JP2010028096A - 基板テーブル、センサおよび方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィ露光装置中でパターン付き放射ビームを測定するセンサは、パターン付き放射ビームを受け取る受容部分と、受容部分を介してパターン付き放射ビームの少なくとも一部分を受け取るように配置された処理部分とを含む。センサの受容部分は、基板を保持するための基板テーブル中に一体化されている。
【選択図】図4
Description
− 基板テーブル上に基板を位置決めするステップと、
− アライメントセンサを使用して基板上の複数のアライメントマークの位置を測定することによって、ターゲット部分の位置を決定するステップと、
− アライメントセンサを使用して放射センサの位置を決定するステップと、
− 基板テーブル上に一体化されたセンサの受容部分に対するパターン付き放射ビームの位置を測定するステップと、
− ターゲット部分の決定位置、放射センサの決定位置およびパターン付き放射ビームの決定位置を使用して、ターゲット部分をパターン付き放射ビーム中に位置決めするステップとを含む。
− 放射ビームB(例えば、UV放射またはEUV放射)を条件付けするように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
− パターニングデバイス(例えば、マスク)MAを支持するように組み立てられ、かつ特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続されたサポート構造(例えば、マスクテーブル)MTと、
− 基板(例えば、レジストコートウェーハ)Wを保持するように組み立てられ、かつ特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(例えば、ウェーハテーブル)WTと、
− パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば、1つまたは複数のチップを含む)に投影するように構成された投影システム(例えば、屈折投影レンズシステム)PSとを備える。
[0036] 1.ステップモードでは、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTは基本的に静止状態に保たれるが、一方で、放射ビームに与えられた全パターンは一度にターゲット部分Cに投影される(すなわち、単一静的露光)。次に、異なるターゲット部分Cが露光されるように、基板テーブルWTはX方向および/またはY方向にシフトされる。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一静的露光で像が形成されるターゲット部分Cのサイズが制限される。
[0037] 2.スキャンモードでは、放射ビームに与えられたパターンがターゲット部分Cに投影されている間に、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTは同期してスキャンされる(すなわち、単一動的露光)。マスクテーブルMTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影システムPSの拡大(縮小)および像反転特性によって決定されることがある。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光でのターゲット部分の(非スキャン方向の)幅が制限されるが、スキャン移動の長さによってターゲット部分の(スキャン方向の)縦幅が決定される。
[0038] 3.他のモードでは、マスクテーブルMTは、プログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に保たれ、そして基板テーブルWTは、放射ビームに与えられたパターンがターゲット部分Cに投影されている間、動かされるか、スキャンされる。このモードでは、一般に、パルス放射源が使用され、そしてプログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルWTの各移動の後で、またはスキャン中に連続した放射パルスの間で、必要に応じて更新される。この動作モードは、先に言及したような型のプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に応用することができる。
Claims (15)
- 基板をパターン付き放射ビームで露光するためにリソグラフィ露光装置中で基板を保持する基板テーブル(10)であって、
センサの光学部分(34、41、42)が前記基板テーブルと一体化され、前記センサの前記光学部分が、
前記パターン付き放射ビームを受け取り、
前記光学部分および前記パターン付き放射ビームの相対位置に依存して前記パターン付き放射ビームの特性を決定し、
前記光学部分を介して前記パターン付き放射ビームの少なくとも一部分を受け取るように配置された前記センサの他の部分(35、40)と協力するように、配置されている、
ことを特徴とする基板テーブル(10)。 - 前記センサの前記光学部分が、前記パターン付き放射ビームの少なくとも一部分を前記センサの前記他の部分に透過させるように配置されている、
請求項1に記載の基板テーブル。 - リソグラフィ露光装置中でパターン付き放射ビームを測定するセンサであって、
受容部分(34)であって、前記パターン付き放射ビームを受け取って、前記受容部分および前記パターン付き放射ビームが対応する相対位置を有するとき放射の最大部分を透過させ、かつ他の相対位置においてより小さい部分を透過させる受容部分(34)を備え、
放射の前記透過部分を受け取るように配置された処理部分(35、40)をさらに備え、
前記受容部分が、基板(W)を保持するための基板テーブル(10)中に一体化されている、
ことを特徴とするセンサ。 - 前記処理部分が、電気光学部分を備える、
請求項3に記載のセンサ。 - 前記電気光学部分が、放射ディテクタ(40)を備える、
請求項4に記載のセンサ。 - 前記受容部分(34)が、センサ回折格子(41)の付いた透過プレートを備え、
さらに、前記処理部分が、前記センサ回折格子(41)によって前記透過プレートを透過させられた放射を受け取るように配置されている、
請求項3から5のいずれかに記載のセンサ。 - 前記基板テーブルが、
前記基板を受け取るように構成された中心テーブル部と、
前記センサの前記受容部分を収容する外方突出部と、
を備える、
請求項3から6のいずれかに記載のセンサ。 - 前記基板テーブルが、基板を前記基板テーブルにクランプするために少なくとも1つのクランプ素子を備える、
請求項3から7のいずれかに記載のセンサ。 - 前記センサが、透過イメージセンサまたは一体型レンズ干渉計である、
請求項3から8のいずれかに記載のセンサ。 - 請求項3から9のいずれかに記載のセンサを備える、リソグラフィ露光装置の基板ステージであって、
前記基板テーブルを支持するためのサポート素子をさらに備え、
前記サポート素子が前記処理部分を備える、
基板ステージ。 - 前記パターン付き放射ビームを受け取るための他の受容部分を備える他のセンサを備え、
前記他の受容部分が前記基板テーブルと一体化されている、
請求項10に記載の基板ステージ。 - 前記基板テーブルと前記サポート素子の間の滑りを決定するためのコントローラを備える、
請求項10または11に記載の基板ステージ。 - 基板のターゲット部分をパターン付き放射ビーム中に位置決めする方法であって、
基板テーブル上に前記基板を位置決めするステップと、
アライメントセンサを使用して前記基板上の複数のアライメントマークの位置を測定することによって、前記ターゲット部分の位置を決定するステップと、
前記アライメントセンサを使用して放射センサの位置を決定するステップと、
前記基板テーブル上に一体化されたセンサの受容部分に対する前記パターン付き放射ビームの位置を測定するステップと、
前記ターゲット部分の前記決定位置、前記放射センサの前記決定位置および前記パターン付き放射ビームの前記決定位置を使用して、前記ターゲット部分を前記パターン付き放射ビーム中に位置決めするステップと、
を含む方法。 - 前記アライメントセンサを用いてセンサアライメントマークの位置を決定するステップを含み、
前記放射センサの位置を決定する前記ステップが、前記センサアライメントマークの前記決定位置と、前記センサアライメントマークおよび前記受容部分の相対位置についての情報とを使用することを含む、
請求項13に記載の方法。 - 前記受容部分が、回折格子を備え、
さらに、前記パターン付き放射ビームの位置が、前記パターン付き放射ビームと前記受容部分の間の複数の相対位置について放射強度を測定し、前記測定放射強度が最大である相対位置を決定することによって決定される、
請求項13または14に記載の方法。
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