JP2007129218A - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィ装置は、パターニングデバイスを保持するパターン支持体を有する。少なくとも1つの位置センサは、パターン支持体に対するパターニングデバイスの位置を測定し、測定信号を発生させる。位置決め装置は、該位置決め装置に入力された測定信号に基づいてパターン支持体の位置を制御する。対応するデバイス製造方法においては、パターン支持体を設ける。パターニングデバイスをパターン支持体上に保持する。パターン支持体を移動ラインに沿って移動させる。パターン支持体に対するパターニングデバイスの位置を測定し、パターン支持体に対するパターニングデバイスの位置の測定に基づいて、パターン支持体の位置を制御する。従って、パターン支持体の位置の制御により、パターン支持体に対するパターニングデバイスのスリップが補正される。
【選択図】なし
Description
Claims (16)
- パターニングデバイスを保持するよう構成され、移動ラインに沿って移動可能なパターン支持体と、
パターン支持体に対するパターニングデバイスの位置を測定し、測定信号を発生するよう構成された少なくとも1つの位置センサと、
パターニングデバイスに入力された測定信号に基づいてパターン支持体の位置を制御するよう構成された位置決め装置と、
を備えるリソグラフィ装置。 - パターン支持体の移動ラインに実質的に垂直な方向に間隔をあけて設けられた2つの位置センサを備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 少なくとも1つの位置センサが、容量センサ、誘導センサ、光学センサおよび圧電センサからなる位置センサのグループから選択される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- パターニングデバイスを保持するよう構成され、移動ラインに沿って移動可能なパターン支持体であって、該パターニングデバイスが、放射線の断面にパターンを付けて、パターンの付いた放射線ビームを形成するよう構成されている、パターン支持体と、
基板を保持するよう構成されている基板支持体であって、該基板のターゲット部分にパターンの付いた放射線ビームが投影される基板支持体と、
パターン支持体に対するパターニングデバイスの位置を測定し、測定信号を発生するよう構成されている少なくとも1つの位置センサと、
位置決め装置であって、該位置決め装置に入力された測定信号に基づいて、パターン支持体と基板支持体のうちの少なくとも1つの位置を制御するよう構成されている位置決め装置と、
を備えるリソグラフィ装置。 - パターン支持体を設けること、
パターン支持体上にパターニングデバイスを保持すること、
移動ラインに沿ってパターン支持体を移動させること、
パターン支持体に対するパターニングデバイスの位置を測定すること、
パターン支持体に対するパターニングデバイスの位置の測定に基づいてパターン支持体の位置を制御すること、
を含むデバイス製造方法。 - パターン支持体の位置を制御することがパターン支持体に対するパターニングデバイスのスリップを補正することを含む、請求項5に記載のデイバス製造方法。
- 移動ラインに沿って1つの方向にパターン支持体が移動している間、パターン支持体に対するパターニングデバイスの位置が測定され、パターン支持体の後続の移動の間、パターン支持体の位置が制御される、請求項5に記載のデバイス製造方法。
- パターン支持体の後続の移動が該1つの方向である、請求項7に記載のデバイス製造方法。
- パターン支持体に対するパターニングデバイスの位置が、該1つの方向へのパターン支持体の移動のうちの一定速度部分の間に測定される、請求項7に記載のデバイス製造方法。
- パターン支持体に対するパターニングデバイスの位置が、異なる自由度を得るために2つ以上の箇所で測定される、請求項5に記載のデバイス製造方法。
- パターン支持体に対するパターニングデバイスの位置が、パターン支持体の移動ラインに実質的に垂直な方向に間隔をあけて設けられた2つの箇所において測定され、パターン支持体の位置が、パターン支持体に対するパターニングデバイスの位置についての該2つの箇所での測定の差に基づいて制御される、請求項5に記載のデイバス製造方法。
- パターン支持体の位置の制御が、パターン支持体に対するパターニングデバイスの回転を補正することを含む、請求項11に記載のデバイス製造方法。
- パターン支持体が、パターン支持体に対するパターニングデバイスの位置を測定する前に、少なくとも1回、移動ラインにおける両方向に移動させる、請求項5に記載のデバイス製造方法。
- パターン支持体を設けること、
基板支持体を設けること、
放射線の断面にパターンを付けて、パターンの付いた放射線ビームを形成するよう構成されているパターニングデバイスをパターン支持体上に保持すること、
基板支持体上に基板を保持すること、
移動ラインに沿って、パターン支持体と基板支持体とを移動させること、
放射線ビームを発生させること、
基板のターゲット部分にパターンの付いた放射線ビームを投影すること、
パターン支持体に対するパターニングデバイスの位置を測定すること、
パターン支持体に対するパターニングデバイスの位置の測定に基づいてパターン支持体および基板支持体の少なくとも一方の位置を制御すること、
を含むデバイス製造方法。 - 請求項1に記載の装置を使用して製造されたデバイス。
- 請求項5に記載の方法に従って製造されたデバイス。
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