被処理物を第１の方向にスキャ
ン移動させる際に生じる位置ずれの補正値となる第１の
補正値と、第２の方向にスキャン移動させる際に生じる
位置ずれの補正値となる第２の補正値とを予め記憶する
補正値記憶手段と、前記レチクルスキャン手段及び前記
被処理物スキャン手段により前記レチクル及び前記被処
理物を第１の方向にスキャン移動させる際に前記補正値
記憶手段に記憶された第１の補正値に従って、前記レチ
クルスキャン手段及び前記被処理物スキャン手段を制御
し、第２の方向に移動させる際に前記補正値記憶手段に
記憶された第２の補正値に従って、前記レチクルスキャ
ン手段及び前記被処理物スキャン手段を制御し、前記被
処理物上のショット領域と投影される前記レチクルのパ
ターンの像との位置を合わせるアライメント手段と、を
備えることを特徴とする。

【００１６】この発明によれば、レチクルスキャン手段
は、レチクルを照明光学系から照射された光に対して垂
直となる予め定められた第１の方向又は第２の方向にス
キャン移動させる。被処理物スキャン手段は、レチクル
スキャン手段によるスキャン移動と同期を合わせてレチ
クルに対応した方向に被処理物をスキャン移動させる。
アライメント制御手段は、レチクルスキャン手段及び被
処理物スキャン手段によりレチクル及び被処理物を第１
の方向にスキャン移動させる際に補正値記憶手段に記憶
された第１の補正値に従って、レチクルスキャン手段及
び被処理物スキャン手段を制御し、第２の方向に移動さ
せる際に補正値記憶手段に記憶された第２の補正値に従
って、レチクルスキャン手段及び被処理物スキャン手段
を制御し、被処理物上のショット領域と投影されるレチ
クルのパターンの像との位置を合わせる。この結果、被
処理物上のショット領域と投影されるレチクルのパター
ンの像との位置合わせを高精度に行い、スキャン露光す
ることができる。

【００１７】上記目的を達成するため、この発明の第２
の観点に係るスキャン型露光装置は、照明光学系からの
光を転写用のパターンが形成されたレチクルに照射し、
該レチクルのパターンの像を被処理物に投影し、該被処
理物上の複数のショット領域に順次スキャン露光するス
キャン型露光装置であって、前記照明系から照射される
一定領域内の光と、該一定領域内の光が照射される前記
レチクルとを、相対的に予め定められた第１の方向又は
第２の方向にスキャン移動させるレチクルスキャン手段
と、前記レチクルを透過したレチクルのパターンの像
と、該レチクルのパターンの像が投影される前記被処理
物とを、相対的に前記レチクルスキャン手段によるスキ
ャン移動に対応した方向にスキャン移動させる被処理物
スキャン手段と、前記レチクルスキャン手段及び前記被
処理物スキャン手段により前記レチクル及び前記被処理
物を相対的に第１の方向にスキャン移動させる際に生じ
る位置ずれの補正値となる第１の補正値と、相対的に第
２の方向にスキャン移動させる際に生じる位置ずれの補
正値となる第２の補正値とを予め記憶する補正値記憶手
段と、前記レチクルスキャン手段及び前記被処理物スキ
ャン手段により前記レチクル及び前記被処理物を相対的
に第１の方向にスキャン移動させる際に前記補正値記憶
手段に記憶された第１の補正値に従って、前記レチクル
スキャン手段及び前記被処理物スキャン手段を制御し、
相対的に第２の方向に移動させる際に前記補正値記憶手
段に記憶された第２の補正値に従って、前記レチクルス
キャン手段及び前記被処理物スキャン手段を制御し、前
記被処理物上のショット領域と投影される前記レチクル
のパターンの像との位置を合わせるアライメント手段
と、を備えることを特徴とする。

【００１８】この発明によれば、アライメント手段は、
レチクルスキャン手段及び被処理物スキャン手段により
レチクル及び被処理物を相対的に第１の方向にスキャン
移動させる際に前記補正値記憶手段に記憶された第１の
補正値に従って、レチクルスキャン手段及び被処理物ス
キャン手段を制御し、相対的に第２の方向に移動させる
際に補正値記憶手段に記憶された第２の補正値に従っ
て、レチクルスキャン手段及び被処理物スキャン手段を
制御し、被処理物上のショット領域と投影されるレチク
ルのパターンの像との位置を合わせる。この結果、被処
理物上のショット領域と投影されるレチクルのパターン
の像との位置合わせを高精度に行い、スキャン露光する
ことができる。

【００１９】上記目的を達成するため、この発明の第３
の観点に係るスキャン型露光装置は、照明光学系からの
光を転写用のパターンが形成されたレチクルに照射し、
該レチクルのパターンの像を被処理物に投影し、該被処
理物上の複数のショット領域に順次スキャン露光するス
キャン型露光装置であって、前記レチクルを予め定めら
れた第１の方向及び第２の方向にスキャン移動させるレ
チクルスキャン手段と、前記レチクルスキャン手段によ
るスキャン移動と同期を合わせて前記レチクルに対応し
た方向に前記被処理物をスキャン移動させる被処理物ス
キャン手段と、前記レチクルスキャン手段及び前記被処
理物スキャン手段により前記レチクル及び前記被処理物
を第１の方向にスキャン移動させる際に生じる位置ずれ
の補正値となる第１の補正値と、第２の方向にスキャン
移動させる際に生じる位置ずれの補正値となる第２の補
正値とを予め記憶する補正値記憶手段と、前記レチクル
スキャン手段により移動された前記レチクルの位置を検
出するレチクル位置検出手段と、前記被処理物スキャン
手段により移動された被処理物の位置を検出する被処理
物位置検出手段と、前記レチクル位置検出手段により検
出された前記レチクルの位置及び、前記被処理物位置検
出手段により検出された前記被処理物の位置に従って、
前記被処理物上のショット領域と投影される前記レチク
ルのパターンの像とが重なるように前記レチクルスキャ
ン手段及び前記被処理物スキャン手段を制御するアライ
メント手段と、前記レチクルスキャン手段及び前記被処
理物スキャン手段により前記レチクル及び前記被処理物
を第１の方向にスキャン移動させる際に前記補正値記憶
手段に記憶された第１の補正値に従って前記アライメン
ト手段を制御し、第２の方向に移動させる際に前記補正
値記憶手段に記憶された第２の補正値に従って前記アラ
イメント手段を制御するアライメント制御手段と、を備
えることを特徴とする。

【００２０】この発明によれば、アライメント手段は、
レチクル位置検出手段により検出されたレチクルの位置
及び、被処理物位置検出手段により検出された被処理物
の位置に従って、被処理物上のショット領域と投影され
るレチクルのパターンの像とが重なるようにレチクルス
キャン手段及び被処理物スキャン手段を制御する。アラ
イメント制御手段は、レチクルスキャン手段及び被処理
物スキャン手段によりレチクル及び被処理物を第１の方
向にスキャン移動させる際に補正値記憶手段に記憶され
た第１の補正値に従ってアライメント手段を制御し、第
２の方向に移動させる際に補正値記憶手段に記憶された
第２の補正値に従ってアライメント手段を制御する。こ
の結果、被処理物上のショット領域と投影されるレチク
ルのパターンの像との位置合わせを高精度に行い、スキ
ャン露光することができる。

【００２１】上記目的を達成するため、この発明の第４
の観点に係るスキャン型露光装置は、照明光学系からの
光を転写用のパターンが形成されたレチクルに照射し、
該レチクルのパターンの像を被処理物に投影し、該被処
理物上の複数のショット領域に順次露光するスキャン型
露光装置であって、前記レチクルを予め定められた第１
の方向及び第２の方向にスキャン移動させるレチクルス
キャン手段と、前記被処理物をショット領域毎に予め定
められたスキャン露光を開始する位置に順次ステッピン
グ移動させる被処理物ステッピング移動手段と、前記被
処理物ステッピング移動手段により移動された前記被処
理物を前記レチクルスキャン手段によるスキャン移動と
同期を合わせて前記レチクルに対応した方向にスキャン
移動させる被処理物スキャン手段と、前記レチクルスキ
ャン手段及び前記被処理物スキャン手段により前記レチ
クル及び前記被処理物を第１の方向にスキャン移動させ
る際に生じる位置ずれの補正値となる第１の補正値と、
第２の方向にスキャン移動させる際に生じる位置ずれの
補正値となる第２の補正値とを予め記憶する補正値記憶
手段と、前記レチクルスキャン手段及び前記被処理物ス
キャン手段により前記レチクル及び前記被処理物を第１
の方向にスキャン移動させる際に前記補正値記憶手段に
記憶された第１の補正値に従って、前記レチクルスキャ
ン手段及び前記被処理物スキャン手段を制御し、第２の
方向に移動させる際に前記補正値記憶手段に記憶された
第２の補正値に従って、前記レチクルスキャン手段及び
前記被処理物スキャン手段を制御し、前記被処理物上の
ショット領域と投影される前記レチクルのパターンの像
との位置を合わせながらスキャン露光する露光制御手段
と、を備えることを特徴とする。

【００２２】この発明によれば、レチクルスキャン手段
は、レチクルを予め定められた第１の方向及び第２の方
向にスキャン移動させる。被処理物スキャン手段は、被
処理物ステッピング移動手段により移動された被処理物
をレチクルスキャン手段によるスキャン移動と同期を合
わせてレチクルに対応した方向にスキャン移動させる。
露光制御手段は、レチクルスキャン手段及び被処理物ス
キャン手段によりレチクル及び被処理物を第１の方向に
スキャン移動させる際に補正値記憶手段に記憶された第
１の補正値に従って、レチクルスキャン手段及び被処理
物スキャン手段を制御し、第２の方向に移動させる際に
補正値記憶手段に記憶された第２の補正値に従って、レ
チクルスキャン手段及び被処理物スキャン手段を制御
し、被処理物上のショット領域と投影される前記レチク
ルのパターンの像との位置を合わせながらスキャン露光
する。この結果、被処理物上のショット領域と投影され
るレチクルのパターンの像との位置合わせを高精度に行
い、スキャン露光することができる。

【００２３】上記目的を達成するため、この発明の第５
の観点に係るスキャン型露光装置は、照明光学系からの
光を転写用のパターンが形成されたレチクルに照射し、
該レチクルのパターンの像を被処理物に投影し、該被処
理物上の複数のショット領域に順次スキャン露光するス
キャン型露光装置であって、前記照明光学系からの光と
前記レチクル及び、前記レチクルのパターンの像と前記
被処理物を相対的にスキャン移動させるスキャン手段
と、前記スキャン移動手段によりスキャン移動させる際
に生じる位置ずれの補正値となる複数の補正値を予め記
憶する補正値記憶手段と、前記スキャン手段によりスキ
ャン移動させる際に、移動方向に対応する補正値に従っ
て、前記スキャン手段を制御し、前記被処理物上のショ
ット領域と投影される前記レチクルのパターンの像との
位置を合わせるアライメント手段と、を備えることを特
徴とする。

【００２４】この発明によれば、アライメント手段は、
スキャン手段によりスキャン移動させる際に、移動方向
に対応する補正値に従って、スキャン手段を制御し、被
処理物上のショット領域と投影されるレチクルのパター
ンの像との位置を合わせる。この結果、被処理物上のシ
ョット領域と投影されるレチクルのパターンの像との位
置合わせを高精度に行い、スキャン露光することができ
る。

【００２５】前記補正値記憶手段は、予め試験用被処理
物に対しスキャン露光を行い、該試験用被処理物に対す
る計測結果により定められた第１の補正値及び第２の補
正値を記憶してもよい。この結果、第１の補正値及び第
２の補正値を使用して、被処理物上のショット領域と投
影されるレチクルのパターンの像との位置合わせを高精
度に行うことができる。

【００２６】上記目的を達成するため、この発明の第６
の観点に係るスキャン露光方法は、照明光学系からの光
を転写用のパターンが形成されたレチクルに照射し、該
レチクルのパターンの像を被処理物に投影し、該被処理
物上の複数のショット領域に順次スキャン露光するスキ
ャン露光方法であって、前記レチクルを予め定められた
第１の方向及び第２の方向にスキャン移動させるレチク
ルスキャンステップと、前記レチクルスキャンステップ
によるスキャン移動と同期を合わせて前記レチクルに対
応した方向に前記被処理物をスキャン移動させる被処理
物スキャンステップと、前記レチクルスキャンステップ
及び前記被処理物スキャンステップにより前記レチクル
及び前記被処理物を第１の方向にスキャン移動させる際
に、予め定められた第１の方向に対応する第１の補正値
に従って補正しながら移動させ、第２の方向に移動させ
る際に、予め定められた第２の方向に対応する第２の補
正値に従って補正しながら移動させ、前記被処理物上の
ショット領域と投影される前記レチクルのパターンの像
との位置を合わせるアライメントステップと、を備える
ことを特徴とする。

【００２７】この発明によれば、レチクルスキャンステ
ップは、レチクルを照明光学系から照射された光に対し
て垂直となる予め定められた第１の方向及び第２の方向
にスキャン移動させる。被処理物スキャンステップは、
レチクルスキャンステップによるスキャン移動と同期を
合わせてレチクルに対応した方向に被処理物をスキャン
移動させる。アライメント制御ステップは、レチクルス
キャンステップ及び被処理物スキャンステップによりレ
チクル及び被処理物を第１の方向にスキャン移動させる
際に、予め定められた第１の方向に対応する第１の補正
値に従って補正しながら移動させ、第２の方向に移動さ
せる際に、予め定められた第２の方向に対応する第２の
補正値に従って補正しながら移動させ、被処理物上のシ
ョット領域と投影されるレチクルのパターンの像との位
置を合わせる。この結果、被処理物上のショット領域と
投影されるレチクルのパターンの像との位置合わせを高
精度に行い、スキャン露光することができる。

【００２８】上記目的を達成するため、この発明の第７
の観点に係る記録媒体は、コンピュータを被処理物上の
複数のショット領域に順次スキャン露光するスキャン型
露光装置として機能させるプログラムを記録するコンピ
ュータ読み取り可能な記録媒体であって、転写用のパタ
ーンが形成されたレチクルを予め定められた第１の方向
及び第２の方向にスキャン移動させるレチクルスキャン
ステップと、前記レチクルスキャンステップによるスキ
ャン移動と同期を合わせて前記レチクルの移動方向に対
応した方向に前記被処理物をスキャン移動させる被処理
物スキャンステップと、前記レチクルスキャンステップ
及び前記被処理物スキャンステップにより前記レチクル
及び前記被処理物を第１の方向にスキャン移動させる際
に、予め定められた第１の方向に対応する第１の補正値
に従って補正しながら移動させ、第２の方向に移動させ
る際に、予め定められた第２の方向に対応する第２の補
正値に従って補正しながら移動させ、前記被処理物上の
ショット領域と投影される前記レチクルのパターンの像
との位置を合わせるアライメントステップと、を実現す
るプログラムを記憶する、ことを特徴とする。

【００２９】

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態にかかるスキ
ャン型露光装置について以下図面を参照して説明する。

【００３０】図１は、このスキャン型露光装置の構成を
示す模式図である。図２は、このスキャン型露光装置の
情報の流れを説明する模式図である。このスキャン型露
光装置は、図１に示すように、照明光学系２０と、レチ
クルホルダ２と、レチクルスキャンステージ３と、レチ
クル位置検出ユニット４と、レチクルアライメントユニ
ット５と、投影レンズ６と、被処理物ホルダ８と、スキ
ャンステージ９と、被処理物位置検出ユニット１１と、
被処理物アライメントユニット１２と、アライメントユ
ニットコントローラ１３と、露光コントローラ１４と、
パイロット計測結果記憶ユニット１５と、を備える。

【００３１】照明光学系２０は、光源、レンズ系及びス
リット等からなる。照明光学系２０は、光源からの光を
レンズ系及びスリットを透過させて照射光Ｌを生成し、
生成した照射光Ｌをレチクル１に照射する。

【００３２】レチクルホルダ２は、転写用のパターンが
形成されたレチクル１を保持する。

【００３３】レチクルスキャンステージ３は、レチクル
ホルダ２を水平方向（Ｘ軸、Ｙ軸方向）に移動可能に保
持する。

【００３４】レチクル位置検出ユニット４は、レチクル
ホルダ２の位置を逐次検出し、検出結果をアライメント
ユニットコントローラ１３に逐次送出する。

【００３５】レチクルアライメントユニット５は、投影
レンズ６を介して、被処理物ホルダ８上に設けられてい
る基準マーク１０を検出する。レチクルアライメントユ
ニット５は、検出結果に基づいて、被処理物ホルダ８と
レチクルアライメントユニット５との水平方向（Ｘ軸、
Ｙ軸方向）の相対位置を算出し、算出した相対位置を示
す相対位置情報を図示せぬ記憶部に記憶する。相対位置
情報は、アライメントユニットコントローラ１３が、レ
チクルアライメントユニット５と被処理物アライメント
ユニット１２との相対的位置関係（ベースライン）を検
出するために用いられる。

【００３６】また、レチクルアライメントユニット５
は、レチクルホルダ２に保持されたレチクル１に形成さ
れたパターン位置を逐次検出し、検出結果をアライメン
トユニットコントローラ１３に逐次送出する。

【００３７】投影レンズ６は、照射光Ｌがレチクル１に
照射され、透過したレチクル１のパターンの像を縮小し
て被処理物７上に結像させる。

【００３８】被処理物ホルダ８は、半導体ウエハ又はガ
ラスプレート等からなる被処理物７を保持する。被処理
物ホルダ８上には、予め基準マーク１０が設けられてい
る。

【００３９】スキャンステージ９は、被処理物ホルダ８
を水平方向に移動可能に保持する。

【００４０】基準マーク１０は、予め被処理物ホルダ８
上に設けられ、被処理物ホルダ８に対するレチクルアラ
イメントユニット５及び被処理物アライメントユニット
１２の相対位置を検出するために用いられる。

【００４１】被処理物位置検出ユニット１１は、被処理
物ホルダ８の位置を逐次検出し、検出結果をアライメン
トユニットコントローラ１３に逐次送出する。

【００４２】被処理物アライメントユニット１２は、被
処理物ホルダ８上に設けられている基準マーク１０を検
出する。被処理物アライメントユニット１２は、検出結
果に基づいて、被処理物ホルダ８と被処理物アライメン
トユニット１２との水平方向（Ｘ軸、Ｙ軸方向）の相対
位置を算出し、算出した相対位置を示す相対位置情報を
図示せぬ記憶部に記憶する。

【００４３】また、被処理物アライメントユニット１２
は、被処理物７に設けられたアライメントマークの位置
を逐次検出し、検出結果をアライメントユニットコント
ローラ１３に逐次送出する。

【００４４】アライメントユニットコントローラ１３
は、レチクル位置検出ユニット４からレチクルホルダ２
の位置を、被処理物位置検出ユニット１１から被処理物
ホルダ８の位置を、レチクルアライメントユニット５及
び被処理物アライメントユニット１２から相対位置情報
を逐次取得する。

【００４５】アライメントユニットコントローラ１３
は、スキャンステージ９を制御して、予め決められたロ
ーテーションに従って、図３に示すような被処理物７を
順次ショット領域のスキャン露光の開始位置にステッピ
ング移動させる。また、アライメントユニットコントロ
ーラ１３は、レチクルスキャンステージ３を制御して、
レチクルホルダ２をスキャン露光の開始位置に移動させ
る。その際、アライメントユニットコントローラ１３
は、取得したレチクルホルダ２の位置、被処理物ホルダ
８の位置、レチクル１のパターン位置及び、被処理物７
上のアライメントマークの位置に従って、スキャンステ
ージ９及びレチクルスキャンステージ３のスキャン露光
の開始位置を補正する。

【００４６】また、アライメントユニットコントローラ
１３は、レチクルスキャンステージ３及びスキャンステ
ージ９を制御して、レチクル１及び被処理物７をスキャ
ン露光開始位置から予め定められた方向にスキャン移動
させる。例えば、アライメントユニットコントローラ１
３は、スキャンステージ９を制御して、図３に示すよう
な被処理物７のショット領域Ｎ１をスキャン露光する場
合に、投影光学系を介して露光領域Ｋに結像されたレチ
クル１のパターンの像を−Ｙの方向にスキャン移動させ
る。一方、アライメントユニットコントローラ１３は、
ショット領域Ｎ２をスキャン露光する場合に、＋Ｙの方
向にスキャン移動させる。

【００４７】図１に戻って、露光コントローラ１４は、
照明光学系２０、投影レンズ６及びアライメントユニッ
トコントローラ１３を制御して被処理物７をスキャン露
光する。その際、露光コントローラ１４は、パイロット
計測結果記憶ユニット１５に記憶された後述する２種類
のアライメント補正値Ａ、Ｂに従って、アライメントユ
ニットコントローラ１３の制御を補正し、レチクル１及
び被処理物７の位置を微調整しながらスキャン露光す
る。

【００４８】パイロット計測結果記憶ユニット１５は、
２種類のアライメント補正値Ａ、Ｂを予め記憶する。以
下、パイロット計測により生成された計測情報に従って
生成されるアライメント補正値Ａ、Ｂについて説明す
る。パイロット計測時、製品としての被処理物をスキャ
ン露光する前に、スキャン型露光装置は、試験的に被処
理物にスキャン露光する。試験的に露光された被処理物
の現像処理後、スキャン型露光装置と異なる専用の測定
装置は、パイロット計測により、被処理物上のショット
領域に形成されたパターンの位置ずれ等の計測情報を生
成する。

【００４９】スキャン型露光装置は、パイロット計測に
より生成された計測情報を専用の測定装置から取得し、
計測情報をスキャン方向毎に整理し、スキャン方向毎の
パターンの位置ずれ等に従って、スキャン型露光装置に
対する２種類のアライメント補正値Ａ、Ｂを生成する。
スキャン型露光装置は、生成した２種類のアライメント
補正値Ａ、Ｂをパイロット計測結果記憶ユニット１５に
記憶する。

【００５０】次に、スキャン型露光装置が１つのショッ
ト領域に対して行うスキャン露光動作について、図４を
参照して説明する。

【００５１】図４は、このスキャン型露光装置のスキャ
ン露光動作を説明するフローチャートである。なお、露
光コントローラ１４は、アライメントユニットコントロ
ーラ１３を介して、レチクルスキャンステージ３を制御
してレチクル１をスキャン露光開始位置に移動させ、ス
キャンステージ９を制御して被処理物７をショット領域
ｎのスキャン露光開始位置にステッピング移動させてい
るものとする。

【００５２】まず、露光コントローラ１４は、図示せぬ
記憶部に記憶されているローテーション情報から、ショ
ット領域ｎのスキャン方向を取得する（ステップＳ
１）。

【００５３】露光コントローラ１４は、取得したスキャ
ン方向が＋Ｙ方向か否かを判別する（ステップＳ２）。

【００５４】露光コントローラ１４は、取得したスキャ
ン方向が＋Ｙ方向であると判別した場合に、パイロット
計測結果記憶ユニット１５に記憶されたアライメント補
正値Ｂを取得する（ステップＳ４）。一方露光コントロ
ーラ１４は、取得したスキャン方向が−Ｙ方向であると
判別した場合に、パイロット計測結果記憶ユニット１５
に記憶されたアライメント補正値Ａを取得する（ステッ
プＳ３）。

【００５５】露光コントローラ１４は、レチクル１及び
被処理物７をステップＳ１にて取得したスキャン方向へ
予め定められた速度でのスキャン移動を開始する（ステ
ップＳ５）。即ち、露光コントローラ１４は、照明光学
系２０を制御して照明光Ｌをレチクル１に照射させなが
ら、レチクルスキャンステージ３をアライメントユニッ
トコントローラ１３を介して制御して、レチクル１をス
テップＳ１にて取得したスキャン方向へ予め定められた
速度でのスキャン移動を開始する。また、露光コントロ
ーラ１４は、レチクル１を透過したパターン像を被処理
物７に結像させながら、スキャンステージ９をアライメ
ントユニットコントローラ１３を介して制御して、被処
理物７をステップＳ１にて取得したスキャン方向へレチ
クル１に対応する速度でのスキャン移動を開始する。

【００５６】露光コントローラ１４は、アライメントユ
ニットコントローラ１３を制御して、レチクル１及び被
処理物７の位置を検出する（ステップＳ６）。即ち、露
光コントローラ１４は、レチクル位置検出ユニット４か
らアライメントユニットコントローラ１３を介してレチ
クルホルダ２の位置を検出し、レチクルアライメントユ
ニット５からアライメントユニットコントローラ１３を
介してレチクル１に形成されたパターン位置を検出す
る。また、露光コントローラ１４は、被処理物アライメ
ントユニット１２からアライメントユニットコントロー
ラ１３を介して被処理物ホルダ８の位置を検出し、被処
理物アライメントユニット１２からアライメントユニッ
トコントローラ１３を介して被処理物７に設けられたア
ライメントマークの位置を検出する。

【００５７】露光コントローラ１４は、ステップＳ３又
はステップＳ４にて取得したアライメント補正値Ａ又は
Ｂに従って、アライメントユニットコントローラ１３を
制御し、レチクル１及び被処理物７の位置を微調整する
（ステップＳ７）。

【００５８】即ち、露光コントローラ１４は、ステップ
Ｓ６にて検出したレチクル１及び被処理物７の位置とが
予め定められた位置関係となるように、レチクルスキャ
ンステージ３及びスキャンステージ９をアライメントユ
ニットコントローラ１３を介して微調整しながらスキャ
ン移動させる。その際、露光コントローラ１４は、ステ
ップＳ３又はステップＳ４にて取得したアライメント補
正値Ａ又はＢに従って、アライメントユニットコントロ
ーラ１３を介してレチクルスキャンステージ３及びスキ
ャンステージ９の制御を補正する。

【００５９】露光コントローラ１４は、ショット領域ｎ
のスキャン露光が終了したか否かを判別する（ステップ
Ｓ８）。即ち、露光コントローラ１４は、アライメント
ユニットコントローラ１３から取得したレチクル１及び
被処理物７の位置がスキャン露光終了位置に達したか否
かを判別する。

【００６０】露光コントローラ１４は、ショット領域ｎ
のスキャン露光が終了していないと判別した場合に、ス
テップＳ５からステップＳ８までの処理を繰り返す。一
方、露光コントローラ１４は、ショット領域ｎのスキャ
ン露光が終了したと判別した場合に、ショット領域ｎの
スキャン露光を終了する。

【００６１】この結果、露光コントローラ１４は、スキ
ャン方向毎に対応した２種類のアライメント補正値Ａ、
Ｂに従って、アライメントユニットコントローラ１３の
制御を補正し、レチクル１及び被処理物７の位置を微調
整しながらスキャン露光するため、ショット領域と投影
されるレチクル１のパターンの像との位置合わせを高精
度に行うことができる。

【００６２】次に、スキャン型露光装置が行うステッピ
ング移動及びパイロット計測により算出された２種類の
アライメント補正値Ａ、Ｂに従ったスキャン露光の動作
について図５を参照して説明する。図５は、このスキャ
ン型露光装置のステッピング移動及びスキャン露光の動
作を説明するフローチャートである。

【００６３】まず、露光コントローラ１４は、アライメ
ントユニットコントローラ１３を介して、レチクルスキ
ャンステージ３を制御し、レチクル１を予め定められた
スキャン露光開始位置に移動させる（ステップＳ１
１）。

【００６４】露光コントローラ１４は、アライメントユ
ニットコントローラ１３を介して、スキャンステージ９
を制御し、被処理物７を図示せぬ記憶部に記憶されてい
るローテーション情報に従ったショット領域の予め定め
られたスキャン露光開始位置にステッピング移動させる
（ステップＳ１２）。

【００６５】露光コントローラ１４は、スキャン方向に
対応したのアライメント補正値Ａ又はＢに従って、アラ
イメントユニットコントローラ１３を介してレチクル１
及び被処理物７の位置を微調整しながらショット領域の
開始位置から終了位置までスキャン露光する（ステップ
Ｓ１３）。

【００６６】即ち、露光コントローラ１４は、照明光学
系２０を制御して照明光Ｌをレチクル１に照射させなが
ら、レチクルスキャンステージ３をアライメントユニッ
トコントローラ１３を介して制御して、レチクル１を開
始位置から終了位置までスキャン移動させる。また、露
光コントローラ１４は、レチクル１を透過したパターン
像を被処理物７に結像させながら、スキャンステージ９
をアライメントユニットコントローラ１３を介して制御
して、被処理物７を取得したスキャン方向へレチクル１
に対応する速度で開始位置から終了位置までスキャン移
動させる。その際、露光コントローラ１４は、スキャン
方向に応じて取得したアライメント補正値Ａ又はＢに従
って、アライメントユニットコントローラ１３を介して
レチクルスキャンステージ３及びスキャンステージ９の
制御を補正する。

【００６７】露光コントローラ１４は、全てのショット
領域のスキャン露光が完了したか否かを判別する（ステ
ップＳ１４）。

【００６８】露光コントローラ１４は、全てのショット
領域のスキャン露光が完了していないと判別した場合、
ステップＳ１１からステップＳ１３までの処理を繰り返
し、図示せぬ記憶部に記憶されているローテーション情
報に従ってショット領域を順次スキャン露光する。一
方、全てのショット領域のスキャン露光が完了したと判
別した場合、露光コントローラ１４は、ステッピング移
動及びスキャン露光の動作を終了する。

【００６９】この結果、露光コントローラ１４は、スキ
ャン方向毎に対応した２種類のアライメント補正値Ａ、
Ｂに従って、アライメントユニットコントローラ１３の
制御を補正することにより、全てのショット領域にて投
影されるレチクル１のパターンの像との位置合わせが高
精度にされたスキャン露光を行うことができる。

【００７０】上述の実施の形態では、２つのスキャン方
向をもってスキャン露光し、２つのスキャン方向別に２
つの補正値Ａ、Ｂに従って位置合わせ位置の補正をして
いる。しかし、本発明は、これに限定されるものではな
く、３つ以上のスキャン方向をもってスキャン露光し、
スキャン方向別に３つの補正値で目合わせ位置の補正を
してもよい。

【００７１】なお、この発明のスキャン型露光装置は、
専用のシステムによらず、通常のコンピュータシステム
を用いて実現可能である。例えば、コンピュータに上述
のいずれかを実行するためのプログラムを格納した媒体
（フロッピーディスク、ＣＤ−ＲＯＭ等）から該プログ
ラムをインストールすることにより、上述の処理を実行
するスキャン型露光装置を構成することができる。

【００７２】また、コンピュータにプログラムを供給す
るための媒体は、通信媒体（通信回線、通信ネットワー
ク、通信システムのように、一時的かつ流動的にプログ
ラムを保持する媒体）でも良い。例えば、通信ネットワ
ークの掲示板（ＢＢＳ）に該プログラムを掲示し、これ
をネットワークを介して配信してもよい。そして、この
プログラムを起動し、ＯＳの制御下で、他のアプリケー
ションプログラムと同様に実行することにより、上述の
処理を実行することができる。

【００７３】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
２方向以上にスキャン方向を変更してスキャン露光する
スキャン型露光装置において、被処理物上のショット領
域と投影される前記レチクルのパターンの像との位置合
わせを高精度に行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態に係るスキャン型露光装置
の構成を示す模式図である。

【図２】本発明の実施の形態に係るスキャン型露光装置
の情報の流れを説明する模式図である。

【図３】本発明の実施の形態に係るスキャン型露光装置
の被処理物に対するスキャン露光時のスキャン方向及び
スキャン方向毎のアライメント補正値を示す模式図であ
る。

【図４】本発明の実施の形態に係るスキャン型露光装置
のスキャン露光動作を説明するフローチャートである。

【図５】本発明の実施の形態に係るスキャン型露光装置
のステッピング移動及びスキャン露光の動作を説明する
フローチャートである。

【図６】従来のスキャン型露光装置の被処理物に対する
スキャン露光時のスキャン方向及びスキャン方向毎のア
ライメント補正値を示す模式図である。

【符号の説明】

１レチクル２レチクルホルダ３レチクルスキャンステージ４レチクル位置検出ユニット５レチクルアライメントユニット６投影レンズ７被処理物８被処理物ホルダ９スキャンステージ１０基準マーク１１被処理物位置検出ユニット１２被処理物アライメントユニット１３アライメントユニットコントローラ１４露光コントローラ１５パイロット計測結果記憶ユニット

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】照明光学系からの光を転写用のパターンが
形成されたレチクルに照射し、該レチクルのパターンの
像を被処理物に投影し、該被処理物上の複数のショット
領域に順次スキャン露光するスキャン型露光装置であっ
て、前記レチクルを予め定められた第１の方向又は第２の方
向にスキャン移動させるレチクルスキャン手段と、前記レチクルスキャン手段によるスキャン移動と同期を
合わせて前記レチクルの移動方向に対応した方向に前記
被処理物をスキャン移動させる被処理物スキャン手段
と、前記レチクルスキャン手段及び前記被処理物スキャン手
段により前記レチクル及び前記被処理物を第１の方向に
スキャン移動させる際に生じる位置ずれの補正値となる
第１の補正値と、第２の方向にスキャン移動させる際に
生じる位置ずれの補正値となる第２の補正値とを予め記
憶する補正値記憶手段と、前記レチクルスキャン手段及び前記被処理物スキャン手
段により前記レチクル及び前記被処理物を第１の方向に
スキャン移動させる際に前記補正値記憶手段に記憶され
た第１の補正値に従って、前記レチクルスキャン手段及
び前記被処理物スキャン手段を制御し、第２の方向に移
動させる際に前記補正値記憶手段に記憶された第２の補
正値に従って、前記レチクルスキャン手段及び前記被処
理物スキャン手段を制御し、前記被処理物上のショット
領域と投影される前記レチクルのパターンの像との位置
を合わせるアライメント手段と、を備えることを特徴とするスキャン型露光装置。
【請求項２】照明光学系からの光を転写用のパターンが
形成されたレチクルに照射し、該レチクルのパターンの
像を被処理物に投影し、該被処理物上の複数のショット
領域に順次スキャン露光するスキャン型露光装置であっ
て、前記照明系から照射される一定領域内の光と、該一定領
域内の光が照射される前記レチクルとを、相対的に予め
定められた第１の方向又は第２の方向にスキャン移動さ
せるレチクルスキャン手段と、前記レチクルを透過したレチクルのパターンの像と、該
レチクルのパターンの像が投影される前記被処理物と
を、相対的に前記レチクルスキャン手段によるスキャン
移動に対応した方向にスキャン移動させる被処理物スキ
ャン手段と、前記レチクルスキャン手段及び前記被処理物スキャン手
段により前記レチクル及び前記被処理物を相対的に第１
の方向にスキャン移動させる際に生じる位置ずれの補正
値となる第１の補正値と、相対的に第２の方向にスキャ
ン移動させる際に生じる位置ずれの補正値となる第２の
補正値とを予め記憶する補正値記憶手段と、前記レチクルスキャン手段及び前記被処理物スキャン手
段により前記レチクル及び前記被処理物を相対的に第１
の方向にスキャン移動させる際に前記補正値記憶手段に
記憶された第１の補正値に従って、前記レチクルスキャ
ン手段及び前記被処理物スキャン手段を制御し、相対的
に第２の方向に移動させる際に前記補正値記憶手段に記
憶された第２の補正値に従って、前記レチクルスキャン
手段及び前記被処理物スキャン手段を制御し、前記被処
理物上のショット領域と投影される前記レチクルのパタ
ーンの像との位置を合わせるアライメント手段と、を備えることを特徴とするスキャン型露光装置。
【請求項３】照明光学系からの光を転写用のパターンが
形成されたレチクルに照射し、該レチクルのパターンの
像を被処理物に投影し、該被処理物上の複数のショット
領域に順次スキャン露光するスキャン型露光装置であっ
て、前記レチクルを予め定められた第１の方向及び第２の方
向にスキャン移動させるレチクルスキャン手段と、前記レチクルスキャン手段によるスキャン移動と同期を
合わせて前記レチクルの移動方向に対応した方向に前記
被処理物をスキャン移動させる被処理物スキャン手段
と、前記レチクルスキャン手段及び前記被処理物スキャン手
段により前記レチクル及び前記被処理物を第１の方向に
スキャン移動させる際に生じる位置ずれの補正値となる
第１の補正値と、第２の方向にスキャン移動させる際に
生じる位置ずれの補正値となる第２の補正値とを予め記
憶する補正値記憶手段と、前記レチクルスキャン手段により移動された前記レチク
ルの現在位置を検出するレチクル位置検出手段と、前記被処理物スキャン手段により移動された前記被処理
物の現在位置を検出する被処理物位置検出手段と、前記レチクル位置検出手段により検出された前記レチク
ルの位置及び、前記被処理物位置検出手段により検出さ
れた前記被処理物の位置に従って、前記被処理物上のシ
ョット領域と投影される前記レチクルのパターンの像と
が重なるように前記レチクルスキャン手段及び前記被処
理物スキャン手段を制御するアライメント手段と、前記レチクルスキャン手段及び前記被処理物スキャン手
段により前記レチクル及び前記被処理物を第１の方向に
スキャン移動させる際に前記補正値記憶手段に記憶され
た第１の補正値に従って前記アライメント手段を制御
し、第２の方向に移動させる際に前記補正値記憶手段に
記憶された第２の補正値に従って前記アライメント手段
を制御するアライメント制御手段と、を備えることを特徴とするスキャン型露光装置。
【請求項４】照明光学系からの光を転写用のパターンが
形成されたレチクルに照射し、該レチクルのパターンの
像を被処理物に投影し、該被処理物上の複数のショット
領域に順次露光するスキャン型露光装置であって、前記レチクルを予め定められた第１の方向及び第２の方
向にスキャン移動させるレチクルスキャン手段と、前記被処理物をショット領域毎に予め定められたスキャ
ン露光を開始する位置に順次ステッピング移動させる被
処理物ステッピング移動手段と、前記被処理物ステッピング移動手段により移動された前
記被処理物を前記レチクルスキャン手段によるスキャン
移動と同期を合わせて前記レチクルの移動方向に対応し
た方向にスキャン移動させる被処理物スキャン手段と、前記レチクルスキャン手段及び前記被処理物スキャン手
段により前記レチクル及び前記被処理物を第１の方向に
スキャン移動させる際に生じる位置ずれの補正値となる
第１の補正値と、第２の方向にスキャン移動させる際に
生じる位置ずれの補正値となる第２の補正値とを予め記
憶する補正値記憶手段と、前記レチクルスキャン手段及び前記被処理物スキャン手
段により前記レチクル及び前記被処理物を第１の方向に
スキャン移動させる際に前記補正値記憶手段に記憶され
た第１の補正値に従って、前記レチクルスキャン手段及
び前記被処理物スキャン手段を制御し、第２の方向に移
動させる際に前記補正値記憶手段に記憶された第２の補
正値に従って、前記レチクルスキャン手段及び前記被処
理物スキャン手段を制御し、前記被処理物上のショット
領域と投影される前記レチクルのパターンの像との位置
を合わせながらスキャン露光する露光制御手段と、を備えることを特徴とするスキャン型露光装置。
【請求項５】照明光学系からの光を転写用のパターンが
形成されたレチクルに照射し、該レチクルのパターンの
像を被処理物に投影し、該被処理物上の複数のショット
領域に順次スキャン露光するスキャン型露光装置であっ
て、前記照明光学系からの光と前記レチクル及び、前記レチ
クルのパターンの像と前記被処理物を相対的にスキャン
移動させるスキャン手段と、前記スキャン移動手段によりスキャン移動させる際に生
じる位置ずれの補正値となる複数の補正値を予め記憶す
る補正値記憶手段と、前記スキャン手段によりスキャン移動させる際に、移動
方向に対応する補正値に従って、前記スキャン手段を制
御し、前記被処理物上のショット領域と投影される前記
レチクルのパターンの像との位置を合わせるアライメン
ト手段と、を備えることを特徴とするスキャン型露光装置。
【請求項６】前記補正値記憶手段は、予め試験用被処理
物に対しスキャン露光を行い、該試験用被処理物に対す
る計測結果により定められた第１の補正値及び第２の補
正値を記憶する、ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載
のスキャン型露光装置。
【請求項７】照明光学系からの光を転写用のパターンが
形成されたレチクルに照射し、該レチクルのパターンの
像を被処理物に投影し、該被処理物上の複数のショット
領域に順次スキャン露光するスキャン露光方法であっ
て、前記レチクルを予め定められた第１の方向及び第２の方
向にスキャン移動させるレチクルスキャンステップと、前記レチクルスキャンステップによるスキャン移動と同
期を合わせて前記レチクルの移動方向に対応した方向に
前記被処理物をスキャン移動させる被処理物スキャンス
テップと、前記レチクルスキャンステップ及び前記被処理物スキャ
ンステップにより前記レチクル及び前記被処理物を第１
の方向にスキャン移動させる際に、予め定められた第１
の方向に対応する第１の補正値に従って補正しながら移
動させ、第２の方向に移動させる際に、予め定められた
第２の方向に対応する第２の補正値に従って補正しなが
ら移動させ、前記被処理物上のショット領域と投影され
る前記レチクルのパターンの像との位置を合わせるアラ
イメントステップと、を備えることを特徴とするスキャン露光方法。
【請求項８】コンピュータを被処理物上の複数のショッ
ト領域に順次スキャン露光するスキャン型露光装置とし
て機能させるプログラムを記録するコンピュータ読み取
り可能な記録媒体であって、転写用のパターンが形成されたレチクルを予め定められ
た第１の方向及び第２の方向にスキャン移動させるレチ
クルスキャンステップと、前記レチクルスキャンステッ
プによるスキャン移動と同期を合わせて前記レチクルの
移動方向に対応した方向に前記被処理物をスキャン移動
させる被処理物スキャンステップと、前記レチクルスキ
ャンステップ及び前記被処理物スキャンステップにより
前記レチクル及び前記被処理物を第１の方向にスキャン
移動させる際に、予め定められた第１の方向に対応する
第１の補正値に従って補正しながら移動させ、第２の方
向に移動させる際に、予め定められた第２の方向に対応
する第２の補正値に従って補正しながら移動させ、前記
被処理物上のショット領域と投影される前記レチクルの
パターンの像との位置を合わせるアライメントステップ
と、を実現するプログラムを記憶する、ことを特徴とするコンピュータ読み取り可能な記録媒
体。