JPH11186154A - 投影露光装置および方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 投影露光装置におけるステップアンドリピー
ト処理において、焦点補正動作のスループットおよび精
度の性能を向上させる。 【解決手段】 ＸＹステージ上に搭載された複数の露光
領域を光学投影結像面に移動し焦点合わせする処理にお
いて、移動間にＸＹステージ駆動に起因する焦点ずれ量
を見込んで先送りする処理方法（先送りオートフォーカ
ス処理）を取り入れることで、焦点ずれの発生を抑制
し、オートフォーカスセンサを用いた焦点合わせ処理の
処理時間の短縮と精度の向上を図る。ここで、先送りす
る焦点ずれとは、投影像面とＸＹステージの駆動面とが
平行でないことに起因してＸＹ移動距離に比例して発生
する、露光領域面の投影像面からの光軸方向への位置ず
れである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体デバイス製
造用の縮小型の逐次移動式投影露光装置（ステッパ）お
よび方法に関し、特にウエハステージ上に載置された半
導体ウエハの各被露光領域を、縮小型の投影レンズ系
（投影光学系）の投影像面に合焦せしめるために使用さ
れる自動焦点合せ装置を有した投影露光装置およびその
露光方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、ステップアンドリピート方式の投
影露光装置においての焦点合わせ機能は、各露光対象領
域（ショット）をＸＹステージにより投影レンズ下の露
光位置に移動する毎に、露光対象面と投影像面との位置
ずれ量を検出し補正している。

【０００３】これは、大口径のＮＡ比をもつレンズを用
いた縮小投影光学系において微小パターンを転写投影す
る用途においては大口径化するほど焦点深度が浅くなる
ため、各露光対象面の平坦度や感光材料の塗布状況など
の差異による焦点ずれ量が転写性能に大きく影響するか
らである。通常の焦点合わせ機構は、投影レンズ下に露
光対象領域を逐次移動させるＸＹステージと、投影レン
ズ直下の露光対象面と像面との焦点ずれ量を検出するオ
ートフォーカスセンサとこのセンサにて検出された焦点
ずれ量を補正するためのＺステージとそれらの制御装置
からなるオートフォーカス制御系によって構成される。

【０００４】各露光対象領域への露光動作の制御シーケ
ンスとしては、１．露光対象領域をレンズ直下にＸＹス
テージ駆動（ステップ移動）し、２．フォーカスセンサ
にてウエハの露光対象領域と投影光学系の像面の焦点ず
れ量を検出し、３．検出した焦点ずれ量をΖステージに
て光軸方向へ補正（合焦）した後、４．露光する。以上
の１〜４の工程によって１つの露光対象領域に対する露
光処理がなされ、ＸＹステージ上に搭載されたウエハ上
に設定された露光対象領域の数だけ、つまりステップア
ンドリピー卜毎に上記シーケンスの実行を繰り返すこと
になる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】近年、半導体デバイス
の製造においては、ウエハサイズの大径化に伴い、露光
装置においては露光ショット数が増大し、ステップアン
ドリピートのスループット性能向上が期待されている。
また転写パターンの線幅の微細化もあいまって、焦点合
わせ動作はより一層の精度向上と動作時間の短縮が求め
られている。

【０００６】しかし、ステップアンドリピート方式を特
徴とする縮小型投影露光装置の場合、露光毎にウエハ上
の複数個のショットを直交する軸上を移動するＸＹステ
ージを用いて投影レンズ直下へ移動させる必要があるた
め、ＸＹステージの走査平面（走り面）と投影像面が一
致しないことが原因となって、ＸＹステージの移動毎
に、露光ショットと投影像面の焦点ずれを発生させてし
まう。

【０００７】露光ショットの平坦度を加味した投影像面
との焦点ずれ量はオートフォーカスセンサによって検出
され、Ｚステージによって補正されるが、この焦点ずれ
が大きいとΖステージの収束精度が影響して、装置の転
写性能の要求する許容範囲にフォーカスを補正しきれな
い場合がある。これを防止するための、再度の焦点ずれ
量検出および補正を、焦点ずれが許容範囲に収まるまで
繰り返し実行するフィードバック制御方式が用いられる
ことがあるが、フィードバック制御は、焦点ずれ量の大
きさによっては、焦点合わせに費す時間を助長する可能
性がある。また、スループットを考慮して焦点合わせ動
作におけるオートフォーカスセンサとＺステージ間のフ
ィードバック制御を実施しない場合、補正精度の悪化を
招く結果になる。上記理由より、焦点合わせ処理による
焦点ずれの補正量は極力少ないことが望ましい。

【０００８】発生する焦点ずれの要因として特に、この
ステージ走り面成分による焦点ずれ量は、ＸＹステージ
の移動量に比例するため、ウエハの大径化に伴い、ウエ
ハ搭載用のＸＹステージも大型化されていく傾向の中、
製造装置としての性能上無視できない要因である。

【０００９】本発明の目的は、ステップアンドリピート
方式の投影露光装置において、各露光ショットに対する
焦点合わせ動作のスループットと補正精度の性能向上を
可能とする制御方式を提供することである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明の投影露光装置は、パターンを縮小して転写
する投影光学系と、該投影光学系の光軸方向と略直交す
る方向に沿って２次元方向に移動可能なステージとを有
し、ステージ上部に搭載された感光基板上の複数領域に
前記投影光学系により縮小されたパターンを前記ステー
ジを逐次移動させながら転写するステップアンドリピー
ト方式の投影露光装置において、前記感光基板上の露光
対象領域の前記光軸方向の位置と前記投影光学系が投影
形成する像面とのずれを検出する焦点ずれ検出手段と、
その検出結果により前記感光基板を前記像面に合致させ
る焦点ずれ補正手段と、逐次の各露光対象領域へのステ
ージ移動毎に実施される焦点合わせ処理においてステー
ジ移動毎に発生する、投影光学系が投影形成する像面と
前記ステージ上の１点が移動に際し形成するステージ走
り面とが平行でないことに起因する焦点ずれ成分に対
し、前記投影光学系の像面と前記ステージ走り面との傾
きを予め設定しておき、この傾きと前記ステージの移動
量とにより焦点ずれ量を算出する手段とを有し、次の露
光対象領域へステージが移動中に前記算出手段により算
出された焦点ずれ量を焦点ずれ補正手段により予め補正
することを特徴とする。

【００１１】また、本発明の投影露光方法は、感光基板
を投影光学系の光軸と略直交する方向に沿って２次元方
向に移動可能なステージに搭載して該基板上の複数の領
域を所定の露光位置に順次送り込むとともに、送り込ま
れた露光対象領域の前記光軸方向の位置を前記投影光学
系が投影形成する像面と焦点合わせした後、前記投影光
学系を介してレチクルのパターンを縮小し前記露光対象
領域に投影する投影露光方法において、前記ステージの
上の１点が移動に際し形成するステージ走り面の、前記
投影光学系が投影形成する像面に対する傾きを検出する
段階と、前記各露光対象領域領域を前記露光位置に送り
込む際の前記像面に対するステージ走り面の傾きに起因
する焦点ずれ成分を前記ステージの移動量とステージ走
り面の傾きより算出する段階と、この算出された焦点ず
れ成分を、各露光対象領域を前記露光位置に送り込む際
のステージの移動中に予め補正する段階とを具備するこ
とを特徴とする。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明の好ましい実施の形態に係
る投影露光装置は、パターンを縮小して転写する投影光
学系（投影レンズ）と、投影光学系の光軸（Ｚ軸）と名
目直交するＸＹの２次元方向に移動可能なＸＹステージ
を有し、ＸＹステージ上部に搭載されたウエハ上の複数
領域に投影光学系により縮小されたパターンを逐次ＸＹ
ステージを移動させながら転写するステッパにおいて、
ウエハ上の各露光ショットのＺ軸方向の位置を投影光学
系が投影形成する像面と焦点合わせすることを目的とす
るフォーカスセンサそのフォーカス検出結果によりウエ
ハのフォーカスを補正するＺステージおよびその駆動手
段を用いて、各露光ショット間のＸＹステージの移動毎
（ステップアンドリピード毎）に実施する焦点合わせ処
理の際、ＸＹステージの移動毎に発生する、投影光学系
が投影形成する像面とＸＹステージ上の１点が移動に際
し形成するステージ走り面とが平行でないことを原因と
する焦点ずれ成分に対し、ＸＹステージの移動量と予め
設定された投影光学系の像面とステージ走り面との傾き
により焦点ずれ量を算出し、次の露光領域へＸＹステー
ジが移動中に前記算出された焦点ずれ量を前記Ｚステー
ジなどからなるオートフォーカス系により予め補正する
ことを特徴とする。

【００１３】

【作用】ＸＹステージが真に直交する直線軸上を移動す
ると仮定した場合、前述したＸＹステージ走り面は平面
になると考えられる。この場合、ステージ移動にともな
って発生する焦点ずれ量はレンズ投影像面と走り面の相
対傾斜量とショット間のステージ移動量から予め算出で
きる。これを用いて、前ショットの焦点合わせおよび露
光処理終了後次ショットへステージを駆動する間にＺス
テージを算出された焦点ずれ分補正することにより、投
影レンス下に露光ショットが到着した時点で、投影像面
と露光面との焦点ずれ量はウエハの凸凹成分にのみ依存
し、結果としてオートフォーカスセンサによる焦点ずれ
量の発生を最小限に抑えることができる。以上により焦
点合わせ動作に費す時間を短縮し、焦点合わせ精度の性
能向上を図ることができる。

【００１４】

【実施例】以下、図面を用いて本発明の実施例を説明す
る。 （第１実施例）以下、本発明の第１実施例を示す。図１
は本発明の第１実施例に係るステップアンドリピート方
式の投影露光装置の概略図である。図１によれば、レチ
クル１２に形成された転写パターンの原画は照明光源１
１および投影レンズ１３によってウエハ１６上の露光領
域（ショット）に縮小投影される。

【００１５】また、このステップアンドリピート方式の
投影露光装置における焦点合わせ機能は、露光ショット
を投影レンズ１３下に逐次ＸＹ移動させるＸＹステージ
１８と、投影レンズ直下の露光領域と像面との焦点ずれ
量を検出するオートフォーカスセンサ１４，１５，１９
とセンサにて検出された焦点ずれ量を補正するため光軸
方向に駆動されるＺステージ１７と、この投影露光装置
全体の制御を行なう装置制御ＣＰＵ２２によって実現さ
れる。オートフォーカスセンサによる光軸方向に対する
露光ショット面の位置検出の手段は、投光器１４により
スポット光をウエハ上の検出対象領域に斜投射し、ウエ
ハ１６により反射された光をＣＣＤ受光器１５にて受光
し、面位置検出装置１９にて画像処理をすることによっ
て現在のウエハ上対象領域の面位置を検出している。オ
ートフォーカス制御系２１では、先の面位置検出結果を
装置制御ＣＰＵ２２内の記憶装置に予め登録されている
投影像面位置と比較し、差異がある場合はこれを焦点ず
れ量と判断し、ステージ駆動装置２０を制御してＺステ
ージ１７を焦点ずれ量分駆動する。この時Ｚステージ１
７の駆動精度上、実際の露光面の焦点ずれが補正しきれ
ない場合があるので、指定した許容範囲に焦点ずれ量が
収まるまで面位置検出ないしステージ補正の動作を繰り
返すフィードバック制御を実施することも可能である。

【００１６】本実施例では、前述した焦点合わせ処理の
時間短縮と精度の向上を目的に、露光ショット間移動に
よるＸＹステージ駆動時間を利用して機器要因として理
論上算出できる焦点ずれ成分を予め補正処理する手法
（以下、先送りオートフォーカス処理という）を採用し
ている。

【００１７】以下、先送りオートフォーカス処理におけ
るステージ駆動にともなう焦点ずれ量の算出方法につい
て述べる。図２は投影光学系による投影結像面と、直交
する軸上を移動するＸＹステージ装置特有の駆動平面
（以下、ステージ走り面という）の関係を示したもので
ある。図２における投影像面４の位置算出は、後述する
ように、実際の投影露光装置を用いたウエハへの解像力
評価用パターン転写の結果から求めることが可能であ
る。

【００１８】ＸＹステージ２上に搭載されたウエハ１６
上の各点（Ｓ１，Ｓ２）は、ＸＹステージのＸＹ駆動に
ともない、投影像面４に対しステージ走り面５に平行し
て移動する。このときウエハ表面は均一に平坦であると
し、ウエハ表面はＸＹステージ上に位置する傾斜補正用
のレベリング・Ｚステージ１７により、投影像面に平行
に位置合わせされている状態であると仮定している。

【００１９】この状態でウエハ上の露光ショットＳ１に
対する露光処理終了後、ＸＹステージ駆動により別の露
光ショットＳ２を投影レンズ下の露光領域へ駆動した場
合、露光ショット表面Ｓ２はステージ走り面５に平行に
移動するため、露光位置到着時点においてΔＺ量分投影
像面に対し焦点ずれすると考えられる。このΔＺをステ
ージ走りによる焦点ずれ量６と称し、ＸＹステージ駆動
毎に予めこの焦点ずれ量６の補正処理を実行することに
より理論上ではオートフォーカスセンサを用いた焦点合
わせ処理においてはウエハの凸凹分のみを焦点すればよ
いことになる。

【００２０】次にステージ走りによる焦点ずれ量ΔＺ算
出方法を示す。投影像面とステージ走り面との相対傾斜
角がＸ方向にａ（ｐｐｍ）、Ｙ方向にｂ（ｐｐｍ）、露
光ショット間のＸＹ移動距離がＸ方向にｘ（ｍｍ）、Ｙ
方向にｙ（ｍｍ）であるとすると、ＸＹ駆動後の光学軸
方向（Ｚ方向）への焦点ずれ量は、 ΔＺ（ｎｍ）＝ａ・ｘ＋ｂ・ｙ にて算出される。本式によると、仮に２０（ｐｐｍ）の
傾きに対して、ステージが２０（ｍｍ）ステップ駆動し
た場合、発生する焦点ずれは０．４μｍとなり、装置と
してのパターン転写性能上無視できない焦点ずれ量とな
る。

【００２１】上記の投影像面とステージ走り面との相対
傾斜の算出方法に関して述べると、まず、オートフォー
カスセンサによる傾斜検出の基準面をステージ走り面に
一致させる必要がある。これは、ステージ上の複数点を
フォーカスセンサにて高さ検出し、検出した高さから算
出された傾きをステージ走り面としてフォーカスセンサ
の基準となる傾斜量として登録する。次に、サンプルと
してのウエハに対し、露光対象面をオートフォーカスセ
ンサにて前記算出した傾斜に合わせて補正する（ダイ・
バイ・ダイチルト補正制御）。補正完了した面に対し転
写解像度評価用のパターンを露光転写する。現像結果か
ら、ステージ走り面に一致するよう補正された面と投影
光学系の投影像面が非平行であることが原因となる、転
写像のぼけ分が傾斜角として求められ、これを、投影像
面とステージ走り面の相対傾斜量としている。

【００２２】図３に図１の装置による先送りオートフォ
ーカス処理を用いた露光ショット毎におけるステップア
ンドリピート露光処理の処理シーケンスを示す。ウエハ
上のある露光ショットの表面に対し完全に焦点合わせさ
れ、投影露光による焼き付け処理が完了する（ステップ
１０１）。装置制御ＣＰＵ２２に付属する記憶装置の内
容に従い、ＸＹステージにおいて次露光ショットをレン
ズ直下まで移動させるための、現在位置からの相対駆動
量ｘ、ｙを確認する（ステップ１０２）。同様に記憶装
置内に記録されている投影像面とステージ走り面の相対
傾斜角（ａ，ｂ）を用い、前記式により次ショット領域
がレンズ直下の露光領域にステージ駆動された場合に、
発生すると予測されるΔＺを算出する（ステップ１０
３）。ＸＹステージ１６を駆動し、露光ショットの移動
を実行すると同時に、１０３にて算出したΔＺをΖステ
ージ１７にて補正駆動する（ステップ１０４）。ステッ
プ１０４の処理が完了後、オートフォーカス制御系を用
い露光ショット表面の投影像面との最終的な焦点ずれ量
を検出する（ステップ１０５）。ステップ１０５にて検
出された焦点ずれ量が許容範囲にない場合、Ｚステージ
を検出した焦点ずれ分の補正駆動を行なう（ステップ１
０６）。装置制御ＣＰＵ２２がフィードバック補正制御
を指定している場合、焦点ずれ量が許容範囲内に収束す
るまでステップ１０５および１０６の処理を繰り返す。

【００２３】（第２実施例）本発明の第２の実施例とし
て、投影露光装置におけるサンプルショット計測への適
用を示す。サンプルショット計測とは、縮小型のステッ
プアンドリピート方式の投影露光装置において、ステー
ジ上に搭載されたウエハ上にレイアウトされた複数の被
露光領域（露光ショット）内に、露光条件計測用のサン
プルとなる露光ショットを任意に複数点設定し、実行さ
れる。図４はサンプルショット計測時のサンプル設定レ
イアウトの一例を示す。サンプルショット計測の目的と
して、非直線上の任意の３点以上のフォーカス計測よ
り、ウエハ全体の傾きを検出するグローバルレベリング
計測や、露光ショットのＸＹ位置ずれ量を検出するグロ
ーバルアライメント計測などに一般的に利用される。こ
の場合、サンプルショットは極力間隔を離して設定され
ることが多いため、計測時に前述したＸＹステージ駆動
にともなう焦点ずれが原因となる計測誤差が問題にな
る。

【００２４】サンプルショット計測シーケンスにおいて
は、投影像面に対し、極力平行な面上をサンプルショッ
トが移動する状態位置で各種計測を実行することが望ま
しいことから、サンプルショット計測シーケンスのＸＹ
駆動に対しても、本発明の先送りオートフォーカス処理
を適用し、サンプル点間の移動にともなうＺ方向の位置
ずれをキャンセルすることが好ましい。

【００２５】

【デバイス生産方法の実施例】次に上記説明した露光装
置または露光方法を利用したデバイスの生産方法の実施
例を説明する。図５は微小デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の
半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、
マイクロマシン等）の製造のフローを示す。ステップ１
（回路設計）ではデバイスのパターン設計を行なう。ス
テップ２（マスク製作）では設計したパターンを形成し
たマスクを製作する。一方、ステップ３（ウエハ製造）
ではシリコンやガラス等の材料を用いてウエハを製造す
る。ステップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、
上記用意したマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技
術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次のステ
ップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ４によ
って作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程
であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディン
グ）、パッケージング工程（チップ封入）等の工程を含
む。ステップ６（検査）ではステップ５で作製された半
導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査
を行なう。こうした工程を経て半導体デバイスが完成
し、これが出荷（ステップ７）される。

【００２６】図６は上記ウエハプロセスの詳細なフロー
を示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸化
させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶縁
膜を形成する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ上
に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン
打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５
（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステ
ップ１６（露光）では上記説明した先送りオートフォー
カス機能を有する投影露光装置によってマスクの回路パ
ターンをウエハに焼付露光する。ステップ１７（現像）
では露光したウエハを現像する。ステップ１８（エッチ
ング）では現像したレジスト像以外の部分を削り取る。
ステップ１９（レジスト剥離）ではエッチングが済んで
不要となったレジストを取り除く。これらのステップを
繰り返し行なうことによって、ウエハ上に多重に回路パ
ターンが形成される。

【００２７】本実施例の生産方法を用いれば、従来は製
造が難しかった高集積度のデバイスを低コストに製造す
ることができる。

【００２８】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、ステージ
走り成分による露光ショット間移動時に発生する焦点ず
れ量を予め算出して、ステージ移動時間に同時に補正量
を先送りする、先送りオートフォーカス処理機能を有す
ることにより、期待される効果として、露光対象ショッ
トが投影レンズ直下に到着した時点で、焦点ずれが起こ
る要因は露光ショットのウエハ表面の凹凸度のみとなる
ため、焦点合わせ処理における補正量の絶対値を最小限
にすることができる。結果として２つの性能向上が見込
まれる。１つは自明なとおり処理時間の短縮であり、も
う１つは製造工程上のスループット上の制約からオート
フォーカス補正処理においてフィードバック制御時間を
制限する必要がある場合においてもあらかじめ焦点ずれ
の発生量を抑えることができるため、焦点補正精度の向
上が図られることである。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の一実施例に係る投影露光装置の概略
構成図である。

【図２】 ＸＹステージ走りによる焦点ずれの概念を示
す説明図である。

【図３】 図１の装置における焦点ずれ補正機能の制御
の流れを示すフローチャートである。

【図４】 サンプルショット計測時のサンプル設定レイ
アウトを示す図である。

【図５】 微小デバイスの製造の流れを示す図である。

【図６】 図５におけるウエハプロセスの詳細な流れを
示す図である。

【符号の説明】 ５：ステージ走り面、６：ステージ走りによる焦点ず
れ、１１：照明光源、１２：レチクル、１３：投影レン
ズ、１４：投光器、１５：ＣＣＤ受光器（受光セン
サ）、１６：ウエハ、１７：Ｚステージ、１８：ＸＹス
テージ、１９：面位置検出装置、２０：ステージ駆動装
置、２１：オートフォーカス制御系、２２：装置制御Ｃ
ＰＵ、Ｓ１，Ｓ２：露光ショット表面。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 パターンを縮小して転写する投影光学系
   と、該投影光学系の光軸方向と略直交する方向に沿って
   ２次元方向に移動可能なステージとを有し、ステージ上
   部に搭載された感光基板上の複数領域に前記投影光学系
   により縮小されたパターンを前記ステージを逐次移動さ
   せながら転写するステップアンドリピート方式の投影露
   光装置において、 前記感光基板上の露光対象領域の前記光軸方向の位置と
   前記投影光学系が投影形成する像面とのずれを検出する
   焦点ずれ検出手段と、その検出結果により前記感光基板
   を前記像面に合致させる焦点ずれ補正手段と、逐次の各
   露光対象領域へのステージ移動毎に実施される焦点合わ
   せ処理においてステージ移動毎に発生する、投影光学系
   が投影形成する像面と前記ステージ上の１点が移動に際
   し形成するステージ走り面とが平行でないことに起因す
   る焦点ずれ成分に対し、前記ステージの移動量と予め設
   定されている前記投影光学系の像面と前記ステージ走り
   面との傾きとにより焦点ずれ量を算出する手段とを有
   し、次の露光対象領域へステージが移動中に前記算出手
   段により算出された焦点ずれ量を焦点ずれ補正手段によ
   り予め補正することを特徴とする投影露光装置。
2. 【請求項２】 感光基板を投影光学系の光軸と略直交す
   る方向に沿って２次元方向に移動可能なステージに搭載
   して該基板上の複数の領域を所定の露光位置に順次送り
   込むとともに、送り込まれた露光対象領域の前記光軸方
   向の位置を前記投影光学系が投影形成する像面と焦点合
   わせした後、前記投影光学系を介してレチクルのパター
   ンを縮小し前記露光対象領域に投影する投影露光方法に
   おいて、 前記ステージの上の１点が移動に際し形成するステージ
   走り面の、前記投影光学系が投影形成する像面に対する
   傾きを検出する段階と、前記各露光対象領域を前記露光
   位置に送り込む際の前記像面に対するステージ走り面の
   傾きに起因する焦点ずれ成分を前記ステージの移動量と
   ステージ走り面の傾きにより算出する段階と、各露光対
   象領域を前記露光位置に送り込む際のステージの移動中
   に送り込むべき露光対象領域について算出された焦点ず
   れ成分を補正する段階とを具備することを特徴とする投
   影露光方法。
3. 【請求項３】 請求項１に記載の露光装置または請求項
   ２に記載の露光方法を用いてデバイスを製造することを
   特徴とするデバイス製造方法。